JP2000123743A - プラズマディスプレイパネル - Google Patents
プラズマディスプレイパネルInfo
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- JP2000123743A JP2000123743A JP29327498A JP29327498A JP2000123743A JP 2000123743 A JP2000123743 A JP 2000123743A JP 29327498 A JP29327498 A JP 29327498A JP 29327498 A JP29327498 A JP 29327498A JP 2000123743 A JP2000123743 A JP 2000123743A
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- electrodes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】光線透過率が高く、放電効率の高いプラズマデ
ィスプレイパネルを得る。 【解決手段】バス電極を含む表示電極部の絶縁層とし
て、透過率の低い誘電体を形成し、バス電極を含まない
表示電極部は透過率の高い誘電体で絶縁被覆し、これら
の誘電体層部分に段差を設けた。
ィスプレイパネルを得る。 【解決手段】バス電極を含む表示電極部の絶縁層とし
て、透過率の低い誘電体を形成し、バス電極を含まない
表示電極部は透過率の高い誘電体で絶縁被覆し、これら
の誘電体層部分に段差を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーＴＶ，コン
ピュータ，案内表示，等に利用される平面型表示装置の
プラズマデイスプレイに関し、特に、確実かつ高輝度の
プラズマデイスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称する）
の構成及びその製造技術に関する。
ピュータ，案内表示，等に利用される平面型表示装置の
プラズマデイスプレイに関し、特に、確実かつ高輝度の
プラズマデイスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称する）
の構成及びその製造技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】図１は従来のＡＣ型プラズマディスプレ
イパネルの要部断面図である。表示面側のガラス基板１
上にＸ，Ｙ２本の平行な表示電極４Ｘ，４Ｙを対として
形成し、リブ１０に仕切られたセルを発光させるため、
この表示電極４Ｘ，４Ｙ間にパルス又は交流電圧を印加
し面放電を行う。各表示電極４Ｘ，４ＹはＩＴＯ等の透
明電極２ａ，３ａとＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ，Ａｇ等からなる
バス電極２ｂ，３ｂにより構成され、これらの表示電極
４Ｘ，４Ｙ上に誘電体層５と保護膜（ＭｇＯ）６を設け
る。この時隣接する並行電極の誤放電を防ぐため適切な
隣接ギャップが設定される。
イパネルの要部断面図である。表示面側のガラス基板１
上にＸ，Ｙ２本の平行な表示電極４Ｘ，４Ｙを対として
形成し、リブ１０に仕切られたセルを発光させるため、
この表示電極４Ｘ，４Ｙ間にパルス又は交流電圧を印加
し面放電を行う。各表示電極４Ｘ，４ＹはＩＴＯ等の透
明電極２ａ，３ａとＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ，Ａｇ等からなる
バス電極２ｂ，３ｂにより構成され、これらの表示電極
４Ｘ，４Ｙ上に誘電体層５と保護膜（ＭｇＯ）６を設け
る。この時隣接する並行電極の誤放電を防ぐため適切な
隣接ギャップが設定される。
【０００３】一方、対向する背面側のガラス基板７上に
は、表示電極４Ｘ，４Ｙと直交する方向にアドレス電極
８を構成する。これらのアドレス電極８上に誘電体層を
設け（リブの形成手段によっては誘電体層がなくともよ
い）、その上に各アドレス電極間に位置するようにリブ
１０を形成する。リブの側面と底にはＲ，Ｇ，Ｂの蛍光
体（図示せず）を塗り分けて形成する。この２枚のガラ
ス基板間の放電空間にはＮｅ−Ｘｅ等の混合ガスを封入
し、放電時のＸｅから放出される紫外光が蛍光体を励起
する。励起された蛍光体はＲ，Ｇ，Ｂの可視光を放射し
表面側基板より出光することによりフルカラーとして視
認される。
は、表示電極４Ｘ，４Ｙと直交する方向にアドレス電極
８を構成する。これらのアドレス電極８上に誘電体層を
設け（リブの形成手段によっては誘電体層がなくともよ
