JP2000114291A - Semiconductor manufacturing device - Google Patents
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Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体製造装置に係
り、特にリードフレームの片面にのみ樹脂パッケージが
形成される構成とされた半導体製造装置に関する。近
年、半導体装置が組み込まれる電子機器の多様化に伴
い、半導体装置のパッケージ構造も多様化している。よ
って、このように多様化した半導体装置を効率よく、か
つ高い信頼性をもって製造する半導体装置の製造装置が
必要となる。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly to a semiconductor manufacturing apparatus in which a resin package is formed only on one side of a lead frame. In recent years, with the diversification of electronic devices in which a semiconductor device is incorporated, the package structure of the semiconductor device has also diversified. Therefore, a semiconductor device manufacturing apparatus that manufactures such diversified semiconductor devices efficiently and with high reliability is required.
【0002】[0002]
【従来の技術】図1は、半導体製造装置で製造される半
導体装置10を示している。この半導体装置10は、大
略すると半導体素子11,樹脂パッケージ12,及び金
属膜13とからなる極めて簡単な構成とされている。
尚、図1に示す半導体装置10は、本出願人が先に特願
平9−315323号において提案したものである。2. Description of the Related Art FIG. 1 shows a semiconductor device 10 manufactured by a semiconductor manufacturing apparatus. The semiconductor device 10 has a very simple configuration including a semiconductor element 11, a resin package 12, and a metal film 13 when roughly described.
The semiconductor device 10 shown in FIG. 1 has been previously proposed by the present applicant in Japanese Patent Application No. 9-315323.
【0003】半導体素子11は、その上面に複数の電極
パッド14が形成されており、素子固定樹脂15上に搭
載された構成とされている。また、樹脂パッケージ12
は、例えばエポキシ樹脂を金型を用いてトランスファー
モールドすることにより形成されるものであり、その実
装面16の所定位置には樹脂突起17が一体的に形成さ
れている。この樹脂突起17は、樹脂パッケージ12の
実装面16から下方に向け突出形成されている。[0005] The semiconductor element 11 has a plurality of electrode pads 14 formed on the upper surface thereof, and is mounted on an element fixing resin 15. Also, the resin package 12
Is formed, for example, by transfer molding an epoxy resin using a mold, and a resin projection 17 is integrally formed at a predetermined position on the mounting surface 16. The resin protrusion 17 is formed to protrude downward from the mounting surface 16 of the resin package 12.
【0004】また、金属膜13は、樹脂パッケージ12
に形成された樹脂突起17を覆うように形成されてい
る。この金属膜13と前記した電極パッド14との間に
はワイヤ18が配設されており、これにより金属膜13
と半導体素子11は電気的に接続した構成となってい
る。上記構成とされた半導体装置10は、従来のSSO
Pのようなインナーリードやアウターリードが不要とな
り、インナーリードからアウターリードへの引き回しの
ための面積やアウターリード自身の面積が不要となる。
このため、半導体装置10の小型化を図ることができ
る。Further, the metal film 13 is formed on the resin package 12.
It is formed so as to cover the resin protrusion 17 formed on the substrate. A wire 18 is provided between the metal film 13 and the above-mentioned electrode pad 14 so that the metal film 13
And the semiconductor element 11 are electrically connected. The semiconductor device 10 having the above configuration is a conventional SSO
The inner lead and the outer lead such as P become unnecessary, and the area for routing from the inner lead to the outer lead and the area of the outer lead itself become unnecessary.
Therefore, the size of the semiconductor device 10 can be reduced.
【0005】また、従来のBGAのような半田ボールを
形成するために基板を用いる必要がなくなるため、半導
体装置10のコスト低減を図ることができる。また、樹
脂突起17及び金属膜13は、協働してBGAタイプの
半導体装置の半田バンプと同等の機能を奏するため、実
装性を向上することができる。上記構成とされた半導体
装置10は、図2に示す各工程を実施することにより製
造される。図1に示される半導体装置10は、リードフ
レーム21(図3参照)を用いて製造されるが、半導体
装置10の詳細な製造方法については、先に示した特願
平9−315323号に開示しているため、ここでは各
工程を簡単に説明する。Further, since it is not necessary to use a substrate for forming a solder ball such as a conventional BGA, the cost of the semiconductor device 10 can be reduced. In addition, the resin protrusion 17 and the metal film 13 cooperate to perform the same function as the solder bump of the BGA type semiconductor device, so that the mountability can be improved. The semiconductor device 10 having the above configuration is manufactured by performing the steps shown in FIG. The semiconductor device 10 shown in FIG. 1 is manufactured using a lead frame 21 (see FIG. 3), and a detailed manufacturing method of the semiconductor device 10 is disclosed in Japanese Patent Application No. 9-315323 described above. Therefore, each step will be briefly described here.
【0006】半導体装置10を製造するには、先ず素子
搭載工程(ステップ10。尚、図ではステップをとと略
称している)を実施することにより、リードフレーム2
1の所定素子搭載位置に素子固定樹脂15を塗布すると
共に、素子固定樹脂15の上部に半導体素子11を搭載
する。続く接続工程(ステップ12)では、リードフレ
ーム21をワイヤボンディング装置に装着し、半導体素
子11の電極パッド14とリードフレームに予め形成さ
れている金属膜13(スタッドバンプ19)との間にワ
イヤ18を配設し、半導体素子11と金属膜13Cとを
電気的に接続する。In order to manufacture the semiconductor device 10, first, an element mounting step (Step 10, which is abbreviated as “Step” in FIG. 1) is carried out to obtain the lead frame 2.
The element fixing resin 15 is applied to the first predetermined element mounting position, and the semiconductor element 11 is mounted on the element fixing resin 15. In the subsequent connection step (step 12), the lead frame 21 is mounted on a wire bonding apparatus, and the wire 18 is placed between the electrode pad 14 of the semiconductor element 11 and the metal film 13 (stud bump 19) formed on the lead frame in advance. Is provided, and the semiconductor element 11 and the metal film 13C are electrically connected.
【0007】上記した接続工程が終了すると、続いて、
リードフレーム21上に形成された複数の半導体素子1
1を封止するよう樹脂封止体20Aを形成する封止工程
(ステップ14)が実施される。この封止工程は、更に
プレヒート工程(ステップ14-1),樹脂成形工程(ス
テップ14-2),取り出し工程(ステップ14-3),ゲ
ートブレーク工程(ステップ14-4),及び搬送工程
(ステップ14-5)に細分化される。[0007] When the above-mentioned connecting step is completed,
Plural semiconductor elements 1 formed on lead frame 21
A sealing step (step 14) of forming the resin sealing body 20A so as to seal 1 is performed. This sealing step further includes a preheating step (step 14-1), a resin molding step (step 14-2), a removal step (step 14-3), a gate break step (step 14-4), and a transport step (step 14-4). 14-5).
【0008】プレヒート工程(ステップ14-1)は、後
述する樹脂成形工程において樹脂成形処理を円滑に行な
うため、金属製であるリードフレームを予め加熱(プレ
ヒート)する処理を行なう。このプレヒート工程では、
リードフレーム21をリードフレームプレヒータに装着
した上でプレヒート処理を行なうが、従来のリードフレ
ームプレヒータは単なるプレート状の形状をしたものを
用いていた。このため、リードフレーム21をリードフ
レームプレヒータに装着すると、リードフレーム21の
背面全面がリードフレームプレヒータと当接する構成と
されていた。In the preheating step (step 14-1), a metal lead frame is preliminarily heated (preheated) in order to smoothly perform a resin molding process in a resin molding step described later. In this preheating process,
The preheating process is performed after the lead frame 21 is mounted on the lead frame pre-heater. However, the conventional lead frame pre-heater has a simple plate shape. Therefore, when the lead frame 21 is mounted on the lead frame pre-heater, the entire back surface of the lead frame 21 is configured to contact the lead frame pre-heater.
【0009】続く樹脂成形工程(ステップ14-2)で
は、金型にプレヒートしたリードフレーム21を装着す
ると共にトランスファーモールド処理を行い、リードフ
レーム21上に樹脂22を形成することにより樹脂形成
品20を形成する。図3は、樹脂形成品20を示してい
る。同図に示すように、リードフレーム21上には樹脂
22が形成されており、リードフレーム21上に素子搭
載工程及び接続工程で配設された複数の半導体素子11
及びワイヤ18等は樹脂22に保護された構成となる。
また、これと同時に、金属膜13と対向する位置には、
樹脂突起17が形成される。In the subsequent resin molding step (step 14-2), the preheated lead frame 21 is mounted on a metal mold, transfer molding is performed, and the resin 22 is formed on the lead frame 21. Form. FIG. 3 shows the resin-formed product 20. As shown in the figure, a resin 22 is formed on a lead frame 21, and a plurality of semiconductor elements 11 arranged on the lead frame 21 in an element mounting step and a connection step.
The wire 18 and the like are protected by the resin 22.
At the same time, at a position facing the metal film 13,
The resin protrusion 17 is formed.
【0010】この樹脂成形工程では半導体素子11毎に
個々の樹脂パッケージを形成するのではなく、樹脂22
により複数の半導体素子11を一括的に封止する。これ
により、金型に従来のような樹脂パッケージに対応した
キャビティを形成する必要はなくなり、金型の構成を簡
単化することができる。また、樹脂パッケージ12の大
きさに変更が生じても金型の構造を変更する必要はな
く、後述する分割工程(ステップ18)で実施する樹脂
22の分割位置を変更するのみで対応することができ、
樹脂パッケージ12の大きさの変更に柔軟に対応するこ
とができる。In this resin molding step, instead of forming an individual resin package for each semiconductor element 11, a resin 22 is formed.
, The plurality of semiconductor elements 11 are collectively sealed. As a result, it is not necessary to form a cavity corresponding to the resin package in the mold as in the related art, and the configuration of the mold can be simplified. In addition, even if the size of the resin package 12 changes, the structure of the mold does not need to be changed, and it can be dealt with only by changing the dividing position of the resin 22 performed in the dividing step (step 18) described later. Can,
It is possible to flexibly respond to a change in the size of the resin package 12.
【0011】尚、以下の説明では、リードフレーム21
上に樹脂22が形成され構成体を樹脂封止体20Aとい
うものとする。よって、図3に示す樹脂形成品20は、
二つの樹脂封止体20Aがカル23及びゲート24によ
り連結された構成となっている。樹脂成形工程において
上記した樹脂成形品20が形成されると、次に実施され
る取り出し工程(ステップ14-3)では、金型から樹脂
形成品20を取り出すと共に、これをゲートブレーク工
程(ステップ14-4)を実施するゲートブレーク機構3
2へ搬送する処理を行なう。In the following description, the lead frame 21 will be described.
The resin 22 is formed thereon, and the structure is referred to as a resin sealing body 20A. Therefore, the resin-formed product 20 shown in FIG.
Two resin sealing bodies 20A are connected by a cull 23 and a gate 24. After the above-mentioned resin molded product 20 is formed in the resin molding process, in the next taking-out process (Step 14-3), the resin molded product 20 is taken out of the mold and is subjected to the gate break process (Step 14). -4) gate break mechanism 3
2 is carried out.
【0012】図4は、取り出し工程で用いるチャッキン
グ機構25を示している。金型から樹脂形成品20の取
り出し処理は、このチャッキング機構25を用いて行な
う。このチャッキング機構25は、大略すると本体部2
6,吸着パッド27〜29,及びチャックアーム30等
により構成されている。従来のチャッキング機構25
は、本体部26の中央下部には3本の吸着パッド27〜
29が配設されており、夫々の吸着パッド27〜29は
図示しない吸引装置に接続されていた。また、吸着パッ
ド27は樹脂成形品20のカル23の形成位置と対応す
る位置に設けられており、また吸着パッド28,29は
樹脂成形品20の樹脂22の形成位置と対応する位置に
設けられていた。更に、チャックアーム30は本体部2
6の両側から下方に向け延出するよう形成されており、
その下端部にはチャック爪30aが形成されていた。FIG. 4 shows a chucking mechanism 25 used in the take-out process. The removal process of the resin-formed product 20 from the mold is performed using the chucking mechanism 25. The chucking mechanism 25 is roughly similar to the main body 2.
6, suction pads 27 to 29, a chuck arm 30, and the like. Conventional chucking mechanism 25
The three suction pads 27 to
The suction pads 27 to 29 are connected to a suction device (not shown). The suction pad 27 is provided at a position corresponding to the formation position of the cull 23 of the resin molded product 20, and the suction pads 28 and 29 are provided at a position corresponding to the formation position of the resin 22 of the resin molded product 20. I was Further, the chuck arm 30 is attached to the body 2.
6 are formed to extend downward from both sides,
A chuck claw 30a was formed at the lower end.
【0013】上記構成とされたチャッキング機構25で
樹脂形成品20を金型から取り出すには、先ず吸着パッ
ド27〜29によりカル23,樹脂22を吸引すること
により樹脂成形品20を金型から離間させ、この上でリ
ードフレーム21の下部にチャック爪30aが係合する
ようチャックアーム30を動作させる。これにより、図
4に示されるように、樹脂成形品20はチャッキング機
構25にチャッキングされ、金型から取り出される。従
来では、このチャッキング状態において、リードフレー
ム21の外周部はチャックアーム30と当接した状態と
なっており、よって強固に保持される構成とされてい
た。そして、このチャッキングを維持しつつチャッキン
グ機構25を移動させ、樹脂成形品20をゲートブレー
ク機構32へ搬送する構成とされていた。In order to remove the resin-formed product 20 from the mold by the chucking mechanism 25 having the above-described structure, first, the cull 23 and the resin 22 are sucked by the suction pads 27 to 29 so that the resin molded product 20 is removed from the mold. The chuck arm 30 is operated so that the chuck claw 30a engages with the lower part of the lead frame 21 on the lead frame 21. Thereby, as shown in FIG. 4, the resin molded product 20 is chucked by the chucking mechanism 25 and taken out from the mold. Conventionally, in this chucking state, the outer peripheral portion of the lead frame 21 is in a state of contact with the chuck arm 30, and is thus configured to be firmly held. Then, the chucking mechanism 25 is moved while maintaining the chucking, and the resin molded product 20 is transported to the gate break mechanism 32.
【0014】上記した取り出し工程が終了すると、続い
て、ゲートブレーク工程(ステップ14-4)が実施され
る。前記したように、樹脂成形工程で形成された樹脂成
形品20は、図3に示すように、一対の樹脂封止体20
Aがカル23及びゲート24により連結された構成とさ
れている。ゲートブレーク工程では、ゲート24を切断
処理することにより、樹脂封止体20Aを独立(個片
化)させる。When the above-mentioned take-out step is completed, a gate break step (step 14-4) is subsequently performed. As described above, the resin molded article 20 formed in the resin molding step is, as shown in FIG.
A is configured to be connected by a cull 23 and a gate 24. In the gate break step, the resin sealing body 20A is made independent (individualized) by cutting the gate 24.
【0015】図7は、ゲートブレーク工程で用いられて
いた従来のゲートブレーク機構32を示している。同図
に示すように、ゲートブレーク機構32は、大略すると
キャリアパレット33とリードフレームクランパー34
とにより構成されている。キャリアパレット33はその
上部に樹脂封止体20Aが搭載されるものであり、左右
一対のベース35とパレットアーム36を有した構成と
されている。パレットアーム36はベース35を中心と
して、図中矢印Aで示す方向に回動可能な構成とされて
いる。FIG. 7 shows a conventional gate break mechanism 32 used in the gate break step. As shown in the figure, the gate break mechanism 32 roughly includes a carrier pallet 33 and a lead frame clamper 34.
