JP2000123353A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 重層塗布磁気記録媒体における表面平滑性を
向上し、電磁変換特性および走行耐久性に優れた磁気記
録媒体を提供する。 【解決手段】 非磁性下層２に用いる非磁性粒子とし
て、末端にカルボキシル基を有する有機化合物で表面処
理された含水酸化鉄を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体および
その製造方法に関し、さらに詳しくは、優れた表面平滑
性、電磁変換特性および走行耐久性を有する高密度磁気
記録媒体およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】オーディオ装置、ビデオ装置あるいはコ
ンピュータ装置等の周辺機器としての磁気記録装置で用
いられる、磁気記録テープや磁気ディスク等の磁気記録
媒体として、塗布型と薄膜型のものが主に用いられてい
る。塗布型は、主として針状の磁性粉末、結合剤および
各種添加剤等を有機溶媒に分散、混練して調整される磁
性塗料を、非磁性支持体上に塗布、乾燥、硬化すること
により形成される磁気記録層を用いたものである。また
薄膜型のものは、非磁性支持体上にＣｏ等の強磁性金属
薄膜をスパッタリング、蒸着あるいはめっき等の薄膜形
成技術により被着したものである。

【０００３】これらの各種磁気記録装置においては、近
年ますます小型軽量化、高画質化、長時間化あるいはデ
ィジタル記録化等が進展し、磁気記録媒体に対しても高
密度記録化が強く要望されるようになっている。この要
望に応えるため、近年の磁気記録媒体は、磁気特性の改
良はもとより、磁気記録層の厚さを薄くすることによ
り、短波長領域における記録減磁による出力ロスを低減
している。また、その磁気記録層表面を鏡面に近い状態
にまで平滑化し、磁気ヘッド／磁気記録層間の間隙を狭
め、スペーシングロスを可及的に低減する方向にある。
しかしながら、サブハーフミクロン程度の極薄の磁気記
録層表面を鏡面に形成することは、特に塗布型の磁気記
録媒体においては極めて困難である。

【０００４】磁気記録層の薄膜化と同時に、その表面を
超平滑化する方策として、非磁性支持体上に平滑表面を
主眼とした非磁性下層を形成し、この上に磁気記録層を
形成する多層磁気記録媒体がある。非磁性下層は、結合
剤中に非磁性粒子等を分散させた構造を有する。特に塗
布型の磁気記録媒体においては、この非磁性下層と磁気
記録層とを１ステップで形成する、同時重層塗布方式の
多層磁気記録媒体が知られている。

【０００５】この多層磁気記録媒体は単層磁気記録媒体
より表面平滑性に優れた磁気記録層が得られる可能性が
高まる。しかしこの場合も、非磁性下層の表面性が優れ
ていることが必須である。また同時重層塗布方式の磁気
記録媒体では、上下各層の塗料特性の適合性に依存する
ところが大きい。非磁性下層用塗料と磁気記録層用塗料
の塗料物性が大きく異なる場合は、例えば特開平８−２
０３０６０号公報に記載されているように、塗りすじや
色むら等の外観上の不良はもとより、厚さむらや粗面化
等の欠陥が発生する。したがって、非磁性下層および磁
気記録層の表面性を良好なものとするためには、微細な
非磁性粒子を用い、その分散性を高め、非磁性下層用塗
料特性を磁気記録層用塗料特性に適合させることが必要
である。

【０００６】同時重層塗布方式における塗料特性に関し
ては、各種方法が提案されている。例えば磁気記録層の
塗料溶媒として、非磁性下層の結合剤に対しては貧溶媒
となるものを選ぶ方法（特開昭６３−３１０２８号公
報）、非磁性下層と磁気記録層の塗料の溶解度パラメー
タを一致させる方法（特開平３−１１９５１８号公
報）、非磁性下層と磁気記録層の塗料のレイノルズ数を
一致させる方法（特開平４−２７１０１６号公報）、非
磁性下層と磁気記録層の塗料のチキソトロピー性を一致
または近似させる方法（特開平４−３２５９１７号公
報）、塗料の流動曲線を特定式にフィッティングさせる
方法（特開平５−１２８４９６号公報）、引き延ばし流
動指数を規定する方法（特開平５−２０８１６５号公
報）、塗料のクリープ変形量を規定する方法（特開平６
−１９５６９０号公報）、塗料の損失弾性項の極大値と
極小値の比を一定量とする方法（特開平５−２６６４６
３号公報）等がある。

【０００７】また非磁性下層用の非磁性粒子に関して
は、適当量のカーボンブラックを含有させる方法（特開
平４−２３８１１１号公報）、非磁性酸化物の表面をさ
らに無機材料で被覆する方法（特開平５−１８２１７７
号公報）、粒径の異なる２種類の非磁性粒子を用いる方
法（特開平５−２７４６５１号公報）等が提案されてい
る。

【０００８】非磁性粒子の材料として、針状の形態が得
られやすいゲーサイトを焼成して得られるヘマタイト
（α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ）が、非磁性であること、および同じ
く針状の磁性粒子を用いた磁気記録層用塗料との適合性
に優れること等の理由から従来より用いられている。

【０００９】しかしながら、ヘマタイトは焼成時に微小
な脱水孔が多数発生し、粒子サイズの割には比表面積が
大きくなり、非磁性下層用塗料の分散性が低下するとと
もに粘度が増大し、塗布性能が劣化するため、平滑な表
面を得ることはできない。また比表面積を小さくするた
めに焼成温度を高めると針状性そのものが低下し、やは
り塗料適性が低下する。

【００１０】一方ゲーサイト（α−ＦｅＯＯＨ）そのも
のは脱水孔を有しないため、同じ粒子径のヘマタイトに
比して比表面積は小さい。また粒子内および粒子間の焼
結がないので針状性に優れ、凝集塊の問題もない。

【００１１】しかしながら、ゲーサイトは粒子表面の親
水性が強く、有機溶媒中での分散性が充分でないため、
非磁性下層用の非磁性粒子として用いた場合に、非磁性
下層の表面性を向上することが容易ではなかった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる現状に
鑑み提案するものであり、多層磁気記録媒体における表
面平滑性を向上し、高密度大容量記録に好適な優れた電
磁変換特性と走行耐久性を有する磁気記録媒体およびそ
の製造方法を提供することをその課題とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、優れた粉
体特性を有しながらも実用上の問題があった、ゲーサイ
トをはじめとする含水酸化鉄を非磁性下層用の非磁性粒
子として採用する研究過程において、末端にカルボキシ
ル基を有する有機化合物により表面処理した含水酸化鉄
を採用した場合に、有機溶媒中での分散性が向上し、非
磁性下層の表面平滑性も著しく向上することを見いだ
し、本発明を完成するに至った。