い）、その上に各アドレス電極間に位置するようにリブ
１０を形成する。リブの側面と底にはＲ，Ｇ，Ｂの蛍光
体（図示せず）を塗り分けて形成する。この２枚のガラ
ス基板間の放電空間にはＮｅ−Ｘｅ等の混合ガスを封入
し、放電時のＸｅから放出される紫外光が蛍光体を励起
する。励起された蛍光体はＲ，Ｇ，Ｂの可視光を放射し
表面側基板より出光することによりフルカラーとして視
認される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来構
造のＰＤＰにおいては、下記の１），２），３），４）
に述べる課題があった。
造のＰＤＰにおいては、下記の１），２），３），４）
に述べる課題があった。
【０００５】１）特開平６−２６７４２４号公報等に示
されている様に電極形成金属と誘電体ペーストとが高温
焼成過程で誘電体成分の酸化鉛等と反応し、電極材料の
劣化を生じさせていた。
されている様に電極形成金属と誘電体ペーストとが高温
焼成過程で誘電体成分の酸化鉛等と反応し、電極材料の
劣化を生じさせていた。
【０００６】このため、金属に対する腐食量の少ない誘
電体を電極上に形成するが、かかる材料のの大半は高温
焼成時の気泡の抜けが悪く、光線透過率に劣り、且つ焼
成後の表面も粗く、そのため、その上層に金属に対する
反応が低いが気泡の抜け性が良く、且つ平滑性の高い誘
電体を覆うことで対処していた。
電体を電極上に形成するが、かかる材料のの大半は高温
焼成時の気泡の抜けが悪く、光線透過率に劣り、且つ焼
成後の表面も粗く、そのため、その上層に金属に対する
反応が低いが気泡の抜け性が良く、且つ平滑性の高い誘
電体を覆うことで対処していた。
【０００７】従って、気泡の存在がプラズマディスプレ
イパネルの輝度向上の障害になっていた。
イパネルの輝度向上の障害になっていた。
【０００８】２）リブ頂部と、前面板面の接触がどちら
か言うと平面接触であり、パネル組みて時、もしくは製
品搬送時の過大な衝撃振動などによりリブ頂部がかけや
すいという解決すべき課題があった。
か言うと平面接触であり、パネル組みて時、もしくは製
品搬送時の過大な衝撃振動などによりリブ頂部がかけや
すいという解決すべき課題があった。
【０００９】３）従来型前面板構造では、プラズマ放電
による２次電子の供給源であるＭｇＯ等の絶縁保護膜の
形成面が平面内に限定されているため、２次電子の放出
量は絶縁保護膜の組成制御に依存していた。
による２次電子の供給源であるＭｇＯ等の絶縁保護膜の
形成面が平面内に限定されているため、２次電子の放出
量は絶縁保護膜の組成制御に依存していた。
【００１０】４）プラズマ放電による表示領域の放電駆
動は経験的に、前面板の温度によってその安定性が変化
する事が知られている。
動は経験的に、前面板の温度によってその安定性が変化
する事が知られている。
【００１１】この原因は、前面板に形成した２次電子放
出特性の高いＭｇＯ保護膜が、温度が高いほど安定な放
電が生じ、低温になるほど放電が不安定になるものと考
えられている。
出特性の高いＭｇＯ保護膜が、温度が高いほど安定な放
電が生じ、低温になるほど放電が不安定になるものと考
えられている。
【００１２】５）プラズマ放電にとって放電空間の拡大
は望ましく、リブ幅の微細化とリブ強度の向上、蛍光体
の薄肉化と発光効率、リブ高さの増大化と放電開始電圧
の低減化等の多くの検討が知られている。
は望ましく、リブ幅の微細化とリブ強度の向上、蛍光体
の薄肉化と発光効率、リブ高さの増大化と放電開始電圧
の低減化等の多くの検討が知られている。
【００１３】一方、本発明によれば、アドレス電極と表
示電極の対向距離を変えることなく、透明電極を含む部
分の誘電体厚さを薄く形成する事で、放電空間拡大する
事が可能である。
示電極の対向距離を変えることなく、透明電極を含む部
分の誘電体厚さを薄く形成する事で、放電空間拡大する
事が可能である。
【００１４】本発明の目的は、従来構造の前面板に比べ
て輝度の高い（光線透過率が高く）、安定な電極保護を
確保し、且つプラズマ放電の効率向上を図る前面板を提
供することにある。
て輝度の高い（光線透過率が高く）、安定な電極保護を
確保し、且つプラズマ放電の効率向上を図る前面板を提
供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】１） 発明者らは上記課
題のうち光線透過率向上の検討を誘電体焼成条件につい
て種々検討する過程で、電極部のみに金属に対する腐食
量の少ない第１の誘電体を形成し、バス電極を含まない
透明電極上には透明性の高い第２の誘電体を形成するこ
とで解決できる事を見いだした。
題のうち光線透過率向上の検討を誘電体焼成条件につい
