JP2000111484A - ウェーハ欠陥検査装置 - Google Patents
ウェーハ欠陥検査装置Info
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- JP2000111484A JP2000111484A JP10284296A JP28429698A JP2000111484A JP 2000111484 A JP2000111484 A JP 2000111484A JP 10284296 A JP10284296 A JP 10284296A JP 28429698 A JP28429698 A JP 28429698A JP 2000111484 A JP2000111484 A JP 2000111484A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウェーハ表面における欠陥や異常を人手によ
って行っていたのと同程度の簡便さと高速性をもって行
うことができ、しかも、検査精度を長時間安定して発揮
することができるウェーハ欠陥検査装置を提供するこ
と。 【解決手段】 検査ステージ１に保持されたウェーハ２
の検査対象面２ａに対して可視光４を斜め上方から照射
し、この照射によって生じた光９を、特定波長範囲のみ
を通過させる光学フィルタ２０〜２２を介して二次元光
検出器１７〜１９に入射させ、これらの二次元光検出器
１７〜１９の出力をデータ処理装置２３に入力し、この
データ処理装置２３において、ウェーハ２に可視光４を
照射したときにおける色の変化を観察し、この観察結果
に基づいてウェーハ２における欠陥の有無を検査するよ
うにした。
って行っていたのと同程度の簡便さと高速性をもって行
うことができ、しかも、検査精度を長時間安定して発揮
することができるウェーハ欠陥検査装置を提供するこ
と。 【解決手段】 検査ステージ１に保持されたウェーハ２
の検査対象面２ａに対して可視光４を斜め上方から照射
し、この照射によって生じた光９を、特定波長範囲のみ
を通過させる光学フィルタ２０〜２２を介して二次元光
検出器１７〜１９に入射させ、これらの二次元光検出器
１７〜１９の出力をデータ処理装置２３に入力し、この
データ処理装置２３において、ウェーハ２に可視光４を
照射したときにおける色の変化を観察し、この観察結果
に基づいてウェーハ２における欠陥の有無を検査するよ
うにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ウェーハの表面
における異物や傷の存在または膜厚の異常などウェーハ
の欠陥を検査する装置に関する。
における異物や傷の存在または膜厚の異常などウェーハ
の欠陥を検査する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ウェーハの表面における異物や傷の存在
の検査または膜厚の測定は、従来においては、それぞれ
個別の検査装置や測定装置を用いて行っている。また、
スループットが要求される現場においては、前記検査や
測定を単に熟練者の目視によって行うことが少なくな
い。
の検査または膜厚の測定は、従来においては、それぞれ
個別の検査装置や測定装置を用いて行っている。また、
スループットが要求される現場においては、前記検査や
測定を単に熟練者の目視によって行うことが少なくな
い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、多くの
装置を用いて検査や測定を行う場合には、検査や測定の
精度は高いものの、多くの時間と費用を要するといった
課題がある。また、熟練者の目視によって行う場合に
は、装置費用が不要であり、簡便かつ比較的高速に検査
などを行うことができるものの、疲労のため長時間安定
した検査や測定を行うことができないといった課題があ
る。
装置を用いて検査や測定を行う場合には、検査や測定の
精度は高いものの、多くの時間と費用を要するといった
課題がある。また、熟練者の目視によって行う場合に
は、装置費用が不要であり、簡便かつ比較的高速に検査
などを行うことができるものの、疲労のため長時間安定
した検査や測定を行うことができないといった課題があ
る。
【０００４】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、ウェーハ表面における欠陥や異
常を人手によって行っていたのと同程度の簡便さと高速
性をもって行うことができ、しかも、検査精度を長時間
安定して発揮することができるウェーハ欠陥検査装置を
提供することである。
たもので、その目的は、ウェーハ表面における欠陥や異
常を人手によって行っていたのと同程度の簡便さと高速
性をもって行うことができ、しかも、検査精度を長時間