【００１４】すなわち、本発明の磁気記録媒体は、非磁
性支持体上に、非磁性粒子および結合剤を主体とする非
磁性下層と、磁気記録層とをこの順に有する磁気記録媒
体において、この非磁性粒子は、末端にカルボキシル基
を有する有機化合物により表面処理された含水酸化鉄で
あることを特徴とする。

【００１５】また本発明の磁気記録媒体の製造方法は、
非磁性支持体上に、非磁性粒子および結合剤を主体とす
る非磁性下層と、磁気記録層とをこの順に形成する工程
を具備する磁気記録媒体の製造方法において、この非磁
性粒子は、末端にカルボキシル基を有する有機化合物に
より表面処理された含水酸化鉄であることを特徴とす
る。

【００１６】この際、非磁性下層と、磁気記録層をこの
順に形成する工程は、同時重層塗布方式によることが望
ましい。

【００１７】末端にカルボキシル基を有する有機化合物
による表面処理量は、この含水酸化鉄の単位表面積あた
りのカルボキシル基のモル量として、１μｍｏｌ／ｍ²
以上６μｍｏｌ／ｍ² 以下であることが望ましい。１μ
ｍｏｌ／ｍ² に満たないと含水酸化鉄の分散効果が充分
でなく、非磁性下層の表面平滑性が低下する。また６μ
ｍｏｌ／ｍ² を超えると、非磁性粒子と結合剤との親和
力が低下し、また塗膜中に非吸着の遊離の低分子量有機
化合物として残存するので、非磁性下層塗膜の剛性等の
機械的強度が低下する。すなわち、親水性の官能基を有
する有機化合物を適量用いて表面処理することにより、
含水酸化鉄の親水性が抑えられ、有機溶媒との親和性が
向上することから、含水酸化鉄の非磁性下層用塗料中で
の凝集が防止され、分散性が良好となり、塗料粘度の上
昇も抑えられる。

【００１８】また末端にカルボキシル基を有する有機化
合物は、１分子中に２以上のカルボキシル基を有する多
価カルボン酸であることも望ましい。かかる多価カルボ
ン酸化合物の採用により、その添加量を低減でき、また
吸着性が高まることから、含水酸化鉄の分散性を高め、
非磁性下層の平滑性をさらに良好なものとすることがで
きる。また塗膜中の非吸着の遊離の低分子量有機化合物
成分が減るので、非磁性下層塗膜の剛性等の機械的強度
が向上する。

【００１９】本発明で採用する末端にカルボキシル基を
有する有機化合物は、比較的低分子量の化合物が好まし
く、分子量として６０以上３００程度以下が望ましい。
６０未満では分散効果が充分でなく、３００を大きく超
えると処理溶媒中での溶解性等、取り扱い上の不都合が
発生する。

【００２０】本発明で採用する含水酸化鉄は、前駆体で
ある水酸化第１鉄コロイドを徐酸化、あるいは水酸化第
２鉄コロイドを熟成することにより、結晶化して得られ
る針状の微粒子である。化学式としてはＦｅＯＯＨある
いはＦｅ₂ Ｏ₃ ・Ｈ₂ Ｏの形で表される。結晶形態とし
ては、α−，β−，γ−，およびδ−の各ＦｅＯＯＨが
あるが、そのいずれでもよい。これらのうち、α−Ｆｅ
ＯＯＨはゲーサイトと呼ばれ、最も一般的な化合物であ
る。

【００２１】本発明で用いる含水酸化鉄は、ＳｉやＡｌ
等の不純物を含んでいてもよい。これらの不純物は、粒
子中に均一に含まれていても、濃度勾配を有していても
よい。不純物は、水酸化鉄コロイド中に添加することに
より含有させることができる。不純物の添加により、含
水酸化鉄の結晶成長速度が遅くなり、多数の結晶核が生
成する結果、微細で粒径の揃った針状含水酸化鉄が得ら
れる。

【００２２】含水酸化鉄の粒子形態は、長さが０．０５
μｍ以上０．２５μｍ程度未満が望ましく、０．１μｍ
以上０．２μｍ以下がさらに望ましい。長さが０．２５
μｍ以上では非磁性下層の平滑性が低下する。また０．
０５μｍ未満では、非磁性下層塗料の粘度が上昇し、平
滑性が低下する。

【００２３】含水酸化鉄のアスペクト比は、１０以上５
０以下程度が望ましく、１５以上３０以下がさらに望ま
しい。１０未満では非磁性下層の機械的強度（剛性）が
低下し、また重層塗布方式においては磁気記録層用塗料
との塗料特性の適合性が低下する。この値が５０を超え
ると、塗料粘度が高まり表面平滑性が低下する。

【００２４】含水酸化鉄の比表面積は、４０ｍ² ／ｇ以
上１００ｍ² ／ｇ以下であることが望ましい。比表面積
は、ＢＥＴ法により測定することができる。４０ｍ² ／
ｇ未満では表面平滑性の低下が見られ、１００ｍ² ／ｇ
を超えると塗料粘度が高まりやはり表面平滑性が低下す
る。

【００２５】かかる含水酸化鉄の粒子形態を選ぶことに
より、末端にカルボキシル基を有する有機化合物の併用
とあいまって、非磁性下層用塗料中での良好な分散と、
非磁性下層表面の良好な平滑性が得られる。

【００２６】本発明の磁気記録媒体の非磁性下層中に
は、導電性を付与し、平滑性を向上させるために導電性
粒子を添加してもよい。導電性粒子の材料は非磁性の金
属や化合物、あるいはカーボン等が採用されるが、この
中でも一次粒子径が１００ｎｍ以下、望ましくは数十ｎ
ｍ以下の微粒子で、かつストラクチャの発達した導電性
カーボンと称されるものが好ましく採用される。カーボ
ンブラックは、その一次粒子径やストラクチャにより表
面電気抵抗の低減効果が異なるので、表面平滑性を勘案
しつつ添加量が決定される。一般的には含水酸化鉄粒子
に対し、４重量％以上８０重量％程度が好ましい。４重
量％未満では表面電気抵抗の低減効果が充分でなく、８
０重量％を超えると塗料粘度が高まり良好な表面平滑性
が得にくい。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体およ
びその製造方法を図面を参照しつつ詳しく説明する。本
発明の磁気記録媒体を、８ミリビデオテープレコーダ用
等の磁気記録テープに適用した場合の一構成例を示す概
略断面図を図１（ａ）に示す。非磁性支持体１の一主面
側には、非磁性下層２、磁気記録層３が順次形成されて
いる。また非磁性支持体１の他の主面側には、バックコ
ート層（不図示）が形成されている。