て種々検討する過程で、電極部のみに金属に対する腐食
量の少ない第１の誘電体を形成し、バス電極を含まない
透明電極上には透明性の高い第２の誘電体を形成するこ
とで解決できる事を見いだした。
【００１６】また、第１の誘電体を形成した後にその上
層を含め第二の誘電体を形成することによって、好適な
凹凸が形成出来ることを確認した。
層を含め第二の誘電体を形成することによって、好適な
凹凸が形成出来ることを確認した。
【００１７】２） さらに、かかる隣接ギャップ間は電
気的に隔離されている必要があるが、光線的には不要な
光の漏れの原因でもあり、コントラスト低下の原因でも
あった。
気的に隔離されている必要があるが、光線的には不要な
光の漏れの原因でもあり、コントラスト低下の原因でも
あった。
【００１８】このため、黒色無機絶縁物を含んだいわゆ
るブラックマトリックスを第１の誘電体としても良いこ
とも分かった。
るブラックマトリックスを第１の誘電体としても良いこ
とも分かった。
【００１９】さらに言えば放電ギャップ間に各種用途に
応じたフィルター特性を有する誘電体を塗布形成し、そ
の後第１の誘電体をバス電極を含む部分に形成すること
により、パネル発光時の色目を分ける事が可能である。
応じたフィルター特性を有する誘電体を塗布形成し、そ
の後第１の誘電体をバス電極を含む部分に形成すること
により、パネル発光時の色目を分ける事が可能である。
【００２０】かかる手段により、輝度が高く、発光効率
の良いプラズマディスプレイ用前面板を得ることが出来
る。
の良いプラズマディスプレイ用前面板を得ることが出来
る。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を用
いて説明する。
いて説明する。
【００２２】先ず、以下の実施例で用いた誘電体につい
て以下の表で示す。
て以下の表で示す。
【００２３】
【００２４】上記誘電体は焼成後ガラスとなるフリット
成分として、酸化鉛(PbO)、酸化ホウ素(B2O3)、酸化珪
素（SiO2),酸化亜鉛（ZnO)等をエチルセルロース、トリ
メチルモノブチレートなどをビヒクルとして混合した
後、粘度調整用の溶剤、例えばターピネオール中に分散
させて得る。
成分として、酸化鉛(PbO)、酸化ホウ素(B2O3)、酸化珪
素（SiO2),酸化亜鉛（ZnO)等をエチルセルロース、トリ
メチルモノブチレートなどをビヒクルとして混合した
後、粘度調整用の溶剤、例えばターピネオール中に分散
させて得る。
【００２５】また、それぞれの誘電体の主な成分を以下
の表に示す。
の表に示す。
【００２６】
【００２７】以下の実施例では上記の誘電体を用いた
が、本発明の主旨を満足している限り、これにこだわら
ないのは言うまでもない。
が、本発明の主旨を満足している限り、これにこだわら
ないのは言うまでもない。
【００２８】また誘電体の塗布乾燥条件は全て１５０℃
で行い、ガラス化するための焼成条件は６００℃、３０
分で行った。
で行い、ガラス化するための焼成条件は６００℃、３０
分で行った。
【００２９】上記誘電体の塗布は特に断らない限り２０
０メッシュのスクリーンを用いたスクリーン印刷法で行
った。
０メッシュのスクリーンを用いたスクリーン印刷法で行
った。
【００３０】また、電極終端部では第２の誘電体が直接
電極と接しないように、出来る限り第１の誘電体の内側
になるように少なくとも３mm内側に第２の誘電体を形成
した。また、工程間の移動過程で生じる表面汚れによ
り、誘電体印刷時のはじきを防ぐため、必要に応じて紫
外線／オゾン照射で表面の清浄化を行った。
電極と接しないように、出来る限り第１の誘電体の内側
になるように少なくとも３mm内側に第２の誘電体を形成
した。また、工程間の移動過程で生じる表面汚れによ
り、誘電体印刷時のはじきを防ぐため、必要に応じて紫
外線／オゾン照射で表面の清浄化を行った。
【００３１】また、上記の誘電体はノリタケカンパニー
（株）、旭硝子（株）、日本電気硝子（株）等から比較
的容易に入手できる。
（株）、旭硝子（株）、日本電気硝子（株）等から比較
的容易に入手できる。
【００３２】図２は本発明の実施の対象とする部分を示
すＰＤＰ部分断面図である。１は表示側のガラス基板
で、７は、背面板のガラス基板である。表示側（前面
板）のガラス基板１上には、透明電極２ａ，３ａとその
膜面上に形成された導電性の高いバス電極２ｂ，３ｂか
らなるＸ電極４ＸとＹ電極４Ｙが形成され、第１の誘電
体層２０と第２の誘電体２１とでＸ電極４ＸとＹ電極４
Ｙの電気絶縁を確保し、ＭｇＯからなる保護層６で覆わ
れている。
すＰＤＰ部分断面図である。１は表示側のガラス基板