安定して発揮することができるウェーハ欠陥検査装置を
提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明のウェーハ欠陥検査装置は、検査ステージ
に保持されたウェーハの検査対象面に対して可視光を斜
め上方から照射する光源と、この光源による検査対象面
への可視光の照射によって生じた光を収斂させる集光レ
ンズと、この集光レンズを経た光を分岐する複数のビー
ムスプリッタと、これらのビームスプリッタを経た光が
結像面において結ばれるように配置される複数の二次元
光検出器と、これらの二次元光検出器のそれぞれ前段に
特定の波長の光のみを通過させる光学フィルタと、前記
二次元光検出器の出力が入力されるデータ処理装置とを
備え、このデータ処理装置において、ウェーハに可視光
を照射したときにおける色の変化を観察し、この観察結
果に基づいてウェーハにおける欠陥の有無を検査するよ
うにしている（請求項１）。
め、この発明のウェーハ欠陥検査装置は、検査ステージ
に保持されたウェーハの検査対象面に対して可視光を斜
め上方から照射する光源と、この光源による検査対象面
への可視光の照射によって生じた光を収斂させる集光レ
ンズと、この集光レンズを経た光を分岐する複数のビー
ムスプリッタと、これらのビームスプリッタを経た光が
結像面において結ばれるように配置される複数の二次元
光検出器と、これらの二次元光検出器のそれぞれ前段に
特定の波長の光のみを通過させる光学フィルタと、前記
二次元光検出器の出力が入力されるデータ処理装置とを
備え、このデータ処理装置において、ウェーハに可視光
を照射したときにおける色の変化を観察し、この観察結
果に基づいてウェーハにおける欠陥の有無を検査するよ
うにしている（請求項１）。
【０００６】上記ウェーハ欠陥検査装置においては、従
来の人の目視による検査と同様の簡便さと高速性をもっ
て、ウェーハの表面における異物、傷または膜厚異常な
どの多種の欠陥の有無検査を行うことができる。そし
て、色の変化などの判別はコンピュータなどのデータ処
理装置が行うため、人手によって行う場合と異なり、検
査における基準のばらつきや不安定性がなく、再現性よ
く所望の検査を行うことができる。
来の人の目視による検査と同様の簡便さと高速性をもっ
て、ウェーハの表面における異物、傷または膜厚異常な
どの多種の欠陥の有無検査を行うことができる。そし
て、色の変化などの判別はコンピュータなどのデータ処
理装置が行うため、人手によって行う場合と異なり、検
査における基準のばらつきや不安定性がなく、再現性よ
く所望の検査を行うことができる。
【０００７】そして、上記ウェーハ欠陥検査装置におい
て、ウェーハに可視光を照射したときにおける色の変化
を観察し、この観察結果に基づいてウェーハにおける欠
陥の有無を検査するのに代えて、ウェーハに可視光を照
射したときに得られる画像信号を標準のウェーハ画像信
号と比較し、この比較結果に基づいてウェーハにおける
欠陥の有無を検査するようにしてもよい（請求項２）。
このようにした場合においても上記ウェーハ欠陥検査装
置と同様の効果が期待できる。
て、ウェーハに可視光を照射したときにおける色の変化
を観察し、この観察結果に基づいてウェーハにおける欠
陥の有無を検査するのに代えて、ウェーハに可視光を照
射したときに得られる画像信号を標準のウェーハ画像信
号と比較し、この比較結果に基づいてウェーハにおける
欠陥の有無を検査するようにしてもよい（請求項２）。
このようにした場合においても上記ウェーハ欠陥検査装
置と同様の効果が期待できる。
【０００８】また、上記いずれのウェーハ欠陥検査装置
においても、複数のビームスプリッタ、複数の二次元光
検出器および複数の光学フィルタに代えて、単一のカラ
ーカメラを設けるようにしてもよい（請求項３）。この
ように構成した場合、特に、装置の構成が大幅に簡略化
される。
においても、複数のビームスプリッタ、複数の二次元光
検出器および複数の光学フィルタに代えて、単一のカラ
ーカメラを設けるようにしてもよい（請求項３）。この
ように構成した場合、特に、装置の構成が大幅に簡略化
される。
【０００９】さらに、上記いずれのウェーハ欠陥検査装
置においても、検査ステージを光源からの可視光が集光
する位置に沿って直線的に移動し、かつ前記可視光の入
射する面と直交する軸を中心に揺動できるようにしても
よい（請求項４）。このようにした場合、ウェーハにお
ける欠陥検査をより精度よく行うことができる。
置においても、検査ステージを光源からの可視光が集光
する位置に沿って直線的に移動し、かつ前記可視光の入
射する面と直交する軸を中心に揺動できるようにしても
よい（請求項４）。このようにした場合、ウェーハにお
