JP2000077595A - Lead frame and semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Lead frame and semiconductor integrated circuit device

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JP2000077595A
JP2000077595A JP24097298A JP24097298A JP2000077595A JP 2000077595 A JP2000077595 A JP 2000077595A JP 24097298 A JP24097298 A JP 24097298A JP 24097298 A JP24097298 A JP 24097298A JP 2000077595 A JP2000077595 A JP 2000077595A
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integrated circuit
die pad
semiconductor integrated
chip
lead frame
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Hiroyuki Nakanishi
宏之 中西
Toshiya Ishio
俊也 石尾
Katsunobu Mori
勝信 森
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a general-purpose semiconductor integrated circuit device by modifying the signal arrangement freely with a re-routing pattern produced through the patterning of a lead frame. SOLUTION: This lead frame 100 has one or a plurality of re-routing pattern 1 for electrically connecting a semiconductor integrated circuit chip with an inner lead, provided at a die pad part for mounting a semiconductor integrated circuit chip, an outer lead part, an inner lead 2 part, and a part between the die pad part and the inner lead 2 part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、内部で信号配列の
変更を伴った、電子機器に搭載、内臓される半導体集積
回路装置及びそれに用いるリードフレームに関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device mounted and incorporated in an electronic device and having a signal arrangement internally, and a lead frame used therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は、一般的な従来のリードフレーム
200の概略パターンを示す。リードフレーム200は
合金でできており、合金の板を化学的にエッチングある
いは金型でパンチングすることによりパターニングされ
る。リードフレーム200は、半導体集積回路(以下
「IC」と称す)チップが搭載されるダイパッド4、ダ
イパッド4をリードフレーム200の枠部10に保持さ
るように形成したサポートバー5、ICチップの電極パ
ッドと金線等の金属細線(以下「ワイヤー」と称す)で
接合されるインナーリード2、インナーリード2と繋が
っていて外部接合端子となるアウターリード3等で構成
されている。
2. Description of the Related Art FIG. 7 shows a schematic pattern of a general conventional lead frame 200. The lead frame 200 is made of an alloy, and is patterned by chemically etching or punching a metal plate. The lead frame 200 includes a die pad 4 on which a semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as “IC”) chip is mounted, a support bar 5 formed to hold the die pad 4 on the frame 10 of the lead frame 200, and an electrode pad of the IC chip. And an inner lead 2 joined by a thin metal wire such as a gold wire (hereinafter referred to as a “wire”), an outer lead 3 connected to the inner lead 2 and serving as an external joining terminal, and the like.

【0003】また、図8に従来のリードフレーム200
を使用して、ICチップ50がダイパッド4上にダイア
タッチ材で固定搭載され、ワイヤー6によりICチップ
50の電極パッド9と少なくとも接合部に銀メッキを施
したインナーリード2とが接続された状態を示す。
FIG. 8 shows a conventional lead frame 200.
The IC chip 50 is fixedly mounted on the die pad 4 with a die attach material, and the electrode pad 9 of the IC chip 50 is connected to the inner lead 2 having at least the joint part silver-plated by the wire 6. Is shown.

【0004】このように、ICチップ50の周辺部に設
けられた各ワイヤボンディング接合用電極パッド9は、
リードフレームに形成された所定の各インナーリードと
ワイヤーによって接続され、各インナーリードはリード
フレームに形成された各アウターリードにパターンで繋
がっているので、一般的なアウターリードでの信号配列
(R1〜R10、L1〜L10)30は、ICチップ5
0の周辺部に設けられた各ワイヤボンディング接合用電
極パッド9の信号配列(R1〜R10、L1〜L10)
20と同じになっている。アウターリードでの信号配列
を変更する場合(変更後は図9の信号配列35)は、I
Cチップの電極パッド9の信号配列を図9の信号配列2
5の様に変更するか、図10のようにワイヤー6が上方
から見て交差するようなワイヤボンディングをする必要
がある。
As described above, the electrode pads 9 for wire bonding bonding provided on the periphery of the IC chip 50 are
Each inner lead is connected to a predetermined inner lead formed on the lead frame by a wire, and each inner lead is connected to each outer lead formed on the lead frame by a pattern. R10, L1 to L10) 30 is the IC chip 5
Signal arrangement (R1 to R10, L1 to L10) of the electrode pads 9 for wire bonding bonding provided in the peripheral portion of 0
It is the same as 20. When the signal arrangement in the outer lead is changed (the signal arrangement 35 in FIG. 9 after the change),
The signal arrangement of the electrode pads 9 of the C chip is shown in FIG.
5 or wire bonding such that the wires 6 intersect as seen from above as shown in FIG.