で、７は、背面板のガラス基板である。表示側（前面
板）のガラス基板１上には、透明電極２ａ，３ａとその
膜面上に形成された導電性の高いバス電極２ｂ，３ｂか
らなるＸ電極４ＸとＹ電極４Ｙが形成され、第１の誘電
体層２０と第２の誘電体２１とでＸ電極４ＸとＹ電極４
Ｙの電気絶縁を確保し、ＭｇＯからなる保護層６で覆わ
れている。
【００３３】背面ガラス基板（背面板）７上には、スト
ライプ状のアドレス電極（図示せず）が設けられてい
る。また、アドレス電極８に隣接するようにストライプ
状のリブ１０が形成される。
ライプ状のアドレス電極（図示せず）が設けられてい
る。また、アドレス電極８に隣接するようにストライプ
状のリブ１０が形成される。
【００３４】このリブ１０はアドレス放電時の隣接セル
への影響を防ぐ為と、光のクロストークを防ぐための機
能を有する。隣接するリブ１０毎に赤、青、緑、の蛍光
体がアドレス電極上、及びリブ側面を被覆するように塗
り分けられている。
への影響を防ぐ為と、光のクロストークを防ぐための機
能を有する。隣接するリブ１０毎に赤、青、緑、の蛍光
体がアドレス電極上、及びリブ側面を被覆するように塗
り分けられている。
【００３５】また、前面基板１と背面基板７とはリブ１
０の高さで設定される約１００μmのギャップを保って
組み合わされ、その空間にはNe,Xeの放電用のペニング
混合ガスが概ね４００Toorのガス圧で封入される。
０の高さで設定される約１００μmのギャップを保って
組み合わされ、その空間にはNe,Xeの放電用のペニング
混合ガスが概ね４００Toorのガス圧で封入される。
【００３６】本発明の対象とする前面板についてより詳
しくいうと、第１の誘電体が表示面全体に形成されてお
り、その上層に酸化珪素（ＳｉＯ２）の含有率の少ない
第２の誘電体を形成した２層構成となっている。
しくいうと、第１の誘電体が表示面全体に形成されてお
り、その上層に酸化珪素（ＳｉＯ２）の含有率の少ない
第２の誘電体を形成した２層構成となっている。
【００３７】先ず、第１の誘電体を塗布乾燥した後の厚
さは約３０ミクロンで有り、焼成後は約１５ミクロンの厚さが得
られた。第２の誘電体もこれと同様の厚さが得られるの
で全体の厚さはほぼ３０ミクロンを得ることが出来る。
さは約３０ミクロンで有り、焼成後は約１５ミクロンの厚さが得
られた。第２の誘電体もこれと同様の厚さが得られるの
で全体の厚さはほぼ３０ミクロンを得ることが出来る。
【００３８】従来構造での全体厚さ３０μmの光線透過
率はバス電極を含めた波長450nmで５２％であった。こ
の時の表示電極の開口率８３％であり、２層構造誘電体
部の透過率としては第１の誘電体の気泡の影響で７３％
であった。
率はバス電極を含めた波長450nmで５２％であった。こ
の時の表示電極の開口率８３％であり、２層構造誘電体
部の透過率としては第１の誘電体の気泡の影響で７３％
であった。
【００３９】図３は本発明の１実施例を示す図で、隣接
するバス電極を第１の誘電体２０でライン状に被覆焼成
した後、第２の誘電体２１を第１の誘電体形成部に塗布
焼成した。その後、ＭｇＯ６を形成して前面板を得た。
するバス電極を第１の誘電体２０でライン状に被覆焼成
した後、第２の誘電体２１を第１の誘電体形成部に塗布
焼成した。その後、ＭｇＯ６を形成して前面板を得た。
【００４０】放電ギャップを含む部分を顕微鏡観察した
結果、きわめて気泡の少ない誘電体層が透明電極を通し
て形成できているのが分かる。
結果、きわめて気泡の少ない誘電体層が透明電極を通し
て形成できているのが分かる。
【００４１】かかるようにして得た前面板をの光線透過
率を測定した結果、波長450nmでの透過率は６３％であ
り、第２の誘電体部を透過する光線透過率は９２％であ
った。
率を測定した結果、波長450nmでの透過率は６３％であ
り、第２の誘電体部を透過する光線透過率は９２％であ
った。
【００４２】かかる結果から本実施例では１９％の光線
透過率を向上することが出来た。
透過率を向上することが出来た。
【００４３】かかるようにして得た、誘電体表面の段差
を測定した結果、隣接するバス電極を含む第1の誘電体
形成相当部の厚さ約３０ミクロンと第2の誘電体形成部の厚
さの差は，約１５ミクロンであった。
を測定した結果、隣接するバス電極を含む第1の誘電体
形成相当部の厚さ約３０ミクロンと第2の誘電体形成部の厚
さの差は，約１５ミクロンであった。
【００４４】図４は本発明の他の実施例を示す図で、隣
接するバス電極上に銅、鉄、マンカ゛ン等の金属酸化物顔料
を含んだブラックマトリックス形成用ワニス３０を塗布
乾燥し、その後第１の誘電体２０をワニスを覆うように
塗布乾燥し、さらに表示面全体を第2の誘電体２１を塗