ける欠陥検査をより精度よく行うことができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】発明の実施の形態を、図面を参照
しながら説明する。図１は、この発明のウェーハ欠陥検
査装置における光学系の一例を示すもので、この図にお
いて、１は検査対象であるウェーハ２を水平な状態で載
置する検査ステージである。この検査ステージ１として
は、より再現性に優れた検査を行う場合には、ウェーハ
２を確実に保持するためのチャック盤を備えているのが
好ましい。
しながら説明する。図１は、この発明のウェーハ欠陥検
査装置における光学系の一例を示すもので、この図にお
いて、１は検査対象であるウェーハ２を水平な状態で載
置する検査ステージである。この検査ステージ１として
は、より再現性に優れた検査を行う場合には、ウェーハ
２を確実に保持するためのチャック盤を備えているのが
好ましい。
【００１１】３は検査ステージ１上に載置されたウェー
ハ２に対して可視光４をウェーハ２の斜め上方から所定
の角度で照射する照射する照射光学系で、可視光４を発
する光源５と、可視光４を適宜拡大してウェーハ２の上
面（検査対象面）２ａの全面に照射するためのコリメー
トレンズ６とからなる。これらの光源５およびコリメー
トレンズ６は、検査ステージ１の斜め上方に設けられ
る。また、前記可視光４としては、単一波長のみの光で
はない例えば連続または複数の輝線スペクトルを有する
ものがよく、したがって、光源５としては高輝度な光源
であるハロゲンランプや水銀ランプが好ましい。
ハ２に対して可視光４をウェーハ２の斜め上方から所定
の角度で照射する照射する照射光学系で、可視光４を発
する光源５と、可視光４を適宜拡大してウェーハ２の上
面（検査対象面）２ａの全面に照射するためのコリメー
トレンズ６とからなる。これらの光源５およびコリメー
トレンズ６は、検査ステージ１の斜め上方に設けられ
る。また、前記可視光４としては、単一波長のみの光で
はない例えば連続または複数の輝線スペクトルを有する
ものがよく、したがって、光源５としては高輝度な光源
であるハロゲンランプや水銀ランプが好ましい。
【００１２】７は検査ステージ１の上面側に設けられる
検出光学系で、次のように構成されている。まず、８は
検査ステージ１の真上に適宜の距離をおいて設けられる
集光レンズで、可視光４を検査ステージ１上のウェーハ
２の上面２ａに照射したときにウェーハ上面２ａにおい
て生ずる散乱光、回折光、反射光（以下、散乱光等とい
う）９を集光するものである。
検出光学系で、次のように構成されている。まず、８は
検査ステージ１の真上に適宜の距離をおいて設けられる
集光レンズで、可視光４を検査ステージ１上のウェーハ
２の上面２ａに照射したときにウェーハ上面２ａにおい
て生ずる散乱光、回折光、反射光（以下、散乱光等とい
う）９を集光するものである。
【００１３】１０は集光レンズ８の後方の光路１１に設
けられる第１ビームスプリッタで、この第１ビームスプ
リッタ１０によって二つの光路１２，１３が形成され
る。そして、１４は一方の光路１３に設けられる第２ビ
ームスプリッタで、この第２ビームスプリッタ１４によ
って二つの光路１５，１６が形成される。
けられる第１ビームスプリッタで、この第１ビームスプ
リッタ１０によって二つの光路１２，１３が形成され
る。そして、１４は一方の光路１３に設けられる第２ビ
ームスプリッタで、この第２ビームスプリッタ１４によ
って二つの光路１５，１６が形成される。
【００１４】そして、前記光路１２，１５，１６のそれ
ぞれには、集光レンズ８を経た散乱光等９が結像面にお
いて像を結ぶように二次元光検出器１７，１８，１９が
設けられている。そして、これらの二次元光検出器１７
〜１９のそれぞれ前面には、光学フィルタ２０，２１，
２２が設けられている。二次元光検出器１７〜１９は、
ＣＣＤカメラなどに二次元光ディテクタアレイよりな
る。また、光学フィルタ２０〜２２は、特定の波長範囲
の光のみを透過させる光学フィルタ（例えば干渉フィル
タ）であり、この実施の形態においては、それぞれ赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の光を透過させるようにし
てある。
ぞれには、集光レンズ８を経た散乱光等９が結像面にお
いて像を結ぶように二次元光検出器１７，１８，１９が
設けられている。そして、これらの二次元光検出器１７
〜１９のそれぞれ前面には、光学フィルタ２０，２１，
２２が設けられている。二次元光検出器１７〜１９は、
ＣＣＤカメラなどに二次元光ディテクタアレイよりな
る。また、光学フィルタ２０〜２２は、特定の波長範囲
の光のみを透過させる光学フィルタ（例えば干渉フィル
