JP2000111749A - 光導波路素子及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フィルタ素子を導波路の溝に挿入する際の作
業性を向上させることができ、さらに、光導波路面に対
し垂直性を保ち、特性のばらつきを小さくした光導波路
素子及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 合分波光導波路は、光導波路に交差して
設けられたフィルタ用の溝１８を有する光導波路基板１
０と、干渉フィルタ２０と、補強用ブロック３１，３２
により挟み込んで固定され、その一部がフィルタ用の溝
１８に挿入された干渉フィルタブロック３０とを備えた
構成とし、その製造方法は、固定用ベース５０上で、干
渉フィルタ２０と、干渉フィルタ２０を挟んで保持する
補強用ブロック３１，３２とを載せ、補強用ブロック３
１，３２により干渉フィルタ２０の一部が飛び出し量２
１だけ突出するように挟んで固定し、干渉フィルタ２０
を固定した干渉フィルタブロック３０を、フィルタ用の
溝１８に、干渉フィルタ２０の突出部２０ａが挿入され
るように位置合わせし、光導波路上に干渉フィルタブロ
ック３０を接着材４０により固定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光波送受信モジュ
ール等に用いる光導波路素子及びその製造方法に関し、
詳細には、平面基板上の導波路に交差する溝に干渉フィ
ルタを挿入した光導波路素子及びその製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】広帯域・低損失・無誘導という優れた特
徴を持つ光ファイバに、波長の異なる複数の光を伝搬し
て同一方向又は双方向の伝送容量を拡大する波長多重通
信を行う際に、波長の合波並びに分波を司る光合分波器
が必要となる。

【０００３】ＷＤＭ（波長合分波回路）機能を有する光
波送受信モジュールとして、例えば、導波路内に干渉フ
ィルタとして誘電体多層膜フィルタを挿入した反射型Ｗ
ＤＭがある。

【０００４】図５は従来のこの種のモジュールの概略構
成を示す図である。

【０００５】図５において、シリコン基板１００上に光
導波路１０１，１０２，１０３が形成され、光導波路１
０１，１０２の交差する位置の近傍に溝１０４が設けら
れ、その溝の中に誘電体多層膜フィルタ１０５が挿入さ
れ固定されている。

【０００６】上記誘電体多層膜フィルタ１０５に対して
光導波路１０１，１０２と反対側に形成されている光導
波路１０３のフィルタ１０５に臨んだ部分の光軸は、光
導波路１０１のフィルタ１０５に臨んだ部分の光軸と一
致している。光導波路１０１と光導波路１０２はフィル
タ１０５の法線を中心線としてある角度で分岐してい
る。

【０００７】誘電体多層膜フィルタ１０５は、１．３μ
の光は透過して、１．５５μの光は反射する特性を持
つ。波長多重化された１．３μと１．５５μの光が光導
波路１０１に入射され、１．５５μの光はフィルタ１０
５で反射されて、光導波路１０２へ導かれる。１．３μ
の光はフィルタ１０５を透過し、Ｙ分岐部で分かれて、
それぞれの導波路はレーザダイオード（ＬＤ）、フォト
ダイオード（ＰＤ）に接続されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の誘電体多層膜フィルタを挿入した光導波路素
子にあっては、平面導波路内に形成された溝の中に、誘
電体多層膜フィルタを挿入する工程が難しく、その作業
に時間を要するという問題点があった。

【０００９】すなわち、フィルタの厚みに対し、溝の幅
をできるだけ近づければ、挿入損失を抑えることがで
き、しかも溝内部での倒れ角を小さくすることができ
る。しかし、微小なフィルタを溝の中に挿入することは
非常に難しく、時間が掛かりコスト上昇の原因となって
いた。一方、溝の幅を大きくすると、フィルタを挿入す
るのは容易になるが、溝の幅が広がることにより挿入損
失が大きくなり、かつ溝の中での倒れ角が大きくなっ
て、挿入損失が大きくなる欠点がある。