【0005】また、図11に示すように一部のインナー
リードを延長させて、他のインナーリードを迂回するこ
とにより、信号配列を変更することも、実用新案登録第
2562773号公報に開示されている。
[0005] Further, as shown in FIG. 11, changing the signal arrangement by extending some of the inner leads and bypassing the other inner leads is disclosed in Japanese Utility Model Registration No. 2566273. I have.

【0006】更に、ICチップを搭載するためリードフ
レームに設けられたダイパッドの両面に、ICチップを
搭載させる構造の半導体集積回路装置において、ダイパ
ッドの一方の側に搭載されたICチップともう一方の側
に搭載されたICチップとを半導体集積回路装置内部で
電気的に相互接続する場合、つまり共通の電気信号を同
一のインナーリードに接続するため場合には、いずれか
一方のICチップもしくは両方のICチップの電極パッ
ドの配列を変更することが挙げられる。
Further, in a semiconductor integrated circuit device having a structure in which an IC chip is mounted on both sides of a die pad provided on a lead frame for mounting the IC chip, an IC chip mounted on one side of the die pad and another side are provided. When the IC chip mounted on the side is electrically interconnected inside the semiconductor integrated circuit device, that is, when connecting a common electric signal to the same inner lead, either one of the IC chips or both Changing the arrangement of the electrode pads of the IC chip may be mentioned.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、アウ
ターリード部の信号配列を変更するには、ICチップの
電極パッドの信号配列を変更するか、金属細線が交差す
るようなワイヤボンディングを選択することになる。前
者の場合ICチップの再設計、製造するためのフォトマ
スク類の再作製およびそれらにかかる期間および費用の
問題が生じる。
As described above, in order to change the signal arrangement of the outer lead portion, the signal arrangement of the electrode pads of the IC chip is changed, or wire bonding such that thin metal wires intersect is selected. Will do. In the former case, the redesign of the IC chip, the remanufacture of photomasks for manufacturing, and the time and cost associated therewith arise.

【0008】後者の場合、ワイヤーは互いに接触しては
ならないため、ワイヤーの高さをより高く形成する部分
が必要となり、薄型の成型封止を行うことが困難とな
る。
In the latter case, since the wires must not come into contact with each other, a portion where the height of the wires is higher is required, and it is difficult to perform thin molding and sealing.

【0009】また、一部のインナーリードを延長させ
て、他のインナーリードを迂回する方法は、迂回するイ
ンナーリードが多くなるほど信号配列を入れ換える領域
が拡大するため、ワイヤーの長さがより一層長くなり、
成型封止時に力を大きく受けて変型または切断の可能性
が高まる。
In the method of extending some of the inner leads and bypassing the other inner leads, the area where the signal arrangement is exchanged increases as the number of bypassed inner leads increases, so that the length of the wire is further increased. Become
A large force is applied during molding and sealing, which increases the possibility of deformation or cutting.

