JP2000051781A - スピンコート方法 - Google Patents
スピンコート方法Info
- Publication number
- JP2000051781A JP2000051781A JP10226217A JP22621798A JP2000051781A JP 2000051781 A JP2000051781 A JP 2000051781A JP 10226217 A JP10226217 A JP 10226217A JP 22621798 A JP22621798 A JP 22621798A JP 2000051781 A JP2000051781 A JP 2000051781A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- top plate
- resist
- substrate
- spin coating
- coater cup
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Materials For Photolithography (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】カラーレジスト塗膜の大型の基板上への密閉型
スピンコート工程において、コーターカップの天板の開
放時に生じやすいムラの発生を防止する。 【解決手段】天板の開放時に基板を回転させることによ
り気流の方向を固定し、ムラを薄くする。
スピンコート工程において、コーターカップの天板の開
放時に生じやすいムラの発生を防止する。 【解決手段】天板の開放時に基板を回転させることによ
り気流の方向を固定し、ムラを薄くする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用ガ
ラス板等の板状物表面に対して感光性樹脂等の塗膜を、
板状物を回転させながら形成するコーティング方法に関
する。
ラス板等の板状物表面に対して感光性樹脂等の塗膜を、
板状物を回転させながら形成するコーティング方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置用ガラス基板表面へのカラ
ーレジスト塗膜の形成には現在、スピンコート法、すな
わち基板上にカラーレジストを滴下後、基板の載置・固
定されたステージを５００〜１２００ｒｐｍ程度で高速
回転させることでレジストを薄く均一に引き伸ばす方法
が主に用いられている。そして通常、図１に示すような
密閉型のコーターカップ内でコーティングが行われる。
ーレジスト塗膜の形成には現在、スピンコート法、すな
わち基板上にカラーレジストを滴下後、基板の載置・固
定されたステージを５００〜１２００ｒｐｍ程度で高速
回転させることでレジストを薄く均一に引き伸ばす方法
が主に用いられている。そして通常、図１に示すような
密閉型のコーターカップ内でコーティングが行われる。
【０００３】しかしながら、この方法では、塗布対象の
基板サイズが大きくなってくるにつれて、塗布・引き伸
ばしをしたばかりのレジスト膜表面にムラが発生するこ
とがあった。このムラは、「もや」のような、あるいは
方向性のあるパターンのムラであり、これは回転塗布終
了後にコーターカップの天板を開くときに気流の乱れが
発生することにより生じているものと思われる。
基板サイズが大きくなってくるにつれて、塗布・引き伸
ばしをしたばかりのレジスト膜表面にムラが発生するこ
とがあった。このムラは、「もや」のような、あるいは
方向性のあるパターンのムラであり、これは回転塗布終
了後にコーターカップの天板を開くときに気流の乱れが
発生することにより生じているものと思われる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な回転塗布後のレジスト膜表面におけるムラの発生を防
止する方法を提供することを目的とする。
な回転塗布後のレジスト膜表面におけるムラの発生を防
止する方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、レジスト塗膜
の基板上へのスピンコート工程において、スピンコート
完了後、コーターカップの天板の開放時に基板を回転さ
せることを特徴とするスピンコート方法である。
の基板上へのスピンコート工程において、スピンコート
完了後、コーターカップの天板の開放時に基板を回転さ
せることを特徴とするスピンコート方法である。
【０００６】
【発明の実施の形態】まず、図２に示すようにコーター
カップ２内に搬送・固定された基板１上にカラーレジス
ト３を規定量滴下する。次いでコーターカップ２の天板
４を閉じ、ステージ５を高速回転させることで基板１上
のレジストを薄く均一に引き伸ばす。このとき、天板４
はコーターカップ２と連結して同期して回転する。この
後、装置の機能上、ステージ５の回転を一旦停止させた
後、比較的低い回転数（１００ｒｐｍ程度）でさらに数
秒間ステージ５を回転させ、その間に天板４を開く。
カップ２内に搬送・固定された基板１上にカラーレジス
ト３を規定量滴下する。次いでコーターカップ２の天板
４を閉じ、ステージ５を高速回転させることで基板１上
のレジストを薄く均一に引き伸ばす。このとき、天板４
はコーターカップ２と連結して同期して回転する。この
後、装置の機能上、ステージ５の回転を一旦停止させた
後、比較的低い回転数（１００ｒｐｍ程度）でさらに数
秒間ステージ５を回転させ、その間に天板４を開く。
【０００７】この、天板４開放時の回転の回転数及び時
間については、各レジストにより性質が異なるため、状
態を見てムラの発生が無くなる、もしくは最小となるよ
う条件出しが必要である。例えば５０〜２００ｒｐｍの
範囲で、０．３〜１０秒間というのが一つの具体例であ
る。
間については、各レジストにより性質が異なるため、状
態を見てムラの発生が無くなる、もしくは最小となるよ
う条件出しが必要である。例えば５０〜２００ｒｐｍの
範囲で、０．３〜１０秒間というのが一つの具体例であ
る。
【０００８】
【発明の効果】上記のような方法により、大型基板用の
スピンコーターで発生しやすかったムラを抑制でき、均
一で滑らかな表面状態のレジスト塗布膜を形成すること
が可能になった。また、ムラが発生しやすいレジスト一
般にもこの方法を展開することが可能である。
スピンコーターで発生しやすかったムラを抑制でき、均
一で滑らかな表面状態のレジスト塗布膜を形成すること
が可能になった。また、ムラが発生しやすいレジスト一
般にもこの方法を展開することが可能である。
【０００９】
【図１】本発明におけるコーターカップ部分を模式的に
示す説明図である。
示す説明図である。
【図２】本発明の工程の一部を模式的に示す説明図であ
る。
る。
１‥‥基板 ２‥‥コーターカップ ３‥‥カラーレジスト ４‥‥天板 ５‥‥ステージ
Claims (1)
- 【請求項１】レジスト塗膜の基板上へのスピンコート工
程において、スピンコート完了後、コーターカップの天
板の開放時に基板を回転させることを特徴とするスピン
コート方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10226217A JP2000051781A (ja) | 1998-08-10 | 1998-08-10 | スピンコート方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10226217A JP2000051781A (ja) | 1998-08-10 | 1998-08-10 | スピンコート方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000051781A true JP2000051781A (ja) | 2000-02-22 |
Family
ID=16841739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10226217A Pending JP2000051781A (ja) | 1998-08-10 | 1998-08-10 | スピンコート方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000051781A (ja) |
-
1998
- 1998-08-10 JP JP10226217A patent/JP2000051781A/ja active Pending
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