布乾燥後、同時に６００℃の高温で焼成した。その後、
ＭｇＯ（図示せず）を形成して前面板を得た。
接するバス電極上に銅、鉄、マンカ゛ン等の金属酸化物顔料
を含んだブラックマトリックス形成用ワニス３０を塗布
乾燥し、その後第１の誘電体２０をワニスを覆うように
塗布乾燥し、さらに表示面全体を第2の誘電体２１を塗
布乾燥後、同時に６００℃の高温で焼成した。その後、
ＭｇＯ（図示せず）を形成して前面板を得た。
【００４５】かかるようにして得た前面板の光線透過率
を測定した結果、波長450nmの透過率は６０％であっ
た。
を測定した結果、波長450nmの透過率は６０％であっ
た。
【００４６】光線透過率が減少した理由は、隣接ギャッ
プからの光透過がブラックマトリックスで制限されたた
めであって表示セルからの光線透過は前述した実施例と
同様の光線透過率９２％を得た。
プからの光透過がブラックマトリックスで制限されたた
めであって表示セルからの光線透過は前述した実施例と
同様の光線透過率９２％を得た。
【００４７】また、隣接ギャップからの光線が抑制され
たため、表示のコントラストが向上した。
たため、表示のコントラストが向上した。
【００４８】かかるようにして得た、誘電体表面の段差
を測定した結果、第1の誘電体形成相当部の厚さ約３０ミ
クロンと第2の誘電体形成部の厚さの差は，約１５ミクロンであ
った。
を測定した結果、第1の誘電体形成相当部の厚さ約３０ミ
クロンと第2の誘電体形成部の厚さの差は，約１５ミクロンであ
った。
【００４９】かかるようにして得られた前面板を背面板
と共に組み立て放電開始電圧を測定したところ、従来構
造に比べて、放電開始電圧が約８％改善した。
と共に組み立て放電開始電圧を測定したところ、従来構
造に比べて、放電開始電圧が約８％改善した。
【００５０】次に、段差を拡大する一実施例について述
べる。前述と同様に隣接するバス電極上に第１の誘電体
を塗布乾燥し、その後第１の誘電体を覆うように塗布乾
燥し、さらに表示面全体を第2の誘電体に比べ溶剤成分
の多い第３の誘電体を塗布乾燥後、６００℃の高温で焼
成した。
べる。前述と同様に隣接するバス電極上に第１の誘電体
を塗布乾燥し、その後第１の誘電体を覆うように塗布乾
燥し、さらに表示面全体を第2の誘電体に比べ溶剤成分
の多い第３の誘電体を塗布乾燥後、６００℃の高温で焼
成した。
【００５１】かかるようにして得た前面板の光線透過率
を測定した結果、波長450nmの透過率は６３％であっ
た。
を測定した結果、波長450nmの透過率は６３％であっ
た。
【００５２】光線透過率が減少した理由は、隣接ギャッ
プからの光透過が第１の誘電体で制限されたためであっ
て表示セルからの光線透過は前述した実施例と同様の光
線透過率９２％を得た。
プからの光透過が第１の誘電体で制限されたためであっ
て表示セルからの光線透過は前述した実施例と同様の光
線透過率９２％を得た。
【００５３】かかるようにして得た、誘電体表面の段差
を測定した結果、第1の誘電体形成相当部の厚さ約３５ミ
クロンと第2の誘電体形成部の厚さの差は，約２０ミクロンであ
った。
を測定した結果、第1の誘電体形成相当部の厚さ約３５ミ
クロンと第2の誘電体形成部の厚さの差は，約２０ミクロンであ
った。
【００５４】かかるようにして得られた前面板を背面板
と共に組み立て放電開始電圧を測定したところ、従来構
造に比べて、放電開始電圧が約１３％改善した。
と共に組み立て放電開始電圧を測定したところ、従来構
造に比べて、放電開始電圧が約１３％改善した。
【００５５】次いで段差を少なくする一実施例について
述べる。第1の誘電体を薄く形成するためスクリーンメ
ッシュを２５０と細かいものを用い,ほぼ１０ミクロン
となるようにした。第２の誘電体は従来と同様に２００
メッシュのスクリーンを用いた。
述べる。第1の誘電体を薄く形成するためスクリーンメ
ッシュを２５０と細かいものを用い,ほぼ１０ミクロン
となるようにした。第２の誘電体は従来と同様に２００
メッシュのスクリーンを用いた。
【００５６】かかるようにして、隣接するバス電極を第
１の誘電体でライン状に被覆焼成した後、第２の誘電体
を第１の誘電体形成部に塗布焼成した。
１の誘電体でライン状に被覆焼成した後、第２の誘電体
を第１の誘電体形成部に塗布焼成した。
【００５７】放電ギャップを含む部分を顕微鏡観察した
結果、きわめて気泡の少ない誘電体層が形成できてい
る。
結果、きわめて気泡の少ない誘電体層が形成できてい
る。
【００５８】かかるようにして得た前面板の光線透過率
を測定した結果、波長450nmでの透過率は６３％であ
り、第２の誘電体部を透過する光線透過率は９２％であ
った。
を測定した結果、波長450nmでの透過率は６３％であ