【0010】また、既存のICチップを使用してダイパ
ッドの両面にICチップを搭載させる場合、より小型の
半導体集積回路装置の組み立てを行うためには、上側の
チップと下側のチップの共通信号は同一のインナーリー
ドとワイヤボンディング接合してアウターリードの本数
を低減したいが、金属細線が交差したり、レイアウト上
ワイヤボンディングが不能になったりする。
When an IC chip is mounted on both sides of a die pad using an existing IC chip, a common signal of an upper chip and a lower chip is required to assemble a smaller semiconductor integrated circuit device. Although it is desired to reduce the number of outer leads by wire bonding with the same inner lead, thin metal wires may intersect or wire bonding may not be possible due to layout.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の本発明
のリードフレームは、半導体集積回路チップを載せるダ
イパッドとなる部分と、アウターリードとなる部分と、
インナーリードとなる部分と、上記ダイパッドとなる部
分と上記インナーリードとなる部分との間に上記半導体
集積回路チップおよび上記インナーリードとを電気的に
接続するために設けられた一個もしくは複数の中継用導
電体を有することを特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided a lead frame according to the present invention, comprising: a portion serving as a die pad for mounting a semiconductor integrated circuit chip; a portion serving as an outer lead;
One or a plurality of relays provided for electrically connecting the semiconductor integrated circuit chip and the inner lead between a portion serving as an inner lead and a portion serving as the die pad and a portion serving as the inner lead. It has a conductor.

【0012】また、請求項2に記載の本発明の集積回路
装置は、インナーリード及びダイパッドとは電気的に絶
縁された中継用導電体を少なくとも上記インナーリード
と上記ダイパッドとの間の領域に有し、且つ、上記中継
用導電体は絶縁体によって上記インナーリード及びダイ
パッドと固定されており、且つ、上記ダイパッドに搭載
された半導体集積回路チップは直接又は上記中継用導電
体を介して電気的に上記インナーリードと接続されてい
ることを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an integrated circuit device having a relay conductor electrically insulated from the inner lead and the die pad at least in a region between the inner lead and the die pad. The relay conductor is fixed to the inner lead and the die pad by an insulator, and the semiconductor integrated circuit chip mounted on the die pad is electrically connected directly or via the relay conductor. It is characterized by being connected to the inner lead.

【0013】また、請求項3に記載の本発明の集積回路
装置は、上記ダイパッドの表裏面のそれぞれに、半導体
集積回路チップを搭載したことを特徴とする、請求項2
に記載の半導体集積回路装置である。
According to a third aspect of the present invention, in the integrated circuit device of the present invention, a semiconductor integrated circuit chip is mounted on each of the front and back surfaces of the die pad.
3. A semiconductor integrated circuit device according to (1).

【0014】さらに、請求項4に記載の本発明の集積回
路装置は、上記ダイパッドは複数領域に分割されてお
り、上記中継用導体が該ダイパッドの分割領域間の領域
をわたって一のインナーリード列側から対向する他のイ
ンナーリード列側に形成されており、且つ、該中継用導
電体は上記半導体集積回路チップとは電気的に絶縁され
ていることを特徴とする、請求項2又は請求項3に記載
の半導体集積回路装置である。
Further, in the integrated circuit device according to the present invention, the die pad is divided into a plurality of regions, and the relay conductor is connected to one inner lead across a region between the divided regions of the die pad. 3. The semiconductor device according to claim 2, wherein the relay conductor is formed on the other inner lead row side facing from the row side, and the relay conductor is electrically insulated from the semiconductor integrated circuit chip. 4. Item 4. A semiconductor integrated circuit device according to item 3.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、実施の形態に基づいて、本
発明を詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.

【0016】図1に本発明であるリードフレーム100
の概略パターンを示す。図1は、一般的な従来のリード
フレーム200を示した図7に対し、中継用導電体とな
る再配線用パターン1とその再配線用パターン1を保持
するためにインナーリード2の一部およびダイパッド4
の一部にまたがるように貼り付けられたポリイミドフィ
ルム7が付加されている。インナーリード2と同様に、
再配線用パターン1上で少なくともワイヤーで接合され
る領域には銀メッキが施されている。
FIG. 1 shows a lead frame 100 according to the present invention.
3 shows a schematic pattern. FIG. 1 shows a rewiring pattern 1 serving as a relay conductor and a part of an inner lead 2 for holding the rewiring pattern 1 and FIG. Die pad 4
A polyimide film 7 attached so as to straddle a part of is attached. Like inner lead 2,
Silver plating is applied to at least a region to be joined by a wire on the rewiring pattern 1.

