JP2000052210A - ワークのエッジの研摩方法及び装置 - Google Patents

ワークのエッジの研摩方法及び装置

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JP2000052210A JP10237986A JP23798698A JP2000052210A JP 2000052210 A JP2000052210 A JP 2000052210A JP 10237986 A JP10237986 A JP 10237986A JP 23798698 A JP23798698 A JP 23798698A JP 2000052210 A JP2000052210 A JP 2000052210A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】研摩剤を含んだゴムホイールを用いて研摩する
ことによって、装置の配管を詰まらせたり、電磁弁の寿
命を縮めたり、その他様々な箇所に凝着する等問題の多
かったダイヤモンド砥粒を含んだスラリーを研摩剤とし
て用いることなく、研摩による発熱を空気や水等で冷却
するだけで従来通りの品質の研摩を可能にし、製造コス
トとランニングコストの大幅な削減を可能にすることで
ある。 【解決手段】研摩剤を含んだゴムホイール６を回転させ
て、その外周６ａにより薄板状のワーク５のエッジ５ａ
を研摩するように構成し、ワーク５の面と直角方向にゴ
ムホイール６を回転させるスピンドル部８と、直進往復
動するワーク取付け台部４と、スピンドル部８とワーク
取付け台部４とをゴムホイール６及びエッジ５ａが相互
に接近する方向に押圧付勢する弾性体９とを備え、スピ
ンドル部８及びワーク取付け台部４のいずれか一方を接
近又は離脱する方向にわずかに摺動自在に構成したこと
を特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ワークのエッジの
研摩方法及び装置に係り、特に研摩剤を含んだゴムホイ
ール（ＲＢＷ＝ＲＵＢＢＥＲ ＢＯＮＤＥＤ ＷＨＥＥ
Ｌ）を用いて研摩することによって、装置の配管を詰ま
らせたり、電磁弁の寿命を縮めたり、その他様々な箇所
に凝着する等問題の多かったダイヤモンド砥粒を含んだ
スラリーを研摩剤として用いることなく、研摩による発
熱を空気や水等で冷却するだけで従来通りの品質の研摩
を可能にし、装置の製造コストとランニングコストの大
幅な削減を可能にしたワークのエッジの研摩方法及び装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】シリコンウェーハ等のウェーハは、薄い
円盤状の半導体の総称であり、通常円柱状に精製された
単結晶母材から切り出され、その一表面は鏡面研摩さ
れ、種々の半導体素子がその表面上にエッチング法等に
より形成されるものである。一方外周のエッジについて
もエッジ表面へのゴミの付着を防ぐために、研摩機によ
って、ダイヤモンド砥石を用いて面取り研削を行った
後、バフ等の研摩板とスラリーを用いて鏡面研摩を行っ
ている。
【０００３】従来の研摩板はその研摩板自体に研摩能力
が少ないため、スラリーに含まれている研摩剤及びアル
カリであるスラリーの化学的エッチング作用によって研
摩していた。スラリーは極めて微細なダイヤモンド等の
研摩粒子をアルカリの液体（ｐＨ１１程度）と混合させ
てゲル状にしたものである。
【０００４】スラリーを用いた研摩を行うと、当然にス
ラリーにシリコンの研摩粉が混入した液体が生じるが、
従来の研摩機には分離装置が設けられていて、スラリー
を回収した後該分離装置によって研摩粉を分離すること
によって、スラリーを繰り返し利用するようになってい