【００１０】これらの問題を改善するため、平面導波路
内に形成された溝の中に、誘電体多層膜フィルタを挿入
した光導波路素子として、例えば特開平９−１０５８２
４号公報に開示されたものがある。この公報記載の素子
は、反りのある光素子を挿入することによって溝へのフ
ィルタの倒れ角を防止して、フィルタの挿入損失を安定
化させることと、溝の挿入口を広げた構造とすることに
よりフィルタの溝への挿入の容易化を図ろうとする。

【００１１】しかし、この公報記載の素子においては、
フィルタそのものは１４μｍの厚さ、１ｍｍ角程度の非
常に小型で、かつ反りを有しているため、これをハンド
リングして、狭い溝の中に挿入することは依然として難
しい。

【００１２】本発明は、フィルタ素子を導波路の溝に挿
入する際の作業性を向上させることができ、さらに、光
導波路素子の基板に対し垂直性を保ち、特性のばらつき
を小さくした光導波路素子及びその製造方法を提供する
ことを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明に係る光導波路素
子は、平面基板と、平面基板上に形成された光導波路
と、光導波路に交差して設けられたフィルタ用の溝と、
波長分波機能を有する干渉フィルタと、干渉フィルタの
一部が突出するように、該干渉フィルタを挟んで固定す
る干渉フィルタブロックとを備え、フィルタ用の溝に干
渉フィルタが挿入されるように、干渉フィルタブロック
が平面基板上に固定されたことを特徴とする。

【００１４】上記干渉フィルタブロックは、干渉フィル
タを垂直に挟んで固定する第１及び第２の補強用ブロッ
クからなるものであってもよい。

【００１５】上記光導波路は、アンダークラッド層、コ
ア層、クラッド層の順に積層されて構成されており、フ
ィルタ用の溝は、少なくとも光導波路のコア層の深さに
形成されているものであってもよい。

【００１６】上記フィルタ用の溝は、ダイシング加工に
より形成されたものであってもよく、また、フォトリソ
グラフィ、及びエッチング加工により形成されたもので
あってもよい。

【００１７】本発明に係る光導波路素子の製造方法は、
平面基板上の光導波路と交差してフィルタを挿入した光
導波路素子の製造方法において、干渉フィルタブロック
に干渉フィルタをその一部が突出するように挟んで固定
するステップと、光導波路のフィルタ用の溝に、干渉フ
ィルタが挿入されるように、平面基板上に干渉フィルタ
ブロックを固定するステップとを有することを特徴とす
る。

【００１８】上記干渉フィルタは、誘電体多層膜フィル
タであってもよい。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。

【００２０】図１は本発明の実施形態に係る光導波路素
子（平面光集積回路）の構造を示す断面図であり、光導
波路素子を光合分波に用いられるフィルタ型合分波光導
波路素子に適用した例である。

【００２１】図１において、１０はフィルタ型合分波光
導波路の光導波路基板であり、光導波路基板１０は、後
述の光導波路と交差して誘電体多層膜フィルタ（干渉フ
ィルタ）２０が挿入される。

【００２２】干渉フィルタ２０は、補強用ブロック３
１，３２（第１及び第２の補強用ブロック）により両側
から挟み込まれて接着剤で固定されており、干渉フィル
タ２０の一部は、補強用ブロック３１，３２の下側表面
から所定の飛び出し量だけ突出するようにして固定され
ている。また、干渉フィルタ２０を挟み込む補強用ブロ
ック３１，３２の端面の上下部には、テーパ３３〜３６
が形成されている。

【００２３】干渉フィルタ２０を補強用ブロック３１，
３２により挟んで固定した干渉フィルタブロック３０
は、光導波路基板１０上において、平面導波路内の溝１
８に干渉フィルタ２０を案内するように位置合わせされ
て接着材４０で固定されている。この状態で干渉フィル
タ２０の突出部２０ａが溝１８内に突出している。