タ）であり、この実施の形態においては、それぞれ赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の光を透過させるようにし
てある。
【００１５】２３はデータ処理装置としてのコンピュー
タで、前記二次元光検出器１７〜１９から入力される画
像信号に基づいて演算したり、画像処理する機能を備え
ており、それらの処理結果をカラーディスプレイ２４に
表示したり、データ記憶装置（図示していない）のメモ
リ内に記憶する。そして、このデータ処理装置２３には
各種のデータが予め入力されている。
タで、前記二次元光検出器１７〜１９から入力される画
像信号に基づいて演算したり、画像処理する機能を備え
ており、それらの処理結果をカラーディスプレイ２４に
表示したり、データ記憶装置（図示していない）のメモ
リ内に記憶する。そして、このデータ処理装置２３には
各種のデータが予め入力されている。
【００１６】上記構成のウェーハ欠陥検査装置の動作に
ついて説明すると、検査ステージ１上にウェーハ２を所
定の状態で載置する。この場合、ウェーハ２は、ノッチ
アライナー（図示していない）によって検査ステージ１
上において所定の方向になるようにセットするのが好ま
しい。このようにセットされたウェーハ２に対して、光
源３からの可視光４を、上面２ａの全面に照射する。こ
の照射によって生じた散乱光等９が集光レンズ８によっ
て適宜収斂された後、ビームスプリッタ１０，１４を介
して二次元光検出器１７〜１９のそれぞれの結像面にお
いて結像する。二次元光検出器１７〜１９のそれぞれ前
面には、Ｒ，Ｇ，Ｂの光学フィルタ２０〜２２が設けら
れているので、二次元光検出器１７〜１９からは、それ
ぞれＲ，Ｇ，の画像信号が出力される。これらの画像信
号は、コンピュータ２３に入力される。
ついて説明すると、検査ステージ１上にウェーハ２を所
定の状態で載置する。この場合、ウェーハ２は、ノッチ
アライナー（図示していない）によって検査ステージ１
上において所定の方向になるようにセットするのが好ま
しい。このようにセットされたウェーハ２に対して、光
源３からの可視光４を、上面２ａの全面に照射する。こ
の照射によって生じた散乱光等９が集光レンズ８によっ
て適宜収斂された後、ビームスプリッタ１０，１４を介
して二次元光検出器１７〜１９のそれぞれの結像面にお
いて結像する。二次元光検出器１７〜１９のそれぞれ前
面には、Ｒ，Ｇ，Ｂの光学フィルタ２０〜２２が設けら
れているので、二次元光検出器１７〜１９からは、それ
ぞれＲ，Ｇ，の画像信号が出力される。これらの画像信
号は、コンピュータ２３に入力される。
【００１７】前記コンピュータ２３においては、画像信
号を処理し、この処理結果に基づいてウェーハ２におけ
る色の変化を観察し、色の変化が予め設定されている基
準値より大きいかなどを判別し、変化が大きいときは、
異物、傷または膜厚異常などの欠陥があると判定するの
である。また、画像信号を処理した結果をカラーディス
プレイ２４上に表示してもよい。
号を処理し、この処理結果に基づいてウェーハ２におけ
る色の変化を観察し、色の変化が予め設定されている基
準値より大きいかなどを判別し、変化が大きいときは、
異物、傷または膜厚異常などの欠陥があると判定するの
である。また、画像信号を処理した結果をカラーディス
プレイ２４上に表示してもよい。
【００１８】上述したように、この発明のウェーハ欠陥
検査装置においては、従来の人の目視による検査と同様
の簡便さと高速性をもって、ウェーハ２の表面における
異物、傷または膜厚異常などの多種の欠陥の有無検査を
行うことができる。そして、色の変化の判別はコンピュ
ータ２３が行うため、人手によって行う場合と異なり、
検査における基準のばらつきや不安定性がなく、したが
って、再現性よく所望の検査を行うことができる。
検査装置においては、従来の人の目視による検査と同様
の簡便さと高速性をもって、ウェーハ２の表面における
異物、傷または膜厚異常などの多種の欠陥の有無検査を
行うことができる。そして、色の変化の判別はコンピュ
ータ２３が行うため、人手によって行う場合と異なり、
検査における基準のばらつきや不安定性がなく、したが
って、再現性よく所望の検査を行うことができる。
【００１９】上述の実施の形態においては、検査ステー
ジ１を固定したものであったが、検査ステージ１を、光
源５からの可視光４が集光する位置に沿って直線的に移
動し、かつ前記可視光の入射する面と直交する軸を中心
に揺動できるようにしてもよい。
ジ１を固定したものであったが、検査ステージ１を、光
源５からの可視光４が集光する位置に沿って直線的に移
動し、かつ前記可視光の入射する面と直交する軸を中心
に揺動できるようにしてもよい。
【００２０】図２は、この発明の第２の実施の形態を示