る。そのため使用後のスラリーは配管や電磁弁等を通っ
て一旦分離装置のタンクへ送られる。しかし、この使用
後のスラリーは、長時間配管の中やタンク等に滞留する
と硬く固形化して凝着する性質を持っており、これが配
管を詰まらせ、また電磁弁等の動作を悪くする等して故
障を引き起こす原因となっていた。
【０００５】これが、スラリーが「悪魔の水」とも言わ
れる所以であり、配管の詰まりを防止するためには、配
管系をフラッシング構造にしてスラリーが通過した後に
直ちに水で洗い流すようにしなければならず、またスラ
リーと接する鉄等の金属部にはスラリーによる腐食及び
スラリーの凝着を防ぐために高価なステンレス材に０．
１ｍｍ厚程度のテフロンコーティングを施す必要があ
り、さらに配管も一般的なビニールチューブではなく７
倍から１０倍も高価なテフロンチューブを使用しなけれ
ばならず、製造コストだけでなくランニングコストも非
常に高いものになっていた。
【０００６】またスラリーによるウェーハの研摩は、研
摩後に水槽にてスラリーを沈降させた後、超音波洗浄を
施して完全にスラリーを除去しないと次の工程に進むこ
とができない等作業能率が低く、さらにウェーハに対す
る不要なエッチング等の悪影響も危惧され、スラリーを
用いない研摩方法の開発が待たれていた。
【０００７】一方で、ウェーハの回転軸と研摩板の回転
軸とを平行にし、総形に形成されているバフ等の研摩板
でウェーハのエッジを研摩するという従来の研摩方法に
そのまま研摩剤を含んだゴムホイールを用いても、ゴム
ホイールのトラバースがないため該ゴムホイールの摩耗
が早く、またバフのように柔らかな素材ではないため研
摩力が強すぎて研摩時にウェーハを折損しやすい等の問
題があり、何らかの対策を講じないことにはゴムホイー
ルを研摩板として用いることはできなかった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した従
来技術の欠点を除くためになされたものであって、その
目的とするところは、研摩剤を含んだゴムホイールを薄
板状のワークの面と直角方向に回転させ、ゴムホイール
をワークのエッジに当接させることによって、スラリー
を用いずに研摩時の発熱を空気又は水等で冷却するだけ
でエッジを研摩できるようにすることであり、またこれ
によってステンレス製の板材や電磁弁等を用いたり、配
管に高価なテフロンチューブを用いたり、研摩装置の随
所にテフロンコーティングを行う等の特別装備の必要性
をなくして、製造コスト及びランニングコストが夫々従
来の１／２、１／１０となるような画期的な研摩装置を
提供することである。
【０００９】更に他の目的は、研摩能力の異なるゴムホ
イールを製作して使用することによって、２段、３段の
研摩を容易にすることであり、またスラリーを用いた研
摩では長時間の研摩が必要であった、二酸化シリコンで
できている硬いエピタキシャルウェーハも容易に研摩で
きるようにすることである。
【００１０】また他の目的は、上記構成によってゴムホ
イールの局部的摩耗を少なくして長寿命にすると共に、
ゴムホイールの弾性を利用して半導体ウェーハのエッジ
の断面形状を円弧形状に研摩できるようにすることであ
り、また半導体ウェーハに対する不要なエッチング等の
悪影響を根本的に解決することである。
【００１１】更に他の目的は、研摩剤を含んだゴムホイ
ールを回転させて、その外周により円盤状のワークのエ
ッジを研摩するように構成し、ワークの面と直角方向に
ゴムホイールを回転させるスピンドル部と、直進往復動
するワーク取付け台部と、スピンドル部とワーク取付け
台部とをゴムホイール及びエッジが相互に接近する方向
に押圧付勢する弾性体とを備え、スピンドル部及びワー
ク取付け台部のいずれか一方を接近又は離脱する方向に
わずかに摺動自在に構成することによって、ゴムホイー