It is composed of The carrier pallet 33 has a resin sealing body 20A mounted thereon, and has a pair of left and right bases 35 and a pallet arm 36. The pallet arm 36 is configured to be rotatable around a base 35 in a direction indicated by an arrow A in the figure.
【0016】一方、リードフレームクランパー34は、
樹脂封止体20Aのリードフレーム21と対向する位置
に配設されており、図示しない駆動機構により図中矢印
Z1,Z2方向に移動可能な構成とされている。また、
各リードフレームクランパー34は、内側クランプ爪3
7の配設位置を中心として、図中矢印A方向に回動可能
な構成とされている。On the other hand, the lead frame clamper 34
The resin sealing body 20A is provided at a position facing the lead frame 21, and is configured to be movable in the directions of arrows Z1 and Z2 in the figure by a driving mechanism (not shown). Also,
Each lead frame clamper 34 has an inner clamp claw 3
It is configured to be rotatable in the direction of arrow A in FIG.
【0017】上記構成とされたゲートブレーク機構32
を用いてゲートブレイク処理を行なうには、先ずキャリ
アパレット33上に樹脂封止体20Aを搭載した上で、
リードフレームクランパー34を矢印Z1方向に下動さ
せる。これにより、リードフレームクランパー34に形
成されている内側クランプ爪37及び外側クランプ爪3
8は、樹脂22の外周部分に露出しているリードフレー
ム21をキャリアパレット33に向け押圧し、よって樹
脂封止体20Aはゲートブレーク機構32にクランプさ
れた状態となる。The gate break mechanism 32 constructed as described above.
In order to perform the gate break processing using the method, first, after mounting the resin sealing body 20A on the carrier pallet 33,
The lead frame clamper 34 is moved downward in the direction of arrow Z1. Thereby, the inner clamp pawl 37 and the outer clamp pawl 3 formed on the lead frame clamper 34 are formed.
8 presses the lead frame 21 exposed on the outer peripheral portion of the resin 22 toward the carrier pallet 33, so that the resin sealing body 20A is clamped by the gate break mechanism 32.
【0018】従来では、上記のようにリードフレームク
ランパー34には内側及び外側に夫々クランプ爪37,
38を有しており、この一対のクランプ爪37,38が
リードフレーム21の離間した二箇所をキャリアパレッ
ト33に向け押圧することによりクランプする構成とさ
れていた。また、このクランプした状態において、樹脂
封止体20Aの樹脂22は、リードフレームクランパー
34の下面34aに当接する構成とされていた。Conventionally, as described above, the lead frame clamper 34 has inner and outer clamp claws 37, respectively.
The pair of clamp claws 37, 38 clamp the lead frame 21 by pressing the separated two places toward the carrier pallet 33. In this clamped state, the resin 22 of the resin sealing body 20 </ b> A is configured to contact the lower surface 34 a of the lead frame clamper 34.
【0019】上記のように、樹脂封止体20Aがゲート
ブレーク機構32にクランプされると、続いて図示しな
い押圧アームによりリードフレームクランパー34は付
勢され、これによりリードフレームクランパー34は内
側クランプ爪37の形成位置を中心として図中矢印A方
向に回動する。また、このリードフレームクランパー3
4の回動に伴い、パレットアーム36も図中矢印A方向
に回動するよう構成されている。この際、リードフレー
ム21はリードフレームクランパー34の押圧力により
パレットアーム36にクランプされているため、パレッ
トアーム36の回動に伴い回動する。これに対し、カル
23はベース35にクランプされた状態となっている。As described above, when the resin sealing body 20A is clamped by the gate break mechanism 32, the lead frame clamper 34 is urged by a pressing arm (not shown), whereby the lead frame clamper 34 It rotates in the direction of arrow A in the figure around the position where 37 is formed. Also, this lead frame clamper 3
The pallet arm 36 is also configured to rotate in the direction of arrow A in FIG. At this time, since the lead frame 21 is clamped by the pallet arm 36 by the pressing force of the lead frame clamper 34, the lead frame 21 rotates with the rotation of the pallet arm 36. On the other hand, the cull 23 is in a state of being clamped to the base 35.
【0020】よって、樹脂封止体20Aのゲート24に
折り曲げ力が作用し、またゲート24は図3に示される
ように幅狭でかつ肉薄に形成されているため、ゲート2
4と樹脂22との接合部分で切断(ゲートブレーク)が
行なわれる。このゲートブレークが行なわれることによ
り、樹脂封止体20Aはカル23から独立し、個片化さ
れた状態となる。Therefore, a bending force acts on the gate 24 of the resin sealing body 20A, and the gate 24 is formed narrow and thin as shown in FIG.
Cutting (gate break) is performed at the joint between the resin 4 and the resin 22. By performing the gate break, the resin sealing body 20A is independent of the cull 23 and is in an individualized state.
【0021】上記したゲートブレーク工程が終了する
と、続いて、搬送工程(ステップ14-5)が実施され
る。この搬送工程は、ゲートブレーク工程において個片
化された樹脂封止体20Aをマガジン(図示せず)まで
搬送する処理を行なう工程である。この搬送工程は、従
来では図9に示す搬送機構40を用いて行なっていた。
搬送機構40は、大略すると本体部41,搬送用アーム
42,及びパッケージクランパー44等により構成され
ている。搬送用アーム42は、本体部41の両側位置か
ら下方(矢印Z1方向)に向け延出するよう形成されて
おり、その下端部には搬送用爪43が形成されていた。
また、一対の搬送用アーム42の間にはパッケージクラ
ンパー44が配設されており、このパッケージクランパ
ー44は図中矢印Z1,Z2方向に移動可能な構成され
ている。When the above-described gate break step is completed, a transfer step (step 14-5) is subsequently performed. This transporting step is a step of performing processing for transporting the resin sealing body 20A singulated in the gate break step to a magazine (not shown). This transfer step has conventionally been performed using a transfer mechanism 40 shown in FIG.
The transport mechanism 40 includes a main body 41, a transport arm 42, a package clamper 44, and the like. The transfer arm 42 is formed to extend downward (in the direction of the arrow Z1) from both sides of the main body 41, and a transfer claw 43 is formed at the lower end thereof.
A package clamper 44 is provided between the pair of transfer arms 42, and the package clamper 44 is configured to be movable in the directions of arrows Z1 and Z2 in the figure.
【0022】上記構成とされた搬送機構40で樹脂封止
体20Aをキャリアパレット36から取り出すには、一
対の搬送用アーム42を広がるよう移動させる。即ち、
図中右側の搬送用アーム43を図中矢印X1方向に移動
させると共に、図中左側の搬送用アーム43を図中矢印
X2方向に移動させる。この状態で、一対の搬送用アー
ム42を下動させてその間に樹脂封止体20Aを位置さ
せる。In order to take out the resin sealing body 20A from the carrier pallet 36 by the above-configured transport mechanism 40, the pair of transport arms 42 are moved so as to spread. That is,
The transfer arm 43 on the right side in the figure is moved in the direction of arrow X1 in the figure, and the transfer arm 43 on the left side in the figure is moved in the direction of arrow X2 in the figure. In this state, the pair of transfer arms 42 is moved down to position the resin sealing body 20A therebetween.
【0023】続いて、一対の搬送用アーム42が近付く
よう移動させることにより、搬送用爪43上に樹脂封止
体20A(リードフレーム21)を載置させる。その
後、パッケージクランパ44を下動させることにより、
パッケージクランパ44と搬送用爪43との間で樹脂封
止体20Aをクランプする。そして、この状態を維持し
つつ、樹脂封止体20Aをマガジンの配設位置まで搬送
し、続いて上記のクランプ状態を解除する動作を行なわ
せることにより、樹脂封止体20Aをマガジンに収納す
る。Subsequently, the resin sealing body 20A (lead frame 21) is placed on the transport claws 43 by moving the pair of transport arms 42 closer to each other. Then, by lowering the package clamper 44,
The resin sealing body 20A is clamped between the package clamper 44 and the transport claws 43. Then, while maintaining this state, the resin sealing body 20A is transported to the magazine arrangement position, and then the operation of releasing the clamped state is performed, whereby the resin sealing body 20A is stored in the magazine. .
【0024】従来の搬送機構40は、図9に示すよう
に、クランプ状態においてリードフレーム21の外周部
は搬送用アーム42と当接した状態となっており、また
パッケージクランパー44がリードフレーム21の樹脂
22から露出した部分を搬送用爪43に向け押圧するた
め、樹脂封止体20Aは搬送機構40に強固に保持され
る構成とされていた。また、クランプ状態において、パ
ッケージクランパー44の下面44aは樹脂22の上面
と当接する構成とされていた。As shown in FIG. 9, in the conventional transport mechanism 40, the outer periphery of the lead frame 21 is in contact with the transport arm 42 in the clamped state, and the package clamper 44 is In order to press the portion exposed from the resin 22 toward the transport claw 43, the resin sealing body 20A is configured to be firmly held by the transport mechanism 40. In the clamped state, the lower surface 44a of the package clamper 44 is configured to contact the upper surface of the resin 22.
【0025】再び図2に戻り、説明を続ける。上記した
封止工程が終了すると、続いて樹脂22(半導体素子1
1,金属膜13等の半導体装置10の構成要素を含む)
をリードフレーム21から分離する分離工程(ステップ
16)が実施される。この分離工程では、樹脂封止体2
0Aに対してエッチング処理を行い、リードフレーム2
1を溶解する。この分離工程で用いられるエッチング液
は、リードフレーム21のみを溶解し、金属膜13は溶
解しない性質を有するエッチング液を選定している。従
って、リードフレーム21が完全に溶解されることによ
り、樹脂22はリードフレーム21から分離される。Returning to FIG. 2, description will be continued. When the above sealing step is completed, the resin 22 (semiconductor element 1
1, including the components of the semiconductor device 10 such as the metal film 13)
Is separated from the lead frame 21 (step 16). In this separation step, the resin sealing body 2
0A is etched, and lead frame 2
Dissolve 1. As an etching solution used in this separation step, an etching solution having a property of dissolving only the lead frame 21 and not dissolving the metal film 13 is selected. Therefore, when the lead frame 21 is completely dissolved, the resin 22 is separated from the lead frame 21.
【0026】このように、リードフレーム21を溶解す
ることにより樹脂22をリードフレーム21から分離す
る方法を用いることにより、リードフレーム21から樹
脂22を分離する処理を確実かつ容易に行うことがで
き、歩留りを向上することができる。上記の分離工程が
終了すると、続いて、分割工程(ステップ18)が実施
される。この分割工程では、樹脂22を切断することに
より、個々の樹脂パッケージ12(半導体装置10)を
形成する。樹脂22を切断分割する治具としては、例え
ばカットソー,レーザ光,電子ビーム等を用いることが
考えられる。以上説明してきた各工程(ステップ10〜
ステップ18)を実施することにより、図1に示す半導
体装置10が製造される。As described above, by using the method of separating the resin 22 from the lead frame 21 by dissolving the lead frame 21, the process of separating the resin 22 from the lead frame 21 can be performed reliably and easily. The yield can be improved. When the above separation step is completed, a division step (step 18) is subsequently performed. In this dividing step, the individual resin packages 12 (semiconductor devices 10) are formed by cutting the resin 22. As a jig for cutting and dividing the resin 22, for example, a cut-saw, a laser beam, an electron beam, or the like may be used. Each of the steps described above (steps 10 to 10)
By performing step 18), the semiconductor device 10 shown in FIG. 1 is manufactured.
【0027】[0027]
【発明が解決しようとする課題】ここで、図3に示した
樹脂形成品20の構成に注目し、以下説明する。前記し
たように、図1に示す半導体装置10の製造方法は、リ
ードフレーム21を基台とし、これに予め半導体素子1
1及び金属膜13等を配設した上で樹脂22を形成し、
その後に不要となったリードフレーム21をエッチング
により分離する製造方法とされている。このため、樹脂
成形工程(ステップ14-2)を実施することにより形成
される樹脂形成品20は、リードフレーム21上に樹脂
22が形成された複合体構造の樹脂封止体20Aを有し
た構成となっている。Here, the structure of the resin-formed product 20 shown in FIG. 3 will be described below. As described above, in the method of manufacturing the semiconductor device 10 shown in FIG. 1, the lead frame 21 is used as a base, and the semiconductor element 1
1 and a metal film 13 and the like, and a resin 22 is formed.
Thereafter, the lead frame 21 which is no longer required is separated by etching. Therefore, the resin-formed product 20 formed by performing the resin molding step (step 14-2) has a resin sealed body 20A having a composite structure in which the resin 22 is formed on the lead frame 21. It has become.
【0028】このように、リードフレーム21上に樹脂
22が形成された構成では、金属であるリードフレーム
21と樹脂22との熱膨張差に起因して、図5に示すよ
うに樹脂封止体20Aに反りが発生することがある。こ
の反りの形状は、図5に示されるように、下に凸となる
反り形状となる。また、リードフレーム21の片面にの
み樹脂22が形成された構造では、外力の印加によりリ
ードフレーム21と樹脂22とが分離し易い(剥離し易
い)という特性も有している。As described above, in the configuration in which the resin 22 is formed on the lead frame 21, due to the difference in thermal expansion between the metal lead frame 21 and the resin 22, as shown in FIG. 20A may be warped. As shown in FIG. 5, the shape of the warp is a downwardly convex warp shape. Further, the structure in which the resin 22 is formed only on one surface of the lead frame 21 also has a characteristic that the lead frame 21 and the resin 22 are easily separated (separated) by application of an external force.
【0029】上記の事項に基づき、図4に示した従来の
チャッキング機構25に注目すると、従来のチャッキン
グ機構25は3本の吸着パッド27〜29を有し、特に
吸着パッド28,29は樹脂22を吸着する構成とされ
ている。よって、この吸着時には、樹脂封止体20Aに
は図5に矢印F1で示す外力が作用することとなる。更
に、チャッキング機構25に設けられているチャック爪
30aは、リードフレーム21を強固に保持する構成と
されていたため、この保持力も外力として樹脂封止体2
0Aに作用する。Focusing on the conventional chucking mechanism 25 shown in FIG. 4 based on the above, the conventional chucking mechanism 25 has three suction pads 27 to 29, and in particular, the suction pads 28 and 29 It is configured to adsorb the resin 22. Therefore, at the time of this suction, an external force indicated by an arrow F1 in FIG. 5 acts on the resin sealing body 20A. Further, since the chuck claw 30a provided in the chucking mechanism 25 is configured to firmly hold the lead frame 21, this holding force is also applied as an external force to the resin sealing body 2.
Acts on 0A.
