JP2000061789A - 半導体ウエハの研摩方法及び研摩装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 研摩ドラムの回転に伴い、研摩液が周辺に飛
散して周辺が汚損される。 【解決手段】 内面に研摩手段５ｃが取付けられた円筒
状の研摩ドラム５及びこの研摩ドラム５を回転駆動する
研摩ドラム駆動源８よりなる研摩ドラム駆動手段２と、
上記研摩ドラム５の研摩手段５ｃにより研摩すべきウエ
ハ１３をほぼ垂直に保持するチャック１２と、上記チャ
ック１２を回転駆動するチャック駆動手段４と、上記チ
ャック１２に保持されたウエハ１３の面取り部及び外周
面を上記研摩手段５ｃに当接させる付勢手段１６と、上
記チャック１２を昇降させて、ウエハ１３を研摩ドラム
５内に出し入れするチャック昇降手段１４とより構成し
たもので、研摩ドラム５内でウエハ１３を研摩するた
め、研摩液が周辺に飛散することがなく、これによって
研摩液により周辺が汚損されるのを未然に防止すること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は半導体ウエハの面
取り部と外周面及びノッチ部を研摩する研摩方法及び研
摩装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来集積回路（ＩＣ）などに使用される
半導体ウエハ（以下単にウエハという）の研摩方法や研
摩装置としては、例えば特公平７−６１６０１号公報や
特開平５−２３９５９号公報に記載されたものが公知で
ある。

【０００３】またウエハ外周面に形成された位相位置決
め用のノッチ部を研摩する装置としては、例えば特開平
８−１６８９４７号公報に記載されたものが公知となっ
ている。

【０００４】上記特公平７−６１６０１号公報に記載の
研摩方法は、チャックテーブルに保持されて、軸心を中
心に回転されるウエハに、該ウエハと接離する方向に移
動自在に支持された研摩ドラムをウエイトの付勢力で上
記ウエハの外周面に当接させて、研摩ドラムによりウエ
ハの面取り部や外周面を研摩するようにしたもので、ウ
エハの面取り部や外周面を簡単かつ確実に研摩できるな
どの効果を有している。

【０００５】また上記特開平５−２３９５９号公報に記
載の研摩方法は、内面に研摩クロスの取付けられた筒状
の研摩ドラム内にウエハを挿入して、ウエハの外周面を
研摩ドラムに押し付け、かつウエハ及び研摩ドラムを回
転させて、ウエハの面取り部及び外周面を研摩するよう
にしたもので、研摩ドラムとウエハの接触長さが長くで
きるため、大径のウエハであっても短時間で研摩するこ
とができるなどの効果を有している。

【０００６】一方特開平８−１６８９４７号公報に記載
の研摩装置は、水平に保持されたウエハのノッチ部に、
ウエハと直交するように設けられた研摩ディスクを回転
させながら当接させて、ノッチ部を研摩するようにした
もので、ノッチ部の研摩加工が容易に行えるなどの効果
を有している。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし上記特公平７−
６１６０１号公報のように、回転する研摩ドラムの外周
面にウエハの面取り部や外周面を当接させて、面取り部
や外周面を研摩するものでは、研摩ドラムとウエハの接
触長さが短いため、研摩に多くの時間を要して作業能率
が悪いと共に、研摩部に研摩液をかけると、研摩ドラム
の回転に伴い、遠心力により研摩液が周辺に飛散するた
め、研摩液の回収率が低くなって不経済である上、飛散
した研摩液が周囲に付着して硬化することから、これを
除去するのに多くの手間を要するなど、メンテナンス性
が悪い不具合がある。

【０００８】またウエハ研摩中に、固化した研摩液がウ
エハ上に剥げ落ちると、ウエハにシミ（パーティクル）
が発生して、ウエハがパーティクルにより不良品となる
ため、歩留まりが悪化する原因にもなる。

