JP2000090487A

JP2000090487A - 記録媒体およびその作製方法

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Publication number: JP2000090487A
Application number: JP10258959A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Yokoo; 篤横尾; Toshiaki Tamamura; 敏昭玉村; Masashi Nakao; 正史中尾; Hiroshi Yoshikawa; 博吉川; Hideki Masuda; 秀樹益田
Original assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Current assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date: 1998-09-11
Filing date: 1998-09-11
Publication date: 2000-03-31
Anticipated expiration: 2018-09-11
Also published as: JP3499755B2

Abstract

(57)【要約】【課題】凸状または凹状の記録単位の径、これら記録
単位の隣接間隔を微小化し、記録密度を向上させた記録
媒体と、そのような記録媒体の作製を可能とする作製方
法を提供する。【解決手段】基板を、金属もしくは高分子からなり、
光吸収色素もしくは磁気記録材料もしくは光記録材料を
その一部もしくは全部に含有する基板から構成し、前記
記録パターンに対応する凹凸パターンが形成されたモー
ルドを、前記基板に当接してプレスすることにより、前
記基板上に記録パターンを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高い記録密度を有
する記録媒体およびその作製方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】高密度な記録媒体の作製方法としては、
以下の様なものがある。図１２に従来の記録媒体の作製
法の一例を示す。まず、図１２（ａ）、（ｂ）に示すよ
うに、ガラス円盤１２１にフォトレジスト１２２を塗布
して乾燥する。次に、図１２（ｃ）に示すように、フォ
トレジスト１２２に、レーザー光照射と現像により記録
ピットを作製し、記録ピットパターンＲＰを表面に有す
る原盤１２３が得られる。記録ピットとしては、ピット
長１〜２μｍ、トラック間のピッチ１〜１．６μｍのも
のが形成される。続いて、図１２（ｄ）、（ｅ）に示す
ように、原盤１２３上にＮｉ１２４をメッキし、このＮ
ｉ層を剥がすことにより、記録ピットパターンを形成す
るための多数の凹凸を有するスタンパ１２４ａを作製す
る。図１２（ｆ）、（ｇ）に示すように、このスタンパ
１２４ａを用いて、樹脂１２６を射出成形することによ
り、スタンパ１２４ａが有する凹凸パターンの逆パター
ン、すなわち、記録ピットパターンＲＰが形成されたデ
ィスク１２５が得られる。

【０００３】そして、読みとり専用ディスク（光記録）
の場合には、ディスク１２５の記録面への反射膜の蒸
着、保護膜塗布などを経て、ディスクが完成する。読み
書き可能ディスクの場合には、ディスク１２５の表面に
記録膜をスパッタにより形成し、保護膜塗布などを経
て、ディスクが完成する。

【０００４】なお、前記構成において、凹凸パターン
は、ピットパターンであり、光記録方式を前提にして説
明したが、基板樹脂中に磁気記録材料が混合された磁気
記録方式の場合では、記録単位は、ピットと形状は逆の
凸状部分（ドット）が記録単位になる。したがって、記
録単位としては、ピット（細孔）などの凹状と、凸状と
が、存在する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】高い記録密度を有する
記録媒体を作製するには、記録単位となる細孔（ピッ
ト）もしくは凸状部分の微小化、および細孔もしくは凸
状部分の間隔を微小化することが必要となる。しかしな
がら、記録単位の微小化に伴い、読み出し精度を保つた
めに、ピット部（または凸部）と非ピット部（または非
凸部）のコントラストをより大きくする必要がある。ま
た、記録単位間隔が小さくなると、隣り合う記録単位間
のクロストークの問題が生じるため、物理的に隣接記録
単位間隔を分離することが必要不可欠である。また、本
来の記録単位の他に、トラッキングのガイドとなる案内
溝を形成する必要もある。しかしながら、凹凸を形成し
たディスク基板の上に、反射膜もしくは記録膜を蒸着す
る従来の方法では、上に述べたような要求を満たすこと
は困難であった。

