JP2000070889A - 表面処理装置 - Google Patents

表面処理装置

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JP2000070889A
JP2000070889A JP10244659A JP24465998A JP2000070889A JP 2000070889 A JP2000070889 A JP 2000070889A JP 10244659 A JP10244659 A JP 10244659A JP 24465998 A JP24465998 A JP 24465998A JP 2000070889 A JP2000070889 A JP 2000070889A
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和宏 坂井
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理室内のオゾン濃度または処理室内の紫外
放射照度を常に一定範囲に制御することによって、周囲
の湿度に影響を受けることなく、安定した表面処理効果
を得ることができる表面処理装置を提供することを課題
とする。 【解決手段】 処理装置本体１１の内部に紫外放射光源
１４を装着し、また同紫外放射光源の照射部に処理室１
２を配置し、さらに処理室内のオゾン濃度を測定するオ
ゾン濃度計２０と、オゾン濃度により回転数が変化する
排気ファン２４とを有し、処理室内のオゾン濃度により
排気ファンの回転数を制御し、絶えずオゾン濃度が一定
になるように構成してある。またオゾン濃度の替わりに
処理室１２内の紫外放射照度を測定し、紫外放射照度に
応じて排気ファン２４の回転数を制御し、絶えず紫外放
射照度が一定になるように構成してもよい。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は表面処理装置の改良
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来一般に、プラスチック、ガラス、金
属、セラミック等の材料表面に付着している有機物の汚
れを紫外放射とオゾンにより分解除去し、またプラスチ
ック等の有機系材料の表面改質においても紫外放射とオ
ゾンが使用されている。従来の表面処理装置は、例えば
図５に示すように、箱体状の装置本体１の内部に反射体
２を配置し、さらに同反射体２の内部に所定の間隔で紫
外放射光源３を装着して構成してある。紫外放射光源３
としては、例えば低圧水銀ランプを用いて構成してあ
る。さらに紫外放射光源３の下方に位置して、被処理物
４をコンベアー５等で搬送するように構成してある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記した表面処理装置
によると、紫外放射光源から放射される紫外放射と同紫
外放射光源から生成されるオゾンにより、プラスチッ
ク、ガラス、金属、セラミック等の材料表面に付着して
いる有機物の汚れを分解除去することができる。しかし
オゾン濃度は周囲の環境条件、特に湿度により大きく変
化して、被処理物の表面処理効果も影響を受け、表面処
理効果が変動する欠点がある。さらにオゾン濃度が変化
することによって、オゾンが吸収波長域である約２００
ｎｍから３００ｎｍの紫外放射照度も変化し、表面処理
効果が変動する欠点がある。
【０００４】本発明は上記の点に鑑み発明したものであ
って、処理室内のオゾン濃度または処理室内の特定波長
の紫外放射を常に一定範囲に制御することによって、周
囲の湿度に影響を受けることなく、安定した表面処理を
行うことができる表面処理装置を提供することを目的と
する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために次の構成とする。つまり請求項１に記載の発
明は、内部に紫外放射光源を装着してなる処理装置本体
と、同紫外放射光源の照射部に配置してなる処理室と、
処理室内のオゾン濃度を測定するオゾン濃度計と、オゾ
ン濃度により回転数が変化する排気ファンとを有して構
成してある。またオゾン濃度により排気ファンの回転数
を制御し、絶えず処理室内のオゾン濃度を一定とするよ
うに構成してある。
【０００６】請求項１に記載の発明によると、処理室内
のオゾン濃度を常に一定範囲に制御することができ、周
囲の湿度の影響を受けることなく、安定した表面処理効
果を得ることができる。
【０００７】請求項２に記載の発明は上記した課題を解
決するために次の構成としてある。つまり内部に紫外放
射光源を装着してなる処理装置本体と、同紫外放射光源
の照射部に配置してなる処理室と、処理室内の紫外放射
照度を測定する測定器と、紫外放射照度により回転数が
変化する排気ファンとを有して構成してある。また測定
器の信号を受けて排気ファンの回転数を制御し、絶えず
紫外放射照度を一定とするように構成してある。
【０００８】請求項２に記載の発明によると、処理室内
の特定波長の紫外放射を常に一定範囲に制御することが
でき、周囲の湿度の影響を受けることなく、安定した表
面処理効果を得ることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下本発明を図１乃至図４につい
て説明する。図１及び図２において、１１は処理装置本
体であって、処理室１２を有して箱形に構成してある。
１３は処理装置本体１１の内部に配置してなる反射体で
あって、例えば鏡面のアルミニュウム板を用いて構成し
てある。１４は反射体１３の内部に装着してなる紫外放
射光源であって、例えば４０ワットの低圧水銀ランプを
用いて構成してある。また同紫外放射光源１４は、例え
ば６灯を被処理物の搬送方向に沿って、５ｃｍの間隔を
有して構成してある。また同紫外放射光源１４は、２０
０ｎｍ以下の紫外放射によって、オゾンを生成し、さら
に３００ｎｍ以下の紫外放射を被処理物の表面に照射す
るように構成してある。
【００１０】１５は紫外放射光源１４の下方に位置する
被処理物であって、例えばプラスチック、ガラス、金
属、セラミック等の素材で構成されたものである。同被
処理物１５は例えばコンベアー１６で搬送する。
【００１１】２０は処理装置本体１１の内部に配置して
なるオゾン濃度計であって、処理室１２内のオゾン濃度