【０００９】一方上記特開平５−２３９５９号公報のよ
うに、筒状の研摩ドラムの内面にウエハを当接して、ウ
エハの面取り部や外周面を研摩するようにしたもので
は、上述した公報のような不具合は解消することができ
るが、ウエハの面取り部と外周面を研摩する場合、ウエ
ハの角度を変えてウエハを研摩ドラムに当接させる必要
があり、面取り部及び外周面を研摩するのに時間がかか
って生産性が悪いと共に、研摩ドラム内のウエハは水平
に近い状態で保持されていることから、研摩液がウエハ
上面に堆積してパーティクルが発生し、ウエハがパーテ
ィクルにより不良品となるため、歩留まりが悪いなどの
不具合がある。

【００１０】またウエハは研摩ドラム内に水平に近い状
態に保持されるため、１度に複数枚のウエハを同時に研
摩しようとした場合、内径の大きな研摩ドラムを使用し
なければならず、装置は大型かつ高価となるなどの不具
合もある。

【００１１】一方特開平８−１６８９４７号公報のよう
に、ウエハと直交するように設けられた研摩ディスクに
よりウエハのノッチ部を研摩するようにしたものでは、
ノッチ部の面取り面を研摩するのにウエハを種々の角度
で研摩ディスクに当接させる必要があることから、複雑
な角度調整機構を必要として装置が高価になるととも
に、研摩ディスクに付着した研摩液が研摩ディスクの回
転に伴ない、遠心力で周辺に飛散するため上記特公平７
−６１６０１号公報と同様に研摩液の回収率が低くなっ
て不経済である上、飛散した研摩液が周囲に付着して硬
化することから、これを除去するのに多くの手間を要す
るなど、メンテナンス性が悪い不具合がある。

【００１２】また研摩中に、固化した研摩液がウエハ上
に剥げ落ちると、ウエハにパーティクルが発生して、ウ
エハがパーティクルにより不良品となるため、歩留まり
が悪いなどの不具合もある。

【００１３】この発明はかかる従来の不具合を改善する
ためになされたもので、研摩液が周辺に飛散することが
なく、かつ研摩液がウエハ上に堆積することも少ない半
導体ウエハの研摩方法及び研摩装置を提供することを目
的とするものである。

【００１４】

【課題を解決するための手段及び作用・効果】上記目的
を達成するため請求項１記載の発明は、内面に研摩手段
が取付けられた円筒状の研摩ドラムを、研摩ドラム駆動
源によりほぼ垂直なドラム駆動軸を中心に回転させた状
態で、チャック駆動手段により回転されるチャックに研
摩すべきウエハを保持して、上記研摩ドラム内にほぼ垂
直に挿入し、かつ付勢手段により上記ウエハの面取り部
及び外周面を上記研摩手段へ当接させて、研摩手段によ
りウエハの面取り部と外周面を同時に研摩するようにし
たものである。

【００１５】上記方法により、ウエハの面取り部と外周
面を同時に研摩することができるため、生産性がよいと
共に、研摩ドラム内でウエハの研摩を行うため、研摩部
に供給された研摩液が遠心力により周囲に飛散すること
がない。これによって研摩液が無駄に消費されることが
ないため経済的であると共に、周辺に飛散して固着した
研摩液を取除くなどの作業を必要としないので、メンテ
ナンスも容易となる。

【００１６】またウエハをほぼ垂直に保持して研摩を行
うため、研摩液がウエハ上に堆積してパーティクル原因
となることも少ないので、歩留まりも向上する。

【００１７】上記目的を達成するため請求項２記載の発
明は、内面にノッチ研摩手段が取付けられた円筒状の研
摩ドラムを、研摩ドラム駆動源により回転させた状態
で、チャックにより保持したウエハを上記研摩ドラム内
にほぼ垂直に挿入し、かつ付勢手段により上記ウエハの
ノッチ部を上記ノッチ研摩手段に当接させて、ノッチ研
摩手段によりウエハのノッチ部を研摩するようにしたも
のである。

【００１８】上記方法により、ウエハに形成されたノッ
チ部をウエハの角度を変えずに研摩することがでるた
め、ノッチ部の研摩が短時間で能率よく行えるようにな
る。

【００１９】上記目的を達成するため請求項３記載の発
明は、内面に研摩手段が取付けられた円筒状の研摩ドラ
ム及びこの研摩ドラムを回転駆動する研摩ドラム駆動源
よりなる研摩ドラム駆動手段と、上記研摩ドラムの研摩
手段により研摩すべきウエハをほぼ垂直に保持するチャ
ックと、上記チャックを回転駆動するチャック駆動手段
と、上記チャックに保持されたウエハの面取り部及び外
周面を上記研摩手段に当接させる付勢手段と、上記チャ
ックを昇降させて、ウエハを研摩ドラム内に出し入れす
るチャック昇降手段とより構成したものである。