【００２４】図１は光導波路基板１０に干渉フィルタブ
ロック３０を載せた組立て後の構造を示している。

【００２５】図２は上記光導波路基板１０の構造を示す
平面図である。

【００２６】図２において、光導波路基板１０は、シリ
コンの基板１１の上に石英系のガラスを堆積して光導波
路１２が形成されている。この光導波路１２はアンダー
クラッド層、コア層、クラッド層の順に積層されて構成
されている。コア層はクラッド層よりも高屈折率となっ
ており、その比屈折率差は０．２〜０．８％程度となっ
ている。ここでは、アンダークラッド層を２０μ、上ク
ラッド層を２０μとし、コアパターンの断面寸法、幅及
び厚さは５〜１０μｍが好ましく、ここでは８μに設定
した。

【００２７】上記積層構造を有する光導波路基板１０
は、平行な一対の端面１３，１４と、この端面１３，１
４に対し直交する平行な一対の端面から形成された四辺
形形状である。

【００２８】光導波路基板１０の導波路となるコア層に
は、所望の光導波路コアパターンとして、光導波路基板
１０の一方の端面１３に臨みフィルタ２０に入射する光
を導く入力導波路１５と、フィルタ２０を透過して出力
される光を導く出力導波路１６と、フィルタ２０により
反射されて出力される光を導く出力導波路１７とが形成
されている。

【００２９】また、上記各導波路１５，１６，１７が交
差する箇所には、フィルタ用の溝１８が形成されてい
る。このフィルタ用の溝１８は導波路端面１３，１４と
平行の位置関係にある。このフィルタ用の溝１８の断面
はフィルタ２０の幅よりもやや広く加工して、一例とし
て１５μｍ幅の厚さのフィルタが挿入できるように、１
７〜２０μｍの幅、１００μｍほどの深さに加工されて
いる。

【００３０】出力導波路１６は、フィルタ用の溝１８を
挟んで入力導波路１５の延長上にあり、端面１３と反対
側の端面１４に臨んでいる。

【００３１】出力導波路１７と入力導波路１５とは、フ
ィルタ用の溝面の法線を中心線として反対側にかつ法線
に対して等しい角度θをなす位置関係にあり、出力導波
路１７と入力導波路１５との交差角は２θである。

【００３２】ここで示した角度θは、フィルタの性能の
点から６度から１０度、好ましくは８度に設定するのが
よい。

【００３３】入力導波路１３には図示しない光ファイバ
から波長多重化された１．３μと１．５５μの光が入射
され、そのうち１．５５μの光はフィルタ２０で反射さ
れて、一方の出力導波路１７へ導かれる。１．３μの光
はフィルタ２０を透過し、他方の出力導波路１６へ出力
される。

【００３４】このように、本実施形態に係るフィルタ型
合分波光導波路は、光導波路に交差して設けられたフィ
ルタ用の溝１８を有する光導波路基板１０と、波長分波
機能を有する干渉フィルタ２０と、干渉フィルタ２０の
一部が表面から飛び出すように補強用ブロック３１，３
２により両側から挟み込んで固定した干渉フィルタブロ
ック３０とを備え、干渉フィルタブロック３０を、光導
波路基板１０上において、フィルタ用の溝１８に干渉フ
ィルタ２０を案内するように位置合わせして接着材４０
により固定した構造となっている。

【００３５】以下、上述のように構成されたフィルタ型
合分波光導波路の製造方法を説明する。

【００３６】まず、光導波路基板１０の製造方法を説明
する。

【００３７】シリコン基板母材（ウエハ）上にＣＶＤ法
によりアンダークラッド層とコア層を形成を形成する。
例えば、アンダークラッド層を２０μ、上クラッド層を
２０μとし、コアパターンの断面寸法、幅及び厚さは５
から１０μｍが好ましく、ここでは８μに設定した。

【００３８】アンダークラッド層とコア層が形成された
後、光導波路コアパターンが描かれたフォトマスクパタ
ーンを用いてマスク材をパターン化するフォトリソグラ
フィ工程によりマスク材を作製する。