ルをトラバースさせながら研摩できるようにすると共
に、研摩力を弱めてウェーハに加工ひずみや亀裂を生じ
させることなく、ゴムホイールで高品質かつ高精度の研
摩ができるようにすることである。
【００１２】また他の目的は、ワークの面と直角方向に
研摩剤を含んだゴムホイールを回転させるスピンドル部
とワークのエッジへのゴムホイールの研摩時の押圧力を
与える弾性体と該弾性体の押圧力を調節する研摩力調節
機構とを設けた浮動部と、該浮動部の浮動量を調節する
浮動量調節機構が取り付けられた固定部とを備え、リニ
アガイドを介して固定部に対して浮動部をゴムホイール
とエッジとが接近又は離脱する方向にわずかに摺動自在
に構成することによって、異なる材質のワークに対して
研摩力及びゴムホイールの浮動ストローク量を適宜調節
しながらスララーを全く用いることなく、従来のスラリ
ー使用の研摩装置に比べて優るとも劣らない高品質かつ
高精度の研摩ができるようにすることである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】要するに本発明方法（請
求項１）は、研摩剤を含んだゴムホイールを薄板状のワ
ークの面と直角方向に回転させ、ゴムホイールをワーク
のエッジに当接させることによって、スラリーを用いず
にエッジを研摩することを特徴とするものである。
【００１４】また本発明方法（請求項２）は、研摩剤を
含んだゴムホイールを薄板状のワークの面と直角方向に
回転させ、弾性体によりゴムホイールをワークのエッジ
に軽く押圧して、ゴムホイールを適宜逃がしながらスラ
リーを用いずにエッジを研摩することを特徴とするもの
である。
【００１５】また本発明装置（請求項４）は、研摩剤を
含んだゴムホイールを回転させて、その外周により薄板
状のワークのエッジを研摩するように構成し、ワークの
面と直角方向にゴムホイールを回転させるスピンドル部
と、直進往復動するワーク取付け台部と、スピンドル部
とワーク取付け台部とをゴムホイール及びエッジが相互
に接近する方向に押圧付勢する弾性体とを備え、スピン
ドル部及びワーク取付け台部のいずれか一方を接近又は
離脱する方向にわずかに摺動自在に構成したことを特徴
とするものである。
【００１６】また本発明装置（請求項５）は、薄板状の
ワークの面と直角方向に研摩剤を含んだゴムホイールを
回転させるスピンドル部とワークのエッジへゴムホイー
ルを押圧付勢する弾性体と該弾性体の押圧力を調節する
研摩力調節機構とを設けた浮動部と、該浮動部の浮動量
を調節する浮動量調節機構が取り付けられた固定部とを
備え、リニアガイドを介して固定部に対して浮動部をゴ
ムホイールとエッジとが接近又は離脱する方向にわずか
に摺動自在に構成したことを特徴とするものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下本発明を図面に示す実施例に
基いて説明する。図１と図４において、本発明に係るワ
ークのエッジの研摩装置１（以下、研摩装置という）
は、浮動部２と、固定部３と、ワーク取付け台部４とを
備えている。
【００１８】そしてダイヤモンド砥粒等の研摩剤を含ん
だゴムホイール６を回転させて、その外周６ａにより薄
板状のワーク５のエッジ５ａを研摩するように構成され
ている。
【００１９】浮動部２は、リニアガイド２０を介して固
定部３に取り付けられており、該固定部３に対してゴム
ホイール６とエッジ５ａとが接近又は離脱する方向にわ
ずかに摺動自在となっている。また浮動部２は、図１と
図２において、例えば半導体ウェーハのような薄板状の
ワーク５の面と直角方向に研摩剤（図示せず）を含んだ
ゴムホイール６を回転させるスピンドル部８とワーク５
のエッジ５ａへゴムホイール６を押圧付勢する弾性体９