【０００６】したがって、本発明の課題は、凸状または
凹状の記録単位の径、これら記録単位の隣接間隔を微小
化し、記録密度を向上させた記録媒体と、そのような記
録媒体の作製を可能とする作製方法を提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明の請求項１の記録媒体は、基板上に形成され
た微細な凹部または凸部を記録単位とする記録媒体であ
って、前記基板上の記録単位が、マトリックス状に分断
された光吸収色素もしくは磁気記録材料もしくは光記録
材料をその一部もしくは全部に含有した高分子膜から構
成されていることを特徴とする。

【０００８】また、本発明の請求項２の記録媒体は、基
板上に形成された微細な凹部または凸部を記録単位とす
る記録媒体であって、前記記録単位が、周期および深さ
のいずれか一方または双方が異なっている２種類以上の
凹凸から構成され、これら凹凸が重畳されていることを
特徴とする。

【０００９】また、本発明の請求項３の記録媒体の作製
方法は、基板上に微細な凹部または凸部を記録単位とし
た記録パターンが形成されてなる記録媒体の作製方法に
おいて、前記基板を、金属もしくは高分子からなり、光
吸収色素もしくは磁気記録材料もしくは光記録材料をそ
の一部もしくは全部に含有する基板から構成し、前記記
録パターンに対応する凹凸パターンが形成されたモール
ドを、前記基板に当接してプレスすることにより、前記
基板上に記録パターンを形成することを特徴とする。

【００１０】発明者らは、本発明に先立って、記録ピッ
トパターンに対応する凹凸パターンが形成されたモール
ドを、金属もしくは高分子からなる基板上に置き、プレ
スすることにより、前記基板上に記録ピットが転写され
ることを見出した（特願平８−２５１２５２号公報）。
この技術によって、色素、磁気または光記録材料を含有
する基板に物理的に直接に記録ピットパターンを形成す
ることができる。一方、記録ピットパターンを保持する
基板面を構成する材料に、色素や磁気または光記録材料
を含有できれば、その含有材料の特性により、記録ピッ
ト間のクロストークを減少させることができる。本発明
方法の特徴は、この二つの技術を同時に用いたことにあ
り、本発明は、このような構成上の特徴により、記録ピ
ットパターンを有する記録基板において、記録ピット間
のクロストークを抑制したまま、記録ピットの径および
記録ピット間隔を微小化することができ、記録密度を増
大させることができる。

【００１１】また、本発明の請求項４の記録媒体の作製
方法は、前記請求項３において、前記基板として、高分
子膜からなる基板上層部と、金属もしくは高分子材料か
らなる基板下層部とを有する基板を用いることを特徴と
する。

【００１２】発明者らは、高分子膜からなる基板上層部
と、金属もしくは高分子からなる基板下層部とを有する
基板に対して、凹凸パターンが形成されたモールドをプ
レスすることにより、基板上層部の高分子膜をマトリッ
クス状に完全に分断できることを見出した。

【００１３】従って、上記記録材料を含有した高分子膜
を上層部として用い、モールドによりプレスすることに
より、マトリックス状に完全に分断された凹凸パターン
を形成することができる。この結果、凸状の記録材料部
分と凹状の非記録部分のコントラストを大きくし、ピッ
ト間のクロストークを小さくして、凸状部分の径の微小
化と凸状部分の間隔の微小化による記録密度向上が可能
となる。また、光吸収色素もしくは反磁性物質を含有す
る高分子膜を基板上層部として用い、上記記録材料を含
有した材料を下層部とすることにより、モールドのプレ
スにより形成された基板上層部のパターンが、記録材料
に情報を書き込む際の、光、熱、磁気に対してマスクと
して機能し、基板下層部に対して、記録信号としての
光、熱、磁気を加得ることのできる領域（ピット部分）
を選択的に限定することができ、ピット径およびピット
間隔の微小化による記録密度向上が可能となる。

【００１４】また、本発明の請求項５の記録媒体の作製
方法は、前記請求項３または４の作製方法において、前
記モールド上に形成された凹凸パターンが、周期および
深さのいずれか一方または双方が異なる２種類以上の凹
凸が重畳されてなる単位から構成されていることを特徴
とする。