すもので、この実施の形態における検査ステージ１に
は、その上面にウェーハ２を所定の状態で固定する固定
部材２５を備えたウェーハ載置部２６を備えているとと
もに、下面に後述するベース部材２８のガイド溝３２に
係合する突条部２７が形成されている。
すもので、この実施の形態における検査ステージ１に
は、その上面にウェーハ２を所定の状態で固定する固定
部材２５を備えたウェーハ載置部２６を備えているとと
もに、下面に後述するベース部材２８のガイド溝３２に
係合する突条部２７が形成されている。
【００２１】そして、図２において、２８は平坦な矩形
状のベース部２９の両端に立設部３０，３１が上方に形
成された逆凹字型のベース部材である。このベース部材
２８のベース部２９には、立設部３０，３１間に直線的
なガイド溝３２が形成されている。また、二つの立設部
３０，３１の間の長さは、ベース１の矢印Ｘ方向（可視
光４のウェーハ２への入射方向）の長さよりもやや長く
設定されており、両者３０，３１の間には、一方３０の
外部の設けられたステップモータ３３によって駆動され
るねじ軸３４がその途中において検査ステージ１と噛合
するようにして設けられている。したがって、ステップ
モータ３３を正転または逆転することにより、検査ステ
ージ１は、ガイド溝３２にガイドされ、矢印Ｘ方向にお
いて直線的に移動する。
状のベース部２９の両端に立設部３０，３１が上方に形
成された逆凹字型のベース部材である。このベース部材
２８のベース部２９には、立設部３０，３１間に直線的
なガイド溝３２が形成されている。また、二つの立設部
３０，３１の間の長さは、ベース１の矢印Ｘ方向（可視
光４のウェーハ２への入射方向）の長さよりもやや長く
設定されており、両者３０，３１の間には、一方３０の
外部の設けられたステップモータ３３によって駆動され
るねじ軸３４がその途中において検査ステージ１と噛合
するようにして設けられている。したがって、ステップ
モータ３３を正転または逆転することにより、検査ステ
ージ１は、ガイド溝３２にガイドされ、矢印Ｘ方向にお
いて直線的に移動する。
【００２２】また、前記ベース部材２８は、前記矢印Ｘ
方向における真ん中の両側部に、ー方向と直交するＹ方
向に軸部３５がそれぞれ形成してあり、これらの軸部３
５が図示していない保持部に枢支され、Ｙ方向の軸部３
５を中心にして揺動するように構成されている。したが
って、ベース部材２８が適宜の揺動駆動機構によりＹ方
向の軸部３５を中心にして揺動すると、検査ステージ１
も同方向に揺動する。
方向における真ん中の両側部に、ー方向と直交するＹ方
向に軸部３５がそれぞれ形成してあり、これらの軸部３
５が図示していない保持部に枢支され、Ｙ方向の軸部３
５を中心にして揺動するように構成されている。したが
って、ベース部材２８が適宜の揺動駆動機構によりＹ方
向の軸部３５を中心にして揺動すると、検査ステージ１
も同方向に揺動する。
【００２３】なお、この実施の形態においては、光源５
はライン状が好ましい。
はライン状が好ましい。
【００２４】上記図２に示した構成のウェーハ欠陥検査
装置においては、検査ステージ１のウェーハ載置部２６
上にウェーハ２を所定の状態で載置し、ウェーハ２を固
定部材２５で固定する。この場合、ウェーハ２は、ノッ
チアライナー（図示していない）によって所定の方向に
なるようにセットするのが好ましい。このようにセット
されたウェーハ２に対して、光源３からの可視光４を、
上面２ａの全面に照射すると、前記実施の形態と同様
に、二次元光検出器１７〜１９からは、それぞれＲ，
Ｇ，Ｂの画像信号が出力される。
装置においては、検査ステージ１のウェーハ載置部２６
上にウェーハ２を所定の状態で載置し、ウェーハ２を固
定部材２５で固定する。この場合、ウェーハ２は、ノッ
チアライナー（図示していない）によって所定の方向に
なるようにセットするのが好ましい。このようにセット
されたウェーハ２に対して、光源３からの可視光４を、
上面２ａの全面に照射すると、前記実施の形態と同様
に、二次元光検出器１７〜１９からは、それぞれＲ，
Ｇ，Ｂの画像信号が出力される。
【００２５】そして、前記照射時、検査ステージ１を矢
印Ｘ方向において、例えば立設部３０側から立設部３１
側に移動させ、この位置情報と前記二次元光検出器１７
〜１９からの画像信号とを組み合わせて、コンピュータ
２３に入力する。
印Ｘ方向において、例えば立設部３０側から立設部３１
側に移動させ、この位置情報と前記二次元光検出器１７
〜１９からの画像信号とを組み合わせて、コンピュータ
２３に入力する。
【００２６】また、前記照射時、ベース部材２８をＹ方
向の軸部３５を中心にして揺動させることにより、検査
ステージ１を同方向に揺動させ、Ｙ軸を中心にして所定