と該弾性体９の押圧力を調節する研摩力調節機構１０と
を設けたもので、水平に配置され、中央付近に穴１１ａ
が穿孔された断面コの字形の浮動板１１にスピンドル部
８と、弾性体９と、研摩力調節機構１０とが取り付けら
れている。
【００２０】スピンドル部８は、ゴムホイール６が下方
に突き出るように穴１１ａに挿通した状態で、上面１１
ｂに固定されたブロック１３及びブロック１４によって
挾持されている。該スピンドル部８は縦型スピンドルで
あるが、歯の治療等に用いられるグラインダ（図示せ
ず）と同様に、先端部８ａで回転方向が横軸回転に変換
されるようになっており、横軸回転する軸１１ｂにゴム
ホイール６を取り付けて、ワーク５の面と直角方向に回
転させることができる構造になっている。
【００２１】弾性体９は、スピンドル部８とワーク取付
け台部４とをゴムホイール６及びエッジ５ａが相互に接
近する方向に押圧付勢するための、例えばガススプリン
グ又は圧縮コイルばねであって、研摩力調節機構１０に
内蔵されている。
【００２２】研摩力調節機構１０は、弾性体９の研摩力
をワークの材質に応じて調節するためのものであって、
図１及び図２に示すように、浮動板１１の上面１１ｂに
固定されたブロック１０ａ内に弾性体９を収納し、該弾
性体９のばね力を調節する調節ねじ１０ｂと、浮動部２
の後退時に固定部３のコラム２１に当接し、ブロック１
０ａ内に押し込まれることによって弾性体９を押し縮め
て研摩力を発生させるピン１０ｃとを弾性体９と同軸上
に配設してなっており、調節ねじ１０ｂによって弾性体
９を予め変形させることによって、研摩力を変化させる
ことができるようになっている。
【００２３】固定部３は、浮動部２の浮動量を調節する
浮動量調節機構１５が取り付けられ、浮動部２の土台と
なる部分であって、断面凸の字形の固定板１６を上に凸
に水平に配置し、該固定板１６と直角に配設されたコラ
ム２１に固定してなるもので、上下動も可能に構成され
ている。また固定板１６には、スピンドル８が貫通する
長穴１６ａが穿孔されており、浮動部２の浮動時にスピ
ンドル８が固定板１６に干渉しないようになっている。
浮動量調節機構１５は、図１から図３に示すように、固
定板１６の前面１６ｂに固定されたブラケット１８にマ
イクロメータヘッド１９を取り付けてなるものである。
浮動板１１の前面１１ｃには、該マイクロメータヘッド
１９の先端部１９ａと当接する玉１１ｄが取り付けられ
ている。
【００２４】なお、リニアガイド２０の固定側レール２
０ａは固定板１６に、移動側レール２０ｂは浮動板１１
に取り付けられており、またスピンドル部８の軸８ｂに
取り付けられたゴムホイール６の外周６ａに対して、図
４に示すように、研摩で生じる熱を冷却するための、例
えば水又は空気等の冷却用流体２９のノズル２４が向け
られている。
【００２５】ワーク取付け台部４は、図４において、ワ
ーク５を吸着した状態で直進往復動する部分であって、
スピンドル側部２２と、駆動側部２３と、ストッパ機構
２５と、研摩力調節機構３０と、ロック機構２６とを備
えている。スピンドル側部２２は、リニアガイド４０を
介して駆動側部２３に取り付けられており、ロック機構
解除時には、該駆動側部２３対してゴムホイール６とエ
ッジ５ａとが接近又は離脱する方向に摺動自在となるよ
うに構成されている。
【００２６】スピンドル側部２２は、水平に配置された
浮動板３１の穴（図示せず）にスピンドル２８を垂直に
挿通固定し、該スピンドル２８の上端（図示せず）にワ
ーク取付け台３２を取り付けて構成されている。浮動板
３１の上面３１ｂには、スピンドル側部２２と駆動側部
２３とをロックするときに、ロック機構２６のテーパピ
ン（図示せず）が嵌入する穴（図示せず）が穿孔されて
おり、前面３１ｃにはストッパ機構２５と当接する玉３