【００１５】発明者らは、モールド上に形成された凹凸
パターンが、周期、および、もしくは、深さの異なる２
種類以上の凹凸が重畳されたものであっても、基板上に
パターンを転写することが可能であることを見出した。
従って、案内溝と記録ピットに対応する凹凸を有するモ
ールドを用いてプレスすることにより、基板上に本来の
記録ピットの他に、トラッキングのガイドとなる案内溝
を同時に形成することができる。また、１つのピット中
に異なった深さをもつ２つ以上の面を形成することによ
り、１つのピット中に、書き込み、読み出しレンズの焦
点距離により選択可能な記録面を作製することができ
る。従って、深さ方向の多重化が可能となり、記録密度
をあげることができる。

【００１６】さらに、本発明の請求項６の記録媒体の作
製方法は、前記請求項４または５の作製方法において、
前記基板上へ記録パターンを形成した後に、基板上層部
の高分子膜の一部もしくは全部を除去することを特徴と
する。

【００１７】発明者らは、プレス条件により基板上層部
の高分子膜上の凹凸パターンの凹部に高分子膜が残存し
た場合でも、ミリング、エッチング等により高分子膜の
膜厚を全体的に下げ、凹部に残存した高分子膜を除去可
能であることを見出した。従って、凹凸パターンの凹部
に残存した高分子膜が、ピット間のクロストークの悪
化、書き込みおよび読み出しパワーの増大など、記録媒
体の特性に影響を与えるほど厚い場合でも、上記の方法
で凹部に残存した高分子膜を除去することにより、ピッ
ト間を完全に分離し、ピット間のクロストークを減少さ
せ、ピット間隔の微小化を可能とし、記録密度をあげる
ことができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態を説明する。

【００１９】（実施形態例１）図１は、本発明による記
録媒体の作製方法の第１の実施形態例を示す模式図であ
る。まず、図１（ａ）に示すように、基板１０１表面に
対し、凹凸パターン１０２ａが表面に形成されたモール
ド１０２を当接させてプレスする。基板１０１とモール
ド１０２は、図１（ｂ）に示すように、密着状態１０３
をとる。モールド１０２基板１０１から分離すると、図
１（ｃ）に示すように、表面に記録凹凸パターン１０４
ａを有する記録媒体１０４が作製される。

【００２０】（実施形態例２）図２は、本発明による記
録媒体の作製方法の第２の実施形態例を示す模式図であ
る。本実施形態例では、図２（ａ）に示すように、基板
２０１は、上層部２０２と下層部２０３からなる。目的
の記録パターンに対応する凹凸パターン２０４ａが形成
されたモールド２０４を、前記基板２０１の上層部２０
２の表面に当接してプレスする。すると、図２（ｂ）に
示すように、基板２０１とモールド２０４は密着状態２
０５をとる。モールド２０４を基板２０１から分離する
と、前記上層部２０２に記録凹凸パターン２０６ａが形
成され、記録媒体２０６が作製される。なお、プレス条
件によっては記録媒体２０６表面の凹部に高分子膜（上
層部）が残存する場合もあるが、要求されるクロストー
クに影響を与えない程度であれば、問題はなく、その程
度の残存は、本発明の範疇に入る。

【００２１】（実施形態例３）図３は、本発明による記
録媒体の作製方法の第３の実施形態例を示す模式図であ
る。本実施形態例では、図３（ａ）に示すように、周
期、および、もしくは、深さの異なる２種類以上の凹部
が重畳されている凹凸パターン３０２ａが形成されたモ
ールド３０２を、用いる。このモールド３０２を、基板
３０１の表面に当接してプレスする。すると、基板３０
１とモールド３０２とは密着状態３０３をとる。つづい
て、図３（ｃ）に示すように、モールド３０２を基板３
０１から分離すると、記録凹凸パターン３０４ａが表面
に形成された記録媒体３０４が得られる。

【００２２】（実施形態例４）図４は、本発明による記
録媒体の作製方法の第４の実施形態例を示す模式図であ
る。本実施形態例では、図４（ａ）に示すように、基板
４０１は、上層部４０２と下層部４０３とからなる。目
的の記録パターンに対応した凹凸パターン４０４ａが形
成されたモールド４０４を、前記基板４０１の上層部４
０２の表面に当接させてプレスする。すると、図４
（ｂ）に示すように、基板４０１とモールド４０４は密
着状態４０５をとる。モールド４０４を基板４０１から
分離すると、基板４０１の上層部４０２に記録凹凸パタ
ーン４０６ａが形成されてなる記録媒体４０６が得られ
る。その後、ミリング、エッチング等により上層部４０
２に形成された凹凸パターンの凹部を除去する。除去
は、上層部４０２の凹凸パターンの凹部の底の厚みが、
クロストーク、書き込み信号、読み出し信号に影響を与
えない程度になるまで行われる。

【００２３】本発明に用いられる基板としては、次のよ
うなものを挙げることができる。すなわち、ガラス、ス
テンレス、シリコン、アルミ、ポリカーボネート、ポリ
イミド、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリメタクリル
酸メチル等がある。

【００２４】また、本発明に用いられるモールド材料と
しては、次のようなものがある。すなわち、ＳｉＣ、サ
ファイア、Ｔｉ：ステンレス、ダイヤモンド：ＳｉＣ、
ニッケル等がある。

【００２５】また、本発明の基板の一部または全部に含
まれる高分子膜の材料としては、次のようなものがあ
る。すなわち、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリス
チレン、ポリエチレン、ポリメタクリル酸メチル等があ
る。

【００２６】また、本発明の基板の一部または全部に含
まれる光記録材料としては、次のようなものがある。す
なわち、スピロベンゾチオピラン、スピロフェナントロ
オキサジン、２，３−ジチエニルマレイン酸無水物、ジ
メチルアミノインドリルフルギド、アントラセノナフタ
レノファン、２−ヒドロキシカルコンなどがある。

【００２７】さらに、本発明の基板の一部または全部に
含まれる磁気記録材料としては、次のようなものがあ
る。すなわち、ヘキサカルベン、ニトロキシドラジカル
などがある。

【００２８】また、本発明における基板の記録層は、単
一層（基板そのもの）である必要はなく、例えば、それ
ぞれ特定の波長に感度をもつ色素を含有する記録層を２
層以上積層する、もしくは磁気記録層と光記録層を積層
するなどしてもよい。

【００２９】このような技術は、記録単位の微小化に伴
うコントラストの低下、記録単位の隣接間隔の微小化に
伴うクロストークの増大など、記録密度の高密度化にお
ける問題を解決し、高い記録密度をもつ記録媒体の作製
に有効である。

【００３０】

【実施例】次に、本発明による実施例を示す。実施例１
は、図１により説明した方法によるものであり、実施例
２および３は、図２により説明した方法により、実施例
４および５は、図３により説明した方法により、実施例
６は、図４により説明した方法による。

【００３１】（実施例１）図５（ａ）および（ｂ）は、
図１に示した方法により作製された記録媒体の上面図お
よび断面図を示すものである。基板１０１として、直径
１００ｍｍ、厚さ１ｍｍの、スピロベンゾチオピランを
０．５ｍｏｌ％含有するポリカーボネート板を用いた。
凹凸パターンを有するＳｉＣモールドを基板１０１に当
接してプレスすることにより、基板１０１の高分子膜上
に記録凹凸パターン１０４ａを形成した。径５〜２０ｎ
ｍ、隣接間隔１５〜５０ｎｍ、高さ（凹部の深さ）５０
〜３００ｎｍの凸状記録単位（ドット）５００ａが、マ
トリックス状に配列した凹凸パターンが形成可能であっ
た。

【００３２】（実施例２）図６（ａ）および（ｂ）は、
図２に示した方法により作製した記録媒体の上面図およ
び断面図を示すものである。基板２０１として、直径１
００ｍｍ、厚さ２ｍｍのアルミ板を用いた。このアルミ
板（下層部）２０３の表面にスピロフェナントロオキサ
ジンを０．５ｍｏｌ％含有するＰＭＭＡ膜（上層部）２
０２を成膜した。ＳｉＣモールドを用い、ＰＭＭＡ膜２
０２上に凹凸パターン２０２ａを形成した。径５〜２０
ｎｍ、隣接間隔１０〜５０ｎｍ、高さ（凹部の深さ）５
０〜４００ｎｍのドット５００ｂが、マトリックス状に
配列した凹凸パターンが形成可能であった。

【００３３】（実施例３）図７（ａ）および（ｂ）は、
図２に示した方法により作製した記録媒体の上面図およ
び断面図を示すものである。基板２０１として、直径１
００ｍｍ、厚さ１ｍｍの、スピロベンゾチオピランを
０．５ｍｏｌ％含有するポリカーボネート板（下層部）
２０３を用いた。ポリカーボネート板２０３の表面にカ
ーボンブラックを１０ｗｔ％含有するポリイミド膜（上
層部）２０２を成膜した。ＳｉＣモールドを用い、ポリ
イミド膜２０２上に凹凸パターンを形成した。径５〜２
０ｎｍ、隣接間隔１０〜５０ｎｍ、高さ（凹部の深さ）
５０〜４００ｎｍの凹部５００ｃが、マトリックス状に
配列した凹凸パターンが形成可能であった。

【００３４】（実施例４）図８（ａ）および（ｂ）は、
図３に示した方法により作製した記録媒体の上面図およ
び断面図を示すものである。基板３０１として、直径１
００ｍｍ、厚さ１ｍｍの、スピロベンゾチオピランを
０．５ｍｏｌ％含有するポリカーボネート板を用いた。
ＳｉＣモールドを用い、基板３０１上に凹凸パターンを
形成した。周期１μｍ、高低差１５０ｎｍの直線状パタ
ーン上に、径５〜２０ｎｍ、隣接間隔１０〜５０ｎｍ、
高さ（凹部の深さ）５０〜４００ｎｍのドット５００ｄ
が、マトリックス状に配列した凹凸パターンが形成可能
であった。

【００３５】（実施例５）図９（ａ）および（ｂ）は、
２層構造の基板を用いて、図３に示した方法により作製
した記録媒体の上面図および断面図を示すものである。
基板３０１として、直径１００ｍｍ、厚さ１ｍｍのガラ
ス板を用いた。さらに、このガラス板表面３０１にスピ
ロフェナントロオキサジンを０．５ｍｏｌ％含有するポ
リイミド膜６００を成膜した。ＳｉＣモールドを用い、
ポリイミド膜６００上に凹凸パターンを形成した。一辺
が１０〜３０ｎｍ、隣接間隔１０〜５０ｎｍで、階段状
の底面を持ち、それぞれ、階段部分が１５０，１００，
５０ｎｍの深さをもつ凹部５００ｅが、マトリックス状
に配列した凹凸パターンが形成可能であった。

【００３６】前記実施例４および５は、モールドパター
ン上のドットの周期や深さが一種類に限らないというこ
とを示す実施例である。したがって、実施例５におい
て、基板は２層構造に限定されるものでなく、１層構造
であってもよい。

【００３７】（実施例６）本実施例の記録媒体は、図４
に示した方法により作製した。基板４０１として、直径
１００ｍｍ、厚さ２ｍｍのアルミ板（下層部）４０３を
用いた。このアルミ板４０３の表面に、スピロフェナン
トロオキサジンを０．５ｍｏｌ％含有するポリイミド膜
（上層部）４０２を形成した。膜厚は１５０ｎｍであっ
た。ＳｉＣモールドを用い、高分子膜上に凹凸パターン
を形成した。凹凸パターンの深さは１００ｎｍであっ
た。パターン形成後の記録媒体の上面図および断面図を
図１０（ａ）および（ｂ）に示す。

【００３８】この記録媒体に対して、Ａｒイオンミリン
グにより、パターン凹部で基板が露出するまで、高分子
膜を除去した。図１１（ａ）および（ｂ）に上面図およ
び断面図を示すように、基板４０１の下層部４０３上
に、径５〜２０ｎｍ、隣接間隔１０〜５０ｎｍ、高さ
（凹部の深さ）５０〜３００ｎｍのドット５００ｆが、
マトリックス状に配列した凹凸パターンが残存した。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る記録
媒体は、基板上に形成された微細な凹部または凸部を記
録単位とする記録媒体であって、前記基板上の記録単位
が、マトリックス状に分断された光吸収色素もしくは磁
気記録材料もしくは光記録材料をその一部もしくは全部
に含有した高分子膜から構成されていることを特徴とす
る。

【００４０】また、本発明の他の構成の記録媒体は、基
板上に形成された微細な凹部または凸部を記録単位とす
る記録媒体であって、前記記録単位が、周期および深さ
のいずれか一方または双方が異なっている２種類以上の
凹凸から構成され、これら凹凸が重畳されていることを
特徴とする。

【００４１】また、本発明に係る記録媒体の作製方法で
は、金属もしくは高分子からなり、光吸収色素もしくは
磁気記録材料もしくは光記録材料をその一部もしくは全
部に含有する基板に、所望の記録パターンに対応した凹
凸パターンが形成されたモールドを当接してプレスする
ことにより、前記記録パターンを前記基板上に転写する
ことを特徴とする。従って、記録材料を含有する基板表
面に直接に凹凸パターンを形成することができ、記録単
位間のクロストークを抑制したまま、凹状または凸状の
記録単位の径および該記録単位の隣接間隔を微小化する
ことができ、記録密度を増大させることができる。

【００４２】また、本発明に係る記録媒体作製方法で
は、高分子膜からなる基板上層部と、金属もしくは高分
子材料からなる基板下層部を有する基板を用いることを
特徴とする。従って、上記記録材料を含有した高分子膜
を上層部として用い、モールドによりプレスすることに
より、マトリックス状に完全に分断された記録単位を形
成することができる。

【００４３】また、光吸収色素もしくは反磁性物質を含
有する高分子膜を基板上層部として用い、上記記録材料
を含有した材料を下層部とすることにより、モールドの
プレスにより形成された基板上層部のパターンが、記録
材料に情報を書き込む際の、光、熱、磁気に対してマス
クとして機能し、基板下層部に対して、光、熱、磁気を
加えることのできる領域を選択的に限定することができ
る。

【００４４】この結果、記録単位部分とその他の部分と
のコントラストを大きくし、記録単位間のクロストーク
を小さくして、記録単位の径の微小化と該記録単位の隣
接間隔の微小化による記録密度向上が可能となる。

【００４５】また、本発明に係る記録媒体作製方法で
は、周期、および、もしくは、深さの異なる２種類以上
の凹部からなる凹凸パターンを有するモールドを用い
て、基板表面をプレスすることを特徴とする。従って、
高分子膜上に本来の記録単位の他に、トラッキングのガ
イドとなる案内溝を同時に形成することができる。ま
た、１つの記録単位中に異なった深さをもつ２つ以上の
面を形成することにより、１つの記録単位中に、書き込
み・読み出しレンズの焦点距離により選択可能な記録面
を設けることができる。従って、深さ方向の多重化が可
能となり、記録密度をあげることができる。

【００４６】また、本発明に係る記録媒体の作製方法で
は、プレスによるパターン形成後、ミリング、エッチン
グ等により基板上のパターン中の高分子膜の一部を除去
することを特徴とする。従って、パターンの凹部に残存
した高分子膜を除去することにより、記録単位間を完全
に分離し、記録単位間のクロストークを減少させ、記録
単位の隣接間隔の微小化を可能とし、記録密度をあげる
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による記録媒体の作製方法の第１の実施
形態例を示す模式図である。