【００２０】上記構成により、ウエハの面取り部と外周
面を同時に研摩することができるため、生産性がよいと
共に、研摩ドラム内でウエハの研摩を行うため、研摩部
に供給された研摩液が遠心力により周囲に飛散すること
がない。これによって研摩液が無駄に消費されることが
ないため経済的であると共に、周辺に飛散して固着した
研摩液を取除くなどの作業を必要としないので、メンテ
ナンスも容易となる。

【００２１】またウエハをほぼ垂直に保持して研摩を行
うため、研摩液がウエハ上に堆積してパーティクル原因
となることも少ないので、歩留まりも向上する。

【００２２】上記目的を達成するため請求項４記載の発
明は、内面に研摩手段が取付けられ、かつ下部外周また
は底部の少なくとも一方に研摩液排出口が開口された筒
状の研摩ドラム及びこの研摩ドラムを回転駆動する研摩
ドラム駆動源よりなる研摩ドラム駆動手段と、上記研摩
ドラムの研摩手段により研摩すべきウエハをほぼ垂直に
保持するチャックと、上記チャックを回転駆動するチャ
ック駆動手段と、上記チャックに保持されたウエハの面
取り部及び外周面を上記研摩手段に当接させる付勢手段
と、上記チャックを昇降させて、ウエハを研摩ドラム内
に出し入れするチャック昇降手段とより構成したもので
ある。

【００２３】上記構成によりウエハの面取り部と外周面
を同時に研摩することができるため、生産性がよいと共
に、研摩ドラム内でウエハの研摩を行うため、研摩部に
供給された研摩液が遠心力により周囲に飛散することが
ない。これによって研摩液が無駄に消費されることがな
いため経済的であると共に、周辺に飛散して固着した研
摩液を取除くなどの作業を必要としないので、メンテナ
ンスも容易となる。

【００２４】またウエハをほぼ垂直に保持して研摩を行
うため、研摩液がウエハ上に堆積してパーティクル原因
となることも少ないので、歩留まりも向上する。さらに
研摩ドラムの底部に達した研摩液は、研摩液排出口より
排出されるので、研摩液の回収が容易に行える。

【００２５】上記目的を達成するため請求項５記載の発
明は、研摩ドラムの周囲を囲むように研摩液回収パンを
設けたものである。

【００２６】上記構成により、研摩ドラムの研摩液排出
口より排出された研摩液は、研摩液回収パン内に回収さ
れるので、研摩液の再利用が容易に行える。

【００２７】上記目的を達成するため請求項６記載の発
明は、内面にノッチ研摩手段が取付けられた円筒状の研
摩ドラム及びこの研摩ドラムを回転駆動する研摩ドラム
駆動源よりなる研摩ドラム駆動手段と、上記研摩ドラム
の研摩手段により研摩すべきウエハをほぼ垂直に保持す
るチャックと、上記チャックに保持されたウエハのノッ
チ部を上記研摩手段に当接させる付勢手段と、上記チャ
ックを昇降させて、ウエハを研摩ドラム内に出し入れす
るチャック昇降手段とより構成したものである。

【００２８】上記構成により、ウエハに形成されたノッ
チ部を、ウエハの角度を変えずに研摩することができる
ため、ノッチ部の研摩が短時間で能率よく行えると共
に、複雑な角度可変機構を必要としないので、装置を安
価に提供することができる。

【００２９】

【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図面を参
照して詳述する。図１は半導体ウエハの研摩装置の正面
図、図２は研摩ドラム駆動手段の断面図、図３は同平面
図、図４はチャック移動手段の一部切欠正面図、図５は
図４のＡ−Ａ線に沿う断面図、図６は図５のＢ方向から
の矢視図、図７の（イ）ないし（ハ）は作用説明図、図
８の（イ）及び（ロ）はノッチ部研摩時の作用説明図で
ある。