【0030】よって、従来のチャッキング機構25で
は、吸着パッド28,29の吸引力F1、及びチャック
爪30aによるリードフレーム21の保持力が外力とし
て作用することにより、図6に示すように、リードフレ
ーム21と樹脂22との間に分離部31が発生してしま
うという問題点があった。このように、リードフレーム
21と樹脂22との間に分離部31が形成されると、こ
の分離部21においてワイヤ18は切断されて、半導体
装置10の製造歩留りが多く低下してしまう。Therefore, in the conventional chucking mechanism 25, the suction force F1 of the suction pads 28 and 29 and the holding force of the lead frame 21 by the chuck claws 30a act as external forces, and as shown in FIG. There is a problem that the separation part 31 is generated between the frame 21 and the resin 22. When the separation part 31 is formed between the lead frame 21 and the resin 22 in this manner, the wire 18 is cut at the separation part 21 and the manufacturing yield of the semiconductor device 10 is greatly reduced.
【0031】また、図7に示した従来のゲートブレーク
機構32では、リードフレームクランパ34が内側クラ
ンプ爪37と外側クランプ爪38とを有しているため、
図8に示すように、クランプ状態においてリードフレー
ム21はその両側端部を外力F2で押圧されることとな
る。このため、樹脂封止体20Aに反りが発生している
場合には、上記の外力F2はリードフレーム21の反り
のみを矯正するよう作用し、よってゲートブレーク工程
(ステップ14-4)においても、リードフレーム21と
樹脂22とが分離するおそれがある。In the conventional gate break mechanism 32 shown in FIG. 7, since the lead frame clamper 34 has the inner clamp pawl 37 and the outer clamp pawl 38,
As shown in FIG. 8, both ends of the lead frame 21 are pressed by the external force F2 in the clamped state. Therefore, when the resin sealing body 20A is warped, the above-described external force F2 acts to correct only the warpage of the lead frame 21, and therefore, even in the gate break step (step 14-4). The lead frame 21 and the resin 22 may be separated.
【0032】また、リードフレームクランパ34は、ク
ランプ状態において下面34aが樹脂22と当接する構
成とされていたため、図8に示す反りが発生している状
態においてリードフレームクランパ34が樹脂22を下
方に向け押圧すると、熱膨張量に差があるリードフレー
ム21と樹脂22との間に剪断方向(図中、左右方向)
の外力が発生する。よって、この剪断力の発生によって
も、リードフレーム21と樹脂22とが分離してしまう
おそれがあった。Since the lower surface 34a of the lead frame clamper 34 is in contact with the resin 22 in the clamped state, the lead frame clamper 34 moves the resin 22 downward while the warp shown in FIG. When pressed in the direction, the shear direction between the lead frame 21 and the resin 22 having a difference in the amount of thermal expansion (the left-right direction in the figure)
External force is generated. Therefore, there is a possibility that the lead frame 21 and the resin 22 may be separated by the generation of the shearing force.
【0033】更に、図9に示した従来の搬送装置40
は、クランプ状態においてパッケージクランパー44が
リードフレーム21の樹脂22から露出した部分を搬送
用爪43に向け押圧し、またパッケージクランパー44
の下面44aが樹脂22の上面を下方に向け押圧する構
成とされていた。このため、搬送装置40を用いて搬送
工程を実施する際にも、上記と同様の現象が発生し、リ
ードフレーム21と樹脂22とが分離するおそれがあっ
た。Further, the conventional transport device 40 shown in FIG.
In the clamped state, the package clamper 44 presses the portion of the lead frame 21 exposed from the resin 22 toward the transport claw 43, and the package clamper 44
Has been configured to press the upper surface of the resin 22 downward. For this reason, the same phenomenon as described above occurs when the transporting process is performed using the transporting device 40, and the lead frame 21 and the resin 22 may be separated.
【0034】一方、樹脂封止体20Aを形成した後、不
要となったリードフレーム21をエッチングにより分離
する製造方法では、リードフレーム21に樹脂バリ,樹
脂屑,塵埃等(以下、これらを纏めて塵埃という)が付
着していた場合、この塵埃により適正なエッチング処理
が実施されない場合が発生する。即ち、塵埃がリードフ
レーム21に付着したままでエッチング処理(分離工
程)を実施した場合、塵埃がマスクとして機能し、この
塵埃付着位置においてはリードフレーム21が残存して
しまう現象が発生する。On the other hand, in the manufacturing method in which the unnecessary lead frame 21 is separated by etching after the resin sealing body 20A is formed, resin burrs, resin dust, dust, etc. If dust is attached, the dust may cause an inappropriate etching process to be performed. That is, when the etching process (separation step) is performed with the dust adhered to the lead frame 21, the dust functions as a mask, and a phenomenon that the lead frame 21 remains at the dust adhered position occurs.
【0035】このようにリードフレーム21が残存する
と、複数の金属膜13間が残存したリードフレーム21
により短絡してしまい、半導体装置10の製造歩留りが
低下してしまうという問題点が発生する。このリードフ
レーム21に対する塵埃の付着は、特にリードフレーム
21に対しプレヒートを行なうプレヒート工程、樹脂封
止処理を行なう樹脂成形工程,及びゲートブレークを行
なうゲートブレーク工程において多く発生する。When the lead frame 21 remains as described above, the lead frame 21 in which a plurality of metal films 13 remain remains.
As a result, there is a problem that the semiconductor device 10 is short-circuited and the manufacturing yield of the semiconductor device 10 is reduced. The adhesion of dust to the lead frame 21 occurs particularly in a preheating step of preheating the lead frame 21, a resin molding step of performing a resin sealing process, and a gate break step of performing a gate break.
【0036】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、半導体装置の製造歩留りの向上を図りうる半導体
製造装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above points, and has as its object to provide a semiconductor manufacturing apparatus capable of improving the manufacturing yield of a semiconductor device.
【0037】[0037]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明では、次に述べる各種手段を講じたことを特徴
とするものである。請求項1記載の発明は、金型を用い
て樹脂パッケージとなる樹脂がリードフレーム上に形成
されると共にこの樹脂がゲート及びカルにより複数連結
された構成の樹脂封止体を、吸引パッドを用い前記金型
から取り出すチャッキング機構を有する半導体製造装置
において、前記吸引パッドが前記樹脂封止体の前記カル
を吸引保持し、前記吸引パッドのみにより前記樹脂封止
体を前記金型から取り出す構成としたことを特徴とする
ものである。Means for Solving the Problems To solve the above problems, the present invention is characterized by taking the following various means. According to the first aspect of the present invention, a resin sealed body having a configuration in which a resin to be a resin package is formed on a lead frame using a mold and a plurality of the resins are connected by a gate and a cull is formed by using a suction pad In a semiconductor manufacturing apparatus having a chucking mechanism for taking out from the mold, the suction pad sucks and holds the cull of the resin sealing body, and takes out the resin sealing body from the mold only by the suction pad. It is characterized by having done.
【0038】また、請求項2記載の発明は、リードフレ
ーム上に樹脂パッケージとなる樹脂が形成されてなる樹
脂封止体がゲート及びカルにより複数連結されてなる構
成の樹脂成形品を、前記リードフレームをリードフレー
ムクランパーでクランプすることにより固定した上で前
記ゲートのゲートブレーク処理を行い、個々の前記樹脂
封止体に分離するゲートブレーク機構を有する半導体製
造装置において、前記リードフレームクランパーが、ゲ
ートブレーク時において前記リードフレームの前記ゲー
ト近傍位置のみをクランプするよう構成したことを特徴
とするものである。Further, according to the second aspect of the present invention, there is provided a resin molded product having a structure in which a plurality of resin sealing bodies formed by forming a resin serving as a resin package on a lead frame are connected by gates and culls. In a semiconductor manufacturing apparatus having a gate break mechanism for fixing a frame by clamping the frame with a lead frame clamper and then performing a gate break process on the gate to separate the frame into individual resin sealing bodies, the lead frame clamper includes a gate breaker. At the time of a break, only a position near the gate of the lead frame is clamped.
【0039】また、請求項3記載の発明は、リードフレ
ーム上に樹脂パッケージとなる樹脂が形成されてなる樹
脂封止体がゲート及びカルにより複数連結されてなる構
成の樹脂成形品を、前記リードフレームをリードフレー
ムクランパーでクランプすることにより固定した上で前
記ゲートのゲートブレーク処理を行い、個々の前記樹脂
封止体に分離するゲートブレーク機構を有する半導体製
造装置において、前記リードフレームクランパーが、ゲ
ートブレーク時において前記樹脂から離間した状態を維
持するよう構成したことを特徴とするものである。According to a third aspect of the present invention, there is provided a resin molded product having a structure in which a plurality of resin sealing bodies in which a resin serving as a resin package is formed on a lead frame are connected by gates and culls. In a semiconductor manufacturing apparatus having a gate break mechanism for fixing a frame by clamping the frame with a lead frame clamper and then performing a gate break process on the gate to separate the frame into individual resin sealing bodies, the lead frame clamper includes a gate breaker. It is characterized in that it is configured to maintain a state separated from the resin during a break.
【0040】また、請求項4記載の発明は、ゲートブレ
ーク機構により分離されることにより個片化されたリー
ドフレーム上に樹脂パッケージとなる樹脂が形成されて
なる樹脂封止体を、前記ゲートブレーク機構から取り出
しマガジンに収納する搬送機構を有する半導体製造装置
において、前記搬送機構に設けられた搬送用アームに、
前記樹脂封止体を載置する搬送用爪を設けると共に、前
記樹脂封止体を載置した状態において、前記リードフレ
ームが前記搬送用爪上で変位可能な構成としたことを特
徴とするものである。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a resin sealed body having a resin to be a resin package formed on a lead frame which is separated by a gate break mechanism. In a semiconductor manufacturing apparatus having a transfer mechanism that is taken out of the mechanism and stored in a magazine, a transfer arm provided in the transfer mechanism includes:
A configuration in which a transport claw for mounting the resin sealing body is provided, and the lead frame is displaceable on the transport claw in a state where the resin sealing body is mounted. It is.
【0041】また、請求項5記載の発明は、金型を用い
て樹脂パッケージとなる樹脂をリードフレーム上に形成
した後、前記金型に付着した塵埃を除去するクリーニン
グ機構を有する半導体製造装置において、前記クリーニ
ング機構は、前記塵埃を吸引する吸引口の中央位置に配
設した空気吹き出し孔と、前記吸引口の両側部に配設さ
れた吸引ダクトと、前記吸引口を二つの吸引部に画成す
ると共に、前記吸引ダクトから前記吸引口の中央部に向
け前記空気の流れ経路が漸次狭くなるよう配設された遮
蔽板とを設けた構成とされていることを特徴とするもの
である。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor manufacturing apparatus having a cleaning mechanism for removing dust adhering to the mold after forming a resin to be a resin package on the lead frame using the mold. The cleaning mechanism includes an air blowout hole provided at a central position of the suction port for sucking the dust, suction ducts provided on both sides of the suction port, and the suction port divided into two suction sections. And a shielding plate provided so that the air flow path gradually narrows from the suction duct toward the center of the suction port.
【0042】また、請求項6記載の発明は、金型を用い
て樹脂パッケージとなる樹脂をリードフレーム上に形成
する前に、前記リードフレームを予備加熱するリードフ
レームプレヒータを有してなる半導体製造装置におい
て、前記リードフレームプレヒータの前記リードフレー
ムの搭載位置に凹部を形成し、前記リードフレームの外
周位置のみが前記リードフレームプレヒータに保持され
る構成としたことを特徴とするものである。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device having a lead frame pre-heater for preheating the lead frame before forming a resin to be a resin package on the lead frame using a mold. The apparatus is characterized in that a concave portion is formed at the mounting position of the lead frame of the lead frame preheater, and only the outer peripheral position of the lead frame is held by the lead frame preheater.
【0043】また、請求項7記載の発明は、リードフレ
ーム上に樹脂パッケージとなる樹脂が形成されてなる樹
脂封止体がゲート及びカルにより複数連結されてなる構
成の樹脂成形品を、前記リードフレームをリードフレー
ムクランパーでクランプすることにより固定した上で前
記ゲートのゲートブレーク処理を行い、個々の前記樹脂
封止体に分離するゲートブレーク機構を有する半導体製
造装置において、前記ゲートブレーク機構に、前記ゲー
トブレーク処理により発生する塵埃を空気を吹きつける
ことにより飛散除去するエアブロー機構を設けたことを
特徴とするものである。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a resin molded product having a structure in which a plurality of resin sealing bodies in which a resin serving as a resin package is formed on a lead frame are connected by gates and culls. In a semiconductor manufacturing apparatus having a gate break mechanism for fixing a frame by clamping it with a lead frame clamper and then performing a gate break process on the gate, and separating the frame into individual resin sealing bodies, An air blow mechanism is provided for removing dust generated by the gate break process by spraying the air with air.
【0044】更に、請求項8記載の発明は、前記請求項
7記載の半導体製造装置において、前記エアブロー機構
と対向する位置に、前記塵埃を集塵する集塵機構を設け
たことを特徴とするものである。上記した各手段は、次
のように作用する。Further, according to an eighth aspect of the present invention, in the semiconductor manufacturing apparatus according to the seventh aspect, a dust collecting mechanism for collecting the dust is provided at a position facing the air blow mechanism. It is. Each of the means described above operates as follows.
【0045】請求項1記載の発明によれば、リードフレ
ーム上に樹脂パッケージとなる樹脂が形成された構成の
樹脂封止体は、樹脂成形時の加熱等により反りが発生す
る可能性がある。この反りは、金属であるリードフレー
ムと樹脂との熱膨張差に起因して発生する。一方、樹脂
パッケージとなる樹脂を金属よりなるリードフレーム上
に形成した構成の樹脂封止体は、外力の印加により樹脂
とリードフレームが分離(剥離)し易い。よって、反り
が発生することにより内部応力が蓄成された状態の樹脂
封止体に外力が印加された場合、容易に分離が発生する
おそれがある。According to the first aspect of the present invention, a resin sealing body having a structure in which a resin serving as a resin package is formed on a lead frame may be warped due to heating or the like during resin molding. This warpage occurs due to a difference in thermal expansion between the metal lead frame and the resin. On the other hand, in a resin sealing body having a structure in which a resin to be a resin package is formed on a lead frame made of metal, the resin and the lead frame are easily separated (peeled) by application of an external force. Therefore, when an external force is applied to the resin sealing body in a state where internal stress is accumulated due to warpage, separation may easily occur.
【0046】しかるに、金型から樹脂成形品を取り出す
際、吸引パッドがカルを吸引し保持することにより取り
出す構成とすることにより、分離が発生し易い樹脂封止
体と異なる位置が保持される構成となる。このため、樹
脂成形品を金型から取り出す際、樹脂封止体に取り出し
操作による外力が印加されることを防止できる。このた
め、仮に樹脂封止体に反りが発生していたとしても、金
型から樹脂成形品を取り出す際、樹脂とリードフレーム
が分離することを確実に防止することができる。However, when the resin molded product is taken out of the mold, the suction pad sucks and holds the cull so that the cull is taken out, so that a position different from that of the resin sealing body where separation easily occurs is held. Becomes For this reason, when taking out a resin molded product from a metallic mold, it can prevent that external force by removal operation is applied to a resin sealing object. Therefore, even if the resin sealing body is warped, it is possible to reliably prevent the resin and the lead frame from separating when the resin molded product is taken out from the mold.