【００２８】また本発明の磁気記録媒体をフロッピディ
スクに適用した場合の一構成例の概略断面図を図１
（ｂ）に示す。すなわち、非磁性支持体１の両面に非磁
性下層２および磁気記録層３が順次形成されている。こ
れらの構成は磁気記録媒体の基本構成であり、磁気記録
層３上にはさらに保護層やトップコート層が形成されて
いてもよい。磁気記録層３そのものが多層に形成されて
いてもよい。また図示した各構成部分の厚さ比率は説明
のためのものであり、実際の磁気記録媒体の厚さ比率を
示すものではない。高密度磁気記録媒体の磁気記録層３
の厚さは１．０μｍ以下、望ましくは０．５μｍ以下、
さらに望ましくは０．３μｍ以下程度が採用される。ま
た（非磁性下層２／磁気記録層３）の厚さの比率は、通
常３〜３０程度が選ばれ、その全厚は１〜５μｍ程度で
ある。つぎに各構成部分の概略と製造方法を説明する。

【００２９】非磁性支持体１としては通常の磁気記録媒
体で用いられるものはいずれも使用可能であり、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタ
レート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテー
ト、セルロースダイアセテート等のセルロース誘導体、
ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン
等のビニリデン樹脂、ポリカーボネート、ポリアミドイ
ミド、ポリイミド等の有機高分子が例示される。さらに
ハードディスク等の磁気記録媒体の場合には、非磁性支
持体としてＡｌ系金属、セラミクス、プラスチクスやガ
ラス等の剛体基板を用いることができる。これら剛体基
板の表面にアルマイト処理等による酸化被膜や、Ｎｉ−
Ｐ被膜等を形成して、その表面硬度をさらに高めてもよ
い。

【００３０】非磁性下層２は本発明の特徴部分であり、
この構造および製造方法については後に詳述する。

【００３１】磁気記録層３は、磁性粉末を有機バインダ
中に分散させた磁気記録層用塗料を非磁性下層２上に塗
布して、あるいは非磁性下層２および磁気記録層３を同
時に重層塗布して形成する。磁気記録層３は、金属磁性
薄膜型であってもよい。このうち磁性粉末の材料は特に
限定はなく、金属磁性粉末、酸化物磁性粉末あるいはそ
の他の化合物磁性粉末がいずれも採用される。金属磁性
粉末系としてはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属やこれらの合
金、あるいはこれら金属や合金にＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃ
ｒ、Ｖ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｂｉ、希土類、Ｐ、
Ｂ、Ｎ、Ｃ等の元素が一種あるいは複数種添加されたも
のがいずれも用いられる。これらのうち、Ｆｅあるいは
Ｆｅ−Ｃｏ合金が飽和磁化の点から好ましく用いられ
る。またこれら金属磁性粉末の表層に、Ａｌ、Ｓｉ、
Ｐ、Ｂ、Ｙや、Ｌａ、Ｃｅ、ＮｄあるいはＳｍ等Ｌａ族
元素等の焼結防止元素あるいは形状保持元素を含有して
いてもよい。酸化鉄系磁性粉末としてはγ−Ｆｅ
₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ とＦｅ₃ Ｏ₄ との
中間体であるベルトライド化合物、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₂
Ｏ₃ 、Ｃｏ含有Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ と
Ｃｏ含有Ｆｅ₃ Ｏ₄ との中間体であるベルトライド化合
物等の各種スピネル型酸化鉄、Ｍ型、Ｗ型、Ｙ型、Ｚ型
等の各種バリウムフェライト、カルシウムフェライト、
鉛フェライト、これら各種マグネトプランバイト型酸化
鉄に保磁力を向上する目的で、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｎ
ｂ、ＣｕあるいはＮｉ等を添加したマグネトプランバイ
ト型酸化鉄が例示される。鉄の化合物としては酸化鉄系
の他に窒化鉄、炭化鉄、硼化鉄が挙げられる。酸化物系
としては他にＣｒＯ₂ あるいはこれにＴｅ、Ｓｂ、Ｆ
ｅ、Ｂ等を微量添加したものでもよい。これら各種磁性
粉末は単独あるいは複数種を混合して使用することも可
能である。

【００３２】磁性粉末の形状としては、長軸長が例えば
０．０５μｍ〜０．５μｍ程度、軸比（アスペクト比）
が３〜３０程度、好ましくは５〜１５程度であって、針
状、柱状、紡錘状あるいは棒状の外形を呈するものが好
ましい。長軸長が０．０５μｍ未満であると、磁性塗料
の分散が困難であり、長軸長が０．５μｍ以上ではノイ
ズ特性が劣化する虞れがあり好ましくない。軸比が３未
満では個々の磁性粒子の磁場配向性が劣化して角型比と
残留磁束が低下する結果、出力が低下する。また軸比が
３０を超えると、特に短波長信号が低下する虞れがあり
好ましくない。マグネトプランバイト型酸化鉄の場合に
は微細な六角板状のものが採用される。これは板径が
０．０１〜０．５μｍ、板厚が０．００１〜０．２μｍ
程度のものが好ましい。長軸長、軸比、板径、板厚等
は、透過型電子顕微鏡写真から無作為に抽出した１００
サンプル以上の粒子の平均値から求めることができる。
これら磁性粉末の比表面積は３０ｍ² ／ｇから８０ｍ²
／ｇ、特に４０ｍ² ／ｇから７０ｍ² ／ｇの範囲のもの
が好ましい。比表面積をこの範囲に選ぶことにより、磁
性粉末の微粒子化に伴う高密度記録化と、ノイズ特性に
優れた磁気記録媒体を得ることができる。

【００３３】塗布型の磁性層に採用される有機バイン
ダ、分散剤、研磨剤、マット剤、潤滑剤およびこれらを
磁性塗料化する際の溶剤等は特に限定はなく、いずれも
従来の塗布型磁気記録テープに採用されるものでよい。
塗布、乾燥、硬化、カレンダ処理等についても同様であ
る。

【００３４】金属磁性薄膜型の磁気記録媒体において
は、磁気記録層３は強磁性金属を蒸着やスパッタリング
あるいはめっき等の薄膜形成技術により非磁性下層２上
に形成する。強磁性金属の材料としては、Ｃｏ、Ｆｅあ
るいはＮｉ等の単体強磁性金属や、Ｃｏ−Ｎｉ系合金、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ系合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｃｒ
−Ｔａ合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金等のＣｏ系合金、Ｆ
ｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｂ合金、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｂ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ合金等のＦｅ系合金等
や、これら強磁性材料中や粒界に酸化物、窒化物あるい
は炭化物等が析出した構造からなるものが例示される。
特に、面内磁化モードによる薄膜型磁気記録媒体では、
非磁性支持体表面に対し斜め蒸着等で磁性層を形成して
磁化容易軸を磁性層の略面内に配向する。非磁性支持体
上にＢｉ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｓｉ
あるいはＴｉ等の非磁性下地層を形成しておき、ここに
非磁性支持体表面の垂直方向から強磁性金属を蒸着ある
いはスパッタリングしてもよい。かかる非磁性下地層を
介在させることにより、非磁性金属を磁性層中に拡散し
たり、磁性層のモホロジ（morphology) を制御して面内
等方性磁化を付与するとともに、抗磁力を向上すること
ができる。