１ｄが取り付けられている。ワーク取付け台３２は、ワ
ーク５を吸着して固定するための、円板形状のものであ
って、スピンドル２８の回転に伴って回転するようにな
っている。
【００２７】駆動側部２３は、スピンドル側部２２の土
台となる部分であって、固定板３６を水平に配置し、該
固定板３６の前面３６ａにストッパ機構２５及び研摩力
調節機構３０を配設し、両側部３６ｂにロック機構２６
を対に配設してなるものである。
【００２８】ストッパ機構２５は、固定板３６の前面３
６ａに固定されたブラケット３８にマイクロメータヘッ
ド３９を取り付けて構成されており、研摩時にスピンド
ル側部２２が後退できる最大量を予め設定できるように
なっている。
【００２９】研摩力調節機構３０は、研摩時に後退する
スピンドル側部２２に対して反力を与えて研摩力を発生
させるガススプリング又は圧縮コイルばね等の弾性体９
を内蔵しており、研摩力調節機構１０と同様に、該弾性
体を予め変形させることによって研摩力を調節できるよ
うになっている。
【００３０】ロック機構２６は、研削等ワーク５を浮動
させずに加工する場合に、スピンドル側部２２と駆動側
部２３とを固定して一体化させるためのものであって、
固定板３６にブラケット３３を介してエアシリンダ３４
を取り付け、図示しないテーパピンが固定されたロック
部材３５を該エアシリンダ３４のピストンロッド３４ａ
に取り付けて構成されている。なおリニアガイド４０の
固定側レール４０ａは固定板１６に、移動側レール４０
ｂは浮動板４１に取り付けられている。
【００３１】そして本発明に係るワークのエッジの研摩
方法（請求項１）は、研摩剤を含んだゴムホイール６を
薄板状のワーク５の面と直角方向に回転させ、ゴムホイ
ール６をワーク５のエッジ５ａに当接させることによっ
て、スラリーを用いずにエッジ５ａを研摩する方法であ
る。
【００３２】また本発明に係るワークのエッジの研摩方
法（請求項２）は、研摩剤を含んだゴムホイール６を薄
板状のワーク５の面と直角方向に回転させ、弾性体９に
よりゴムホイール６をワーク５のエッジ５ａに軽く押圧
して、ゴムホイール６を適宜逃がしながらスラリーを用
いずにエッジ５ａを研摩する方法である。
【００３３】本発明は、上記のように構成されており、
以下その作用について説明する。図４において、ワーク
取付け台３２に吸着されて取り付けられたワーク５を、
スピンドル２８を回転させることによって矢印Ｃ方向に
回転させ、スピンドル部８によって回転しているゴムホ
イール６に対して、矢印Ｈ方向に接近させてワーク５の
エッジ５ａをゴムホイール６の外周６ａに押圧すること
によって、該ゴムホイール６に含まれる研摩剤の作用で
研摩が行われる。研摩によって発生する熱は、ノズル２
４から噴射される冷却用流体２９によって冷却される。
【００３４】このときの各部の作用を説明する。まずロ
ック機構２６のエアシリンダ３４のピストンロッド３４
ａを縮める方向、即ち矢印Ｊ方向に作動させ、ロック部
材３に取り付けられている図示しないテーパピンを浮動
板３１の図示しない穴に嵌入させてなるスピンドル側部
２２及び駆動側部２３のロック状態においては、図３及
び図４に示すように、エッジ５ａとゴムホイール６との
接触によって、固定部３は上下動、即ち矢印Ｆ及び矢印
Ｇ方向以外には動かず、スピンドル部８が取り付けられ
ている浮動部２のみがリニアガイド２０に案内されてわ
ずかに矢印Ａ方向に浮動して逃げる。このときに研摩力
調節機構１０のピン１０ｃがコラム２１に当接して弾性
体９を押し縮めることによって生じる反力が研摩力とな
るので、矢印Ａ方向の逃げ量に比例した研摩力のみがエ
ッジ５ａに作用する。従って弾性体９がなく直接的に研
摩力が生じる場合と比較して大幅に軽い研摩力で研摩が
可能であるので、極めて脆い性質を持つシリコン製の半