【0047】また、請求項2記載の発明によれば、リー
ドフレームクランパーが、ゲートブレーク時においてリ
ードフレームのゲート近傍位置のみをクランプするよう
構成したことにより、樹脂とリードフレームが分離する
ことを確実に防止することができる。即ち、前記したよ
うにリードフレームと樹脂の熱膨張差に起因して樹脂封
止体に反りが発生している場合、リードフレーム及び樹
脂は湾曲した状態となっている。このリードフレームの
樹脂の形成位置を挟んだ両側をクランプした場合、リー
ドフレームは湾曲が強制的に矯正される。According to the second aspect of the present invention, since the lead frame clamper is configured to clamp only the position near the gate of the lead frame at the time of gate break, it is ensured that the resin and the lead frame are separated. Can be prevented. That is, as described above, when the resin sealing body is warped due to the difference in thermal expansion between the lead frame and the resin, the lead frame and the resin are in a curved state. When both sides of the lead frame sandwiching the resin formation position are clamped, the lead frame is forcibly corrected for bending.
【0048】これに対し、樹脂はクランプされないた
め、湾曲した状態を維持する。よって、反りが発生して
いる樹脂封止体を樹脂の形成位置を挟んだ両側位置でク
ランプすると、樹脂とリードフレームが分離する可能性
がある。しかるに、ゲートブレーク時において、リード
フレームクランパーがリードフレームのゲートの近傍位
置のみをクランプする構成とすることにより、樹脂封止
体に反りが発生していても、この反りをそのまま維持し
た状態でリードフレームをクランプすることができる。
よって、クランプ時において、樹脂封止体にリードフレ
ームと樹脂とを分離する外力は作用せず、よって樹脂と
リードフレームが分離することを確実に防止することが
できる。On the other hand, since the resin is not clamped, the curved state is maintained. Therefore, if the warped resin sealing body is clamped at both sides of the resin forming position, the resin and the lead frame may be separated. However, at the time of a gate break, the lead frame clamper clamps only the position near the gate of the lead frame, so that even if the resin sealing body is warped, the lead is maintained in the same state. The frame can be clamped.
Therefore, at the time of clamping, an external force for separating the lead frame and the resin does not act on the resin sealing body, so that separation of the resin and the lead frame can be reliably prevented.
【0049】また、請求項3記載の発明によれば、ゲー
トブレーク時において、リードフレームクランパーが樹
脂から離間した状態を維持するよう構成したことによ
り、樹脂とリードフレームが分離してしまうことを確実
に防止することができる。即ち、前記したようにリード
フレームと樹脂の熱膨張差に起因して樹脂封止体に反り
が発生している場合、これに外力印加を行なうと樹脂と
リードフレームが分離してしまう可能性がある。よっ
て、ゲートブレーク時にリードフレームクランパーが樹
脂に当接しこれを押圧すると、これが外力として作用し
て樹脂とリードフレームが分離するおそれがある。According to the third aspect of the present invention, the structure in which the lead frame clamper is kept separated from the resin at the time of a gate break ensures that the resin and the lead frame are separated. Can be prevented. That is, as described above, if the resin sealing body is warped due to the difference in thermal expansion between the lead frame and the resin, the resin and the lead frame may be separated when an external force is applied thereto. is there. Therefore, when the lead frame clamper contacts and presses the resin during a gate break, this acts as an external force, and the resin and the lead frame may be separated.
【0050】しかるに、ゲートブレーク時においてリー
ドフレームクランパーが樹脂から離間した状態を維持す
るよう構成とすることにより、樹脂封止体に反りが発生
していても、この反りをそのまま維持した状態でゲート
ブレークを行なうことができる。よって、ゲートブレー
ク時において、樹脂封止体にリードフレームと樹脂とを
分離する外力は作用せず、よって樹脂とリードフレーム
が分離することを確実に防止することができる。However, by providing a structure in which the lead frame clamper is kept apart from the resin at the time of gate break, even if the resin sealing body is warped, the gate is maintained with the warpage maintained as it is. Breaks can be made. Therefore, at the time of a gate break, an external force for separating the lead frame and the resin does not act on the resin sealing body, so that separation of the resin and the lead frame can be reliably prevented.
【0051】また、請求項4記載の発明によれば、搬送
機構に設けられた搬送用アームに樹脂封止体を載置する
搬送用爪を設けることにより、樹脂封止体は搬送用爪に
保持された状態でゲートブレーク機構からマガジンに向
け搬送される。この際、樹脂封止体を載置した状態にお
いて、リードフレームは搬送用爪上で変位しうる構成と
している。即ち、リードフレームと搬送用爪との間には
クリアランスが設けられている。According to the fourth aspect of the present invention, the transfer arm provided on the transfer mechanism is provided with a transfer claw for mounting the resin seal, so that the resin seal is provided on the transfer claw. While being held, it is transported from the gate break mechanism to the magazine. At this time, the lead frame is configured to be displaceable on the transport claws when the resin sealing body is placed. That is, a clearance is provided between the lead frame and the transport claws.
【0052】仮に、リードフレームが搬送用爪により強
固に保持されている場合には、このクランプ力が外力と
して作用して樹脂とリードフレームが分離するおそれが
ある。しかるに、リードフレームと搬送用爪との間には
クリアランスを設けリードフレームが搬送用爪上で変位
しうる構成とすることにより、クランプ時にクランプ力
がリードフレームに印加されることはなく、よって樹脂
とリードフレームが分離することを確実に防止すること
ができる。If the lead frame is held firmly by the transport claws, the clamping force acts as an external force, and the resin and the lead frame may be separated. However, by providing a clearance between the lead frame and the transport claws so that the lead frame can be displaced on the transport claws, no clamping force is applied to the lead frame at the time of clamping. And the lead frame can be reliably prevented from being separated from each other.
【0053】また、請求項5記載の発明によれば、クリ
ーニング機構に設けられる空気吹き出し孔を塵埃を吸引
する吸引口の中央位置に配設したことにより、空気吹き
出しによる塵埃飛散方向を吸引口の中央位置に対し略均
衡させることができる。よって、塵埃の飛散方向が特定
方向に偏ることがなく、効率の高いクリーニングを行な
うことができる。According to the fifth aspect of the present invention, the air blowing hole provided in the cleaning mechanism is disposed at the center position of the suction port for sucking dust, so that the direction of dust scattering by the air blowing can be changed. It can be substantially balanced with respect to the center position. Therefore, the scattering direction of the dust is not deviated in a specific direction, so that highly efficient cleaning can be performed.
【0054】また、吸引口の両側部に吸引ダクトを設け
ると共に、吸引口を二つの吸引部に画成する遮蔽板を設
けることにより、空気吹き出し孔から吹き出された空気
は、中央部分から各吸引部を通り両側に設けられた吸引
ダクトに吸引される。これに伴い、塵埃は空気の流れと
共に吸引ダクトに吸引される。また、遮蔽板を吸引ダク
トから吸引口の中央部に向け空気の流れ経路が漸次狭く
なるよう構成したことにより、吸引口の中央部分におけ
る吸引部は絞られた構成となり、空気の流速は速くな
る。このため、吸引口の中央部分で空気が対流して吸引
ダクトに空気が進行しなくなる状態を回避でき、塵埃を
確実に除去することが可能となる。Further, by providing suction ducts on both sides of the suction port and providing a shielding plate defining the suction port in two suction portions, the air blown out from the air blowout holes can be supplied to each suction port from the central portion. The air is sucked through suction sections into suction ducts provided on both sides. Accordingly, dust is sucked into the suction duct together with the flow of air. In addition, since the shielding plate is configured to gradually narrow the flow path of the air from the suction duct toward the center of the suction port, the suction portion at the center of the suction port is narrowed, and the flow velocity of the air is increased. . For this reason, it is possible to avoid a state where air is convected at the central portion of the suction port and air does not proceed to the suction duct, and dust can be reliably removed.
【0055】また、請求項6記載の発明によれば、リー
ドフレームを予備加熱するリードフレームプレヒータの
リードフレームの搭載位置に凹部を形成し、リードフレ
ームの外周位置のみがリードフレームプレヒータに保持
される構成としたことにより、リードフレームとリード
フレームプレヒータの接触面積を小さくすることができ
る。これにより、リードフレームプレヒータに付着して
いる塵埃がリードフレームに移ることを防止でき、リー
ドフレームに対する防塵性を向上させることができる。According to the sixth aspect of the present invention, a recess is formed at the mounting position of the lead frame of the lead frame preheater for preheating the lead frame, and only the outer peripheral position of the lead frame is held by the lead frame preheater. With this configuration, the contact area between the lead frame and the lead frame pre-heater can be reduced. Accordingly, it is possible to prevent dust adhering to the lead frame preheater from being transferred to the lead frame, and to improve the dust resistance of the lead frame.
【0056】また、請求項7記載の発明によれば、ゲー
トブレーク機構に、ゲートブレーク処理により発生する
塵埃を空気を吹きつけることにより飛散除去するエアブ
ロー機構を設けたことにより、リードフレームに塵埃が
付着することを確実に防止することができる。更に、請
求項8記載の発明によれば、エアブロー機構と対向する
位置に、塵埃を集塵する集塵機構を設けたことにより、
エアブロー機構により飛散された塵埃は集塵機構により
集塵され、ゲートブレーク機構の他の部位に付着するこ
とを防止できるため、リードフレームに塵埃が付着する
ことをより確実に防止することができる。According to the seventh aspect of the present invention, the gate break mechanism is provided with an air blow mechanism for removing dust generated by the gate break processing by blowing air, so that dust can be removed from the lead frame. Adhesion can be reliably prevented. Further, according to the invention of claim 8, by providing a dust collecting mechanism for collecting dust at a position facing the air blow mechanism,
Dust scattered by the air blow mechanism is collected by the dust collection mechanism and can be prevented from adhering to other parts of the gate break mechanism, so that dust can be more reliably prevented from adhering to the lead frame.
【0057】[0057]
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面と共に説明する。図10乃至図18は、本発明の
一実施例である半導体製造装置を説明するための図であ
る。本実施例に係る半導体製造装置も、図1に示した半
導体装置10を製造するのに用いられるものである。
尚、本実施例に係る半導体製造装置は、図2に示した封
止工程(ステップ14)において用いられるものであ
り、他の工程(ステップ10,12,16,18)で用
いる半導体製造装置は従来と変わるところはない。よっ
て以下の説明では、封止工程で用いられる半導体製造装
置についてのみ説明するものとする。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 10 to 18 are views for explaining a semiconductor manufacturing apparatus according to one embodiment of the present invention. The semiconductor manufacturing apparatus according to the present embodiment is also used for manufacturing the semiconductor device 10 shown in FIG.
The semiconductor manufacturing apparatus according to the present embodiment is used in the sealing step (step 14) shown in FIG. 2, and the semiconductor manufacturing apparatus used in the other steps (steps 10, 12, 16, and 18) is There is nothing different from the past. Therefore, in the following description, only the semiconductor manufacturing apparatus used in the sealing step will be described.
【0058】封止工程で用いられる半導体製造装置は、
樹脂成形装置50,クリーニング機構60,チャッキン
グ機構70,ゲートブレーク機構80,及び搬送機構9
0等を有した構成とされている。以下、封止工程で用い
られる半導体製造装置を構成する各機構及び装置につい
て説明する。図10は、樹脂成形装置50を示してい
る。この樹脂成形装置50は、大略すると金型51,プ
レス装置52,プレヒータ装置53,及びクリーニング
機構60(図10には図示せず)等により構成されてい
る。The semiconductor manufacturing equipment used in the sealing step
Resin molding device 50, cleaning mechanism 60, chucking mechanism 70, gate break mechanism 80, and transport mechanism 9
0 and the like. Hereinafter, each mechanism and device constituting the semiconductor manufacturing apparatus used in the sealing step will be described. FIG. 10 shows a resin molding device 50. The resin molding device 50 is roughly composed of a mold 51, a press device 52, a preheater device 53, a cleaning mechanism 60 (not shown in FIG. 10), and the like.
【0059】金型51は上型51Aと下型51B(図1
4に示す)とにより構成されており、上型51Aには樹
脂22の形状に対応したキャビティが形成されている。
プレス装置52は、樹脂成形時において上型51Aと下
型51Bをプレスするために設けられている。プレヒー
タ装置53は金型51に装着する前に予めリードフレー
ム21を加熱(プレヒート)するものであり、リードフ
レーム21をプレヒートしておくことにより、金型51
内における樹脂充填効率の向上及びリードフレーム21
と樹脂22との接合性の向上を図ることができる。The mold 51 includes an upper mold 51A and a lower mold 51B (FIG. 1).
4), and a cavity corresponding to the shape of the resin 22 is formed in the upper mold 51A.
The press device 52 is provided to press the upper mold 51A and the lower mold 51B during resin molding. The pre-heater device 53 heats (preheats) the lead frame 21 in advance before the lead frame 21 is mounted on the mold 51.
Of resin filling efficiency and lead frame 21
Of the resin and the resin 22 can be improved.
【0060】図11は、プレヒータ装置53を拡大して
示す図である。プレヒータ装置53は、樹脂成形装置5
0に配設された搭載部54と、この搭載部54に搭載さ
せるリードフレームプレヒータ55とにより構成されて
いる。リードフレーム21はリードフレームプレヒータ
55の上面に搭載される構成とされており、リードフレ
ームプレヒータ55はリードフレーム21を搭載した上
で搭載部54に搭載される。これによりリードフレーム
21は、プレヒータ装置53によりプレヒートされる。FIG. 11 is an enlarged view of the pre-heater device 53. The pre-heater device 53 includes the resin molding device 5
0, and a lead frame pre-heater 55 mounted on the mounting portion 54. The lead frame 21 is configured to be mounted on the upper surface of the lead frame pre-heater 55, and the lead frame pre-heater 55 is mounted on the mounting portion 54 after mounting the lead frame 21. Thus, the lead frame 21 is preheated by the preheater device 53.
【0061】図12は、リードフレームプレヒータ55
を拡大して示す図である。同図に示すように、リードフ
レームプレヒータ55は、リードフレーム21をプレヒ
ータ本体56上に4枚搭載される構成とされている。図
中、二点左遷で示す矩形領域がリードフレーム21が搭
載されるリードフレーム搭載領域57である。本発明で
は、このリードフレーム搭載領域57の内部に、凹部5
8を形成したことを特徴としている。この凹部58はリ
ードフレーム搭載領域57の大きさよりも一回り小さく
されており、よってリードフレーム21がリードフレー
ム搭載領域57に搭載された状態において、リードフレ
ーム21はその外周部分のみがリードフレームプレヒー
タ55に搭載(保持)された構成となる。FIG. 12 shows a lead frame pre-heater 55.
It is a figure which expands and shows. As shown in the figure, the lead frame pre-heater 55 has a configuration in which four lead frames 21 are mounted on a pre-heater main body 56. In the drawing, a rectangular area indicated by two points of transition is a lead frame mounting area 57 on which the lead frame 21 is mounted. In the present invention, the recess 5 is provided inside the lead frame mounting area 57.
8 is formed. The recess 58 is slightly smaller than the size of the lead frame mounting area 57. Therefore, when the lead frame 21 is mounted in the lead frame mounting area 57, only the outer peripheral portion of the lead frame 21 has a lead frame preheater 55. It is a configuration mounted (held) on the.