【0017】図1の構造は、図3に示される順序によっ
て形成される。まず、化学的にエッチングあるいは金型
によるパンチング等従来のリードフレーム200を作製
する方法でパターニングを行う(図3(a))。この際
先に述べた再配線用パターン1は、ダイパッド4をリー
ドフレーム100の枠部10に保持さるように形成した
サポートバー5に接続されている。
The structure of FIG. 1 is formed according to the sequence shown in FIG. First, patterning is performed by a method of manufacturing a conventional lead frame 200 such as chemical etching or punching with a mold (FIG. 3A). At this time, the rewiring pattern 1 described above is connected to a support bar 5 formed so as to hold the die pad 4 on the frame 10 of the lead frame 100.

【0018】次に、適度なサイズに打ち抜かれた熱可塑
性ポリイミドフィルム7を、再配線用パターン1とイン
ナーリード2とダイパッド4にまたがるように貼り付け
る(図3(b)、ポリイミドフィルムの貼り付け方は、
一般的に知られているリード・オン・チップ用リードフ
レーム作製法と同じである)。
Next, a thermoplastic polyimide film 7 punched into an appropriate size is attached so as to straddle the rewiring pattern 1, the inner lead 2, and the die pad 4 (FIG. 3B, a method of attaching the polyimide film). Is
This is the same as a generally known lead-on-chip lead frame manufacturing method).

【0019】次に、再配線パターン1各々が電気的に独
立するように、保持部分8を金型で打ち抜く(図3
(c))。このようにしてインナーリード2とダイパッ
ド4との間に複数個の電気的に独立した再配線パターン
1が形成される。なお、ポリイミドフィルムは、再配線
パターンを電気的に独立させつつポリイミドフィルム自
ら動かないように固定できればよいのであって、必ずし
もインナーリードやダイパッドにまたがるよう貼り付け
る必要はなく、最終的に樹脂封止される領域におけるそ
の他に形成されたパターン部を利用しても構わない。
Next, the holding portion 8 is punched out with a die so that each of the rewiring patterns 1 is electrically independent (FIG. 3).
(C)). Thus, a plurality of electrically independent rewiring patterns 1 are formed between the inner lead 2 and the die pad 4. Note that the polyimide film only needs to be able to be fixed so that the polyimide film itself does not move while keeping the rewiring pattern electrically independent.It is not necessary to attach the polyimide film so as to straddle the inner leads and the die pad. Other pattern portions formed in the region to be formed may be used.

【0020】図2は、上述の順序で形成された図1のリ
ードフレーム100において、ダイパッド4上に半導体
集積回路(以下「IC」と称す)チップ50を搭載し
(ダイパッド上にダイアタッチ材を塗布してICチップ
を載せて熱処理で固定)、ICチップ50上に形成され
た電極パッド9とインナーリード2とをワイヤー6で接
続した状態を示す。
FIG. 2 shows that in the lead frame 100 of FIG. 1 formed in the above-described order, a semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as “IC”) chip 50 is mounted on the die pad 4 (a die attach material is placed on the die pad). This shows a state in which the electrode pads 9 formed on the IC chip 50 and the inner leads 2 are connected by wires 6.

【0021】図3で示されたアウターリード3の信号配
列35は、従来の技術で示した図9(ICチップの電極
パッドの信号配列を変更)および図10(上方から見て
ワイヤー6が交差するようなワイヤボンディング)と結
果的に同じとなっている。
The signal arrangement 35 of the outer lead 3 shown in FIG. 3 is the same as that shown in FIG. 9 (change of the signal arrangement of the electrode pads of the IC chip) and FIG. The result is the same as wire bonding.