角度だけ傾いたウェーハ上面２ａを照射させるように
し、このときの傾き角度情報と前記二次元光検出器１７
〜１９からの画像信号とを組み合わせて、コンピュータ
２３に入力する。このようにすることにより、ウェーハ
２を種々に傾けた状態における情報が採取される。
向の軸部３５を中心にして揺動させることにより、検査
ステージ１を同方向に揺動させ、Ｙ軸を中心にして所定
角度だけ傾いたウェーハ上面２ａを照射させるように
し、このときの傾き角度情報と前記二次元光検出器１７
〜１９からの画像信号とを組み合わせて、コンピュータ
２３に入力する。このようにすることにより、ウェーハ
２を種々に傾けた状態における情報が採取される。
【００２７】そして、コンピュータ２３においては、前
記Ｘ方向の移動情報およびウェーハ２の傾き情報と二次
元光検出器１７〜１９からの画像信号とに基づいて、ウ
ェーハ２の表面における欠陥の有無を判定する。この場
合も、ウェーハ２における色の変化を観察し、色の変化
が予め設定されている基準値より大きいかなどを判別
し、変化が大きいときは、異物、傷または膜厚異常など
の欠陥があると判定するのである。
記Ｘ方向の移動情報およびウェーハ２の傾き情報と二次
元光検出器１７〜１９からの画像信号とに基づいて、ウ
ェーハ２の表面における欠陥の有無を判定する。この場
合も、ウェーハ２における色の変化を観察し、色の変化
が予め設定されている基準値より大きいかなどを判別
し、変化が大きいときは、異物、傷または膜厚異常など
の欠陥があると判定するのである。
【００２８】上述した実施の形態においては、ウェーハ
２に可視光４を照射したときにおける色の変化を観察
し、この観察結果に基づいてウェーハ２の表面２ａにお
ける欠陥の有無を検査するようにしていたが、これに代
えて、ウェーハ２に可視光を照射したときに得られる画
像信号を標準のウェーハ画像信号と比較し、この比較結
果に基づいてウェーハ２における欠陥の有無を検査する
ようにしてもよい。
２に可視光４を照射したときにおける色の変化を観察
し、この観察結果に基づいてウェーハ２の表面２ａにお
ける欠陥の有無を検査するようにしていたが、これに代
えて、ウェーハ２に可視光を照射したときに得られる画
像信号を標準のウェーハ画像信号と比較し、この比較結
果に基づいてウェーハ２における欠陥の有無を検査する
ようにしてもよい。
【００２９】すなわち、他の異物検査装置を用いて、表
面に異物や傷などがないことを確かめるとともに、エリ
プソメータ（ｅｌｌｉｐｓｏ ｍｅｔｅｒ）を用いて膜
厚を測定した正常なウェーハの画像信号を基準データと
して予めコンピュータ２３に入力しておき、この基準画
像信号と前記図１または図２に示したウェーハ欠陥検査
装置を用いて測定したときに得られるウェーハ２の画像
信号とを逐一比較し、両者に差があるとき、ウェーハ２
に欠陥があると判定するのである。
面に異物や傷などがないことを確かめるとともに、エリ
プソメータ（ｅｌｌｉｐｓｏ ｍｅｔｅｒ）を用いて膜
厚を測定した正常なウェーハの画像信号を基準データと
して予めコンピュータ２３に入力しておき、この基準画
像信号と前記図１または図２に示したウェーハ欠陥検査
装置を用いて測定したときに得られるウェーハ２の画像
信号とを逐一比較し、両者に差があるとき、ウェーハ２
に欠陥があると判定するのである。
【００３０】図１または図２に示した実施の形態におい
ては、検出光学系７を、複数のビームスプリッタ１０，
１４、複数の二次元光検出器１７〜１９および複数の光
学フィルタ２０〜２２によって構成していたが、これに
代えて、図３に示すように、単一のカラーカメラ３６を
設けるようにしてもよい。このようにした場合、装置の
構成が大幅に簡略化される。この実施の形態において、
ウェーハ２に可視光４を照射したときにおける色の変化
を観察し、この観察結果に基づいてウェーハ２の表面２
ａにおける欠陥の有無を検査するようにしてもよく、ま
た、前記可視光を照射したときに得られる画像信号を標
準のウェーハ画像信号と比較し、この比較結果に基づい
てウェーハ２における欠陥の有無を検査するようにして
もよいことはいうまでもない。さらに、図２に示した実
施の形態と同様に、検査ステージ１を直線的に移動させ
たり、揺動させるようにしてもよい。
ては、検出光学系７を、複数のビームスプリッタ１０，
１４、複数の二次元光検出器１７〜１９および複数の光
学フィルタ２０〜２２によって構成していたが、これに
代えて、図３に示すように、単一のカラーカメラ３６を
設けるようにしてもよい。このようにした場合、装置の
構成が大幅に簡略化される。この実施の形態において、
ウェーハ２に可視光４を照射したときにおける色の変化
を観察し、この観察結果に基づいてウェーハ２の表面２
ａにおける欠陥の有無を検査するようにしてもよく、ま