【００３９】次に、このマスク材を用いて反応性イオン
エッチング（ＲＩＥ）により石英系コア層の不要部分を
除去し、光導波路コアパターンを形成する。

【００４０】次に、その光導波路コアパターン上に再度
ＣＶＤにより上クラッド層を形成し、光導波路コア部を
埋め込む。

【００４１】この製造方法によると、一枚のフォトマス
クパターンを用いて導波路コアパターンが形成されるた
め、その相対位置精度は非常に高い。

【００４２】ここまでの工程により、導波路基板上に図
２に示す光導波路コアパターンが形成される。

【００４３】導波路基板母材に同一回路パターンの光導
波路基板を多数隣接して形成した後、所定の位置にフィ
ルタ用の溝１８を通すための溝切り加工を行う。この溝
切り加工には、例えばダイシング装置を用いる。このフ
ィルタ用の溝１８の断面は、フィルタ２０の幅よりもや
や広く加工して、一例として１５μｍ幅の厚さのフィル
タが挿入できるように、１７〜２０μｍの幅とし、深さ
は１００μｍほどにダイシングする。

【００４４】また、本実施形態では、ダイシングにより
溝を形成しているが、溝の深さを小さくすることができ
るので、ダイシングのような機械加工でなく、フィルタ
溝パターンが描かれたフォトマスクパターンを用いてフ
ォトリソグラフィ、エッチングでも溝形成は可能であ
る。

【００４５】次に、上記母材を所定の分割枠に沿って切
断し、多数の四辺形の光導波路基板を形成する。

【００４６】以上の工程により、図２に示す光導波路コ
アパターン及びフィルタ用の溝１８が形成された導波路
基板１０が得られる。

【００４７】次に、干渉フィルタブロック３０の製作方
法について説明する。

【００４８】図３は干渉フィルタブロック３０の構造を
示す断面図、図４はその平面図である。

【００４９】図３及び図４に示すように、干渉フィルタ
ブロック３０の組立て用ステージとなる平面度が高い固
定用ベース５０上に、補強板である補強用ブロック３
１，３２を載せ、その補強用ブロック３１，３２の間に
干渉フィルタ２０を挟み込む。この時、固定用ベース５
０上に補強用ブロック３１，３２の一方の面、及び干渉
フィルタ２０の一方の端面が固定用ベース５０の上面に
当接して、干渉フィルタ２０に傾きがないように合せ込
む。

【００５０】干渉フィルタ２０を挟んで固定した補強用
ブロック３１，３２が干渉フィルタブロック３０とな
る。

【００５１】干渉フィルタブロック３０は、上方から見
たときの外形が光導波路基板１０の外形と略等しく、干
渉フィルタ２０を挟み込んで固定した状態で光導波路基
板１０表面を覆うことができる。

【００５２】補強用ブロック３１，３２は、光導波路と
同じ材質が好ましく、ここではガラス板を用いた。ま
た、補強用ブロック３１，３２は、干渉フィルタ２０を
挟み込んで固定した場合に、干渉フィルタ２０の突出部
２０ａがその表面から所定の飛び出し量２１突出する厚
みに加工する。例えば、約１．６ｍｍの高さを有する干
渉フィルタ２０を用いる場合には、補強用ブロック３
１，３２の厚さを約１．５ｍｍに加工することにより、
フィルタ突出部２０ａの飛び出し量２１を約０．０５〜
０．１ｍｍ飛び出すようにする。

【００５３】補強用ブロック３１，３２は、固定用ベー
ス５０の表面に対し垂直な端面を有し、干渉フィルタ２
０を挟み込む端面は精密に垂直度が保たれる。

【００５４】補強用ブロック３１，３２と干渉フィルタ
２０は接着剤を用いて固定する。接着剤の塗布方法は、
挟み込む前に、補強用ブロック３１，３２のフィルタ２
０と対向する面に塗布した。この他に、合せ込んだ後、
干渉フィルタ２０と補強用ブロック３１，３２との間に
接着剤を流してもよい。接着剤には、紫外線硬化型のも
のを使用する。