【0022】図1で示されたリードフレーム100によ
り、ICチップ50上の電極パッド9の信号配置を変更
せず、ユーザーが要望するアウターリード部での信号配
置を得ることができたが、特にダイパッドの両面にIC
チップ50を搭載させる場合、本発明のリードフレーム
は有効である。ダイパッドの表側の面に第1のICチッ
プ、ダイパッドの裏側の面に第2のICチップを搭載す
る場合、第1のチップと第2のチップの共通信号は同一
のインナーリードに接続し、結果的にアウターリードの
本数を削減したい。そこで従来のリードフレーム200
を使用すると、少なくとも片方のICチップについては
図9あるいは図10のようにする必要がある。
With the lead frame 100 shown in FIG. 1, the signal arrangement in the outer lead portion desired by the user can be obtained without changing the signal arrangement of the electrode pads 9 on the IC chip 50. IC on both sides of die pad
When mounting the chip 50, the lead frame of the present invention is effective. When the first IC chip is mounted on the front surface of the die pad and the second IC chip is mounted on the rear surface of the die pad, common signals of the first chip and the second chip are connected to the same inner lead. Want to reduce the number of outer leads. Therefore, the conventional lead frame 200
Is used, at least one of the IC chips needs to be as shown in FIG. 9 or FIG.

【0023】図1に示した本発明のリードフレーム10
0によって、図4(a)の上面図、同(b)の下面図に
示すようにダイパッド4の表側の面に第1のICチップ
60、裏側の面に第2のICチップ70を搭載し、かつ
ワイヤーを交差することなくワイヤー接続することがで
き、かつ第1のチップ60と第2のチップ70の共通信
号は同一のアウターリードに電気的に導通をとることが
可能である。また、図4では第1のICチップ60の信
号配列を第2のICチップ70の信号配列に合わせ込ん
でいるため、第1のICチップ60の電極パッドの一部
のみ再配線パターンにワイヤー接続しているが、第1の
ICチップ60の電極パッドと第2のICチップ70の
電極パッドの両方から再配線パターンにワイヤー接続で
きるリードフレームのパターニングにしても構わない。
The lead frame 10 of the present invention shown in FIG.
0, the first IC chip 60 is mounted on the front surface of the die pad 4 and the second IC chip 70 is mounted on the back surface thereof as shown in the top view of FIG. 4A and the bottom view of FIG. The wires can be connected without crossing the wires, and the common signal of the first chip 60 and the second chip 70 can be electrically connected to the same outer lead. In FIG. 4, since the signal arrangement of the first IC chip 60 is matched with the signal arrangement of the second IC chip 70, only a part of the electrode pads of the first IC chip 60 is connected to the rewiring pattern by wire connection. However, the lead frame may be patterned so that wires can be connected to the rewiring pattern from both the electrode pads of the first IC chip 60 and the electrode pads of the second IC chip 70.

【0024】なお、図4の状態の後、樹脂で全体を封止
し、外装メッキを施し、不要な部分を打ち抜き、所定の
位置でアウターリードを曲げて半導体集積回路装置が完
成する(図5)。更に信号の入れ替えを対辺方向に行う
場合は、図6に示すようにダイパッド4を分割して、そ
の隙間の部分に再配線パターンが通るようにリードフレ
ーム200をパターニングすればよい。なおこの場合、
ダイパッド部およびダイパッドを分割する再配線部分を
覆うようにポリイミドフィルム等の絶縁体を熱圧着で貼
り付けて、ダイボンド後にICチップとダイパッド4の
分割部の再配線パターンとが直接接触しないようにす
る。
After the state shown in FIG. 4, the entire structure is sealed with a resin, exterior plating is performed, unnecessary portions are punched out, and outer leads are bent at predetermined positions to complete a semiconductor integrated circuit device (FIG. 5). ). Further, when the signals are exchanged in the opposite direction, the die pad 4 may be divided as shown in FIG. 6 and the lead frame 200 may be patterned so that the rewiring pattern passes through the gap. In this case,
An insulator such as a polyimide film is bonded by thermocompression bonding so as to cover the die pad portion and the rewiring portion dividing the die pad, so that the IC chip does not directly contact the rewiring pattern of the split portion of the die pad 4 after die bonding. .

【0025】また、上述のダイパッドの両面にICチッ
プを搭載する構造において、ダイパッドを介して両IC
チップのバルク電位が等しくなってはICチップが動作
しなくなってしまう場合も、少なくともいずれか一方の
ICチップはポリイミドフィルム等の絶縁体を介してダ
イパッド上に搭載すればよい。
In the above-described structure in which an IC chip is mounted on both sides of the die pad, the two ICs are provided via the die pad.
Even if the IC chip does not operate when the bulk potential of the chip becomes equal, at least one of the IC chips may be mounted on the die pad via an insulator such as a polyimide film.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明を
用い、リードフレームのパターニングで作製した再配線
パターンにより、信号配列を自由に変更することが可能
となり、半導体集積回路装置の汎用性を高めることが可
能となった。
As described in detail above, the signal arrangement can be freely changed by the rewiring pattern produced by patterning the lead frame using the present invention, and the versatility of the semiconductor integrated circuit device is improved. Can be increased.