導体ウェーハのようなワーク５であっても、ゴムホイー
ル６を用いて加工ひずみや亀裂を生じさせることなく研
摩することが可能である。
【００３５】ゴムホイール６の外周６ａとエッジ５ａと
が当接する瞬間の初期研摩力は研摩力調節機構１０によ
って調節することができ、調節ねじ１０ｂを締め込んで
いけば弾性体９が圧縮されて初期研摩力が高くなり、緩
めていけば該初期研摩力が低くなる。該初期研摩力は、
ワーク５の材質を考慮して予め調節しておく。
【００３６】図４に示すように、研摩終了時等に矢印Ｉ
方向にワーク取付け台部４を移動させて、ゴムホイール
６とワーク５のエッジ５ａとを離脱させれば、図３及び
図４に示すように、弾性体９の反力によって、浮動部２
は浮動板１１の玉１１ｄが浮動量調節機構１５のマイク
ロメータヘッド１９の先端部１９ａに当接するまで矢印
Ｂ方向に戻って安定状態となる。浮動量を大きく調節し
ておくと、弾性体９のストロークが長くなるので、研摩
中に軽い研摩力から強い研摩力まで幅広く利用すること
が可能となる。
【００３７】次に、ワーク取付け台部４のスピンドル側
部２２と駆動側部２３とが非ロック状態である場合にお
いては、浮動板３１の玉３１ｄとストッパ機構２５のマ
イクロメータヘッド３９との間に隙間（図示せず）が開
いており、エッジ５ａとゴムホイール６との接触によっ
て、上記したロック状態での浮動部２の逃げ作用に加え
て、ワーク取付け台部４のスピンドル側部２２にも同様
の逃げ作用が発生する。駆動側部２３は、固定部３と同
様に、数値制御に従って動くので、エッジ５ａとゴムホ
イール６との接触によって動くことはないが、スピンド
ル側部２２は、リニアガイド４０により案内されてわず
かに矢印Ｉ方向に浮動して逃げる。該スピンドル側部２
２は、浮動板３１の玉３１ｄと、マイクロメータヘッド
３９との隙間がなくなって、当接するまで浮動すること
ができる。このときに研摩力調節機構３０によって生じ
る反力が研摩力となるので、矢印Ｉ方向の逃げ量に比例
した研摩力が弾性体９によって生じる研摩力と共にエッ
ジ５ａに作用する。
【００３８】ゴムホイール６の外周６ａとエッジ５ａと
が当接する瞬間のワーク取付け台部４側の初期研摩力は
研摩力調節機構３０によって調節することができ、また
矢印Ｉ方向のスピンドル側部２２の逃げ量、即ち浮動量
の最大値は、ストッパ機構２５のマイクロメータヘッド
３９によって予め調節しておく。
【００３９】図４に示すように、研摩終了時等に矢印Ｉ
方向にワーク取付け台部４を移動させて、ゴムホイール
６とワーク５のエッジ５ａとを離脱させれば、図３及び
図４に示すように、弾性体９の反力によって、浮動部２
は浮動板１１の玉１１ｄが浮動量調節機構１５のマイク
ロメータヘッド１９の先端部１９ａに当接するまで矢印
Ｂ方向に戻って安定状態となり、スピンドル側部２２は
矢印Ｈ方向に戻る。
【００４０】なお図面としては示さなかったが、ワーク
取付け台部４のみに浮動部を設け、ゴムホイール６側に
浮動部を設けない形式のものでも、同様の研摩を行うこ
とが可能である。またゴムホイール６中の研摩剤の砥粒
径を変えて研摩能力の異なるゴムホイール６を製作する
ことが容易であるので、これを順次用いることにより、
２段、３段の研摩を容易に行うことができる。研摩力の
大きなゴムホイール６を用いれば、二酸化シリコン製の
硬いエピタキシャルウェーハのようなワーク５でも容易
に研摩することが可能である。
【００４１】研摩装置１を用いたワーク５のエッジ５ａ
の研摩工程の一例を図５を用いて説明する。研摩工程の
前には面取り工程及び研削工程が存在し、研削工程が終
わった状態では、ワーク５のエッジ５ａには鋭利な上エ
ッジ５ｂと下エッジ５ｃとが存在する。そこで、まず図
５（ａ）に示すように、ゴムホイール６を矢印Ｅ方向に