【００５５】次に、紫外線光源を上部から照射して硬化
固定させる。この硬化中、両側の補強用ブロック３１，
３２から適度な圧力Ｆをかけて、接着剤の厚さが均等か
つ、適正な厚さになるようにする。この圧力Ｆにより、
干渉フィルタ２０にあった反り、曲がりなどが矯正さ
れ、フラットな面にすることができる。このときの余分
な接着剤は補強用ブロック３１，３２の角に形成したテ
ーパ３３，３４，３５，３６に逃げるようにする。

【００５６】固定用ベース５０の材料はこの接着作業で
接着しないよう、非接着性の材料、例えばテフロン系の
材料を用いた。２つの補強用ブロック３１，３２と、干
渉フィルタ２０の高さ寸法は精度高いものを用意し、補
強用ブロック３１，３２の表面からの干渉フィルタ２０
の突出部２０ａの飛び出し量２１を調整した。

【００５７】一例として、補強用ブロック３１，３２に
は、パイレックスガラスを使用し、その厚さは１．５ｍ
ｍ、干渉フィルタ２０の厚さは１５μ、その高さは１．
６ｍｍに設定してフィルタ突出部２０ａの飛び出し量２
１を８０μに設定した。この飛び出し量２１は０．０５
〜０．１ｍｍの範囲を目標にした。

【００５８】次に、上述のようにして製作された光導波
路基板１０及び干渉フィルタブロック３０の組立てにつ
いて説明する。

【００５９】図１は光導波路基板１０に干渉フィルタブ
ロック３０を載せた組立て後の様子を示している。

【００６０】まず、干渉フィルタブロック３０の搭載前
に導波路基板１０のフィルタ用の溝１８の内部と基板１
０の上面に接着剤４０を適量塗布する。接着剤４０に
は、紫外線硬化型のものを使用する。

【００６１】次に、導波路基板１０のフィルタ用の溝１
８に、干渉フィルタブロック３０のフィルタ突出部２０
ａを挿入するように載せる。すなわち、図３に示す干渉
フィルタブロック３０を、飛び出し量２１で示されるフ
ィルタ突出部２０ａが下になるようにひっくり返し、フ
ィルタ用の溝１８にフィルタ突出部２０ａを挿入するよ
うにして載せる。

【００６２】フィルタ用の溝１８に干渉フィルタブロッ
ク３０のフィルタ突出部２０ａを挿入するように載せる
ことがフィルタ２０の装着作業となるが、この作業は、
フィルタ２０と一体化された干渉フィルタブロック３０
を担持して行うものであるため、フィルタ単体を溝に挿
入する従来のフィルタ挿入する場合に比べ、作業が極め
て容易となる。

【００６３】次に、紫外線光源を干渉フィルタブロック
３０の上方から照射して接着剤４０を硬化させ、光導波
路と干渉フィルタブロック３０を固定して組み立てを完
了する。本実施形態では、フィルタ２０は干渉フィルタ
ブロック３０の下部から８０μほど突き出しており、光
導波路上面から２０〜３０μほどに位置するコア部に対
応した位置まで延びている。

【００６４】なお、フィルタ用の溝１８の深さは、フィ
ルタ突出部２０ａの挿入深さより大きければよく、一致
する必要はない。フィルタ２０の保持は補強用ブロック
３１，３２で行うからである。

【００６５】以下、上述のように構成されたフィルタ型
合分波光導波路の動作を説明する。

【００６６】入力導波路１５には図示しない光ファイバ
から波長多重化された１．３μと１．５５μ光が入射さ
れ、フィルタ２０には入射角θで入射される。

【００６７】そのうち、１．３μの光はフィルタ２０を
透過し、出力導波路１６へ出力される。１．５５μの光
はフィルタ２０で反射されて、出力導波路１７へ導かれ
る。出力導波路１６，１７から導波路端面１３，１４へ
出射される光は、それぞれ図示しない光ファイバへと出
射される。