【００３０】図１においては研摩装置本体で、研摩ドラ
ム駆動手段２と、チャック送り手段３及びチャック駆動
手段４より構成されている。上記研摩ドラム駆動手段２
は、図２及び図３に示すように基板１ａ上に設置された
基台２ａを有していて、この基台２ａ上に上面が開口す
る研摩液回収パン２ｂが設けられている。上記研摩液回
収パン２ｂの中央部には、中心側へ順次高くなるテーパ
部２ｃが形成されていて、このテーパ部２ｃの中心に円
形の開口部２ｄが開口されており、この開口部２ｄによ
り研摩液回収パン２ｂ内にドラム駆動軸５ａの上端部が
突出されている。

【００３１】上記ドラム駆動軸５ａは、上記基台２ａの
上面に取付けられた軸受け６にほぼ垂直に支承されてい
て、上端部には、研摩液回収パン２ｂ内に設けられた研
摩ドラム５の底部が着脱自在に取付けられている。上記
研摩ドラム５は筒状かつ有底のドラム本体５ｂと、この
ドラム本体５ｂの内周面に着脱自在に取付けられた研摩
クロスよりなる研摩手段５ｃよりなり、下部側外周面に
は、研摩液を研摩液回収パン２ｂ内へ排出する研摩液排
出口５ｄが複数個開口されている。

【００３２】また上記ドラム駆動軸５ａの下端は、ギヤ
などの動力伝達手段７を介して、基台２ａ内に設置され
た電動機よりなるドラム駆動源８に接続されていて、こ
のドラム駆動源８により研摩ドラム５が回転駆動される
ようになっている。

【００３３】なお、図２中９は研摩液回収パン２ｂ内に
回収された研摩液を図示しない研摩液タンクへ送って再
使用するための研摩液循環管路を示す。

【００３４】一方上記チャック送り手段３は、研摩すべ
きウエハ１３を吸着保持するチャック１２を昇降させる
チャック昇降手段１４と、上記チャック１２を水平方向
へ移動させるチャック移動手段１５よりなる。上記チャ
ック昇降手段１４は、上記研摩ドラム駆動手段２の近傍
において基板１ａ上に立設された支柱１ｂの上部にほぼ
垂直に支承されたボールねじよりなるねじ軸１４ａを有
している。

【００３５】上記ねじ軸１４ａは上端と下端が支柱１ｂ
より突設されたブラケット１ｃに回転自在に支承されて
いて、上側のブラケット１ｃに取付けされた昇降駆動源
１４ｂにより正逆回転されるようになっている。そして
上記ねじ軸１４ａに、チャック移動手段１５の支持部材
１５ａに取付けられたナット部材１４ｃが螺合されてい
る。上記チャック移動手段１５は、ほぼ水平に設けられ
た箱状の支持部材１５ａを有していて、この支持部材１
５ａの一端側にガイド部１５ｂが形成され、このガイド
部１５ｂに上記ナット部材１４ｃが固着されていると共
に、ガイド部１５ｂの先端は、ねじ軸１４ａと平行する
よう支柱１ｂの上部に布設されたガイドレール１４ｄに
支承されていて、このガイドレール１４ｄにより支持部
材１５ａの昇降がガイドされるようになっている。

【００３６】また上記支持部材１５ａの内底面には、上
記研摩ドラム５の中心Ｏを水平に通る中心線５ｆと平行
するようにガイドレール１５ｃが布設されていて、この
ガイドレール１５ｃにスライダ１５ｄが上記中心線５ｆ
と平行する方向へ移動自在に支承されている。上記スラ
イダ１５ｄには、スライダ１５ｄをねじ軸１４ａ方向へ
付勢する付勢手段１６と、付勢方向と反対の方向へ移動
させる水平移動シリンダ１５ｅが接続されている。

【００３７】上記付勢手段１６はチャック１２に保持さ
れたウエハ１３の面取り部１３ａや外周面１３ｂを、研
摩ドラム５の研摩手段５ｃへ押し付けるためのもので、
一端側がスライダ１５ｄに結着されたワイヤなどの索条
１６ａと、索条１６ａの中間部が迂回されたプーリ１６
ｂ及び索条１６ａの他端に吊り下げられた重錘１６ｃよ
りなり、重錘１６ｃの自重によりチャック１２を付勢す
るようになっている。