を絶えず測定する。２１はオゾン濃度計２０に一端を接
続してなるオゾン濃度測定用サンプリング部であって、
例えば中空状に構成し、処理室１２内のオゾンを採取す
るように構成してある。２２はインバータ、２３は入出
力インターフェースであって、オゾン濃度計２０からの
信号を受けてインバータ２２に信号を送るように構成し
てある。２４は排気ファン、同排気ファン２４はインバ
ータ２２に入力された排気ファン回転数設定に基づい
て、インバータ２２に送られた出力信号（電圧）に応じ
て回転数を制御するように構成してある。オゾン濃度が
インバータ２２に入力された排気ファン設定値よりも高
い場合は、排気ファン２４の回転数を増やし、排気ファ
ン設定値よりも低い場合は、排気ファン２４の回転数を
減らし、処理室１２内のオゾン濃度を絶えず排気ファン
設定値に制御することができる。また処理室１２内のオ
ゾンが外部に流出するのを防止するために、処理室１２
内は負圧に構成してある。
【００１２】次に請求項２に記載の表面処理装置を図３
について説明する。請求項２に記載の発明は請求項１に
記載の発明と、処理装置本体１１、処理室１２、反射体
１３紫外放射光源１４、被処理物１５、コンベアー１６
は同一である。図３において、３０は３００ｎｍ以下の
波長に感度域を有する照度計、３１は照度計受光部であ
って、先端部を被処理物１５の近傍に配置し、照度計３
０に信号を送るように構成してある。３２はインバー
タ、３３は入出力インターフェースであって、照度計３
０からの信号を受けてインバータ３２に信号を送るよう
に構成してある。３４は排気ファン、同排気ファン３４
はインバータ３２に入力された排気ファン設定値に基づ
いて、インバータ３２に送られた出力信号（電圧）に応
じて、回転数を制御するように構成してある。照度がイ
ンバータ３２に入力された排気ファン設定値よりも高い
場合は、排気ファン３４の回転数を減らし、設定値より
も低い場合は、排気ファン３４の回転数を増やし、処理
室１２内の紫外放射照度を絶えず設定値に制御すること
ができる。また請求項２に記載の表面処理装置において
も請求項１の記載に表面処理装置と同じく処理室１２内
のオゾンが外部に流出するのを防止するために、処理室
１２内は負圧に構成してある。
【００１３】次に上記した表面処理装置による湿度と、
オゾン排風量と、オゾン濃度の関係を説明する。図５に
示した従来の表面処理装置によると、図６に示すよう
に、湿度が上昇すると、オゾン濃度は低下し、紫外放射
照度は上昇する。これは、オゾン分子が空気中の水分子
に衝突し分解するためである。さらにオゾン濃度が低下
すると、オゾンによる紫外放射(２００ｎｍから３００
ｎｍ)吸収量が減るため紫外放射照度は逆に上昇する。
これに対し請求項１に記載の本発明によると、図４に示
すように、湿度が上昇するに従いオゾン排風量を減らす
ことにより、オゾン濃度は絶えず一定範囲内に維持する
ことができ、安定した表面処理を行うことができる。請
求項２に記載の発明によると、湿度が上昇するに従いオ
ゾン排風量を減らすことにより、紫外放射照度は絶えず
一定範囲内に維持することができ、安定した表面処理を
行うことができる。
【００１４】
【発明の効果】上記した請求項１に記載の本発明による
と、処理室内のオゾン濃度を常に一定範囲に制御するこ
とができ、周囲の湿度に影響を受けることなく、安定し
た表面処理を行うことができる特別な効果を有する。
【００１５】上記した請求項２に記載の本発明による
と、処理室内の紫外放射照度を常に一定範囲に制御する
ことができ、周囲の湿度に影響を受けることなく、安定
した表面処理を行うことができる特別な効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る表面処理装置の正面図。
【図２】図１に示す表面処理装置の側面図。
【図３】本発明に係る他の表面処理装置の側面図。
【図４】図１に示す表面処理装置における湿度とオゾン
濃度の関係を示す説明図。
【図５】従来の表面処理装置の側面図。
【図６】図５に示す表面処理装置における湿度とオゾン
濃度の関係を示す説明図。
【符号の説明】
１１ 処理装置本体 １２ 処理室 １３ 反射体 １４ 紫外放射光源 １５ 被処理物 １６ コンベアー ２０ オゾン濃度計 ２１ オゾン濃度測定用サンプリング部 ２２ インバータ ２３ 入出力インターフェース ２４ 排気ファン ３０ 照度計 ３１ 照度計受光部 ３２ インバータ ３３ 入出力インターフェース ３４ 排気ファン

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】内部に紫外放射光源を装着してなる処理装
    置本体と、同紫外放射光源の照射部に配置してなる処理
    室と、処理室内のオゾン濃度を測定するオゾン濃度計
    と、オゾン濃度により回転数が変化する排気ファンとを
    有し、オゾン濃度により排気ファンの回転数を制御し、
    絶えずオゾン濃度を一定としたことを特徴とする表面処
    理装置。
  2. 【請求項２】内部に紫外放射光源を装着してなる処理装
    置本体と、同紫外放射光源の照射部に配置してなる処理
    室と、処理室内の紫外放射照度を測定する測定器と、紫
    外放射照度により回転数が変化する排気ファンとを有
    し、測定器の信号を受けて排気ファンの回転数を制御
    し、絶えず紫外放射照度を一定としたことを特徴とする
    表面処理装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113313929A (zh) * 2020-12-30 2021-08-27 贵州电网有限责任公司 一种用于存储LoRa技术的电能表通信模组的存储装置
CN114273339A (zh) * 2021-12-30 2022-04-05 博能传动(苏州)有限公司 变频驱动器

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113313929A (zh) * 2020-12-30 2021-08-27 贵州电网有限责任公司 一种用于存储LoRa技术的电能表通信模组的存储装置
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