り、第２の誘電体部を透過する光線透過率は９２％であ
った。
【００５９】かかる結果から本実施例では１９％の光線
透過率を向上することが出来た。
透過率を向上することが出来た。
【００６０】かかるようにして得た、誘電体表面の段差
を測定した結果、第1の誘電体形成相当部の厚さ約３０ミ
クロンと第２の誘電体形成部の厚さの差は、約８ミクロンであ
った。
を測定した結果、第1の誘電体形成相当部の厚さ約３０ミ
クロンと第２の誘電体形成部の厚さの差は、約８ミクロンであ
った。
【００６１】かかるように、バス電極を含む領域の厚さ
と表示部の厚さの異なる前面板を用いてなるプラズマデ
ィスプレイパネルと、従来構造のパネル特性を比較した
結果、次に述べる差異を得た。
と表示部の厚さの異なる前面板を用いてなるプラズマデ
ィスプレイパネルと、従来構造のパネル特性を比較した
結果、次に述べる差異を得た。
【００６２】従来構造では室温状態からの安定した放電
状態を得るのに放電開始後約５分かかり、またパネル振
動試験後のリブ欠けによると思われる点状欠陥がパネル
面内で数箇所観察された。
状態を得るのに放電開始後約５分かかり、またパネル振
動試験後のリブ欠けによると思われる点状欠陥がパネル
面内で数箇所観察された。
【００６３】一方、段差１０ミクロンおよび１５ミクロンのパネ
ルを用いたＰＤＰにおいては、室温状態からの安定した
放電状態を得るのに放電開始後約１分であり、またパネ
ル振動試験後のリブ欠けによると思われる点状欠陥は見
られなかった。
ルを用いたＰＤＰにおいては、室温状態からの安定した
放電状態を得るのに放電開始後約１分であり、またパネ
ル振動試験後のリブ欠けによると思われる点状欠陥は見
られなかった。
【００６４】本発明の実施例で用いた第１及び第２の誘
電体は金属にたいする化学的腐食性の差について選定し
た物であるが、例えば耐食性金属の採用によってその目
的が変わっても、本発明の主旨とするところは変わらな
いのは言うまでもない。
電体は金属にたいする化学的腐食性の差について選定し
た物であるが、例えば耐食性金属の採用によってその目
的が変わっても、本発明の主旨とするところは変わらな
いのは言うまでもない。
【００６５】また、バス電極を含む部分と、放電ギャッ
プを含む部分の厚さの制御は、スクリーンメッシュによ
らず、誘電体のペースト状態での溶剤量を変えることな
どでも実現出来るのは言うまでもない。
プを含む部分の厚さの制御は、スクリーンメッシュによ
らず、誘電体のペースト状態での溶剤量を変えることな
どでも実現出来るのは言うまでもない。
【００６６】また、厚さの差は２０ミクロンを越えると隣接
セルとのクロストークの影響がみられ、２ミクロンを下回る
とリブ頂部の微笑突起との接触点が増加するため好まし
くない。
セルとのクロストークの影響がみられ、２ミクロンを下回る
とリブ頂部の微笑突起との接触点が増加するため好まし
くない。
【００６７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ＰＤＰの輝度向上と放電の安定性向上を図ることが可能
になる。
ＰＤＰの輝度向上と放電の安定性向上を図ることが可能
になる。
【図１】従来のＡＣ型プラズマディスプレイパネル構造
の要部分解斜視図。
の要部分解斜視図。
【図２】本発明の実施例であるプラズマディスプレイパ
ネルの部分を示した断面図。
ネルの部分を示した断面図。
【図３】本発明の一実施例であるプラズマディスプレイ
パネルを示した断面図。
パネルを示した断面図。
【図４】本発明の他の実施例であるプラズマディスプレ
イパネルを示した断面図。
イパネルを示した断面図。
１，７…ガラス基板、２ａ，３ａ…透明電極、２ｂ，３
ｂ…バス電極、４ｘ，４ｙ…表示電極、５…誘電体、
６…保護膜（ＭｇＯ）、８…アドレス電極、 １
０…リブ、２０…第１の誘電体、２１…第２の誘電体、
３０…ワニス。
ｂ…バス電極、４ｘ，４ｙ…表示電極、５…誘電体、
６…保護膜（ＭｇＯ）、８…アドレス電極、 １
０…リブ、２０…第１の誘電体、２１…第２の誘電体、
３０…ワニス。
フロントページの続き (72)発明者 川野 寛治 東京都千代田区神田駿河台４丁目６番地 株式会社日立製作所情報メディア事業本部 内 (72)発明者 森谷 宏一 東京都千代田区神田駿河台４丁目６番地 株式会社日立製作所情報メディア事業本部 内 Ｆターム(参考） 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GC05 GC06 GD02 GD07 GD09 GH02 GH03 GH06 GH07 JA03 JA04 JA22 JA23 KA04 KA09 KB08 MA03 MA10 MA17