【００３５】磁気記録層３は単層あるいは積層で用いら
れる。積層の場合には、中間層として非磁性層を介在さ
せてもよい。また図示はしないが磁気記録層３の表面に
保護層を設けてもよい。保護層の材料としては、カーボ
ン、ダイアモンドライクカーボン、ＳｉＯ₂ 、Ｓｉ₃ Ｎ
₄ 、ＳｉＯＮ、ＳｉＣ、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＡｌＮ、Ｔｉ
Ｏ₂ 、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 、ＴｉＮ、ＴｉＣ、ＺｒＯ₂ 、Ｍｇ
Ｏ、ＢＮ、ＣｏＯあるいは非磁性金属等が単独あるいは
複合膜として使用される。これら材料を単層あるいは積
層で用いてもよい。これら保護層の形成方法は特に限定
されないが、スパッタリング、真空蒸着あるいはＣＶＤ
(Chemical Vapor Deposition) 法等の気相からの薄膜形
成技術が均一性や膜質の点で好ましい。

【００３６】磁気記録層３あるいは保護層表面に潤滑性
を高めるトップコート層（不図示）を形成してよい。こ
のトップコート層は、一般に潤滑剤を溶質の主成分と
し、アルコールやトルエン等の溶剤に溶解したトップコ
ート溶液を塗布乾燥して形成する。潤滑剤としてはフル
オロカーボン系、アルキルアミン系、アルキルエステル
系、シリコーン系等、従来より用いられている潤滑剤は
いずれも使用することができる。

【００３７】また金属薄膜型磁気記録層の場合には、ト
ップコート層に防錆剤を添加してもよい。防錆剤として
はこれも磁気記録媒体に従来用いられている防錆剤はい
ずれも使用することが可能であり、有機アミン類、フェ
ノール類、ナフトール類、キノン類、リボフラビン等の
含窒素複素環化合物、グアノシン等の含酸素複素環化合
物、スルホランスルホレンチオン等の含硫黄複素環化合
物、チオフェノール等のメルカプト基を含む化合物、チ
アゾール系化合物等を例示することができる。

【００３８】さらに、より厳しい環境下での使用条件に
対処して潤滑効果を持続するため、潤滑剤あるいはその
組成物に対し重量比で３０／７０〜７０／３０程度の配
合比で極圧剤を併用してもよい。極圧剤は、境界潤滑領
域において部分的に金属接触を生じた際にこれに伴う摩
擦熱により金属面と反応し、反応生成物被膜を形成する
ことにより摩擦・磨耗防止作用を得る化合物であり、従
来公知のリン系極圧剤、硫黄系極圧剤、ハロゲン系極圧
剤、有機金属系極圧剤および複合系極圧剤のいずれも使
用することができる。

【００３９】磁気記録テープの場合は、非磁性支持体１
の他方の面に、塗布型あるいは薄膜型のバックコート層
（不図示）を設けることが一般的である。バックコート
層の構成は特に限定されない。塗布バックコート層は非
磁性粒子を有機バインダ中に分散させて形成し、表面粗
度や導電性を制御するものであり、非磁性粒子の材料と
しては例えばヘマタイト、ベーマイト、溶融アルミナ、
α，β，γ−アルミナ等の各種アルミナ、雲母、カオリ
ン、タルク、粘土、シリカ、酸化マグネシウム、酸化チ
タン（ルチルおよびアナターゼ）、酸化亜鉛、硫化亜
鉛、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウ
ム、硫酸バリウム、硫酸鉛、硫化タングステン等の無機
化合物、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、
ポリテトラフルオロエチレン等の高分子樹脂、デンプ
ン、あるいは非磁性金属やカーボン等が例示される。非
磁性粒子は、平均粒子径０．０５〜１μｍ、好ましくは
０．１〜０．７μｍの大きさのものが使用され、有機バ
インダ１００重量部に対して通常１〜２０重量部の範囲
で添加される。また粒子形状は塗料適性や耐久性等の観
点から、略球形、略正多面体等の等方的な形状を有する
ものが好ましい。

【００４０】また塗布バックコート層に用いる有機バイ
ンダ材料としては、これも特に限定されないが、従来よ
り使用されている熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂等のすべてが使用可能である。熱可塑性樹脂は、熱
硬化性樹脂や反応型樹脂等と混合して用いることが望ま
しい。

【００４１】薄膜バックコート層に採用される材料とし
ては、例えばカーボン、グラファイト、ダイアモンド状
カーボン、ＳｉＯ₂ 、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 、ＳｉＯＮ、ＳｉＣ、
Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＡｌＮ、ＴｉＯ₂ 、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 、ＴｉＮ、
ＴｉＣ、ＺｒＯ₂ 、ＭｇＯ、ＢＮ、ＣｏＯあるいは非磁
性金属等が単独あるいは複合膜として使用される。さら
にはポリパラキシリレン（商品名パリレン）やフッ素樹
脂等、真空薄膜形成技術を適用可能な有機高分子を用い
ることもできる。これら材料を単層あるいは積層で用い
てもよい。

【００４２】薄膜バックコート層の形成方法は、真空薄
膜形成法すなわちＤＣスパッタリング法、ＲＦスパッタ
リング法、イオンビームスパッタリング法、マグネトロ
ンスパッタリング法、反応性スパッタリング法等の各種
スパッタリング法や、蒸着法、反応性蒸着法、イオンプ
レーティング法等が採用される。プラズマＣＶＤ法やＥ
ＣＲプラズマＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法等を採用してもよ
い。有機高分子薄膜の場合には、蒸着法や原料モノマガ
スのプラズマ重合により形成することができる。いずれ
の方法においても、非磁性支持体やこの上に設けられた
塗布バックコート層が熱変形しないように非磁性支持体
等を冷却しながら形成することが望ましい。このように
形成したバックコート層にも、トップコート層を形成し
てもよい。この場合のトップコート層の材料や形成方法
は、先に述べた磁気記録層にトップコート層を形成した
方法に準じてよい。塗布型のバックコート層の場合に
は、通常用いられる潤滑剤あるいは防錆剤をバックコー
ト塗料中に内添してもよい。