【0062】このように、リードフレーム21の外周位
置のみがリードフレームプレヒータ55に保持される構
成としたことにより、リードフレーム21とリードフレ
ームプレヒータ55の接触面積を小さくすることができ
る。これにより、仮にリードフレームプレヒータ55に
塵埃(樹脂バリ,樹脂屑等)が付着していたとしても、
この塵埃がリードフレーム21に移る(再付着する)こ
とを防止でき、リードフレーム21に対する防塵性を向
上させることができる。As described above, since only the outer peripheral position of the lead frame 21 is held by the lead frame pre-heater 55, the contact area between the lead frame 21 and the lead frame pre-heater 55 can be reduced. Accordingly, even if dust (resin burrs, resin dust, etc.) adheres to the lead frame preheater 55,
This dust can be prevented from being transferred (re-adhered) to the lead frame 21, and the dustproof property for the lead frame 21 can be improved.
【0063】よって、後に実施される分離工程(図2参
照)において、リードフレーム21に対してエッチング
処理を実施しても、リードフレーム21は残存すること
なく完全に除去されるため、半導体装置10の製造歩留
りを向上さることができる。また、プレヒートが終了し
た後、リードフレーム21はリードフレームプレヒータ
55から取り出される。この際、本実施例のリードフレ
ームプレヒータ55は、凹部58の外周所定位置に取り
出し用溝59を形成しているため、リードフレームプレ
ヒータ55からリードフレーム21を取り出す処理を容
易に行なうことができる。Therefore, even if an etching process is performed on the lead frame 21 in the separation step (see FIG. 2) performed later, the lead frame 21 is completely removed without remaining, so that the semiconductor device 10 Production yield can be improved. After the preheating is completed, the lead frame 21 is taken out of the lead frame pre-heater 55. At this time, in the lead frame preheater 55 of this embodiment, since the takeout groove 59 is formed at a predetermined position on the outer periphery of the concave portion 58, the process of taking out the lead frame 21 from the leadframe preheater 55 can be easily performed.
【0064】上記のようにプレヒートされたリードフレ
ーム21は、続いて金型21に装着され、樹脂成形工程
(ステップ14-2)が実施される。この金型21を用い
て樹脂形成処理を行なうことにより、先に図3を用いて
説明した樹脂成形品20が形成される。この樹脂成形品
20は後述するチャッキング機構70により金型21か
ら取り出されるが、樹脂成形品20が取り出された金型
51に対しては、クリーニング処理が実施される。The lead frame 21 preheated as described above is subsequently mounted on the mold 21, and the resin molding step (step 14-2) is performed. By performing the resin forming process using the mold 21, the resin molded product 20 described above with reference to FIG. 3 is formed. The resin molded product 20 is taken out of the mold 21 by a chucking mechanism 70 described later, and the mold 51 from which the resin molded product 20 has been taken out is subjected to a cleaning process.
【0065】図13及び図14は、本発明の一実施例で
あるクリーニング機構60を示している。このクリーニ
ング機構60は、図14に示されるように、上型51A
と下型51Bとの間に装着され、図中矢印X方向に移動
することにより、上型51A及び下型51Bに付着した
塵埃を清掃する機能を奏するものである。尚、図13
(A)はクリーニング機構60の上面図であり、図13
(B)はクリーニング機構60の部分切截した正面図で
あり、図14はクリーニング機構60の部分切截した側
面図である。FIGS. 13 and 14 show a cleaning mechanism 60 according to an embodiment of the present invention. The cleaning mechanism 60 includes, as shown in FIG.
It is mounted between the upper mold 51A and the lower mold 51B, and has a function of cleaning dust adhered to the upper mold 51A and the lower mold 51B by moving in the arrow X direction in the figure. Note that FIG.
FIG. 13A is a top view of the cleaning mechanism 60, and FIG.
FIG. 14B is a partially cutaway front view of the cleaning mechanism 60, and FIG. 14 is a partially cutaway side view of the cleaning mechanism 60.
【0066】クリーニング機構60は、大略すると吸引
口61、送風路62、吸引部64,65、遮蔽板66、
及び吸引ダクト67,68等により構成されている。吸
引口61は、クリーニング機構60の上型51Aと対向
する上部、及び下型51Bと対向する下部に夫々設けら
れている。この各吸引口61は、図中矢印X方向に長く
延在するよう設けられている。また、各吸引口61はフ
ード状となっており、クリーニング時において各吸引口
61は上型51A及び下型51Bと近接した状態とな
り、後述する圧縮空気の噴射によって塵埃が外部に飛散
しないよう構成されている。The cleaning mechanism 60 generally includes a suction port 61, an air passage 62, suction sections 64 and 65, a shielding plate 66,
And suction ducts 67, 68 and the like. The suction ports 61 are provided at an upper portion facing the upper die 51A of the cleaning mechanism 60 and at a lower portion facing the lower die 51B, respectively. Each of the suction ports 61 is provided so as to extend long in the arrow X direction in the figure. Further, each suction port 61 has a hood shape, and each suction port 61 is in a state of being close to the upper mold 51A and the lower mold 51B at the time of cleaning, so that dust is not scattered outside by injection of compressed air described later. Have been.
【0067】送風路62は、各吸引口61の内部にその
長手方向に沿って延在するよう設けられている。また、
送風路62の吸引口61内における配設位置は、吸引口
61の略中央位置となるよう設定されている。この送風
路62は、その内部に圧縮空気が送り込まれる構成とさ
れており、また上型51A及び下型51Bと対向する位
置には複数の空気吹き出し孔63が設けられている。よ
って、送風路62内に送り込まれた圧縮空気は、この空
気吹き出し孔63から上型51A及び下型51Bに向け
噴射され、これにより上型51A及び下型51Bの表面
に付着している塵埃は飛散される(吹き飛ばされる)。The air passage 62 is provided inside each suction port 61 so as to extend along its longitudinal direction. Also,
The arrangement position of the air passage 62 in the suction port 61 is set to be substantially the center of the suction port 61. The air passage 62 has a configuration in which compressed air is fed into the inside thereof, and a plurality of air blowing holes 63 are provided at positions facing the upper mold 51A and the lower mold 51B. Therefore, the compressed air sent into the air passage 62 is jetted from the air blowing holes 63 toward the upper mold 51A and the lower mold 51B, whereby dust adhering to the surfaces of the upper mold 51A and the lower mold 51B is removed. Be scattered (blown).
【0068】この際、送風路62は吸引口61の略中央
位置となるよう設定されており、よって空気吹き出し孔
63も吸引口61の略中央位置において圧縮空気を吹き
出すため、塵埃の飛散方向が特定方向に偏ることがな
く、効率の高いクリーニングを行なうことができる。一
方、吸引口61の内部には遮蔽板66が配設されてお
り、この遮蔽板66によりクリーニング機構60の内部
は左右に画成されて吸引部64,65を形成している。
また、各吸引部64,65の側部には、吸引ダクト6
7,68が配設されており、空気吹き出し孔63から吹
き出されることにより塵埃を飛散させた空気は、塵埃と
共に吸引ダクト67,68から吸引される。At this time, the air passage 62 is set to be located substantially at the center of the suction port 61. Therefore, the air blowing hole 63 also blows out compressed air substantially at the center of the suction port 61. Highly efficient cleaning can be performed without being biased in a specific direction. On the other hand, a shielding plate 66 is provided inside the suction port 61, and the inside of the cleaning mechanism 60 is defined on the left and right by the shielding plate 66 to form suction portions 64 and 65.
A suction duct 6 is provided on the side of each of the suction sections 64 and 65.
The air that has scattered dust by being blown out from the air blowing holes 63 is sucked from the suction ducts 67 and 68 together with the dust.
【0069】これにより、飛散された塵埃が再び上型5
1A及び下型51bに付着することはなく、よって良好
なクリーニング効果を得ることができる。尚、図13
(B)に空気の流れを一点鎖線で示す。また、遮蔽板6
6は、図13(B)に示されるように、正面視した状態
で略菱形形状とされている。このため、各吸引部64,
65は、吸引ダクト67,68の配設位置から吸引口の
中央部に向け空気の流れ経路が漸次狭くなる構成とされ
ている。As a result, the scattered dust is returned to the upper mold 5 again.
It does not adhere to 1A and the lower mold 51b, so that a good cleaning effect can be obtained. Note that FIG.
(B) shows the flow of air with a dashed line. In addition, shielding plate 6
As shown in FIG. 13B, 6 has a substantially rhombic shape when viewed from the front. For this reason, each suction unit 64,
65 is configured such that the flow path of the air gradually narrows from the arrangement position of the suction ducts 67 and 68 toward the center of the suction port.
【0070】この構成とすることにより、吸引口61の
中央部分における吸引部64,65(図13(B)に矢
印Bで示す部分)は絞られた構成となり、空気の流速は
速くなる。このため、吸引口61の中央部分で空気が対
流して吸引ダクト67,68に空気が進行しなくなる状
態を回避でき、これによっても塵埃を確実に除去するこ
とが可能となる。With this configuration, the suction portions 64 and 65 (portions indicated by arrows B in FIG. 13B) at the central portion of the suction port 61 are narrowed, and the flow velocity of the air is increased. For this reason, it is possible to avoid a state in which air is convected at the central portion of the suction port 61 so that the air does not advance to the suction ducts 67 and 68, and thereby dust can be reliably removed.
【0071】尚、従来のクリーニング機構では、吸引部
にブラシを配設し、このブラシにより金型表面をクリー
ニングする構成のものがある。しかるに、ブラシを用い
る小構成では、経時的にブラシに多量の塵埃が付着し、
この付着した塵埃がブラシから落ちて却って金型を汚染
してしまう。また、これを防止するためには、ブラシの
取り替えを頻繁に行なう必要が生じメンテナンス性が悪
化する。この点より、本実施例に係るクリーニング機構
60ではブラシを設けることはしなかった。In the conventional cleaning mechanism, there is a configuration in which a brush is provided on the suction unit and the surface of the mold is cleaned by the brush. However, in a small configuration using a brush, a large amount of dust adheres to the brush over time,
The attached dust falls off the brush and contaminates the mold. Further, in order to prevent this, it is necessary to frequently replace the brush, which deteriorates the maintainability. From this point, no brush is provided in the cleaning mechanism 60 according to the present embodiment.
【0072】図15は、本発明の一実施例であるチャッ
キング機構70を示している。このチャッキング機構7
0は取り出し工程(図2参照)を実施する際に用いるも
のであり、図10に示した樹脂成形装置50において成
形された樹脂成形品20を図16に示すキャリアパット
33まで搬送する機能を奏するものである。このチャッ
キング機構70は、大略すると本体部71,吸着パッド
73,及びチャックアーム74等により構成されてい
る。FIG. 15 shows a chucking mechanism 70 according to an embodiment of the present invention. This chucking mechanism 7
Numeral 0 is used when performing the take-out step (see FIG. 2), and has a function of transporting the resin molded product 20 molded in the resin molding apparatus 50 shown in FIG. 10 to the carrier pad 33 shown in FIG. Things. The chucking mechanism 70 generally includes a main body 71, a suction pad 73, a chuck arm 74, and the like.
【0073】ここで、図4に示した従来のチャッキング
機構25と本実施例に係るチャッキング機構70を比較
すると、従来のチャッキング機構70では3本の吸着パ
ッド27〜29を設けていたのに対し、本実施例に係る
チャッキング機構70では1本の吸着パッド73のみが
配設された構成とされている。この吸着パッド73は図
示しない吸引装置に接続されており、その配設位置は樹
脂成形品20のカル23の形成位置と対応する位置に設
定されている。Here, when comparing the conventional chucking mechanism 25 shown in FIG. 4 with the chucking mechanism 70 according to the present embodiment, the conventional chucking mechanism 70 has three suction pads 27 to 29. On the other hand, the chucking mechanism 70 according to the present embodiment has a configuration in which only one suction pad 73 is provided. The suction pad 73 is connected to a suction device (not shown), and its disposition position is set at a position corresponding to the position where the cull 23 of the resin molded product 20 is formed.
【0074】一方、チャックアーム74は本体部71の
両側から下方に向け延出するよう形成されており、その
下端部にはチャック爪74aが形成されている。上記構
成とされたチャッキング機構70で樹脂形成品20を金
型から取り出すには、先ず吸着パッド73によりカル2
3を吸引することにより樹脂成形品20を金型から離間
させ、この上でリードフレーム21の下部にチャック爪
74aが位置するようチャックアーム74を動作させ
る。On the other hand, the chuck arm 74 is formed so as to extend downward from both sides of the main body 71, and a chuck claw 74a is formed at the lower end thereof. In order to take out the resin-formed product 20 from the mold by the chucking mechanism 70 having the above configuration, first, the suction pad 73
The resin molded product 20 is separated from the mold by sucking the chuck 3, and the chuck arm 74 is operated so that the chuck claw 74 a is positioned below the lead frame 21.
【0075】この際、本実施例では、チャックアーム7
4及びチャック爪74aが直接リードフレーム21(樹
脂成形品20)に接触しないよう構成している。即ち、
チャックアーム74とリードフレーム21との間にはク
リアランスΔW1が設けられており、かつチャック爪7
4aとリードフレーム21との間にはクリアランスΔH
1が設けられている。At this time, in this embodiment, the chuck arm 7
4 and the chuck pawls 74a do not directly contact the lead frame 21 (the resin molded product 20). That is,
A clearance ΔW1 is provided between the chuck arm 74 and the lead frame 21 and the chuck pawl 7
4a and the lead frame 21 have a clearance ΔH
1 is provided.
【0076】この構成とすることにより、樹脂成形品2
0は吸着パッド73がカル23を吸引する吸引力のみで
保持されることとなり、チャックアーム74及びチャッ
ク爪74aは、万が一に樹脂成形品20が吸着パッド7
3から外れた場合に落下を防止する機能のみを奏するこ
ととなる。ところで、前記したように樹脂封止体20A
(樹脂成形品20)はリードフレーム21と樹脂22の
熱膨張差に起因して反りが発生している可能性がある。
特に、加熱処理を伴う樹脂成形工程の終了後では、反り
が発生している可能性が高い。このように反りが発生し
てる場合、樹脂封止体20Aに外力が印加されると、リ
ードフレーム21と樹脂22とが分離(剥離)してしま
うおそれがあることは前述した通りである。With this configuration, the resin molded product 2
0 means that the suction pad 73 is held only by the suction force for sucking the cull 23, and the chuck arm 74 and the chuck claw 74a are
In the case where it deviates from 3, only the function of preventing the fall is exerted. By the way, as described above, the resin sealing body 20A
The (resin molded article 20) may be warped due to a difference in thermal expansion between the lead frame 21 and the resin 22.
In particular, it is highly likely that warpage has occurred after the completion of the resin molding step involving heat treatment. As described above, when an external force is applied to the resin sealing body 20A when the warpage occurs, the lead frame 21 and the resin 22 may be separated (peeled) as described above.
【0077】しかるに、本実施例に係るチャッキング機
構70のように、金型51から樹脂成形品20を取り出
す際、1本の吸引パッド73がカル23のみを吸引し保
持することにより取り出し処理を行なう構成とすること
により、分離が発生し易い樹脂封止体20Aと異なる位
置(即ち、カル23)が保持される構成となる。このた
め、樹脂成形品20を金型51から取り出す際、樹脂封
止体20Aに取り出し操作による外力が印加されること
を防止でき、よって仮に樹脂封止体20Aに反りが発生
していたとしても、樹脂22とリードフレーム21とが
分離することを確実に防止することができる。However, when the resin molded product 20 is taken out from the mold 51 as in the chucking mechanism 70 according to the present embodiment, one suction pad 73 sucks and holds only the cull 23 to perform the removal process. With this configuration, a different position (that is, the cull 23) from the resin sealing body 20A where the separation easily occurs is held. For this reason, when taking out the resin molded product 20 from the mold 51, it is possible to prevent an external force from being applied to the resin sealing body 20A from being applied, and even if the resin sealing body 20A is warped. Thus, separation of the resin 22 and the lead frame 21 can be reliably prevented.