【００３８】一方上記チャック移動手段１５のスライダ
１５ｄより下方に突設されたブラケット１５ｆにチャッ
ク駆動手段４が取付けられている。上記ブラケット１５
ｆは、支持部材１５ａの底面にガイドレール１５ｃと平
行するよう開口されたスリット１５ｇより支持部材１５
ａの下方へ突出されていて、このブラケット１５ｆの先
端に、縦方向に細長いケース４ａの上部がほぼ垂直とな
るように取付けられている。上記ケース４ａの前面に
は、上部に電動機よりなるチャック駆動源２０が、そし
て下部にチャック駆動軸１２ａを回転自在に支承する軸
受け４ｂが取付けられている。

【００３９】上記チャック駆動源２０の回転軸２０ａ
と、チャック駆動軸１２ａの一端はケース４ａ内に突出
されていて、これら軸２０ａ，１２ａ間はタイミングベ
ルトなどの動力伝達手段４ｃにより互に連動されてお
り、チャック駆動源２０によりチャック駆動軸１２ａが
回転されるようになっている。そして上記チャック駆動
軸１２ａの他端側に、チャック１２の中心部が着脱自在
に取付けられている。上記チャック１２は皿状をなして
いて、一端面が垂直な吸着面１２ｂとなっており、この
吸着面１２ｂにウエハ１３を吸着保持できるようになっ
ていると共に、吸着面１２ｂには図６に示すように径の
異なる複数の吸着溝１２ｃが形成されている。これら吸
着溝１２ｃはチャック１２内及びチャック駆動軸１２ａ
内に形成された通路１２ｄ，１２ｅ及び回転継手２１を
介して管路２２の一端に接続され、管路２２の他端は図
示しない真空吸引手段に接続されている。

【００４０】次に上記構成された半導体ウエハ研摩装置
を使用してウエハ１３を研摩する方法を図７も参照して
説明する。研摩すべきウエハ１３は、予め外周部の角部
が所定の角度で面取り加工されており、この研摩装置で
は、ウエハ１３の面取り部１３ａと外周面１３ｂ及びノ
ッチ加工されたウエハ１３にあっては、図８に示すノッ
チ研摩用研摩手段５ｅと交換することにより、ノッチ部
１３ｃの研摩も行えるようになっている。

【００４１】ウエハ１３の研摩に当っては、まずチャッ
ク１２を図１に示すように研摩ドラム５内より引き上げ
た状態で、チャック１２の吸着面１２ｂにウエハ１３を
吸着保持させる。次にこの状態でウエハ１３の外周面１
３ｂが、研摩ドラム５内面の研摩手段５ｃと接触しない
位置までチャック移動手段１５によりチャック１２を移
動させたら、チャック昇降手段１４によりチャック１２
を研摩ドラム５内へ下降させる。このときチャック１２
に吸着されたウエハ１３は、図７の（イ）に示すよう
に、研摩ドラム５の中心Ｏを通る中心線５ｆに対してε
だけオフセットされるようにチャック１２の位置が予め
設定されている。

【００４２】以上のようにして研摩の準備が完了した
ら、研摩ドラム駆動源８により研摩ドラム５を、そして
チャック駆動源２０によりチャック１２を回転させなが
ら、チャック移動手段１５の水平移動シリンダ１５ｅ内
の流体圧を排出する。これによって付勢手段１６の付勢
力Ｗによってチャック１２がねじ軸１４ａ側へ移動され
るため、チャック１２に吸着保持されたウエハ１３の外
周部が研摩ドラム５内面の研摩手段５ｃに図７の（ロ）
に示すように当接され、ウエハ１３の一方の面取り部１
３ａと外周面１３ｂが研摩手段５ｃにより同時に研摩さ
れる。また研摩クロスよりなる研摩手段５ｃは、弾性を
有しているため、研摩ドラム５の回転に伴い図７の
（ハ）に示すように、ウエハ１３の面取り部１３ａと外
周面１３ｂが同時に研摩手段５ｃに当接されるようにな
り、これによって面取り部１３ａと外周面１３ｂを同時
に研摩することができるようになる。