【００４３】さて、非磁性下層２の構成は本発明の特徴
部分であり、末端にカルボキシル基を有する有機化合物
により表面処理された含水酸化鉄と結合剤とを必須成分
とするものである。含水酸化鉄は、α−，β−，γ−，
およびδ−の各ＦｅＯＯＨのいずれでもよい。非磁性下
層２にはカーボンブラックを添加することが好ましい。
この場合にも含水酸化鉄はカルボキシル基を有する有機
化合物により表面処理されているので塗料の粘度上昇は
小さいことから、粘度上昇効果の大きいカーボンブラッ
クとの適合性に優れる。含水酸化鉄の好ましい形状は先
述した通りである。

【００４４】非磁性下層中には、他の非磁性粒子を含ん
でもよい。かかる非磁性粒子としては特に限定されない
が、ヘマタイト、ベーマイト、溶融アルミナ、α，β，
γ−アルミナ等の各種アルミナ、雲母、カオリン、タル
ク、粘土、シリカ、酸化マグネシウム、酸化チタン（ル
チルおよびアナターゼ）、酸化亜鉛、酸化錫、酸化タン
グステン、酸化クロム、酸化セリウム、硫化亜鉛、炭酸
カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、炭酸ス
トロンチウム、硫酸バリウム、硫酸鉛、硫酸カルシウ
ム、硫化タングステン、チタン酸バリウム、非磁性金属
等の無機材料、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイ
ミド、ポリテトラフルオロエチレン等の高分子樹脂等が
例示される。これら非磁性顔料はその表面を他の非磁性
材料で被覆したり、不純物をドープして用いてもよい。
これら非磁性顔料の比表面積は、５ｍ² ／ｇ以上１００
ｍ² ／ｇ以下が好ましく、４０ｍ² ／ｇ以上８０ｍ² ／
ｇ以下がさらに好ましい。比表面積がこの範囲内にある
ときは、非磁性下層の表面性、結果的には磁気記録層の
表面性が最適化され、スペーシングロスや変調ノイズの
少ない、また走行性や走行耐久性に優れた磁気記録媒体
を提供することが可能となる。これら非磁性粒子の形状
は特に限定されず、針状や板状の他に、球状、正多面体
等の等方的な形状であってもよい。

【００４５】非磁性下層中には、必要に応じてさらに分
散剤、潤滑剤等を含有させてもよい。分散剤としては従
来公知のノニオン系、カチオン系あるいはアニオン系い
ずれのものを用いてもよい。潤滑剤としてはグラファイ
ト、２硫化モリブデン、２硫化タングステン、炭素数２
から２６程度までの脂肪酸、ならびにこれら脂肪酸と炭
素数２から２６程度までのアルコールからなる脂肪酸エ
ステル、テルペン系化合物類、ならびにこれらのオリゴ
マ、シリコーンオイル、フッ素系潤滑剤等従来公知のも
のはいずれも使用可能である。潤滑剤を磁気記録層およ
び非磁性下層の両方に含有させることにより、磁気記録
媒体中の潤滑剤の絶対量を確保し、走行性や走行耐久性
を向上することができる。

【００４６】また非磁性下層に用いる結合剤材料として
は、これも特に限定されないが、従来より使用されてい
る熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂等のいずれ
も使用可能である。これらのうちでも、後述する極性基
を有する結合剤を使用することが好適である。

【００４７】熱可塑性樹脂は、熱硬化性樹脂や反応型樹
脂等と混合して用いることが望ましい。樹脂の分子量と
しては、数平均分子量５，０００ないし２００，０００
のものが好適であり、１０，０００ないし１００，００
０のものがさらに好適である。熱可塑性樹脂としては、
例えば塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フッ化ビニル
樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−
塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリ
ル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル−アクリルニトリル共重合体、
アクリル酸エステル−塩化ビニル−塩化ビニリデン共重
合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニル共重合体、メ
タクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステル−エチレン共重合体、アクリロニトリル
−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合
体、ポリウレタン樹脂、ポリエステルポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネートポリウレタン
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビ
ニルブチラール樹脂、セルロース誘導体（セルロースア
セテートブチレート、セルロースダイアセテート、セル
ローストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニ
トロセルロース等）、スチレンブタジエン共重合体、ポ
リエステル樹脂、アミノ樹脂、各種合成ゴム系等があげ
られる。

【００４８】また熱硬化性樹脂および反応型樹脂の例と
しては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
硬化型樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹
脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポ
リマの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシア
ネートの混合物、低分子量グリコールと高分子量ジオー
ルとイソシアネートの混合物等、およびこれら樹脂の混
合物が例示される。これらの樹脂のうち、柔軟性を付与
するとされるポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリエステル樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン
共重合体等の使用が好ましい。

【００４９】これらの樹脂は、含水酸化鉄粒子の分散性
を向上するために−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃ Ｍ、−ＣＯＯ
Ｍ、あるいは −ＰＯ（ＯＭ’）₂ 等の極性官能基を含
有することが望ましい（但し、ＭはＨまたはＬｉ、Ｋ
ａ、Ｎａ等のアルカリ金属、Ｍ’はＨまたはＬｉ、Ｋ
ａ、Ｎａ等のアルカリ金属またはアルキル基をあらわ
す）。極性官能基としてはこの他に−ＮＲ₁ Ｒ₂ 、−Ｎ
Ｒ₁ Ｒ₂ Ｒ₃ ⁺ Ｘ^- の末端基を有する側鎖型のもの、＞
ＮＲ₁ Ｒ₂ ⁺ Ｘ^- の主鎖型のもの等がある（ここで
Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ は水素原子または炭化水素基であり、
Ｘ^- はフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンイオン
あるいは無機、有機イオンをあらわす）。この他に−Ｏ
Ｈ、−ＳＨ、−ＣＮ、エポキシ基等の極性官能基であっ
てもよい。これら極性官能基の含有量は１０^-1〜１０^-8
ｍｏｌ／ｇであり、好ましくは１０^-2〜１０^-6ｍｏｌ／
ｇである。これら有機バインダは単独で用いることも可
能であるが、２種類以上を併用することも可能である。
非磁性下層中におけるこれら結合剤の量は、針状含水酸
化鉄微粒子および必要に応じて混合した非磁性顔料の合
計量１００重量部に対して１〜２００重量部、好ましく
は１０〜５０重量部である。