【0078】図16は、ゲートブレーク工程で用いるゲ
ートブレーク機構80、搬送工程で用いる搬送機構90
及びエアブロー機構100を示している。同図に示され
るように、ゲートブレーク機構80,搬送機構90,及
びエアブロー機構100は、同一のフレーム89及び基
台99に配設された構成とされている。まず、本発明の
一実施例であるゲートブレーク機構80について説明す
る。このゲートブレーク機構80は、樹脂成形品20の
ゲート24を切断処理することにより樹脂封止体20A
を独立(個片化)させる処理を行なうものである。FIG. 16 shows a gate break mechanism 80 used in the gate break step and a transfer mechanism 90 used in the transfer step.
And an air blow mechanism 100. As shown in the figure, the gate break mechanism 80, the transport mechanism 90, and the air blow mechanism 100 are arranged on the same frame 89 and base 99. First, a gate break mechanism 80 according to an embodiment of the present invention will be described. The gate break mechanism 80 cuts the gate 24 of the resin molded product 20 to form the resin sealing body 20A.
Is performed independently (individualization).
【0079】ゲートブレーク機構80は、大略するとキ
ャリアパレット33とリードフレームクランパー83と
により構成されている。キャリアパレット33はその上
部に樹脂封止体20Aが搭載されるものであり、左右一
対のベース35とパレットアーム36を有した構成とさ
れている。またパレットアーム36はベース35を中心
として、図中矢印Aで示す方向に回動可能な構成とされ
ている。The gate break mechanism 80 is generally composed of a carrier pallet 33 and a lead frame clamper 83. The carrier pallet 33 has a resin sealing body 20A mounted thereon, and has a pair of left and right bases 35 and a pallet arm 36. The pallet arm 36 is configured to be rotatable around the base 35 in a direction indicated by an arrow A in the figure.
【0080】このキャリアパレット33は、ベース35
が移動架台81に固定されている。また、移動架台81
は基台99に配設されたレール82に沿って図中矢印X
1,X2方向に移動する構成とされている。従って、キ
ャリアパレット33もレール82に沿って図中矢印X
1,X2方向に移動可能な構成とされている。一方、リ
ードフレームクランパー83は、キャリアパレット33
が所定のゲートブレーク位置まで移動した状態におい
て、樹脂封止体20Aのリードフレーム21と対向する
位置に配設されている。また、リードフレームクランパ
ー83は、駆動装置88により駆動される駆動シャフト
86の先端部に配設された基部35に配設されており、
駆動シャフト86が移動することにより図中矢印Z1,
Z2方向に移動する構成とされている。The carrier pallet 33 has a base 35
Are fixed to the moving base 81. In addition, the moving base 81
Is an arrow X along the rail 82 provided on the base 99.
It is configured to move in the X1 and X2 directions. Therefore, the carrier pallet 33 is also moved along the rail 82 by the arrow X in the figure.
It is configured to be movable in the X1 and X2 directions. On the other hand, the lead frame clamper 83 is
Are disposed at a position facing the lead frame 21 of the resin sealing body 20A in a state where the... Has moved to a predetermined gate break position. The lead frame clamper 83 is disposed on the base 35 disposed at the tip of the drive shaft 86 driven by the driving device 88.
As the drive shaft 86 moves, the arrow Z1,
It is configured to move in the Z2 direction.
【0081】更に、リードフレームクランパー83は、
駆動シャフト86を介して駆動される押圧アーム87に
押圧されることにより、クランプ爪84の配設位置を中
心として、図中矢印A方向に回動可能な構成とされてい
る。ここで、本実施例に係るゲートブレーク機構80
と、図7に示した従来のゲートブレーク機構32を比較
すると、従来のゲートブレーク機構32ではリードフレ
ームクランパー34がその内側及び外側の双方にクラン
プ爪37,38を設けていたのに対し、本実施例に係る
ゲートブレーク機構80は内側にのみクランプ爪84を
配設された構成となっている。Further, the lead frame clamper 83
By being pressed by a pressing arm 87 driven via a drive shaft 86, it is configured to be rotatable in a direction indicated by an arrow A in FIG. Here, the gate break mechanism 80 according to the present embodiment
7 is compared with the conventional gate break mechanism 32 shown in FIG. 7, the lead frame clamper 34 in the conventional gate break mechanism 32 has clamp claws 37 and 38 on both the inside and outside thereof. The gate break mechanism 80 according to the embodiment has a configuration in which the clamp claws 84 are provided only inside.
【0082】続いて、上記構成とされたゲートブレーク
機構80を用いたゲートブレイク処理について説明す
る。ゲートブレイク処理を行なう樹脂成形品20は、前
記したチャッキング機構70により、図16に示す位置
にあるキャリアパレット33上に搭載される。樹脂成形
品20が搭載されたキャリアパレット33は、レール8
2上を図中矢印X1方向に移動し、前記したリードフレ
ームクランパー83の所定下部位置まで移動した時点で
停止する。Next, a description will be given of a gate break process using the gate break mechanism 80 configured as described above. The resin molded product 20 to be subjected to the gate break processing is mounted on the carrier pallet 33 at the position shown in FIG. The carrier pallet 33 on which the resin molded product 20 is mounted is
2 moves in the direction of arrow X1 in the figure, and stops when it moves to a predetermined lower position of the lead frame clamper 83 described above.
【0083】続いて、駆動装置88が起動して、上記の
ようにリードフレームクランパー83は下動(図中、矢
印Z1方向に移動)し、クランプ爪84がリードフレー
ム21をパレットアーム36に向け押圧する(クランプ
する)。図3(A)に示したように、ゲート24は櫛歯
状となっており、この形状と対応するようクランプ爪8
4も櫛歯形状とされている。よって、クランプ爪84は
櫛歯状とされたゲート24の間を介してリードフレーム
21をクランプする構成とされている。Subsequently, the driving device 88 is activated, and the lead frame clamper 83 moves downward (moves in the direction of arrow Z1 in the figure) as described above, and the clamp claws 84 direct the lead frame 21 toward the pallet arm 36. Press (clamp). As shown in FIG. 3A, the gate 24 has a comb-like shape, and the clamp claw 8 corresponds to this shape.
4 also has a comb shape. Therefore, the clamp claw 84 is configured to clamp the lead frame 21 through the space between the comb-shaped gates 24.
【0084】図17(A)は、リードフレームクランパ
ー83がリードフレーム21をクランプした状態を示し
ている。この状態において、リードフレームクランパー
83の下面83aは樹脂22の上面から離間しており、
クリアランスΔH2が形成されている。上記のように、
樹脂封止体20Aがゲートブレーク機構80にクランプ
されると、続いて前記した押圧アーム87のみが更に下
動し、リードフレームクランパー83を付勢する。これ
により、リードフレームクランパー83はクランプ爪8
4の形成位置を中心として図中矢印A方向に回動する。
また、このリードフレームクランパー83の回動に伴
い、パレットアーム36も図中矢印A方向に回動するよ
う構成されている。FIG. 17A shows a state where the lead frame clamper 83 clamps the lead frame 21. In this state, the lower surface 83a of the lead frame clamper 83 is separated from the upper surface of the resin 22,
A clearance ΔH2 is formed. As described above,
When the resin sealing body 20A is clamped by the gate break mechanism 80, subsequently, only the above-described pressing arm 87 is further moved downward to urge the lead frame clamper 83. As a result, the lead frame clamper 83 is
It rotates in the direction of arrow A in FIG.
Further, the pallet arm 36 is also configured to rotate in the direction of arrow A in the figure with the rotation of the lead frame clamper 83.
【0085】この際、リードフレーム21はリードフレ
ームクランパー83の押圧力によりパレットアーム36
にクランプされているため、パレットアーム36の回動
に伴い回動する。これに対し、カル23はベース35と
基部85との間にクランプされた状態となっている。よ
って、上記のようにリードフレームクランパー83及び
パレットアーム36が矢印A方向に回動することによ
り、樹脂封止体20Aのゲート24に折り曲げ力が作用
し、またゲート24は図3に示されるように幅狭でかつ
肉薄に形成されているため、ゲート24と樹脂22との
接合部分で切断(ゲートブレーク)が行なわれる。At this time, the lead frame 21 is pressed by the pallet arm 36 by the pressing force of the lead frame clamper 83.
, And rotates with the rotation of the pallet arm 36. On the other hand, the cull 23 is clamped between the base 35 and the base 85. Therefore, as described above, when the lead frame clamper 83 and the pallet arm 36 rotate in the direction of arrow A, a bending force acts on the gate 24 of the resin sealing body 20A, and the gate 24 is moved as shown in FIG. The gate 24 and the resin 22 are cut (gate break) because they are narrow and thin.
【0086】図17(B)は、ゲートブレーク処理が行
なわれているゲートブレーク80を示している。同図に
示すように、リードフレームクランパー83及びパット
アーム36が矢印A方向に回動し、ゲートブレーク処理
が実施されている間においても、リードフレームクラン
パー83と樹脂22との間にはクリアランスΔH2が形
成された状態を維持している。FIG. 17B shows a gate break 80 in which gate break processing is being performed. As shown in the figure, even while the lead frame clamper 83 and the pad arm 36 rotate in the direction of the arrow A and the gate break process is performed, the clearance ΔH2 exists between the lead frame clamper 83 and the resin 22. Is maintained.
【0087】このゲートブレークが行なわれることによ
り、樹脂封止体20Aはカル23から独立し、個片化さ
れた状態となる。また、上記のゲートブレーク処理によ
り樹脂封止体20Aが個片化されると、リードフレーム
クランパー83及びパレットアーム36は矢印A方向と
は反対方向に回動し、再び図17に示す状態となる(ゲ
ート24は分割されている)。By performing the gate break, the resin sealing body 20A is independent of the cull 23 and is in a state of individualized pieces. Further, when the resin sealing body 20A is separated into individual pieces by the above-described gate break processing, the lead frame clamper 83 and the pallet arm 36 rotate in the direction opposite to the direction of the arrow A, and return to the state shown in FIG. (Gate 24 is split).
【0088】上記したように、本実施例に係るゲートブ
レーク機構80では、リードフレームクランパー83の
クランプ爪84が、ゲートブレーク時においてリードフ
レーム21のゲート近傍位置のみをクランプする構成と
されている。また、クランプ状態において、リードフレ
ームクランパー83と樹脂との間にはクリアランスΔH
2が形成されるよう構成されており、従来のように直接
当接する構成とはされていない。As described above, in the gate break mechanism 80 according to the present embodiment, the clamp claws 84 of the lead frame clamper 83 clamp only the position near the gate of the lead frame 21 at the time of gate break. In the clamped state, a clearance ΔH exists between the lead frame clamper 83 and the resin.
2 are formed, and are not configured to directly contact as in the related art.
【0089】このように、リードフレームクランパー8
3がリードフレーム21の一箇所(具体的には、一辺)
のみをクランプする構成とすることにより、樹脂22と
リードフレーム21が分離することを確実に防止するこ
とができる。以下、この理由について説明する。前記し
たように、リードフレーム21と樹脂22の熱膨張差に
起因して樹脂封止体20Aに反りが発生している場合、
従来のようにリードフレーム21の両側をクランプする
と反りが強制的に矯正され、リードフレーム21と樹脂
22とが分離するおそれがある(図8参照)。また。樹
脂22を押圧した場合においても、同様にリードフレー
ム21と樹脂22とが分離するおそれがある。As described above, the lead frame clamper 8
3 is one place of the lead frame 21 (specifically, one side)
By employing a configuration in which only the resin 22 is clamped, separation of the resin 22 and the lead frame 21 can be reliably prevented. Hereinafter, the reason will be described. As described above, when the resin sealing body 20A is warped due to a difference in thermal expansion between the lead frame 21 and the resin 22,
If the both sides of the lead frame 21 are clamped as in the related art, the warp is forcibly corrected, and the lead frame 21 and the resin 22 may be separated (see FIG. 8). Also. Even when the resin 22 is pressed, the lead frame 21 and the resin 22 may be similarly separated.
【0090】これに対して本実施例に係るゲートブレー
ク機構80は、ゲートブレーク時にリードフレームクラ
ンパー83(クランプ爪84)がリードフレーム21の
ゲート近傍位置のみをクランプする構成としているた
め、樹脂封止体20Aに反りが発生していても、この反
りをそのまま維持した状態でリードフレーム21をクラ
ンプすることができる。よって、クランプ時に樹脂封止
体20Aにリードフレーム21と樹脂22とを分離する
外力は作用せず、よってリードフレーム21と樹脂22
とが分離することを防止することができる。On the other hand, the gate break mechanism 80 according to the present embodiment has a configuration in which the lead frame clamper 83 (clamp claw 84) clamps only the position near the gate of the lead frame 21 at the time of gate break, so that the resin sealing is performed. Even if the body 20A is warped, the lead frame 21 can be clamped while maintaining the warpage. Therefore, at the time of clamping, no external force acts on the resin sealing body 20A to separate the lead frame 21 and the resin 22.
Can be prevented from being separated.
【0091】また、本実施例に係るゲートブレイク機構
80は、ゲートブレーク時においてリードフレームクラ
ンパー83が樹脂22から離間した状態を維持するよう
構成されている。よって、樹脂封止体20Aに反りが発
生していても、この反りをそのまま維持した状態でゲー
トブレークを行なうことができる。これにより、ゲート
ブレーク時において、樹脂封止体20Aにリードフレー
ム21と樹脂22とを分離する外力は作用せず、よって
リードフレーム21と樹脂22とが分離することを防止
することができる。Further, the gate break mechanism 80 according to the present embodiment is configured to maintain the state in which the lead frame clamper 83 is separated from the resin 22 during a gate break. Therefore, even if the resin sealing body 20A is warped, a gate break can be performed with the warpage maintained. Accordingly, at the time of a gate break, an external force for separating the lead frame 21 and the resin 22 does not act on the resin sealing body 20A, so that separation of the lead frame 21 and the resin 22 can be prevented.
【0092】このように本実施例に係るゲートブレイク
機構80は、クランプ時及びゲートブレーク時において
リードフレーム21と樹脂22とが分離することを防止
することができるため、半導体装置10の製造歩留りを
向上させることができる。続いて、本発明の一実施例で
ある搬送機構90について説明する。この搬送機構90
は搬送工程において用いられるものであり、ゲートブレ
ーク工程において個片化された樹脂封止体20Aをマガ
ジン98まで搬送する処理を行なう機能を有する。As described above, the gate break mechanism 80 according to the present embodiment can prevent the lead frame 21 and the resin 22 from being separated from each other at the time of clamping and at the time of gate break, so that the manufacturing yield of the semiconductor device 10 can be reduced. Can be improved. Next, a transport mechanism 90 according to an embodiment of the present invention will be described. This transport mechanism 90
Is used in the transporting step, and has a function of performing a process of transporting the resin sealing body 20A singulated in the gate break step to the magazine 98.