Claims (12)
- 【請求項１】第１の基板に対となる第１及び第２の電極
を表示ラインごとに並行に配置すると共に、前記第１の
基板と対向する第２の基板に第３の電極を前記第１及び
第２の電極と公差するように配置し、少なくとも放電空
間を形成する壁の一部に蛍光体を塗布したプラズマディ
スプレイパネルにおいて、上記第１及び第２の電極上に
形成する誘電体層の厚さを、少なくともバス電極を含む
部分よりも上記バス電極を含まない部分を薄く形成する
事を特徴とするプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項２】第１の基板に対となる第１及び第２の電極
を表示ラインごとに並行に配置すると共に、前記第１の
基板と対向する第２の基板に第３の電極を前記第１及び
第２の電極と公差するように配置し、少なくとも放電空
間を形成する壁の一部に蛍光体を塗布したプラズマディ
スプレイパネルにおいて、上記第１及び第２の電極上に
形成する誘電体層の厚さを、少なくともバス電極を含む
部分よりも上記第１と第２の電極で形成される放電ギャ
ップを含む部分を薄く形成する事を特徴とするプラズマ
ディスプレイパネル。 - 【請求項３】第１の基板に対となる第１及び第２の電極
を表示ラインごとに並行に配置すると共に、前記第１の
基板と対向する第２の基板に第３の電極を前記第１及び
第２の電極と公差するように配置し、少なくとも放電空
間を形成する壁の一部に蛍光体を塗布したプラズマディ
スプレイパネルにおいて、上記第１及び第２の電極上に
形成する誘電体層の厚さを、少なくともバス電極を含む
部分よりも放電ギャップと透明電極を含む部分を薄く形
成する事を特徴とするプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項４】上記誘電体層の厚さの差が２〜２０μmの
間である事を特徴とする請求項１から３のいずれか１項
記載のプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項５】上記誘電体の厚さの異なる境界の傾斜面
が、上記蛍光体から発する上記第１の基板を通す様な反
射角度を持たせることを特徴とする請求項１から３のい
ずれか１項記載のプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項６】上記誘電体の厚さの異なる境界の傾斜面を
含めた面上に２次電子放出特性の高い保護膜を設けたこ
とを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載のプ
ラズマディスプレイパネル。 - 【請求項７】上記誘電体の厚さの異なる境界の傾斜面を
含めた面上に２次電子放出特性の高い保護膜がＭｇＯ膜
であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項
記載のプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項８】第１の基板に対となる第１及び第２の電極
を表示ラインごとに並行に配置すると共に、前記第１の
基板と対向する第２の基板に第３の電極を前記第１及び
第２の電極と公差するように配置し、少なくとも放電空
間を形成する壁の一部に蛍光体を塗布したプラズマディ
スプレイパネルにおいて、上記第１及び第２の電極上に
形成する誘電体層の可視光透過率を、少なくともバス電
極を含む部分よりも上記バス電極を含まない部分を高く
したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項９】上記バス電極を含まない部分の誘電体層の
SiO2の含有率が上記バス電極を含む部分のものよりも低
くしたことを特徴とする請求項８記載のプラズマディス
プレイパネル。 - 【請求項１０】上記可視光透過率の差が１０％から３０
％の間であることを特徴とする請求項８記載のプラズマ
ディスプレイパネル。 - 【請求項１１】第１の基板に対となる第１及び第２の電
極を表示ラインごとに並行に配置すると共に、前記第１
の基板と対向する第２の基板に第３の電極を前記第１及
び第２の電極と公差するように配置し、少なくとも放電
空間を形成する壁の一部に蛍光体を塗布したプラズマデ
ィスプレイパネルにおいて、隣接する電極ついの間に形
成する誘電体層を黒色又は任意の光線フィルター特性を
有するもので形成したことを特徴とするプラズマディス
プレイパネル。 - 【請求項１２】第１の基板に対となる第１及び第２の電
極を表示ラインごとに並行に配置すると共に、前記第１
の基板と対向する第２の基板に第３の電極を前記第１及