【００４３】以上のようにしてウエハ１３の面取り部１
３ａや、外周面１３ｂの研摩が完了したら、水平移動シ
リンダ１５ｅによりスライダ１５ｄを付勢方向と反対の
方向へ移動させて、ウエハ１３を研摩手段５ｃより離間
させた後、チャック昇降手段１４により上昇させて、研
摩ドラム５内より取り出すと共に、ウエハ１３の反対側
の面取り部１３ａを研摩する場合は、ウエハ１３の反対
の面をチャック１２に吸着保持させて上記動作を繰返せ
ばよい。

【００４４】また上記ウエハ１３の研摩中は、図示しな
いノズルより研摩部分へ研摩液を供給するが、この研摩
液は研摩ドラム５内に供給されるため、研摩ドラム５が
回転しても、遠心力により周辺に飛散することがないと
共に、研摩ドラム５の底部に達した研摩液は、研摩ドラ
ム５の下部外周に開口された研摩液排出口５ｄより研摩
液回収パン２ｂ内に回収された後、研摩液循環管路９に
より研摩液タンクへ送られて再使用されるため、研摩液
が無駄に消費されることがない。

【００４５】さらに研摩されるウエハ１３は、研摩ドラ
ム５内にほぼ垂直に保持されているため、研摩液が堆積
することがなく、これによってパーティクルが発生する
のを防止することもできる。

【００４６】以上はウエハ１３の面取り部１３ａ及び外
周面１３ｂを研摩する場合であるが、ウエハ１３に形成
されたノッチ部１３ｃを研摩する場合は、図８の（イ）
に示すように、研摩ドラム５の内面に設けられた研摩手
段５ｃをノッチ研摩手段５ｅと交換する。そして研摩ド
ラム５内にチャック１２を収容したら、チャック１２に
吸着保持されたウエハ１３のノッチ部１３ｃを図８の
（ロ）に示すようにノッチ研摩手段５ｅに当接させて、
ノッチ部１３ｃを研摩するもので、ノッチ研摩手段５ｅ
の弾性により、ウエハ１３の角度を変えなくとも、ノッ
チ部１３ｃの面取り部１３ｄまで研摩することができ
る。

【００４７】また上記実施の形態では、何れも１枚のウ
エハ１３を研摩ドラム５で研摩する場合であるが、チャ
ック駆動手段を複数組設けることにより、図９の（イ）
及び（ロ）に示すように、研摩ドラム５の径を変えずに
複数枚のウエハ１３を同時に研摩することができるた
め、生産性はさらに向上する。

【００４８】さらに上記実施の形態では、何れも研摩ド
ラム５の下部外周面に研摩液は排出口５ｄを開口した
が、底面でも底面と外周面の両方に開口してもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の形態になる半導体ウエハの研
摩装置を示す正面図である。

【図２】この発明の実施の形態になる半導体ウエハの研
摩装置を構成する研摩ドラム駆動手段の断面図である。

【図３】この発明の実施の形態になる半導体ウエハの研
摩装置を構成する研摩ドラム駆動手段の平面図である。

【図４】この発明の実施の形態になる半導体ウエハの研
摩装置を構成するチャック移動手段の一部切欠正面図で
ある。

【図５】図４のＡ−Ａ線に沿う断面図である。

【図６】図５のＢ方向からの矢視図である。

【図７】（イ）ないし（ハ）はウエハの面取り部及び外
周面の研摩方法を示す作用説明図である。

【図８】（イ）及び（ロ）はウエハのノッチ部を研摩す
る方法を示す作用説明図である。

【図９】（イ）及び（ロ）は複数のウエハを同時に研摩
する際の作用説明図である。

【符号の説明】

２…研摩ドラム駆動手段 ２ｂ…研摩液回収パン ４…チャック駆動手段 ５…研摩ドラム ５ａ…ドラム駆動軸 ５ｃ…研摩手段 ５ｄ…研摩液排出口 ５ｅ…ノッチ研摩手段 ８…研摩ドラム駆動源 １２…チャック １３…ウエハ １３ａ…面取り部 １３ｂ…外周面 １３ｃ…ノッチ部 １４…チャック昇降手段 １５…チャック移動手段 １６…付勢手段