【0027】また、半導体集積回路装置に複数個のIC
チップを内蔵する際、共通信号を容易に同一のアウター
リードに接続することが可能となり、アウターリードの
本数の削減、半導体集積回路装置の小型化(実装面積の
削減)に寄与することができる。
Further, a plurality of ICs may be provided in a semiconductor integrated circuit device.
When a chip is incorporated, a common signal can be easily connected to the same outer lead, which can contribute to a reduction in the number of outer leads and a reduction in the size of the semiconductor integrated circuit device (reduction in mounting area).

【0028】また、請求項4を用いることにより、信号
の入れ替えを対辺方向に行う場合に、信号の入れ替えの
自由度が増加して、さらに半導体集積回路装置の小型化
に寄与することができる。
According to the fourth aspect, when the signals are exchanged in the opposite direction, the degree of freedom of the signal exchange is increased, which can further contribute to the miniaturization of the semiconductor integrated circuit device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態のリードフレームの
平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a lead frame according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施の形態のリードフレームを
使用して、ICチップをダイボンディング、ワイヤーボ
ンディングした状態を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a state in which an IC chip is die-bonded and wire-bonded using the lead frame according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施の形態のリードフレームの
製造工程図である。
FIG. 3 is a manufacturing process diagram of the lead frame according to the first embodiment of the present invention.

【図4】(a)は本発明の第1の実施の形態のリードフ
レームを使用して、ICチップをダイパッドの両面にダ
イボンディング、ワイヤーボンディングした状態の上面
図、(b)は同下面図である。
FIG. 4A is a top view of a state in which an IC chip is die-bonded and wire-bonded to both sides of a die pad using the lead frame according to the first embodiment of the present invention, and FIG. It is.

【図5】(a)は本発明の第1の実施の形態のリードフ
レームを使用した、樹脂封止後の半導体集積回路装置の
平面図、(b)は同断面図である。
FIG. 5A is a plan view of a semiconductor integrated circuit device after resin sealing using the lead frame according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 5B is a sectional view of the same.

【図6】本発明の第2の実施の形態のリードフレームを
使用して、ICチップをダイパッドの両面にダイボンデ
ィング、ワイヤーボンディングした状態を示す図であ
る。
FIG. 6 is a diagram illustrating a state in which an IC chip is die-bonded and wire-bonded to both surfaces of a die pad using the lead frame according to the second embodiment of the present invention.

【図7】第1の従来のリードフレームの平面図である。FIG. 7 is a plan view of a first conventional lead frame.

【図8】第1の従来のリードフレームを使用して、IC
チップをダイボンディング、ワイヤーボンディングした
状態を示す図である。
FIG. 8 shows an example of an IC using a first conventional lead frame.
It is a figure showing the state where a chip was die-bonded and wire-bonded.

【図9】第1の従来のリードフレームを使用した、第1
の信号配置変更例を示した図である。
FIG. 9 shows a first conventional lead frame using a first lead frame;
FIG. 7 is a diagram showing an example of a change in the signal arrangement.

【図10】第1の従来のリードフレームを使用した、第
2の信号配置変更例を示した図である。
FIG. 10 is a diagram showing a second signal arrangement modification example using a first conventional lead frame.