び第２の電極と公差するように配置し、少なくとも放電
空間を形成する壁の一部に蛍光体を塗布したプラズマデ
ィスプレイパネルにおいて、上記第１及び第２の電極上
に形成する誘電体層の厚さを、少なくともバス電極を含
む部分よりも上記バス電極を含まない部分を薄く形成す
ると共に、上記放電放電空間を形成するリブを上記第３
の電極に平行に形成し、上記リブと上記第１の基板との
接点が上記バス電極を含む誘電体層の厚い部分であっ
て、上記バス電極を含まない誘電体層の薄い部分では上
記リブと上記第１の基板とが接触しない事を特徴とする
プラズマディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29327498A JP2000123743A (ja) | 1998-10-15 | 1998-10-15 | プラズマディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29327498A JP2000123743A (ja) | 1998-10-15 | 1998-10-15 | プラズマディスプレイパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000123743A true JP2000123743A (ja) | 2000-04-28 |
Family
ID=17792714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29327498A Pending JP2000123743A (ja) | 1998-10-15 | 1998-10-15 | プラズマディスプレイパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000123743A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020009272A (ko) * | 2000-07-25 | 2002-02-01 | 구자홍 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 |
| KR100746782B1 (ko) | 2005-08-31 | 2007-08-06 | 엘지전자 주식회사 | 이종 유전체층을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그제조방법 |
| JP2008084840A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-04-10 | Toray Ind Inc | プラズマディスプレイ用部材及びプラズマディスプレイ用部材の製造方法 |
| WO2009022395A1 (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-19 | Hitachi, Ltd. | プラズマディスプレイパネル用基板構体の製造方法 |
-
1998
- 1998-10-15 JP JP29327498A patent/JP2000123743A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020009272A (ko) * | 2000-07-25 | 2002-02-01 | 구자홍 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 |
| KR100746782B1 (ko) | 2005-08-31 | 2007-08-06 | 엘지전자 주식회사 | 이종 유전체층을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그제조방법 |
| JP2008084840A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-04-10 | Toray Ind Inc | プラズマディスプレイ用部材及びプラズマディスプレイ用部材の製造方法 |
| WO2009022395A1 (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-19 | Hitachi, Ltd. | プラズマディスプレイパネル用基板構体の製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20050118 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |