JP2000097609A - 波面干渉計 - Google Patents
波面干渉計Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】複数の折り返しミラーから成る光学系のアライ
メントの負荷を軽減することを目的とする。 【課題を解決する為の手段】本発明では、上記目的を達
成するために、第１の手段として、所定の構造を持つ、
結像光学系の透過波面収差を計測する干渉計において、
複数の反射鏡の１個をレフ原器として、別の被検物と置
換し、前記レフ原器、及び前記別の被検物の両方のアラ
イメントずれを演算することにより、レフ減算を行うこ
とを可能とする波面干渉計を用いる。また第２の手段と
して、所定の構造を持つ、結像光学系の透過波面収差を
計測する干渉計において、前記複数の反射鏡、及び前記
反射球面の両方のアライメントずれを一括演算すること
により、前記透過波面収差を演算する波面干渉計を用い
る。
メントの負荷を軽減することを目的とする。 【課題を解決する為の手段】本発明では、上記目的を達
成するために、第１の手段として、所定の構造を持つ、
結像光学系の透過波面収差を計測する干渉計において、
複数の反射鏡の１個をレフ原器として、別の被検物と置
換し、前記レフ原器、及び前記別の被検物の両方のアラ
イメントずれを演算することにより、レフ減算を行うこ
とを可能とする波面干渉計を用いる。また第２の手段と
して、所定の構造を持つ、結像光学系の透過波面収差を
計測する干渉計において、前記複数の反射鏡、及び前記
反射球面の両方のアライメントずれを一括演算すること
により、前記透過波面収差を演算する波面干渉計を用い
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は被検面の面精度を高
精度に干渉計測するための波面干渉計に関する。
精度に干渉計測するための波面干渉計に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、反射鏡の干渉計測としては、所謂
２次非球面の折り返し干渉計測が知られている。２次非
球面とは、コーニック係数をκ、面の中心曲率半径を
Ｒ、ｎ次の非球面係数をＣｎ、光軸方向をＺ軸、光軸と
直交する方向をＸ軸としたとき、 Ｚ＝Ｘ**2／Ｒ／｛１＋（１−κＸ**2／Ｒ**2）**0.5｝＋ΣＣnＸ**n （１） （式中および以下すべて、ａ**b の表記はａのｂ乗を表
わすものとする。）で表わされる一般非球面の断面形状
の内、Ｃｎ＝０の曲線をＺ軸を中心に回転させた回転対
称な非球面のことで、κ＝０の放物面、κ＜０の双曲
面、０＜κ＜１の楕円面などである。
２次非球面の折り返し干渉計測が知られている。２次非
球面とは、コーニック係数をκ、面の中心曲率半径を
Ｒ、ｎ次の非球面係数をＣｎ、光軸方向をＺ軸、光軸と
直交する方向をＸ軸としたとき、 Ｚ＝Ｘ**2／Ｒ／｛１＋（１−κＸ**2／Ｒ**2）**0.5｝＋ΣＣnＸ**n （１） （式中および以下すべて、ａ**b の表記はａのｂ乗を表
わすものとする。）で表わされる一般非球面の断面形状
の内、Ｃｎ＝０の曲線をＺ軸を中心に回転させた回転対
称な非球面のことで、κ＝０の放物面、κ＜０の双曲
面、０＜κ＜１の楕円面などである。
【０００３】図３は、双曲面の測定配置であり、フィゾ
ーレンズ２０で集光された点Ａと、中央部に開口を設け
た折り返し球面３０の頂点を略一致させ、前記折り返し
球面の球心Ｂと共役になる位置に被検物である双曲面鏡
１０を配置している。この２次非球面の折り返し測定に
用いるアライメント誤差補正の演算方法は、特願平７−
３２５７９に開示されている。アライメント誤差補正と
は、図のように縞一色の干渉縞が出る位置から被検面が
変位（アライメントずれ）した場合に発生する見掛け上
の収差（アライメント誤差収差）を補正演算によって除
去し、被検面に固有の面精度（形状成分を除いた、うね
り誤差）を求める演算である。
ーレンズ２０で集光された点Ａと、中央部に開口を設け
た折り返し球面３０の頂点を略一致させ、前記折り返し
球面の球心Ｂと共役になる位置に被検物である双曲面鏡
１０を配置している。この２次非球面の折り返し測定に
用いるアライメント誤差補正の演算方法は、特願平７−
３２５７９に開示されている。アライメント誤差補正と
は、図のように縞一色の干渉縞が出る位置から被検面が
変位（アライメントずれ）した場合に発生する見掛け上
の収差（アライメント誤差収差）を補正演算によって除
去し、被検面に固有の面精度（形状成分を除いた、うね
り誤差）を求める演算である。
【０００４】この２次非球面の折り返し測定において
は、形状成分の誤差は、前記したκ、Ｒの変化として表
わされる。図に示した双曲面波面は、波面の収束点Ａ、
波面の収束点Ｂと波面の頂点位置の間隔から計算され
る、無数の双曲面波面を表わしており、双曲面鏡１０と
点Ｂとの間隔をｄ１、点Ａとの間隔をｄ２としたとき、
次式 ｄ１，ｄ２≡Ｒ｛（１−κ）**0.5±１｝／κ （２） を、κとＲに関して逆算すれば、これらをｄ１とｄ２の
関数で表わすことができる。
は、形状成分の誤差は、前記したκ、Ｒの変化として表
わされる。図に示した双曲面波面は、波面の収束点Ａ、
波面の収束点Ｂと波面の頂点位置の間隔から計算され
る、無数の双曲面波面を表わしており、双曲面鏡１０と
点Ｂとの間隔をｄ１、点Ａとの間隔をｄ２としたとき、
次式 ｄ１，ｄ２≡Ｒ｛（１−κ）**0.5±１｝／κ （２） を、κとＲに関して逆算すれば、これらをｄ１とｄ２の
関数で表わすことができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１の
ように、複数の反射鏡で構成された折り返し結像系の場
合、２次非球面ではＣｎ＝０であった、（１）式の係数
がＣｎ≠０となり、しかも、複数の折り返しミラーのア
ライメントずれに起因するアライメント誤差収差が、干
渉計により、同時に干渉縞として観測されてしまうた
め、前記アライメント誤差補正の適用が困難であった。
そのため、結像光学系の調整に時間を要すると言う問題
点があった。
ように、複数の反射鏡で構成された折り返し結像系の場
合、２次非球面ではＣｎ＝０であった、（１）式の係数
がＣｎ≠０となり、しかも、複数の折り返しミラーのア
ライメントずれに起因するアライメント誤差収差が、干
渉計により、同時に干渉縞として観測されてしまうた
め、前記アライメント誤差補正の適用が困難であった。
そのため、結像光学系の調整に時間を要すると言う問題
点があった。
【０００６】本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされ
たもので、複数の折り返しミラーから成る光学系のアラ
イメントの負荷を軽減することを目的とする。
たもので、複数の折り返しミラーから成る光学系のアラ
イメントの負荷を軽減することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決する為の手段】本発明では、上記目的を達
成するために、第１の手段として、被検物である複数の
反射鏡から成る結像光学系を用い、光源から出射された
測定用波面を前記結像光学系により所定の形状に変換し
て反射球面に照射するとともに、前記反射球面で反射さ
れた前記測定用波面と、前記光源から出射された光束で
あって所定の波面を有する参照用波面とを互いに干渉さ
せ、干渉により生じる干渉縞の状態を検知することによ
り、前記結像光学系の透過波面収差を計測する干渉計に
おいて、前記複数の反射鏡の１個をレフ原器として、別
の被検物と置換し、前記レフ原器、及び前記別の被検物
の両方のアライメントずれを演算することにより、レフ
減算を行うことを可能とする波面干渉計を用いることと
した。これにより、一旦精度の達成された被検物をレフ
原器として基準鏡筒に組み込むことにより、加工途中、
及び加工完了後の被検物を簡便に測定することが可能と
なる。
成するために、第１の手段として、被検物である複数の
反射鏡から成る結像光学系を用い、光源から出射された
測定用波面を前記結像光学系により所定の形状に変換し
て反射球面に照射するとともに、前記反射球面で反射さ
れた前記測定用波面と、前記光源から出射された光束で
あって所定の波面を有する参照用波面とを互いに干渉さ
せ、干渉により生じる干渉縞の状態を検知することによ
り、前記結像光学系の透過波面収差を計測する干渉計に
おいて、前記複数の反射鏡の１個をレフ原器として、別
の被検物と置換し、前記レフ原器、及び前記別の被検物
の両方のアライメントずれを演算することにより、レフ
減算を行うことを可能とする波面干渉計を用いることと
した。これにより、一旦精度の達成された被検物をレフ
原器として基準鏡筒に組み込むことにより、加工途中、
及び加工完了後の被検物を簡便に測定することが可能と
なる。
【０００８】また第２の手段として、被検物である複数
の反射鏡から成る結像光学系を用い、光源から出射され
た測定用波面を前記結像光学系により所定の形状に変換
して反射球面に照射するとともに、前記反射球面で反射
された前記測定用波面と、前記光源から出射された光束
であって所定の波面を有する参照用波面とを互いに干渉
させ、干渉により生じる干渉縞の状態を検知することに
より、前記結像光学系の透過波面収差を計測する干渉計
において、前記複数の反射鏡、及び前記反射球面の両方
のアライメントずれを一括演算することにより、前記透
過波面収差を演算する波面干渉計を用いることとした。
これにより、基準鏡筒としての結像光学系の透過波面収
差を、簡便に測定することが可能となる。
の反射鏡から成る結像光学系を用い、光源から出射され
た測定用波面を前記結像光学系により所定の形状に変換
して反射球面に照射するとともに、前記反射球面で反射
された前記測定用波面と、前記光源から出射された光束
であって所定の波面を有する参照用波面とを互いに干渉
させ、干渉により生じる干渉縞の状態を検知することに
より、前記結像光学系の透過波面収差を計測する干渉計
において、前記複数の反射鏡、及び前記反射球面の両方
のアライメントずれを一括演算することにより、前記透
過波面収差を演算する波面干渉計を用いることとした。
これにより、基準鏡筒としての結像光学系の透過波面収
差を、簡便に測定することが可能となる。
【０００９】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が実施の形態に限定されるものではない。
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が実施の形態に限定されるものではない。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図１を用いて本発明の波面
干渉計について説明する。図１は（１）式で表わされる
高次非球面の反射鏡１ａ、１ｂ、１ｃを３枚用いて構成
された結像光学系１の、干渉計測の配置図であり、フィ
ゾー干渉計のフィゾ−レンズ２の集光点２ａを結像光学
系１で再結像し、折り返し球面３の球心３ａと一致させ
ることにより、縞一色の干渉計測を実現させたものであ
る。
干渉計について説明する。図１は（１）式で表わされる
高次非球面の反射鏡１ａ、１ｂ、１ｃを３枚用いて構成
された結像光学系１の、干渉計測の配置図であり、フィ
ゾー干渉計のフィゾ−レンズ２の集光点２ａを結像光学
系１で再結像し、折り返し球面３の球心３ａと一致させ
ることにより、縞一色の干渉計測を実現させたものであ
る。
【００１１】反射鏡１ａはホールド機構４により、取り
外し再現性と位置安定性が極めて高精度に達成されるよ
うにホールドされている。また、不図示の調整機構によ
り、３枚の反射鏡の関係が調整され、最良の結像性能が
実現できるようになっている。そして、図１中の両矢印
で示されるように、任意の反射鏡を、加工途中の、若し
くは、加工完了した被検物５（被検面は５ａ）と置き換
えることにより、前記被検物の検査が可能となってい
る。
外し再現性と位置安定性が極めて高精度に達成されるよ
うにホールドされている。また、不図示の調整機構によ
り、３枚の反射鏡の関係が調整され、最良の結像性能が
実現できるようになっている。そして、図１中の両矢印
で示されるように、任意の反射鏡を、加工途中の、若し
くは、加工完了した被検物５（被検面は５ａ）と置き換
えることにより、前記被検物の検査が可能となってい
る。
【００１２】この検査の手順としては、任意の反射鏡を
レフ原器（図では１ａ）とみなし、先ず、基準鏡筒の干
渉計測を行い、次に被検物（図では５）と置き換えて干
渉計測を行い、両者の干渉計測データを減算したデータ
にアライメント誤差補正を乗じることにより、そのレフ
原器を基準として、被検物の偏差形状を得ることが可能
となる。
レフ原器（図では１ａ）とみなし、先ず、基準鏡筒の干
渉計測を行い、次に被検物（図では５）と置き換えて干
渉計測を行い、両者の干渉計測データを減算したデータ
にアライメント誤差補正を乗じることにより、そのレフ
原器を基準として、被検物の偏差形状を得ることが可能
となる。
【００１３】アライメント誤差補正とは、本来、設計値
どおりに製造された被検面を、同じく設計値どおりに形
成されたヌル波面を用いて、ヌル干渉計測した場合に、
被検面がヌル波面に対して最適な位置からのずれ（アラ
イメントずれ）が発生した状態で設定されてしまうこと
に起因して、アライメント誤差収差（アライメントずれ
に起因して観測される見掛け上の収差）が発生するた
め、このアライメント誤差収差を測定データから除去す
ることにより、被検面本来の形状誤差を演算する手法で
あり、前記レフ減算では、レフ原器からの偏差形状が得
られる。
どおりに製造された被検面を、同じく設計値どおりに形
成されたヌル波面を用いて、ヌル干渉計測した場合に、
被検面がヌル波面に対して最適な位置からのずれ（アラ
イメントずれ）が発生した状態で設定されてしまうこと
に起因して、アライメント誤差収差（アライメントずれ
に起因して観測される見掛け上の収差）が発生するた
め、このアライメント誤差収差を測定データから除去す
ることにより、被検面本来の形状誤差を演算する手法で
あり、前記レフ減算では、レフ原器からの偏差形状が得
られる。
【００１４】アライメント誤差補正を掛けるための干渉
計データの変換を図２で説明する。図２は、図１で置き
換え例として示した被検面５ａにおいて入反射する光束
を表わしたものである。干渉計で折り返し測定された干
渉縞データは、縞一本が１／２波長では無く、１／４波
長になっているため、その補正が必要である。また、図
２中のβとして示される入射光と被検面の入射点におけ
るの法線の成す角度の斜め入反射であるため、１／ｃｏ
ｓβを乗じる補正が必要である。さらに、被検面の入射
点における法線方向と、非球面軸たるＺ軸方向との成す
角度αに起因する縦座標の誤差をも補正する必要があ
る。また、横座標に関しても、干渉縞データはＣＣＤと
被検面上のサンプリング間隔が歪んでいるため、この補
正も、例えば補間によって行う必要がある。以上の補正
を行うことにより、アライメント誤差収差が被検面投影
座標（ＸＹ平面：被検面頂点を通り、Ｚ軸に垂直な平
面）上で等ピッチのＺ方向誤差データに変換されたこと
になる。
計データの変換を図２で説明する。図２は、図１で置き
換え例として示した被検面５ａにおいて入反射する光束
を表わしたものである。干渉計で折り返し測定された干
渉縞データは、縞一本が１／２波長では無く、１／４波
長になっているため、その補正が必要である。また、図
２中のβとして示される入射光と被検面の入射点におけ
るの法線の成す角度の斜め入反射であるため、１／ｃｏ
ｓβを乗じる補正が必要である。さらに、被検面の入射
点における法線方向と、非球面軸たるＺ軸方向との成す
角度αに起因する縦座標の誤差をも補正する必要があ
る。また、横座標に関しても、干渉縞データはＣＣＤと
被検面上のサンプリング間隔が歪んでいるため、この補
正も、例えば補間によって行う必要がある。以上の補正
を行うことにより、アライメント誤差収差が被検面投影
座標（ＸＹ平面：被検面頂点を通り、Ｚ軸に垂直な平
面）上で等ピッチのＺ方向誤差データに変換されたこと
になる。
【００１５】アライメント誤差収差関数を事前に作成す
る手順は以下の通りである。ティルトまたはシフトに起
因する誤差収差は、被検面を表わす（１）式を単位量だ
けティルトまたはシフトさせることにより得られる。こ
の演算方法は、特願平９−００７０３において提案され
ている。また、光軸方向のアライメントずれに起因する
誤差収差は、従来例の折り返しの考え方に加え、オフア
クシスの結像関係を考慮に入れて、（２）式のヌル波面
の頂点を微小量ずらすことにより、ΔκとΔＲの変化と
して関数化できる。
る手順は以下の通りである。ティルトまたはシフトに起
因する誤差収差は、被検面を表わす（１）式を単位量だ
けティルトまたはシフトさせることにより得られる。こ
の演算方法は、特願平９−００７０３において提案され
ている。また、光軸方向のアライメントずれに起因する
誤差収差は、従来例の折り返しの考え方に加え、オフア
クシスの結像関係を考慮に入れて、（２）式のヌル波面
の頂点を微小量ずらすことにより、ΔκとΔＲの変化と
して関数化できる。
【００１６】以上の準備により、変換された干渉計デー
タを前記アライメント誤差収差関数で最適フィッティン
グすることにより、レフ減算が可能となる。前記発明の
実施の形態においては、被検物とレフ原器の交換による
レフ減算を行う場合に、主に前記交換に起因するアライ
メントずれを補正する例について述べた。しかし、一旦
このアライメントずれを調整機構により調整した後は、
３枚の反射鏡のアライメントずれに起因するアライメン
ト誤差収差は、全体の誤差収差に略等分に寄与すること
になる。この場合のアライメント誤差補正を図２を用い
て説明する。
タを前記アライメント誤差収差関数で最適フィッティン
グすることにより、レフ減算が可能となる。前記発明の
実施の形態においては、被検物とレフ原器の交換による
レフ減算を行う場合に、主に前記交換に起因するアライ
メントずれを補正する例について述べた。しかし、一旦
このアライメントずれを調整機構により調整した後は、
３枚の反射鏡のアライメントずれに起因するアライメン
ト誤差収差は、全体の誤差収差に略等分に寄与すること
になる。この場合のアライメント誤差補正を図２を用い
て説明する。
【００１７】図１では３枚の異なる非球面が存在するた
め、これら３種類の非球面に対して、アライメント誤差
収差データを作成する必要がある。この時、前述の変換
では各面毎に異なるため、その共通化を図る必要があ
る。このために共通光路の、例えば、図２のフィゾー面
の平面波入射平面ｐ上の、ＣＣＤサンプリング位置に１
対１に対応する位置での誤差収差データに変換する。即
ち、前述した実測データに加えた変換の逆変換を、前述
の方法で求めたアライメント誤差収差データに施せば良
い。具体的には、このアライメント誤差収差データに横
座標の逆補間を加え、αの縦座標の逆変換を行い、βの
斜め入反射の逆変換を行い、折り返しの係数を掛ければ
良い。
め、これら３種類の非球面に対して、アライメント誤差
収差データを作成する必要がある。この時、前述の変換
では各面毎に異なるため、その共通化を図る必要があ
る。このために共通光路の、例えば、図２のフィゾー面
の平面波入射平面ｐ上の、ＣＣＤサンプリング位置に１
対１に対応する位置での誤差収差データに変換する。即
ち、前述した実測データに加えた変換の逆変換を、前述
の方法で求めたアライメント誤差収差データに施せば良
い。具体的には、このアライメント誤差収差データに横
座標の逆補間を加え、αの縦座標の逆変換を行い、βの
斜め入反射の逆変換を行い、折り返しの係数を掛ければ
良い。
【００１８】この手順により、ティルト・シフト・デフ
ォーカスの３通りのアライメントずれに関して、非球面
と球面を合わせて４種類のデータが得られる。球面のデ
ータの作成は、非球面の場合と同じである。そして、略
縞一色の干渉計測データそのものに、各々の誤差収差デ
ータの自乗和が最小となるアライメントずれを一括求め
ることにより、基準鏡筒としての透過波面収差が求まる
ことになる。
ォーカスの３通りのアライメントずれに関して、非球面
と球面を合わせて４種類のデータが得られる。球面のデ
ータの作成は、非球面の場合と同じである。そして、略
縞一色の干渉計測データそのものに、各々の誤差収差デ
ータの自乗和が最小となるアライメントずれを一括求め
ることにより、基準鏡筒としての透過波面収差が求まる
ことになる。
【００１９】
【発明の効果】以上のように、本発明に係る波面干渉計
を採用すれば、複数の折り返しミラーから成る光学系の
アライメントの負荷を軽減することが可能となる。
を採用すれば、複数の折り返しミラーから成る光学系の
アライメントの負荷を軽減することが可能となる。
【図１】本発明に係る波面干渉計の原理説明図である。
【図２】本発明に係る波面干渉計のアライメント誤差補
正の説明図である。
正の説明図である。
【図３】従来例（２次非球面の測定）の説明図である。
１ａ，１ｂ，１ｃ 反射鏡 ２，２０ フィゾ−レンズ ３，３０ 折り返し球面 ４ ホールド機構 ５ 被検物 １０ 双曲面鏡
Claims (2)
- 【請求項１】被検物である複数の反射鏡から成る結像光
学系を用い、光源から出射された測定用波面を前記結像
光学系により所定の形状に変換して反射球面に照射する
とともに、前記反射球面で反射された前記測定用波面
と、前記光源から出射された光束であって所定の波面を
有する参照用波面とを互いに干渉させ、干渉により生じ
る干渉縞の状態を検知することにより、前記結像光学系
の透過波面収差を計測する干渉計において、 前記複数の反射鏡の１個をレフ原器として、別の被検物
と置換し、前記レフ原器、及び前記別の被検物の両方の
アライメントずれを演算することにより、レフ減算を行
うことを可能とすることを特徴とする波面干渉計。 - 【請求項２】被検物である複数の反射鏡から成る結像光
学系を用い、光源から出射された測定用波面を前記結像
光学系により所定の形状に変換して反射球面に照射する
とともに、前記反射球面で反射された前記測定用波面
と、前記光源から出射された光束であって所定の波面を
有する参照用波面とを互いに干渉させ、干渉により生じ
る干渉縞の状態を検知することにより、前記結像光学系
の透過波面収差を計測する干渉計において、前記複数の
反射鏡、及び前記反射球面の両方のアライメントずれを
一括演算することにより、前記透過波面収差を演算する
ことを特徴とする波面干渉計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10266115A JP2000097609A (ja) | 1998-09-21 | 1998-09-21 | 波面干渉計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10266115A JP2000097609A (ja) | 1998-09-21 | 1998-09-21 | 波面干渉計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000097609A true JP2000097609A (ja) | 2000-04-07 |
Family
ID=17426541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10266115A Pending JP2000097609A (ja) | 1998-09-21 | 1998-09-21 | 波面干渉計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000097609A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100620807B1 (ko) | 2004-12-14 | 2006-09-12 | 한국원자력연구소 | 분해능을 향상시킨 파면왜곡 측정 방법 |
| US20110161033A1 (en) * | 2009-12-29 | 2011-06-30 | Prueftechnik Dieter Busch Ag | Correction of imaging errors in alignment system with several measurement planes located in succession in the beam path |
-
1998
- 1998-09-21 JP JP10266115A patent/JP2000097609A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100620807B1 (ko) | 2004-12-14 | 2006-09-12 | 한국원자력연구소 | 분해능을 향상시킨 파면왜곡 측정 방법 |
| US20110161033A1 (en) * | 2009-12-29 | 2011-06-30 | Prueftechnik Dieter Busch Ag | Correction of imaging errors in alignment system with several measurement planes located in succession in the beam path |
| US8571826B2 (en) * | 2009-12-29 | 2013-10-29 | Prüftechnik Dieter Busch AG | Correction of imaging errors in alignment system with several measurement planes located in succession in the beam path |
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