【図11】第2の従来のリードフレームを使用した、第
3の信号配置変更例を示した図である。
FIG. 11 is a diagram showing a third signal arrangement modification example using a second conventional lead frame.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 再配線パターン 2 インナーリード 3 アウターリード 4 ダイパッド 5 サポートバー 6 ワイヤー 7 ポリイミドフィルム 8 保持部分 9 電極パッド 10 枠部 20 ICチップの電極パッドの信号配列を表す 30 アウターリードの信号配列を表す 35 アウターリードの変更後の信号配列を示す 50、60、70 ICチップ 80 封止樹脂 100 リードフレーム 200 従来のリードフレーム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Rewiring pattern 2 Inner lead 3 Outer lead 4 Die pad 5 Support bar 6 Wire 7 Polyimide film 8 Holding part 9 Electrode pad 10 Frame part 20 Representing signal arrangement of IC chip electrode pad 30 Representing outer lead signal arrangement 35 Outer Shows the signal arrangement after changing the leads 50, 60, 70 IC chip 80 Sealing resin 100 Lead frame 200 Conventional lead frame

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森 勝信 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Fターム(参考) 5F067 AA18 AB02 BA03 BB08 BB10 BB15 BD05 BE09 CB08 CC03 CC08 CD01 CD06 DA11 DA16 DC13 DC17 DF02 DF06 DF09 DF11  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Katsunobu Mori Inventor F-term 5F067 AA18 AB02 BA03 BB08 BB10 BB15 BD05 BE09 CB08 CC03 CC08 CD01 CD06 DA11 in 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka DA16 DC13 DC17 DF02 DF06 DF09 DF11

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体集積回路チップを載せるダイパッ
ドとなる部分と、アウターリードとなる部分と、インナ
ーリードとなる部分と、上記ダイパッドとなる部分と上
記インナーリードとなる部分との間に上記半導体集積回
路チップおよび上記インナーリードとを電気的に接続す
るために設けられた一個もしくは複数の中継用導電体を
有することを特徴とするリードフレーム。
1. A semiconductor integrated circuit device comprising: a portion serving as a die pad on which a semiconductor integrated circuit chip is mounted; a portion serving as an outer lead; a portion serving as an inner lead; and a portion between the portion serving as a die pad and the portion serving as the inner lead. A lead frame comprising one or a plurality of relay conductors provided for electrically connecting a circuit chip and the inner leads.
【請求項2】 インナーリード及びダイパッドとは電気
的に絶縁された中継用導電体を少なくとも上記インナー
リードと上記ダイパッドとの間の領域に有し、且つ、上
記中継用導電体は絶縁体によって上記インナーリード及
びダイパッドと固定されており、且つ、上記ダイパッド
に搭載された半導体集積回路チップは直接又は上記中継
用導電体を介して電気的に上記インナーリードと接続さ
れていることを特徴とする半導体集積回路装置。
2. The method according to claim 1, wherein the inner lead and the die pad have a relay conductor electrically insulated at least in a region between the inner lead and the die pad, and the relay conductor is formed by an insulator. A semiconductor fixed to an inner lead and a die pad, and wherein the semiconductor integrated circuit chip mounted on the die pad is directly or electrically connected to the inner lead via the relay conductor. Integrated circuit device.
【請求項3】 上記ダイパッドの表裏面のそれぞれに、
半導体集積回路チップを搭載したことを特徴とする、請
求項2に記載の半導体集積回路装置。
3. The method according to claim 1, wherein each of the front and back surfaces of the die pad includes:
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 2, wherein a semiconductor integrated circuit chip is mounted.
【請求項4】 上記ダイパッドは複数領域に分割されて
おり、上記中継用導体が該ダイパッドの分割領域間の領
域をわたって一のインナーリード列側から対向する他の
インナーリード列側に形成されており、且つ、該中継用
導電体は上記半導体集積回路チップとは電気的に絶縁さ
れていることを特徴とする、請求項2又は請求項3に記
載の半導体集積回路装置。
4. The die pad is divided into a plurality of areas, and the relay conductor is formed on one inner lead row side facing another inner lead row side across the area between the divided areas of the die pad. 4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 2, wherein said relay conductor is electrically insulated from said semiconductor integrated circuit chip.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007220708A (en) * 2006-02-14 2007-08-30 Oki Electric Ind Co Ltd Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2008227278A (en) * 2007-03-14 2008-09-25 Nec Electronics Corp Semiconductor device and its manufacturing method
US7989932B2 (en) 2007-06-18 2011-08-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device

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