回転させ、矢印Ｃ方向に回転させたワーク５の上エッジ
５ｂをゴムホイール６の外周６ａに当接させることによ
って、該上エッジ５ｂ及びエッジ上面５ｄをアップカッ
トにより研摩する。次に、図５（ｂ）に示すように、ゴ
ムホイール６及びワーク５をトラバースさせてエッジ外
周面５ｅを同じくアップカットにより研摩する。そして
最後に、図５（ｃ）に示すように、ゴムホイール６を矢
印Ｄ方向に回転させ、ワーク５の下エッジ５ｃ及びエッ
ジ下面５ｆをゴムホイール６の外周６ａに当接させるこ
とによって、該下エッジ５ｃ及びエッジ下面５ｆを同じ
くアップカットにより研摩して、エッジ５ａの研摩が終
了する。
【００４２】ゴムホイール６を用いて研摩することによ
って、上エッジ５ｂ及び下エッジ５ｃをゴムホイール６
の外周６ａに当接させたときには、ゴムホイール６が弾
性変形した状態での接触となるので、上エッジ５ｂ及び
下エッジ５ｃを、断面が円弧形状になるように研摩でき
る特長がある。またゴムホイール６及びワーク取付け台
部４をトラバースさせながら研摩するので、ゴムホイー
ル６には局部摩耗が発生せず、長寿命となる。
【００４３】
【発明の効果】本発明は、上記のように研摩剤を含んだ
ゴムホイールを薄板状のワークの面と直角方向に回転さ
せ、ゴムホイールをワークのエッジに当接させるように
したので、スラリーを用いずに研摩時の発熱を空気又は
水等で冷却するだけでエッジを研摩できる効果があり、
またこの結果ステンレス製の板材や電磁弁等を用いた
り、配管に高価なテフロンチューブを用いたり、研摩装
置の随所にテフロンコーティングを行う等の特別装備の
必要性がなくなるため、製造コスト及びランニングコス
トが夫々従来の１／２、１／１０となるような画期的な
ワークのエッジの研摩装置を提供することができる効果
がある。
【００４４】更には、研摩能力の異なるゴムホイールを
製作して使用するようにしたので、２段、３段の研摩を
容易にすることができ、またスラリーを用いた研摩では
長時間の研摩が必要であった、二酸化シリコンでできて
いる硬いエピタキシャルウェーハも容易に研摩できると
いう効果が得られる。
【００４５】また上記構成によってゴムホイールの局部
的摩耗を少なくして長寿命にすることができると共に、
ゴムホイールの弾性を利用して半導体ウェーハのエッジ
の断面形状を円弧形状に研摩できる効果があり、また半
導体ウェーハに対する不要なエッチング等の悪影響を根
本的に解決することができる効果がある。
【００４６】更には、研摩剤を含んだゴムホイールを回
転させて、その外周により円盤状のワークのエッジを研
摩するように構成し、ワークの面と直角方向にゴムホイ
ールを回転させるスピンドル部と、数値制御によって駆
動され直進往復動するワーク取付け台部と、スピンドル
部とワーク取付け台部とをゴムホイール及びエッジが相
互に接近する方向に押圧付勢する弾性体とを備え、スピ
ンドル部及びワーク取付け台部のいずれか一方を接近又
は離脱する方向にわずかに摺動自在に構成したので、ゴ
ムホイールをトラバースさせながら研摩できるため、研
摩力を弱めてウェーハに加工ひずみや亀裂を生じさせる
ことなく、ゴムホイールで高品質かつ高精度の研摩がで
きるという効果がある。
【００４７】またワークの面と直角方向に研摩剤を含ん
だゴムホイールを回転させるスピンドル部とワークのエ
ッジへのゴムホイールの研摩時の押圧力を与える弾性体
と該弾性体の押圧力を調節する研摩力調節機構とを設け
た浮動部と、該浮動部の浮動量を調節する浮動量調節機
構が取り付けられた固定部とを備え、リニアガイドを介
して固定部に対して浮動部をゴムホイールとエッジとが
接近又は離脱する方向にわずかに摺動自在に構成したの
で、異なる材質のワークに対して研摩力及びゴムホイー