【００５０】上述した結合剤のうち、硬化型樹脂を架橋
硬化する硬化剤として、例えばポリイソシアネート等を
添加することが可能である。ポリイソシアネートとして
は、トリメチロールプロパンと２，４−トリレンジイソ
シアネート（ＴＤＩ）の付加体（例えば商品名コロネー
トＬ−５０）が一般的であるが、４，４−ジフェニルメ
タンジイソシアネート（ＭＤＩ）やヘキサンジイソシア
ネート（ＨＤＩ）等のアルキレンジイソシアネートの付
加体を使用してもよい。この他、テトラグリシジルメタ
キシレンジアミン、テトラグリシジル−１，３−ビスア
ミノメチルシクロヘキサン、テトラグリシジルアミノジ
フェニルメタン、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノー
ル等のポリグリシジルアミン化合物、２−ジブチルアミ
ノ−４，６−ジメルカプト置換トリアジン等のポリチオ
ール化合物、トリグリシジルイソシアヌレート等のエポ
キシ化合物、エポキシ化合物とイソシアネート化合物の
混合物、エポキシ化合物とオキサゾリン化合物との混合
物、イミダゾール化合物とイソシアネート化合物の混合
物、無水メチルナジン酸等、従来より公知のものはいず
れも使用可能である。これら硬化剤の硬化型樹脂への配
合割合は、硬化型樹脂１００重量部に対し５〜８０重量
部、好ましくは１０〜５０重量部である。

【００５１】非磁性下層形成用の塗料に用いられる溶剤
としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアル
コール類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノアセテ
ート等のエステル類、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等が使用され
る。

【００５２】非磁性下層用塗料の調製は、含水酸化鉄粒
子、末端にカルボキシル基を有する有機化合物、結合
剤、有機溶媒、および必要に応じて他の添加剤等を混
合、分散および混練の各工程を経ることによりおこなわ
れる。含水酸化鉄粒子表面を予め末端にカルボキシル基
を有する有機化合物により吸着処理しておいてもよい。
例えば含水酸化鉄粒子の合成、洗浄に引き続いて、ある
程度の水溶性を示す末端にカルボキシル基を有する有機
化合物を用いて水相中で表面処理しても良い。水溶性の
化合物の場合には、有機溶媒中への溶解性が小さいの
で、表面処理した含水酸化鉄を結合剤とともに混合、分
散して非磁性下層用塗料を調製する際に、末端にカルボ
キシル基を有する有機化合物の脱落を防止でき、したが
って塗膜中の遊離の低分子量有機化合物の量を低減で
き、塗膜強度の点で有利となる。

【００５３】非磁性下層用塗料の分散および混練には、
ニーダ、アジタ、ボールミル、サンドミル、ロールミ
ル、エクストルーダ、ホモジナイザ、超音波分散機等が
用いられる。

【００５４】非磁性支持体上に非磁性下層を形成するた
めの塗布方法は特に限定されず、エアドクタコート、ブ
レードコート、エアナイフコート、スクィズコート、含
浸コート、リバースロールコート、トランスファロール
コート、グラビアコート、キスコート、キャストコー
ト、エクストルージョンコート、ダイコート、スピンコ
ート等従来の方法はいずれも採用可能である。

【００５５】塗布型の磁気記録媒体の場合の重層塗布方
法には、ウェットオンドライ方式、ウェットオンウェッ
ト方式のいずれの方法によってもよい。ウェットオンド
ライ方式は、非磁性支持体上に非磁性下層塗料を塗布乾
燥後、必要に応じてカレンダ処理、硬化処理を施し、こ
の乾燥塗膜上に磁気記録層塗料を塗布する方式である。
またウェットオンウェット方式は非磁性下層塗料を塗布
後、乾燥せずに湿潤状態のままさらに磁気記録層塗料を
塗布する方式であり、同時重層塗布方式と呼称される。

【００５６】ウェットオンウェット重層塗布方式のコー
ティングシステムの概略構成を、図２を参照して説明す
る。装置全体は、長尺の非磁性支持体１３が巻回された
供給ロール１１から巻き取りロール１２に向けて非磁性
支持体１３が搬送される間に、諸工程が施されるように
構成されている。すなわち、この搬送方向に沿って、塗
布装置１４、磁場配向装置１５、乾燥装置１６およびカ
レンダ装置１７がこの順に配列されている。

【００５７】塗布装置１４は、図示の装置は一例として
押し出しコート方式の要部であるコーティングヘッドが
示されており、これらは非磁性下層塗料用コーティング
ヘッド１８および磁気記録層塗料用コーティングヘッド
１９から構成されている。非磁性下層塗料用コーティン
グヘッド１８および磁気記録層塗料用コーティングヘッ
ド１９は一つの塗布装置に装備されていてもよく、別個
の塗料装置に個別に装備されていもよい。

【００５８】コーティングヘッドの動作の概略を図３を
参照して説明する。非磁性下層塗料用コーティングヘッ
ド１８および磁気記録層塗料用コーティングヘッド１９
の内部にはいずれも塗料溜まり２０，２４が形成され、
コーティングヘッド先端部に向けてスリット２１，２５
が形成されている。塗料溜まり２０，２４から供給され
た各塗料は、スリット２１，２５を経由してコーティン
グヘッド先端部に押し出される。

【００５９】一方非磁性支持体１３は、コーティングヘ
ッド先端部と微小間隔を保って図中の矢印の方向に搬送
される。この過程で、非磁性下層塗料用コーティングヘ
ッド１８により非磁性下層塗料の塗膜２３が形成され、
この後直ちに磁気記録層塗料用コーティングヘッド１９
により磁気記録層塗料の塗膜２６が形成される。

【００６０】図４はコーティングヘッドの他の例であ
る。図４の例は、複合型のコーティングヘッド２７であ
り、この複合型のコーティングヘッド２７内部には非磁
性下層塗料用および磁気記録層塗料用の塗料溜まり２
０，２４、および所定間隔をおいてスリット２１，２５
が形成されている。

【００６１】図５はコーティングヘッドのさらに他の例
である。図５の例も、複合型のコーティングヘッド２７
であり、この複合型のコーティングヘッド２７内部には
非磁性下層塗料用および磁気記録層塗料用の塗料溜まり
２０，２４、およびスリット２８が形成されている。こ
のスリット２８は、各塗料溜まり２０，２４が複合型の
コーティングヘッド２７内で層状に一体化して、非磁性
支持体１３上に非磁性下層塗料の塗膜２３および磁気記
録層塗料用の塗膜２６が同時に形成される。

【００６２】

【実施例】以下、本発明の好適な実施例を適宜参考例お
よび比較例を交えながらさらに詳しく説明するが、本発
明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。

【００６３】以下の実施例１〜１４、参考例１〜３およ
び比較例１〜４は、磁気記録媒体としていずれも３．５
インチ径のフロッピディスクを採りあげて説明する。

【００６４】実施例１ 〔非磁性下層用塗料の調製〕非磁性下層に用いる含水酸
化鉄粒子として、平均長軸長０．１５μｍ、平均アスペ
クト比１３．１、比表面積９１ｍ² ／ｇのゲーサイト
（試料Ａ）を採用した。平均長軸長および平均アスペク
ト比は、透過型電子顕微鏡による倍率１０万倍の写真か
ら計測し、２００粒子の平均値として求めた。比表面積
は、Rapid Surface Area Analyzer （マイクロメトリク
ス社製）によりＢＥＴ法で求めた。

【００６５】末端にカルボキシル基を有する有機化合物
として、酪酸を採用した。酪酸は、ＣＨ₃ （ＣＨ₂ ）₂
ＣＯＯＨの分子式で表され、カルボキシル基を分子内に
１個含み、その分子量は８８と比較的低分子量の化合物
である。

【００６６】この試料Ａのゲーサイトと酪酸とを、結合
剤としてのポリ塩化ビニル樹脂等や添加物とともにサン
ドミルにより３時間分散して塗料化した。非磁性下層用
塗料の組成を以下に示す。 ゲーサイト（試料Ａ） １００重量部 酪酸 ３重量部 （３．７５μｍｏｌ／ｍ² ） カーボンブラック １２重量部 （ライオンアグゾ社製 ケッチェンＥＣ ；一次粒子径
３０ｎｍ、比表面積９５０ｍ² ／ｇ、ＤＢＰ吸油量約３
５０ｍｌ／１００ｇ） ポリ塩化ビニル樹脂 １５重量部 （日本ゼオン社製 ＭＲ−１１０ ；重合度１５０、極
性官能基としてスルホン酸ナトリウム塩を５×１０^-4ｍ
ｏｌ／ｇの割合で含む） ポリエステルポリウレタン樹脂 １０重量部 （東洋紡績社製 ＵＲ−８２００ ；極性官能基として
スルホン酸ナトリウム塩を１×１０^-4ｍｏｌ／ｇの割合
で含む） ヘプチルステアレート ２重量部 メチルエチルケトン １５０重量部 シクロヘキサノン １５０重量部 塗料化した組成物は、塗布直前にポリイソシアネートを
２重量部加えてさらに混合し、非磁性下層用塗料とし
た。

【００６７】〔磁気記録層用塗料の調製〕磁性粉末とし
て鉄系メタル強磁性粉末を採用した。この強磁性粉末は
平均長軸長０．１０μｍ、平均アスペクト比６．０、比
表面積は５６ｍ² ／ｇであった。また振動試料型磁束計
による磁気特性の測定値は、飽和磁化σ_S ＝１５５Ａｍ
²／ｋｇ、保磁力Ｈｃ＝１９０ｋＡ／ｍである。なお測
定時の外部磁場は１．２ＭＡ／ｍ（１５ｋＯｅ）とし
た。この鉄系メタル強磁性粉末を、結合剤としてのポリ
塩化ビニル樹脂等や添加物とともにサンドミルにより５
時間分散して塗料化した。磁気記録層用塗料の組成を以
下に示す。 塗料化した組成物は、塗布直前にポリイソシアネートを
４重量部加えてさらに混合し、磁気記録層用塗料とし
た。

【００６８】〔フロッピディスクの製造〕一例として、
厚さ約６０μｍのＰＥＴフィルムからなる非磁性支持体
の一主面側に、複数リップ方式のダイコータにより非磁
性下層および磁気記録層を同時重層塗布した。ソレノイ
ドコイルによる磁場配向処理後、乾燥した後、非磁性支
持体の他の主面（裏面）にも同様にして非磁性下層およ
び磁気記録層を同時重層塗布した。この後、カレンダ、
硬化の各工程を経て３．５インチ径のディスク形状に打
ち抜き、実施例１のフロッピディスクを作成した。最終
的な塗布厚は、非磁性下層が２．０μｍ、磁気記録層が
０．２μｍであり、その厚さ比率を１０に設定した。

【００６９】このようにして得た非磁性下層用塗料、お
よびフロッピディスクにつき、塗料粘度、磁気記録層の
表面粗度、電磁変換特性、および走行耐久性を評価し
た。各評価方法を以下に示す。

【００７０】〔非磁性下層用塗料粘度〕東栄精機製Ｅ型
粘度計により、剪断速度５．０ｓｅｃ^-1での粘度を測定
した。

【００７１】〔表面粗度〕完成したフロッピディスクの
磁気記録層の表面粗度を、非接触の光干渉型表面粗度計
（ＨＰ社製ＺＹＧＯ）で測定し、中心面平均粗さＳＲａ
により評価した。

【００７２】〔電磁変換特性〕フロッピディスクの回転
数３６００ｒｐｍ、１２０ｋｆｃｉの記録再生条件で、
再生出力、および孤立波半値幅ＰＷ５０を測定した。測
定値は、後述する比較例３のフロッピディスクの測定値
を１００％に規準化して相対比較した。言うまでもな
く、再生出力は数値の大きいほど良く、ＰＷ５０はその
値が小さいほど高密度記録に適する。

【００７３】〔走行耐久性〕同じくフロッピディスクの
回転数３６００ｒｐｍ、１２０ｋｆｃｉの記録再生条件
で、同一トラックを連続再生した場合に、再生出力が初
期値から６ｄＢ低下する迄の時間で評価した。この時間
が長いほど、耐久性に優れる。以上の各測定結果につい
ては後述する。

【００７４】実施例２〜１４ 非磁性粒子の種類および末端にカルボキシル基を有する
有機化合物の種類を変えた他は、実施例１に準じて実施
例２〜実施例１４のフロッピディスクを作成した。

【００７５】参考例１〜３ 同じく非磁性粒子の種類および末端にカルボキシル基を
有する有機化合物の種類を変えた他は、実施例１に準じ
て参考例１〜参考例３のフロッピディスクを作成した。
これら参考例のフロッピディスクは、含水酸化鉄に対す
る末端にカルボキシル基を有する有機化合物の表面処理
量が、好ましい範囲からはずれたものである。

【００７６】比較例１〜２ 含水酸化鉄のみを使用し、末端にカルボキシル基を有す
る有機化合物で処理せずに非磁性下層を形成した他は、
実施例１に準じて比較例１〜２のフロッピディスクを作
成した。

【００７７】比較例３ 非磁性粒子として、含水酸化鉄に変えてヘマタイト（α
−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ）を採用し、末端にカルボキシル基を有す
る有機化合物により表面処理せず非磁性下層を形成し
た。その他は実施例１に準じて比較例３のフロッピディ
スクを作成した。

【００７８】比較例４ 非磁性粒子として、含水酸化鉄に変えてヘマタイト（α
−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ）を採用し、末端にカルボキシル基を有す
る有機化合物の種類を変えた他は実施例１に準じて比較
例４のフロッピディスクを作成した。

【００７９】以上の各実施例、参考例および比較例に採
用した含水酸化鉄の種類を〔表１〕にまとめて示す。

【００８０】

【表１】

【００８１】また以上の各実施例、参考例および比較例
に採用した末端にカルボキシル基を有する有機化合物の
種類を、〔表２〕にまとめて示す。

【００８２】

【表２】

【００８３】さらに、以上の各実施例、参考例および比
較例により作成されたフロッピディスクの測定結果を、
〔表３〕（実施例）ならびに〔表４〕（参考例、比較
例）にまとめて示す。