【図２】本発明による記録媒体の作製方法の第２の実施
形態例を示す模式図である。

【図３】本発明による記録媒体の作製方法の第３の実施
形態例を示す模式図である。

【図４】本発明による記録媒体の作製方法の第４の実施
形態例を示す模式図である。

【図５】本発明の第１の実施例の記録媒体の上面図
（ａ）と断面図（ｂ）である。

【図６】本発明の第２の実施例の記録媒体の上面図
（ａ）と断面図（ｂ）である。

【図７】本発明の第３の実施例の記録媒体の上面図
（ａ）と断面図（ｂ）である。

【図８】本発明の第４の実施例の記録媒体の上面図
（ａ）と断面図（ｂ）である。

【図９】本発明の第５の実施例の記録媒体の上面図
（ａ）と断面図（ｂ）である。

【図１０】本発明の第６の実施例の記録媒体の上面図
（ａ）および断面図（ｂ）であって、凹凸パターン形成
後の状態を示している。

【図１１】本発明の第６の実施例の記録媒体の完成後の
上面図（ａ）と断面図（ｂ）である。

【図１２】従来の記録媒体作製方法を示す模式図であ
る。

【符号の説明】

１０１基板１０２モールド１０２ａモールドの凹凸パターン１０３モールドと高分子膜の密着状態１０４記録媒体１０４記録パターン２０１基板２０２上層部２０３下層部２０４モールド２０４ａモールドの凹凸パターン２０５モールドと基板の密着状態２０６記録媒体２０６ａ記録パターン３０１基板３０２モールド３０２ａモールドの凹凸パターン３０３モールドと基板の密着状態３０４記録媒体３０４ａ記録パターン４０１基板４０２上層部４０３下層部４０４モールド４０４ａモールドの凹凸パターン４０５モールドと基板の密着状態４０６記録媒体４０６ａ記録パターン５００ａ、５００ｂ、５００ｃ、５００ｄ、５００ｆ
ドット（凸状記録単位）５００ｅ凹部（凹状記録単位）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者中尾正史東京都新宿区西新宿三丁目19番２号日本電信電話株式会社内 (72)発明者吉川博東京都新宿区西新宿三丁目19番２号日本電信電話株式会社内 (72)発明者益田秀樹東京都八王子市別所２−13−２−510 Ｆターム(参考） 5D029 JA01 JA04 JB08 JB21 5D121 AA01 AA02 EE26 GG04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に形成された微細な凹部または凸
部を記録単位とする記録媒体であって、前記基板上の記
録単位が、マトリックス状に分断された光吸収色素もし
くは磁気記録材料もしくは光記録材料をその一部もしく
は全部に含有した高分子膜から構成されていることを特
徴とする記録媒体。
【請求項２】基板上に形成された微細な凹部または凸
部を記録単位とする記録媒体であって、前記記録単位
が、周期および深さのいずれか一方または双方が異なっ
ている２種類以上の凹凸から構成され、これら凹凸が重
畳されていることを特徴とする記録媒体。
【請求項３】基板上に微細な凹部または凸部を記録単
位とした記録パターンが形成されてなる記録媒体の作製
方法において、前記基板を、金属もしくは高分子からなり、光吸収色素
もしくは磁気記録材料もしくは光記録材料をその一部も
しくは全部に含有する基板から構成し、前記記録パターンに対応する凹凸パターンが形成された
モールドを、前記基板に当接してプレスすることによ
り、前記基板上に記録パターンを形成することを特徴と
する記録媒体の作製方法。
【請求項４】前記基板として、高分子膜からなる基板
上層部と、金属もしくは高分子材料からなる基板下層部
とを有する基板を用いることを特徴とする請求項３に記
載の記録媒体の作製方法。
【請求項５】前記モールド上に形成された凹凸パター
ンが、周期および深さのいずれか一方または双方が異な
る２種類以上の凹凸が重畳されてなる単位から構成され
ていることを特徴とする請求項３または４に記載の記録
媒体の作製方法。
【請求項６】前記基板上へ記録パターンを形成した後
に、基板上層部の高分子膜の一部もしくは全部を除去す
ることを特徴とする請求項４または５に記載の記録媒体
の作製方法。