【００６８】以上説明したように、実施形態に係るフィ
ルタ型合分波光導波路は、光導波路に交差して設けられ
たフィルタ用の溝１８を有する光導波路基板１０と、波
長分波機能を有する干渉フィルタ２０と、干渉フィルタ
２０の一部が表面から飛び出すように補強用ブロック３
１，３２により両側から挟み込んで固定した干渉フィル
タブロック３０とを備えた構成とし、その製造方法は、
平面度が高い固定用ベース５０上に、干渉フィルタ２０
と、干渉フィルタ２０を挟んで保持する補強用ブロック
３１，３２とを載せ、補強用ブロック３１，３２により
干渉フィルタ２０の一部が飛び出し量２１だけ突出する
ように挟んで固定し、干渉フィルタ２０を固定した干渉
フィルタブロック３０を、光導波路のフィルタ用の溝１
８に、干渉フィルタ２０の突出部２０ａが挿入されるよ
うに位置合わせし、光導波路素子上に干渉フィルタブロ
ック３０を接着材４０により固定するようにしているの
で、フィルタ２０の装着作業は、補強用ブロック３１，
３２で一体化された干渉フィルタブロック３０を担持し
て行うことになりその作業性が極めて良好となる。その
結果、フィルタ用の溝１８への挿入に要する時間を大幅
に短縮することができ、また、ハンドリング中にフィル
タが破損するような事故を少なくすることができた。

【００６９】また、干渉フィルタブロック３０は、上方
から見た形状が光導波路基板１０の外形と略等しいもの
としたので、光導波路基板１０上に干渉フィルタブロッ
ク３０を固定して一体化した場合に、干渉フィルタブロ
ック３０の端面と光導波路基板１０の導波路端面とが同
一面上で揃い、結果として光導波路基板１０端面の面積
を拡大したようになるため、光ファイバを保持する光フ
ァイバ保持部材と結合する際の強度を強める機能を得る
ことができる。

【００７０】また、フィルタ２０の保持は補強板である
補強用ブロック３１，３２が行うため、光導波路素子の
溝へのフィルタ２０の挿入深さは小さくてよい。この場
合、フィルタ２０の溝への突き出し量は、光導波路のコ
ア部に対応する位置に延在すればよく、溝の深さをより
浅く抑えた方が、溝の幅のばらつきが小さくでき、損失
変動を少なくできる。溝の深さが従来より浅くてよいの
で、ダイシングブレードの切断時の振れなどにより発生
する溝幅ばらつきを抑えることができる。その結果、挿
入損失を小さくし、そのばらつきも抑えることができ
る。

【００７１】さらに、溝の深さを小さくすることができ
ることから、溝はシリコン基板まで入り込む必要はな
く、石英部だけでも十分であり、ダイシング加工のよう
な機械加工でなく、導波路パターンを形成したフォトリ
ソグラフィ、及びエッチングも可能である。このような
フォトリソ、エッチングで製作すると、溝の加工精度を
大幅に高めることができる。

【００７２】したがって、本実施形態では、フィルタの
挿入に掛かる時間が短縮され、低コストで、歩留まりが
高い、誘電体多層膜フィルタを用いた波長合分波光導波
路が実現できる。

【００７３】このような優れた特長を有する光導波路素
子を、反射型ＷＤＭ光導波路素子に適用すれば、導波路
全体の損失を少なくすることができ、製造工程の効率化
及びコスト低減を図ることができる。

【００７４】なお、上記実施形態では、石英系導波路を
用いた場合について説明したが、これに限定されず、石
英系導波路以外の拡散ガラス導波路、有機ポリマ系導波
路等どのような埋込み型導波路に対しても適用可能であ
る。

【００７５】また、光ファイバから波長多重化された
１．３μと１．５５μの光を入射し、１．３μの光を透
過し、１．５５μの光を反射する波長合分波器に適用し
て説明したが、それ以外の波長領域の波長合分波器とし
ても使用できる。