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 内面に研摩手段５ｃが取付けられた円筒
   状の研摩ドラム５を、研摩ドラム駆動源８によりほぼ垂
   直なドラム駆動軸５ａを中心に回転させた状態で、チャ
   ック駆動手段４により回転されるチャック１２に研摩す
   べきウエハ１３を保持して、上記研摩ドラム５内にほぼ
   垂直に挿入し、かつ付勢手段１６により上記ウエハ１３
   の面取り部１３ａ及び外周面１３ｂを上記研摩手段５ｃ
   へ当接させて、研摩手段５ｃによりウエハ１３の面取り
   部１３ａと外周面１３ｂを同時に研摩することを特徴と
   する半導体ウエハの研摩方法。
2. 【請求項２】 内面にノッチ研摩手段５ｅが取付けられ
   た円筒状の研摩ドラム５を、研摩ドラム駆動源８により
   回転させた状態で、チャック１２により保持したウエハ
   １３を上記研摩ドラム５内にほぼ垂直に挿入し、かつ付
   勢手段１６により上記ウエハ１３のノッチ部１３ｃを上
   記ノッチ研摩手段５ｅに当接させて、ノッチ研摩手段５
   ｅによりウエハ１３のノッチ部１３ｃを研摩することを
   特徴とする半導体ウエハの研摩方法。
3. 【請求項３】 内面に研摩手段５ｃが取付けられた円筒
   状の研摩ドラム５及びこの研摩ドラム５を回転駆動する
   研摩ドラム駆動源８よりなる研摩ドラム駆動手段２と、
   上記研摩ドラム５の研摩手段５ｃにより研摩すべきウエ
   ハ１３をほぼ垂直に保持するチャック１２と、上記チャ
   ック１２を回転駆動するチャック駆動手段４と、上記チ
   ャック１２に保持されたウエハ１３の面取り部１３ａ及
   び外周面１３ｂを上記研摩手段５ｃに当接させる付勢手
   段１６と、上記チャック１２を昇降させて、ウエハ１３
   を研摩ドラム５内に出し入れするチャック昇降手段１４
   を具備したことを特徴とする半導体ウエハの研摩装置。
4. 【請求項４】 内面に研摩手段５ｃが取付けられ、かつ
   下部外周または底部の少なくとも一方に研摩液排出口５
   ｄが開口された筒状の研摩ドラム５及びこの研摩ドラム
   ５を回転駆動する研摩ドラム駆動源８よりなる研摩ドラ
   ム駆動手段２と、上記研摩ドラム５の研摩手段５ｃによ
   り研摩すべきウエハ１３をほぼ垂直に保持するチャック
   １２と、上記チャック１２を回転駆動するチャック駆動
   手段４と、上記チャック１２に保持されたウエハ１３の
   面取り部１３ａ及び外周面１３ｂを上記研摩手段５ｃに
   当接させる付勢手段１６と、上記チャック１２を昇降さ
   せて、ウエハ１３を研摩ドラム５内に出し入れするチャ
   ック昇降手段１４を具備したことを特徴とする半導体ウ
   エハの研摩装置。
5. 【請求項５】 研摩ドラム５の周囲を囲むように研摩液
   回収パン２ｂを設けてなる請求項４記載の半導体ウエハ
   の研摩装置。
6. 【請求項６】 内面にノッチ研摩手段５ｅが取付けられ
   た円筒状の研摩ドラム５及びこの研摩ドラム５を回転駆
   動する研摩ドラム駆動源８よりなる研摩ドラム駆動手段
   ２と、上記研摩ドラム５の研摩手段５ｃにより研摩すべ
   きウエハ１３をほぼ垂直に保持するチャック１２と、上
   記チャック１２に保持されたウエハ１３のノッチ部１３
   ｃを上記研摩手段５ｃに当接させる付勢手段１６と、上
   記チャック１２を昇降させて、ウエハ１３を研摩ドラム
   ５内に出し入れするチャック昇降手段１４を具備したこ
   とを特徴とする半導体ウエハの研摩装置。