【0093】搬送機構90は、図16に加え図18に示
すように、大略すると本体部91,第1の搬送用アーム
92,第2の搬送用アーム93,及びパッケージクラン
パー96等により構成されている。第1の搬送用アーム
92は、本体部41の図中矢印X1,X2方向の両側位
置から下方(矢印Z1方向)に向け延出するよう形成さ
れており、その下端部には搬送用爪94が形成されてい
る。また、第2の搬送用アーム93は、本体部41の第
1の搬送用アーム92に対して90度偏位した位置から
下方に向け延出するよう形成されており、その下端部に
は搬送用爪95が形成されている。また、各搬送用アー
ム92,93の間にはパッケージクランパー96が配設
されている。As shown in FIG. 18 in addition to FIG. 16, the transfer mechanism 90 is roughly composed of a main body 91, a first transfer arm 92, a second transfer arm 93, a package clamper 96, and the like. I have. The first transfer arm 92 is formed so as to extend downward (in the direction of arrow Z1) from both sides of the main body 41 in the directions of arrows X1 and X2 in the drawing, and has a transfer claw 94 at the lower end thereof. Are formed. The second transfer arm 93 is formed so as to extend downward from a position deviated by 90 degrees with respect to the first transfer arm 92 of the main body 41, and has a transfer end at a lower end thereof. A nail 95 is formed. A package clamper 96 is provided between the transfer arms 92 and 93.
【0094】続いて、上記構成とされた搬送機構90を
用いた搬送処理について説明する。ゲートブレーク機構
80により個片化された樹脂封止体20Aは、キャリア
パレット33がレール82上を図中矢印X1方向に移動
することにより、各搬送用アーム92,93の下部まで
搬送される。すると、本体部91の上部に配設されてい
る駆動装置97が起動し、対向する搬送用アーム92,
92、及び搬送用アーム93,93同志が互いに広がる
よう移動される。即ち、各搬送用アーム92,93は、
その内部に樹脂封止体20Aが挿入されうるよう移動す
る。Next, a description will be given of a transport process using the transport mechanism 90 having the above configuration. The resin sealing body 20A separated by the gate break mechanism 80 is transported to the lower part of each of the transport arms 92 and 93 by moving the carrier pallet 33 on the rail 82 in the direction of arrow X1 in the figure. Then, the driving device 97 disposed on the upper portion of the main body 91 is activated, and the opposing transport arms 92,
The transfer arm 92 and the transfer arms 93 and 93 are moved so as to spread each other. That is, the transfer arms 92 and 93
It moves so that the resin sealing body 20A can be inserted therein.
【0095】続いて、各搬送用アーム92,93は下動
し、搬送用爪94,95はキャリアパレット33の上面
と当接する。この状態において、樹脂封止体20Aは各
搬送用アーム92,93の内側に位置した状態となって
いる。続いて、対向する搬送用アーム92,92、及び
搬送用アーム93,93は、互いに近接するよう移動さ
れ、これにより搬送用爪94,95上に樹脂封止体20
A(リードフレーム21)を載置させる。Subsequently, the transfer arms 92 and 93 move downward, and the transfer claws 94 and 95 come into contact with the upper surface of the carrier pallet 33. In this state, the resin sealing body 20A is located inside each of the transfer arms 92 and 93. Subsequently, the transfer arms 92, 92 and the transfer arms 93, 93 facing each other are moved so as to be close to each other, whereby the resin sealing body 20 is placed on the transfer claws 94, 95.
A (lead frame 21) is placed.
【0096】この際、各搬送用アーム92,93及びパ
ッケージクランパー96は、リードフレーム21と直接
接触しないよう構成されている。即ち、各搬送用アーム
92,93とリードフレーム21との間にはクリアラン
スΔW2が形成されるよう構成されており、またパッケ
ージクランパー96と樹脂22との間にはクリアランス
ΔH3が形成されるよう構成されている。よって、各搬
送用アーム92,93に保持された状態において、樹脂
封止体20A(リードフレーム21)は搬送用爪94,
95上で移動可能な構成となっている。At this time, the transfer arms 92 and 93 and the package clamper 96 are configured so as not to directly contact the lead frame 21. That is, a clearance ΔW2 is formed between each of the transfer arms 92 and 93 and the lead frame 21, and a clearance ΔH3 is formed between the package clamper 96 and the resin 22. Have been. Therefore, while being held by the transfer arms 92 and 93, the resin sealing body 20A (the lead frame 21) holds the transfer claws 94,
95.
【0097】上記のように搬送用アーム92,92に樹
脂封止体20Aが保持されると、搬送用アーム92,9
2は上動(図中、矢印Z2方向に移動)すると共に、キ
ャリアパレット33は図中矢印X2方向に移動する。本
実施例では、樹脂封止体20Aを収納するマガジン98
は、搬送機構90の配設位置の直下位置に配設されてい
る。よって、搬送機構90は上記した樹脂封止体20A
の保持状態を維持しつつ更に下動を行い、樹脂封止体2
0Aをマガジン98の配設位置まで搬送する。そして、
マガジン98の配設位置まで移動した時点で、上記のク
ランプ状態を解除する動作を行い、これにより樹脂封止
体20Aをマガジンに収納する。When the resin sealing body 20A is held by the transfer arms 92, 92 as described above, the transfer arms 92, 9
2 moves upward (moves in the direction of arrow Z2 in the figure), and the carrier pallet 33 moves in the direction of arrow X2 in the figure. In the present embodiment, a magazine 98 accommodating the resin sealing body 20A is provided.
Is disposed immediately below the position where the transport mechanism 90 is disposed. Therefore, the transport mechanism 90 is provided with the resin sealing body 20A described above.
Is further lowered while maintaining the holding state of the resin sealing body 2.
0A is transported to the position where the magazine 98 is disposed. And
At the time when the magazine 98 is moved to the position where the magazine 98 is disposed, the operation of releasing the clamped state is performed, whereby the resin sealing body 20A is stored in the magazine.
【0098】上記のように、本実施例に係る搬送機構9
0では、樹脂封止体20Aを搬送用爪94,95上に載
置した状態において、リードフレーム21は搬送用爪9
4,95上で変位しうる構成としている。即ち、リード
フレーム21と各搬送用アーム92,93との間にはク
リアランスΔW2(図18に矢印で示す)が設けられて
いる。これにより、クランプ時(保持時)にクランプ力
がリードフレーム21に印加されることはなく、よって
リードフレーム21と樹脂22とが分離することを防止
することができる。As described above, the transport mechanism 9 according to this embodiment
0, the lead frame 21 is mounted on the transport claws 94 and 95 with the resin sealing body 20A placed on the transport claws 94 and 95.
4,95 are displaceable. That is, a clearance ΔW2 (indicated by an arrow in FIG. 18) is provided between the lead frame 21 and each of the transfer arms 92 and 93. Thus, no clamping force is applied to the lead frame 21 during clamping (during holding), and therefore, separation of the lead frame 21 and the resin 22 can be prevented.
【0099】このように本実施例に係るゲートブレイク
機構80は、クランプ時及びゲートブレーク時において
リードフレーム21と樹脂22とが分離することを防止
することができるため、半導体装置10の製造歩留りを
向上させることができる。また、上記したように、搬送
機構90に封止樹脂体20Aを保持され、カル23のみ
が残った状態のキャリアパレット33は、搬送機構90
の配設位置から図16に示す位置に向け矢印X2方向に
移動する。尚、カル23はキャリアパレット33が矢印
X2方向に移動する過程において、図示しないカル除去
機構によりキャリアパレット33上から除去される。As described above, the gate break mechanism 80 according to the present embodiment can prevent the lead frame 21 and the resin 22 from being separated from each other at the time of clamping and at the time of gate break, so that the manufacturing yield of the semiconductor device 10 can be reduced. Can be improved. Further, as described above, the carrier pallet 33 in which the sealing resin body 20A is held by the transport mechanism 90 and only the cull 23 remains, is moved to the transport mechanism 90.
Move in the direction of the arrow X2 from the arrangement position to the position shown in FIG. The cull 23 is removed from the carrier pallet 33 by a cull removing mechanism (not shown) while the carrier pallet 33 moves in the direction of the arrow X2.
【0100】この移動経路の上部には、エアブロー機構
100が設けられている。このエアブロー機構100は
フレーム89に配設されており、圧縮空気をキャリアパ
レット33の移動経路に向け吹き出す構成とされてい
る。また、本実施例では、エアブロー機構100の配設
位置は、ゲートブレーク機構80より図中矢印X2方向
に若干ずらした位置に設定されている。An air blow mechanism 100 is provided above the moving path. The air blow mechanism 100 is disposed on the frame 89, and blows out compressed air toward the moving path of the carrier pallet 33. Further, in the present embodiment, the arrangement position of the air blow mechanism 100 is set at a position slightly shifted from the gate break mechanism 80 in the direction of the arrow X2 in the figure.
【0101】また、エアブロー機構100と対向する位
置には、集塵機構101が配設されている。この集塵機
構101は図示しない集塵装置に接続されており、集塵
装置が吸引処理を行なうことにより主人処理を行いうる
構成とされている。ところで、ゲートブレーク機構80
によりゲートブレーク処理を行なうと、樹脂22とゲー
ト24との切断位置において樹脂屑(塵埃)が発生する
おそれがある。この塵埃がキャリアパレット33に付着
したままだと、次回のゲートブレーク工程において樹脂
成形品20がキャリアパレット33に載置された際、塵
埃がリードフレーム21に付着するおそれがある。この
ように、リードフレーム21に塵埃が付着すると、分離
工程(図2参照)においてリードフレーム21を完全に
エッチングすることができず、半導体装置10の製造歩
留りが低下してしまうことは前述した通りである。A dust collecting mechanism 101 is provided at a position facing the air blow mechanism 100. The dust collecting mechanism 101 is connected to a dust collecting device (not shown), and is configured so that the dust collecting device can perform a master process by performing a suction process. By the way, the gate break mechanism 80
When the gate break process is performed, resin dust (dust) may be generated at the cutting position between the resin 22 and the gate 24. If the dust remains on the carrier pallet 33 when the resin molded product 20 is placed on the carrier pallet 33 in the next gate break step, the dust may adhere to the lead frame 21. As described above, if dust adheres to the lead frame 21, the lead frame 21 cannot be completely etched in the separation step (see FIG. 2) and the manufacturing yield of the semiconductor device 10 decreases as described above. It is.
【0102】しかるに、本実施例のようにエアブロー機
構100を設けることにより、キャリアパレット33が
初期位置に戻る過程において、キャリアパレット33に
付着している塵埃は、エアブロー機構100が吹き出す
圧縮空気によりキャリアパレット33から除去される。
よって、図16に示される初期位置にキャリアパレット
33が戻った際、キャリアパレット33は塵埃の付着の
ない状態となっている。これにより、分離工程において
リードフレーム21を完全にエッチングすることが可能
となり、半導体装置10の製造歩留りの向上を図ること
ができる。However, by providing the air blow mechanism 100 as in the present embodiment, when the carrier pallet 33 returns to the initial position, dust adhering to the carrier pallet 33 is compressed by the compressed air blown out by the air blow mechanism 100. It is removed from the pallet 33.
Therefore, when the carrier pallet 33 returns to the initial position shown in FIG. 16, the carrier pallet 33 is in a state where no dust is attached. This makes it possible to completely etch the lead frame 21 in the separation step, and to improve the manufacturing yield of the semiconductor device 10.
【0103】また本実施例では、エアブロー機構100
と対向する位置に塵埃を集塵する集塵機構101が配設
されている。よって、エアブロー機構100により塵埃
が飛散したとしても、この塵埃は集塵機構101により
集塵される。これにより、エアブロー機構100により
飛散した塵埃が半導体製造装置の他の構成要素に付着す
ることを防止でき、よってこの他の構成要素を介してリ
ードフレーム20に塵埃が付着することを防止できる。
よって、これによっても半導体装置10の製造歩留りの
向上を図ることができる。In this embodiment, the air blow mechanism 100
A dust collection mechanism 101 that collects dust is disposed at a position facing the above. Therefore, even if dust is scattered by the air blow mechanism 100, the dust is collected by the dust collection mechanism 101. As a result, dust scattered by the air blow mechanism 100 can be prevented from adhering to other components of the semiconductor manufacturing apparatus, and thus dust can be prevented from adhering to the lead frame 20 via the other components.
Therefore, the manufacturing yield of the semiconductor device 10 can be improved also by this.
【0104】[0104]
【発明の効果】上述の如く本発明によれば、次に述べる
種々の効果を実現することができる。請求項1記載の発
明によれば、樹脂成形品を金型から取り出す際、樹脂封
止体に取り出し操作による外力が印加されることを防止
できるため、金型から樹脂成形品を取り出す際、樹脂封
止体に反りが発生していたとしても樹脂とリードフレー
ムが分離することを確実に防止することができる。According to the present invention as described above, the following various effects can be realized. According to the first aspect of the present invention, when removing the resin molded product from the mold, it is possible to prevent an external force due to the removing operation from being applied to the resin sealing body. Even if the sealing body is warped, separation of the resin and the lead frame can be reliably prevented.
【0105】また、請求項2記載の発明によれば、樹脂
封止体に反りが発生していても、この反りをそのまま維
持した状態でリードフレームをクランプすることができ
るため、クランプ時において樹脂封止体にリードフレー
ムと樹脂とを分離する外力は作用せず、よって樹脂とリ
ードフレームが分離することを確実に防止することがで
きる。According to the second aspect of the present invention, even if the resin sealing body is warped, the lead frame can be clamped while maintaining the warpage. An external force for separating the lead frame and the resin does not act on the sealing body, so that separation of the resin and the lead frame can be reliably prevented.
【0106】また、請求項3記載の発明によれば、樹脂
封止体に反りが発生していても、この反りをそのまま維
持した状態でゲートブレークを行なうことができるた
め、ゲートブレーク時において樹脂封止体にリードフレ
ームと樹脂とを分離する外力は作用せず、よって樹脂と
リードフレームが分離することを確実に防止することが
できる。According to the third aspect of the present invention, even if a warp occurs in the resin sealing body, the gate break can be performed while maintaining the warp. An external force for separating the lead frame and the resin does not act on the sealing body, so that separation of the resin and the lead frame can be reliably prevented.