た、前記可視光を照射したときに得られる画像信号を標
準のウェーハ画像信号と比較し、この比較結果に基づい
てウェーハ２における欠陥の有無を検査するようにして
もよいことはいうまでもない。さらに、図２に示した実
施の形態と同様に、検査ステージ１を直線的に移動させ
たり、揺動させるようにしてもよい。
【００３１】
【発明の効果】この発明のウェーハ欠陥検査装置におい
ては、従来の人の目視による検査と同様の簡便さと高速
性をもって、ウェーハの表面における異物、傷または膜
厚異常などの多種の欠陥の有無検査を行うことができ
る。そして、判定はコンピュータなどのデータ処理装置
が行うので、人手によって行う場合と異なり、検査にお
ける基準のばらつきや不安定性がなく、したがって、再
現性よく所望の検査を行うことができる。
ては、従来の人の目視による検査と同様の簡便さと高速
性をもって、ウェーハの表面における異物、傷または膜
厚異常などの多種の欠陥の有無検査を行うことができ
る。そして、判定はコンピュータなどのデータ処理装置
が行うので、人手によって行う場合と異なり、検査にお
ける基準のばらつきや不安定性がなく、したがって、再
現性よく所望の検査を行うことができる。
【図１】この発明のウェーハ欠陥検査装置の光学系の一
例を示す図である。
例を示す図である。
【図２】前記ウェーハ欠陥検査装置の他の光学系の構成
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図３】前記ウェーハ欠陥検査装置のさらに他の光学系
の構成を示す斜視図である。
の構成を示す斜視図である。
１…検査ステージ、２…ウェーハ、２ａ…検査対象面、
４…可視光、５…光源、８…集光レンズ、９…照射によ
って生じた光、１０，１４…ビームスプリッタ、１７，
１８，１９…二次元光検出器、２０，２１，２２…光学
フィルタ、２３…データ処理装置、３５…入射方向と直
交する軸、３６…カラーカメラ、Ｘ…可視光の入射方
向。
４…可視光、５…光源、８…集光レンズ、９…照射によ
って生じた光、１０，１４…ビームスプリッタ、１７，
１８，１９…二次元光検出器、２０，２１，２２…光学
フィルタ、２３…データ処理装置、３５…入射方向と直
交する軸、３６…カラーカメラ、Ｘ…可視光の入射方
向。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G051 AA51 AB01 AB02 AB20 AC21 BA08 CA03 CA04 CA07 CB01 CB05 CC07 DA07 EA16 EA17 EB01 GC04 GD02 GD05 GD09
Claims (4)
- 【請求項１】 検査ステージに保持されたウェーハの検
査対象面に対して可視光を斜め上方から照射する光源
と、この光源による検査対象面への可視光の照射によっ
て生じた光を収斂させる集光レンズと、この集光レンズ
を経た光を分岐する複数のビームスプリッタと、これら
のビームスプリッタを経た光が結像面において結ばれる
ように配置される複数の二次元光検出器と、これらの二
次元光検出器のそれぞれ前段に特定の波長の光のみを通
過させる光学フィルタと、前記二次元光検出器の出力が
入力されるデータ処理装置とを備え、このデータ処理装
置において、ウェーハに可視光を照射したときにおける
色の変化を観察し、この観察結果に基づいてウェーハに
おける欠陥の有無を検査するようにしたことを特徴とす
ることを特徴とするウェーハ欠陥検査装置。 - 【請求項２】 検査ステージに保持されたウェーハの検
査対象面に対して可視光を斜め上方から照射する光源
と、この光源による検査対象面への可視光の照射によっ
て生じた光を収斂させる集光レンズと、この集光レンズ
を経た光を分岐する複数のビームスプリッタと、これら
のビームスプリッタを経た光が結像面において結ばれる
ように配置される複数の二次元光検出器と、これらの二
次元光検出器のそれぞれ前段に特定の波長の光のみを通
過させる光学フィルタと、前記二次元光検出器の出力が
入力されるデータ処理装置とを備え、このデータ処理装
置において、ウェーハに可視光を照射したときに得られ
る画像信号を標準のウェーハ画像信号と比較し、この比
較結果に基づいてウェーハにおける欠陥の有無を検査す
るようにしたことを特徴とすることを特徴とするウェー
ハ欠陥検査装置。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載のウェーハ欠陥
検査装置において、複数のビームスプリッタ、複数の二
次元光検出器および複数の光学フィルタに代えて、単一
のカラーカメラを設けたことを特徴とするウェーハ欠陥
検査装置。 - 【請求項４】 検査ステージを光源からの可視光が集光