【００８４】

【表３】

【００８５】

【表４】

【００８６】〔表３〕および〔表４〕の測定結果を合わ
せて考察すると、実施例のフロッピディスクに採用した
非磁性下層用塗料の粘度は、いずれも２２００〜４９０
０ｍＰａＳの比較的小さな値を示し、上層の磁気記録層
用塗料との適合性に優れたものであった。このため、磁
気記録層の表面粗さも、いずれも６．０ｎｍ以下の良好
なものであった。

【００８７】この結果、実施例のフロッピディスクの再
生出力はいずれも１００％を上回り、ＰＷ５０は１００
％以下と、優れた電磁変換特性を示した。

【００８８】さらに走行耐久性はいずれの実施例のフロ
ッピディスクも２００時間以上と優秀であった。

【００８９】これに対し、末端にカルボキシル基を有す
る有機化合物による表面処理を用いない含水酸化鉄を非
磁性粒子として用いた比較例１〜２の非磁性下層用塗料
は、粘度が極めて高く、測定限界を超えるものであっ
た。このため表面粗さが粗く、したがって電磁変換特性
の劣化が見られた。さらに非磁性粒子径の長軸長が０．
１２μｍと比較的小さなゲーサイトＢを用いた比較例２
のフロッピディスクは走行耐久性の低下が顕著であっ
た。

【００９０】非磁性粒子としてヘマタイトを用いた比較
例３は、標準試料であり、標準的な測定結果を示すが、
各実施例の測定結果を凌駕するものでもない。

【００９１】非磁性粒子としてヘマタイトを用い、さら
に末端にカルボキシル基を有する有機化合物ｄで表面処
理した比較例４は、非磁性下層用塗料の粘度が極端に低
下し、このため磁気記録層用塗料との適合性が低下し
た。すなわち、磁気記録層の表面粗さが大きく、電磁変
換特性も低下した。

【００９２】以上本発明の磁気記録媒体を、塗布型のフ
ロッピディスクを例にとって説明したが、ビデオテープ
や計測用テープあるいはハードディスク等の磁気記録媒
体にも本発明を適用することができることは言うまでも
ない。また塗布型に限らず薄膜型の磁気記録媒体の非磁
性下層に適用してもよい。薄膜型磁気記録テープの作成
条件の一例を示す。

【００９３】一例として膜厚６．０μｍのＰＥＴ（ポリ
エチレンテレフタレート）フィルムの一主面側に本発明
を適用した非磁性下層を形成し、この非磁性下層上にリ
ールツーリール方式の連続巻き取り蒸着装置を用いて、
磁気記録層を形成した。蒸着条件の一例を下記に示す。 インゴット材：Ｃｏ９０Ｎｉ１０ 重量％ 入射角 ４５〜９０ ° 酸素導入量 ３．３×１０^-6 ｍ³ ／ｓｅｃ 蒸着時真空度 ７×１０^-2 Ｐａ 膜厚 ２００ ｎｍ この磁気記録層の磁気特性は保磁力Ｈｃ＝１２２０Ｏ
ｅ、残留磁束密度４３００Ｇであった。かかる薄膜型の
磁気記録媒体においても、電磁変換特性および走行性を
ともに満たした高密度磁気記録媒体を得ることができ
る。

【００９４】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の磁気記録媒体およびその製造方法によれば、非磁性下
層用塗料の粘度上昇を抑制し、表面の平滑性が向上し、
電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を得ることができ
る。

【００９５】またカーボンブラックを添加した場合にお
いても非磁性下層の粘度上昇を抑制し、表面の平滑性が
向上するので、電磁変換特性とともに走行耐久性に優れ
た磁気記録媒体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体を磁気記録テープおよび
フロッピディスクに適用した例の概略断面図である。

【図２】コーティングシステムの１例の概略断面図であ
る。

【図３】コーティングヘッドの動作の概略を示す図であ
る。

【図４】他のコーティングヘッドの動作の概略を示す図
である。

【図５】さらに他のコーティングヘッドの動作の概略を
示す図である。

【符号の説明】

１…非磁性支持体、２…非磁性下層、３…磁気記録層 １１…供給ロール、１２…巻き取りロール、１３…非磁
性支持体、１４…塗布装置、１５…磁場配向装置、１６
…乾燥装置、１７…カレンダ装置、１８…非磁性下層塗
料用コーティングヘッド、１９…磁気記録層塗料用コー
ティングヘッド、２０，２４…塗料溜まり、２１，２
５，２８…スリット、２３…非磁性下層塗料の塗膜、２
６…磁気記録層塗料の塗膜、２７…複合型のコーティン
グヘッド

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に、 非磁性粒子および結合剤を主体とする非磁性下層と、 磁気記録層とをこの順に有する磁気記録媒体において、 前記非磁性粒子は、 末端にカルボキシル基を有する有機化合物により表面処
   理された含水酸化鉄であることを特徴とする磁気記録媒
   体。
2. 【請求項２】 前記末端にカルボキシル基を有する有機
   化合物による表面処理量は、 前記含水酸化鉄の単位表面積あたりのカルボキシル基の
   モル量として、 １μｍｏｌ／ｍ² 以上６μｍｏｌ／ｍ² 以下であること
   を特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 前記末端にカルボキシル基を有する有機
   化合物は、 １分子中に２以上のカルボキシル基を有する多価カルボ
   ン酸であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒
   体。
4. 【請求項４】 非磁性支持体上に、 非磁性粒子および結合剤を主体とする非磁性下層と、 磁気記録層とをこの順に形成する工程を具備する磁気記
   録媒体の製造方法において、 前記非磁性粒子は、 末端にカルボキシル基を有する有機化合物により表面処
   理された含水酸化鉄であることを特徴とする磁気記録媒
   体の製造方法。
5. 【請求項５】 前記非磁性下層と、前記磁気記録層をこ
   の順に形成する工程は、 同時重層塗布方式によることを特徴とする請求項４記載
   の磁気記録媒体の製造方法。
6. 【請求項６】 前記末端にカルボキシル基を有する有機
   化合物による表面処理量は、 前記含水酸化鉄の単位表面積あたりのカルボキシル基の
   モル量として、 １μｍｏｌ／ｍ² 以上６μｍｏｌ／ｍ² 以下であること
   を特徴とする請求項４記載の磁気記録媒体の製造方法。
7. 【請求項７】 前記末端にカルボキシル基を有する有機
   化合物は、 １分子中に２以上のカルボキシル基を有する多価カルボ
   ン酸であることを特徴とする請求項４記載の磁気記録媒
   体の製造方法。