ルの浮動ストローク量を適宜調節しながらスラリーを全
く用いることなく、従来のスラリー使用の研摩装置に比
べて優るとも劣らない高品質かつ高精度の研摩ができる
という効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ワークのエッジの研摩装置の斜視図である。
【図２】ワークのエッジの研摩装置の部分縦断面図であ
る。
【図３】浮動部、固定部、弾性体及び浮動量調節機構の
機構を示すワークのエッジの研摩装置及びワークの部分
縦断面機構図である。
【図４】ワークの研摩状態を示すワークのエッジの研摩
装置の斜視図である。
【図５】ワークのエッジの研摩工程を示すワーク及びゴ
ムホイールの要部拡大部分縦断面図である。
【符号の説明】
１ ワークのエッジの研摩装置 ２ 浮動部 ３ 固定部 ４ ワーク取付け台部 ５ ワーク ５ａ エッジ ６ ゴムホイール ８ スピンドル部 ９ 弾性体 １５ 浮動量調節機構 ２０ リニアガイド ４０ リニアガイド
【手続補正書】
【提出日】平成１１年８月１７日（１９９９．８．１
７）
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正内容】
【図５】

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】研摩剤を含んだゴムホイールを薄板状のワ
    ークの面と直角方向に回転させ、前記ゴムホイールを前
    記ワークのエッジに当接させることによって、スラリー
    を用いずに前記エッジを研摩することを特徴とするワー
    クのエッジの研摩方法。
  2. 【請求項２】研摩剤を含んだゴムホイールを薄板状のワ
    ークの面と直角方向に回転させ、弾性体により前記ゴム
    ホイールを前記ワークのエッジに軽く押圧して、前記ゴ
    ムホイールを適宜逃がしながらスラリーを用いずに前記
    エッジを研摩することを特徴とするワークのエッジの研
    摩方法。
  3. 【請求項３】前記ワークは、半導体ウェーハであること
    を特徴とする請求項１及び請求項２のいずれか１項に記
    載のワークのエッジの研摩方法。
  4. 【請求項４】研摩剤を含んだゴムホイールを回転させ
    て、その外周により薄板状のワークのエッジを研摩する
    ように構成し、前記ワークの面と直角方向に前記ゴムホ
    イールを回転させるスピンドル部と、直進往復動するワ
    ーク取付け台部と、前記スピンドル部と前記ワーク取付
    け台部とを前記ゴムホイール及び前記エッジが相互に接
    近する方向に押圧付勢する弾性体とを備え、前記スピン
    ドル部及び前記ワーク取付け台部のいずれか一方を接近
    又は離脱する方向にわずかに摺動自在に構成したことを
    特徴とするワークのエッジの研摩装置。
  5. 【請求項５】薄板状のワークの面と直角方向に研摩剤を
    含んだゴムホイールを回転させるスピンドル部と前記ワ
    ークのエッジへ前記ゴムホイールを押圧付勢する弾性体
    と該弾性体の押圧力を調節する研摩力調節機構とを設け
    た浮動部と、該浮動部の浮動量を調節する浮動量調節機
    構が取り付けられた固定部とを備え、リニアガイドを介
    して前記固定部に対して前記浮動部を前記ゴムホイール
    と前記エッジとが接近又は離脱する方向にわずかに摺動
    自在に構成したことを特徴とするワークのエッジの研摩
    装置。
  6. 【請求項６】前記ワークは、半導体ウェーハであること
    を特徴とする請求項４又は請求項５に記載のワークのエ
    ッジの研摩装置。
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