【００７６】また、上記光導波路素子を構成する基板、
コア層、クラッド層、光導波路コアパターン、干渉フィ
ルタ、補強用ブロック等の種類などは上述した実施形態
に限られない。

【００７７】

【発明の効果】本発明に係る光導波路及びその製造方法
では、平面基板上に形成された光導波路と、光導波路に
交差して設けられたフィルタ用の溝と、波長分波機能を
有する干渉フィルタと、干渉フィルタの一部が突出する
ように、該干渉フィルタを挟んで固定する干渉フィルタ
ブロックとを備え、フィルタ用の溝に干渉フィルタが挿
入されるように、干渉フィルタブロックを位置合わせし
て、光導波路上に干渉フィルタブロックを固定するよう
にしたので、フィルタ素子を導波路の溝に挿入する際の
作業性を向上させることができ、さらに、光導波路面に
対し垂直性を保ち、特性のばらつきを小さくすることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した実施形態に係る光導波路素子
の構造を示す断面図である。

【図２】上記光導波路素子の光導波路基板の構造を示す
平面図である。

【図３】上記光導波路素子の干渉フィルタを取り付けた
干渉フィルタブロックの構造を示す断面図である。

【図４】図３の平面図である。

【図５】従来の光送受信モジュールの概略構成を示す図
である。

【符号の説明】

１０ 光導波路基板、１１ シリコンの基板、１２ 光
導波路、１３，１４端面、１５ 入力導波路、１６，１
７ 出力導波路、１８ フィルタ用の溝、２０ 誘電体
多層膜フィルタ（干渉フィルタ）、２０ａ フィルタ突
出部、２１飛び出し量、３０ 干渉フィルタブロック、
３１，３２ 補強用ブロック（第１及び第２の補強用ブ
ロック）、４０ 接着材、５０ 固定用ベース

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平面基板と、 前記平面基板上に形成された光導波路と、 光導波路に交差して設けられたフィルタ用の溝と、 波長分波機能を有する干渉フィルタと、 前記干渉フィルタの一部が突出するように、該干渉フィ
   ルタを挟んで固定する干渉フィルタブロックとを備え、 前記フィルタ用の溝に前記干渉フィルタが挿入されるよ
   うに、前記干渉フィルタブロックが前記平面基板上に固
   定されたことを特徴とする光導波路素子。
2. 【請求項２】 前記干渉フィルタブロックは、 前記干渉フィルタを垂直に挟んで固定する第１及び第２
   の補強用ブロックからなることを特徴とする請求項１記
   載の光導波路素子。
3. 【請求項３】 前記光導波路は、アンダークラッド層、
   コア層、クラッド層の順に積層されて構成されており、 前記フィルタ用の溝は、少なくとも前記光導波路のコア
   層の深さに形成されていることを特徴とする請求項１記
   載の光導波路素子。
4. 【請求項４】 前記フィルタ用の溝は、ダイシング加工
   により形成されたことを特徴とする請求項１又は３の何
   れかに記載の光導波路素子。
5. 【請求項５】 前記フィルタ用の溝は、フォトリソグラ
   フィ、及びエッチング加工により形成されたことを特徴
   とする請求項１又は３の何れかに記載の光導波路素子。
6. 【請求項６】 前記干渉フィルタは、誘電体多層膜フィ
   ルタであることを特徴とする請求項１記載の光導波路素
   子。
7. 【請求項７】 平面基板上の光導波路と交差してフィル
   タを挿入した光導波路素子の製造方法において、 干渉フィルタブロックに干渉フィルタをその一部が突出
   するように挟んで固定するステップと、 前記光導波路のフィルタ用の溝に、前記干渉フィルタが
   挿入されるように、前記平面基板上に前記干渉フィルタ
   ブロックを固定するステップとを有することを特徴とす
   る光導波路素子の製造方法。