する位置に沿って直線的に移動し、かつ前記可視光の入
射する面と直交する軸を中心に揺動できるように構成し
てある請求項１〜３のいずれかに記載のウェーハ欠陥検
査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10284296A JP2000111484A (ja) | 1998-10-06 | 1998-10-06 | ウェーハ欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10284296A JP2000111484A (ja) | 1998-10-06 | 1998-10-06 | ウェーハ欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000111484A true JP2000111484A (ja) | 2000-04-21 |
Family
ID=17676701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10284296A Pending JP2000111484A (ja) | 1998-10-06 | 1998-10-06 | ウェーハ欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000111484A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005265818A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-09-29 | Mitsutech Kk | 光沢面検査装置 |
| JP2006112938A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Nikon Corp | 欠陥検査装置 |
| TWI500924B (zh) * | 2011-11-16 | 2015-09-21 | Dcg Systems Inc | 極化分集成像與對準裝置與方法 |
| CN111307819A (zh) * | 2020-03-16 | 2020-06-19 | 上海华力微电子有限公司 | 晶圆边缘缺陷检测系统及方法 |
| CN112129244A (zh) * | 2020-09-21 | 2020-12-25 | 北京石晶光电科技股份有限公司 | 一种晶片倒角检测方法 |
-
1998
- 1998-10-06 JP JP10284296A patent/JP2000111484A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005265818A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-09-29 | Mitsutech Kk | 光沢面検査装置 |
| JP4698963B2 (ja) * | 2004-03-22 | 2011-06-08 | ミツテック株式会社 | 光沢面検査装置 |
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| JP4548086B2 (ja) * | 2004-10-15 | 2010-09-22 | 株式会社ニコン | 欠陥検査装置 |
| TWI500924B (zh) * | 2011-11-16 | 2015-09-21 | Dcg Systems Inc | 極化分集成像與對準裝置與方法 |
| US9361533B2 (en) | 2011-11-16 | 2016-06-07 | Dcg Systems, Inc. | Apparatus and method for polarization diversity imaging and alignment |
| CN111307819A (zh) * | 2020-03-16 | 2020-06-19 | 上海华力微电子有限公司 | 晶圆边缘缺陷检测系统及方法 |
| CN111307819B (zh) * | 2020-03-16 | 2024-03-08 | 上海华力微电子有限公司 | 晶圆边缘缺陷检测系统及方法 |
| CN112129244A (zh) * | 2020-09-21 | 2020-12-25 | 北京石晶光电科技股份有限公司 | 一种晶片倒角检测方法 |
| CN112129244B (zh) * | 2020-09-21 | 2022-05-06 | 北京石晶光电科技股份有限公司 | 一种晶片倒角检测方法 |
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