【0107】また、請求項4記載の発明によれば、リー
ドフレームと搬送用爪との間にはクリアランスが形成さ
れるため、クランプ時にクランプ力がリードフレームに
印加されることはなく、よって樹脂とリードフレームが
分離することを確実に防止することができる。また、請
求項5記載の発明によれば、空気吹き出し孔を塵埃を吸
引する吸引口の中央位置に配設したことにより、空気吹
き出しによる塵埃飛散方向を吸引口の中央位置に対し略
均衡させることができ、よって塵埃の飛散方向が特定方
向に偏ることがなく、効率の高いクリーニングを行なう
ことができる。また、遮蔽板を吸引ダクトから吸引口の
中央部に向け空気の流れ経路が漸次狭くなるよう構成し
たことにより、吸引口の中央部分における吸引部は絞ら
れた構成となり空気の流速は速くなり、よって吸引口の
中央部分で空気が対流して吸引ダクトに空気が進行しな
くなる状態を回避でき、塵埃を確実に除去することが可
能となる。According to the fourth aspect of the present invention, since a clearance is formed between the lead frame and the transporting claws, no clamping force is applied to the lead frame during clamping, and therefore, the resin And the lead frame can be reliably prevented from being separated from each other. According to the fifth aspect of the present invention, the air blowing hole is disposed at the center position of the suction port for sucking dust, so that the scattering direction of the dust by the air blowing is substantially balanced with the center position of the suction port. Therefore, the scattering direction of the dust is not deviated in a specific direction, and highly efficient cleaning can be performed. Also, by configuring the shielding plate from the suction duct to the center of the suction port so that the flow path of the air gradually narrows, the suction portion at the center of the suction port becomes a narrowed configuration, and the flow velocity of the air increases, Therefore, it is possible to avoid a state in which air is convected at the central portion of the suction port and air does not proceed to the suction duct, and dust can be reliably removed.
【0108】また、請求項6記載の発明によれば、リー
ドフレームとリードフレームプレヒータの接触面積を小
さくすることができ、これによりリードフレームプレヒ
ータに付着している塵埃がリードフレームに移ることが
防止され、よってリードフレームに対する防塵性を向上
させることができる。また、請求項7記載の発明によれ
ば、ゲートブレーク機構に、ゲートブレーク処理により
発生する塵埃を空気を吹きつけることにより飛散除去す
るエアブロー機構を設けたことにより、リードフレーム
に塵埃が付着することを確実に防止することができる。According to the sixth aspect of the present invention, the contact area between the lead frame and the lead frame pre-heater can be reduced, thereby preventing dust adhering to the lead frame pre-heater from being transferred to the lead frame. As a result, the dust resistance of the lead frame can be improved. According to the seventh aspect of the present invention, dust is attached to the lead frame by providing the gate break mechanism with an air blow mechanism that scatters and removes dust generated by the gate break process by blowing air. Can be reliably prevented.
【0109】更に、請求項8記載の発明によれば、エア
ブロー機構により飛散された塵埃は集塵機構により集塵
されゲートブレーク機構の他の部位に付着することを防
止できるため、リードフレームに塵埃が付着することを
より確実に防止することができる。According to the eighth aspect of the present invention, dust scattered by the air blow mechanism can be prevented from being collected by the dust collecting mechanism and adhering to other parts of the gate break mechanism. Adhesion can be more reliably prevented.
【図1】本発明に係る半導体製造装置により製造される
半導体装置を説明するための図である。FIG. 1 is a diagram for explaining a semiconductor device manufactured by a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention.
【図2】図1に示す半導体装置の製造工程を示す工程図
である。FIG. 2 is a process chart showing a manufacturing process of the semiconductor device shown in FIG. 1;
【図3】図1に示す半導体装置の製造途中で形成される
樹脂形成品を示す図である。FIG. 3 is a view showing a resin-formed product formed during the manufacturing of the semiconductor device shown in FIG. 1;
【図4】従来のチャック機構を説明するための図であ
る。FIG. 4 is a view for explaining a conventional chuck mechanism.
【図5】従来の問題点を説明するための図である(その
1)。FIG. 5 is a diagram for explaining a conventional problem (part 1).
【図6】従来の問題点を説明するための図である(その
2)。FIG. 6 is a diagram for explaining a conventional problem (part 2).
【図7】従来のゲートブレーク機構を説明するための図
である。FIG. 7 is a view for explaining a conventional gate break mechanism.
【図8】従来の問題点を説明するための図である(その
3)。FIG. 8 is a diagram for explaining a conventional problem (part 3).
【図9】従来の搬送機構を説明するための図である。FIG. 9 is a view for explaining a conventional transport mechanism.
【図10】本発明の一実施例である半導体製造装置を構
成する樹脂成形装置を示す図である。FIG. 10 is a view showing a resin molding apparatus constituting a semiconductor manufacturing apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図11】図10に示す樹脂成形装置のプレヒータ装置
を拡大して示す図である。FIG. 11 is an enlarged view showing a preheater device of the resin molding device shown in FIG.
【図12】本発明の一実施例である半導体製造装置を構
成するリードフレームプレヒータを示す図である。FIG. 12 is a view showing a lead frame preheater constituting a semiconductor manufacturing apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図13】本発明の一実施例である半導体製造装置を構
成するクリーニング機構を示す図である(その1)。FIG. 13 is a view showing a cleaning mechanism constituting a semiconductor manufacturing apparatus according to one embodiment of the present invention (part 1).
【図14】本発明の一実施例である半導体製造装置を構
成するクリーニング機構を示す図である(その2)。FIG. 14 is a view showing a cleaning mechanism constituting the semiconductor manufacturing apparatus according to one embodiment of the present invention (part 2).
【図15】本発明の一実施例である半導体製造装置を構
成するチャッキング機構を示す図である。FIG. 15 is a view showing a chucking mechanism constituting a semiconductor manufacturing apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図16】本発明の一実施例である半導体製造装置を構
成するゲートブレーク機構及び搬送機構を示す図であ
る。FIG. 16 is a diagram showing a gate break mechanism and a transport mechanism that constitute the semiconductor manufacturing apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図17】本発明の一実施例である半導体製造装置を構
成するゲートブレーク機構の構成及び動作を説明するた
めの図である。FIG. 17 is a view for explaining the configuration and operation of a gate break mechanism constituting the semiconductor manufacturing apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図18】本発明の一実施例である半導体製造装置を構
成する搬送機構の構成及び動作を説明するための図であ
る。FIG. 18 is a view for explaining the configuration and operation of a transport mechanism constituting the semiconductor manufacturing apparatus according to one embodiment of the present invention.
10 半導体装置 11 半導体素子 12 樹脂パッケージ 13 金属膜 17 樹脂突起 20 樹脂成形品 20A 樹脂封止体 21 リードフレーム 22 樹脂 23 カル 24 ゲート 31 剥離部 33 キャリアパレット 36 パレットアーム 50 樹脂形成装置 51 金型 52 プレス装置 53 プレヒータ装置 55 リードフレームプレヒータ 56 プレヒータ本体部 57 リードフレーム搭載領域 58 凹部 59 取り出し用溝 60 クリーニング機構 61 吸引口 62 送風路 63 空気吹き出し孔 64,65 吸引部 66 遮蔽板 67,68 吸引ダクト 70 チャッキング機構 73 吸着パッド 74 チャックアーム 74a チャック爪 80 ゲートブレーク機構 83 リードフレームクランパー 84 クランプ爪 86 駆動シャフト 87 押圧アーム 88 駆動装置 90 搬送機構 92 第1の搬送用アーム 93 第2の搬送用アーム 94,95 搬送用爪 96 パッケージクランパー 97 駆動装置 98 マガジン 100 エアブロー機構 101 集塵機構 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Semiconductor device 11 Semiconductor element 12 Resin package 13 Metal film 17 Resin protrusion 20 Resin molding 20A Resin sealing body 21 Lead frame 22 Resin 23 Cal 24 Gate 31 Peeling part 33 Carrier pallet 36 Pallet arm 50 Resin forming device 51 Mold 52 Pressing device 53 Pre-heater device 55 Lead frame pre-heater 56 Pre-heater main body 57 Lead frame mounting area 58 Recess 59 Retrieval groove 60 Cleaning mechanism 61 Suction port 62 Blow path 63 Air blow-out holes 64, 65 Suction unit 66 Shielding plate 67, 68 Suction duct 70 Chucking Mechanism 73 Suction Pad 74 Chuck Arm 74a Chuck Claw 80 Gate Break Mechanism 83 Lead Frame Clamp 84 Clamp Claw 86 Drive Shaft 87 Press Arm 88 Drive device 90 Transport mechanism 92 First transport arm 93 Second transport arm 94, 95 Transport claw 96 Package clamper 97 Drive device 98 Magazine 100 Air blow mechanism 101 Dust collection mechanism
Claims (8)
がリードフレーム上に形成されると共に該樹脂がゲート
及びカルにより複数連結された構成の樹脂成形品を、吸
引パッドを用い前記金型から取り出すチャッキング機構
を有する半導体製造装置において、 前記吸引パッドが前記樹脂封止体の前記カルを吸引保持
し、前記吸引パッドのみにより前記樹脂封止体を前記金
型から取り出す構成としたことを特徴とする半導体製造
装置。1. A resin molded product in which a resin to be a resin package is formed on a lead frame using a mold and a plurality of the resins are connected by a gate and a cull from the mold using a suction pad. In the semiconductor manufacturing apparatus having a chucking mechanism for taking out, the suction pad sucks and holds the cull of the resin sealing body, and the resin sealing body is taken out of the mold only by the suction pad. Semiconductor manufacturing equipment.
る樹脂が形成されてなる樹脂封止体がゲート及びカルに
より複数連結されてなる構成の樹脂成形品を、前記リー
ドフレームをリードフレームクランパーでクランプする
ことにより固定した上で前記ゲートのゲートブレーク処
理を行い、個々の前記樹脂封止体に分離するゲートブレ
ーク機構を有する半導体製造装置において、 前記リードフレームクランパーが、ゲートブレーク時に
おいて前記リードフレームの前記ゲート近傍位置のみを
クランプするよう構成したことを特徴とする半導体製造
装置。2. A resin molded product having a structure in which a plurality of resin sealing bodies formed by forming a resin serving as a resin package on a lead frame by gates and culls is clamped to the lead frame by a lead frame clamper. In a semiconductor manufacturing apparatus having a gate break mechanism for performing a gate break process on the gate after fixing by fixing the lead frame, the lead frame clamper is configured to separate the lead frame at the time of a gate break. A semiconductor manufacturing apparatus characterized in that only a position near a gate is clamped.
る樹脂が形成されてなる樹脂封止体がゲート及びカルに
より複数連結されてなる構成の樹脂成形品を、前記リー
ドフレームをリードフレームクランパーでクランプする
ことにより固定した上で前記ゲートのゲートブレーク処
理を行い、個々の前記樹脂封止体に分離するゲートブレ
ーク機構を有する半導体製造装置において、 前記リードフレームクランパーが、ゲートブレーク時に
おいて前記樹脂から離間した状態を維持するよう構成し
たことを特徴とする半導体製造装置。3. A resin molded product having a structure in which a plurality of resin sealing bodies formed by forming a resin serving as a resin package on a lead frame by gates and culls is clamped to the lead frame by a lead frame clamper. In the semiconductor manufacturing apparatus having a gate break mechanism for performing gate break processing of the gate after being fixed by the above, and separating the gate into individual resin sealing bodies, the lead frame clamper is separated from the resin at the time of gate break. A semiconductor manufacturing apparatus configured to maintain a state.
とにより個片化されたリードフレーム上に樹脂パッケー
ジとなる樹脂が形成されてなる樹脂封止体を、前記ゲー
トブレーク機構から取り出しマガジンに収納する搬送機
構を有する半導体製造装置において、 前記搬送機構に設けられた搬送用アームに、前記樹脂封
止体を載置する搬送用爪を設けると共に、 前記樹脂封止体を載置した状態において、前記リードフ
レームが前記搬送用爪上で変位可能な構成としたことを
特徴とする半導体製造装置。4. A transport for taking out a resin sealing body in which a resin to be a resin package is formed on a lead frame separated by a gate break mechanism and separated from the gate break mechanism and storing the resin sealed body in a magazine. In a semiconductor manufacturing apparatus having a mechanism, a transfer arm provided on the transfer mechanism is provided with a transfer claw for mounting the resin sealing body, and the lead is placed in a state where the resin sealing body is mounted. A semiconductor manufacturing apparatus, wherein a frame is displaceable on the transport claw.
をリードフレーム上に形成した後、前記金型に付着した
塵埃を除去するクリーニング機構を有する半導体製造装
置において、 前記クリーニング機構は、 前記塵埃を吸引する吸引口の中央位置に配設した空気吹
き出し孔と、 前記吸引口の両側部に配設された吸引ダクトと、 前記吸引口を二つの吸引部に画成すると共に、前記吸引
ダクトから前記吸引口の中央部に向け前記空気の流れ経
路が漸次狭くなるよう配設された遮蔽板とを設けた構成
とされていることを特徴とする半導体製造装置。5. A semiconductor manufacturing apparatus having a cleaning mechanism for removing dust adhering to the mold after forming a resin to be a resin package on a lead frame using a mold, wherein the cleaning mechanism comprises: An air blow-out hole arranged at a central position of a suction port for sucking, a suction duct arranged on both sides of the suction port, and defining the suction port in two suction portions, and from the suction duct A semiconductor manufacturing apparatus, comprising: a shielding plate disposed so that a flow path of the air gradually narrows toward a center portion of the suction port.
をリードフレーム上に形成する前に、前記リードフレー
ムを予備加熱するリードフレームプレヒータを有してな
る半導体製造装置において、 前記リードフレームプレヒータの前記リードフレームの
搭載位置に凹部を形成し、前記リードフレームの外周位
置のみが前記リードフレームプレヒータに保持される構
成としたことを特徴とする半導体製造装置。6. A semiconductor manufacturing apparatus having a lead frame pre-heater for pre-heating the lead frame before forming a resin to be a resin package on the lead frame using a mold. A semiconductor manufacturing apparatus, wherein a concave portion is formed at a mounting position of the lead frame, and only an outer peripheral position of the lead frame is held by the lead frame preheater.
る樹脂が形成されてなる樹脂封止体がゲート及びカルに
より複数連結されてなる構成の樹脂成形品を、前記リー
ドフレームをリードフレームクランパーでクランプする
ことにより固定した上で前記ゲートのゲートブレーク処
理を行い、個々の前記樹脂封止体に分離するゲートブレ
ーク機構を有する半導体製造装置において、 前記ゲートブレーク機構に、前記ゲートブレーク処理に
より発生する塵埃を空気を吹きつけることにより飛散除
去するエアブロー機構を設けたことを特徴とする半導体
製造装置。7. A resin molded product having a structure in which a plurality of resin sealing bodies formed by forming a resin serving as a resin package on a lead frame by gates and culls is clamped to the lead frame by a lead frame clamper. In the semiconductor manufacturing apparatus having a gate break mechanism for performing gate break processing of the gate after being fixed by the above, and separating the gate into individual resin sealing bodies, dust generated by the gate break processing is applied to the gate break mechanism. An apparatus for manufacturing a semiconductor, comprising an air blow mechanism for removing scattering by blowing air.
て、 前記エアブロー機構と対向する位置に、前記塵埃を集塵
する集塵機構を設けたことを特徴とする半導体製造装
置。8. The semiconductor manufacturing apparatus according to claim 7, wherein a dust collecting mechanism for collecting the dust is provided at a position facing the air blow mechanism.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP27892298A JP2000114291A (en) | 1998-09-30 | 1998-09-30 | Semiconductor manufacturing device |
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JP27892298A JP2000114291A (en) | 1998-09-30 | 1998-09-30 | Semiconductor manufacturing device |
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Publication Number | Publication Date |
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JP (1) | JP2000114291A (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100435164B1 (en) * | 2001-09-27 | 2004-06-09 | 삼성전자주식회사 | Apparatus and Method for separating cull in TBGA package assembly process |
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- 1998-09-30 JP JP27892298A patent/JP2000114291A/en not_active Withdrawn
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