JP2000047264A - スメクティック液晶ディスプレイの製造方法 - Google Patents
スメクティック液晶ディスプレイの製造方法Info
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- G02F1/13781—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering using smectic liquid crystals
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Abstract
(57)【要約】
【課題】公知方法の欠点を回避することができ、また工
業的規模でスメクティック液晶ディスプレイを製造する
ことができる、２枚の基板およびその間に存在する液晶
層を備えたスメクティック液晶ディスプレイの製造方法
を提供する。 【解決手段】スメクティック液晶層またはスメクティッ
ク液晶を含有する混合物を、印刷法により、２枚の基板
の少なくとも１枚に施し、引き続いてこの基板を組み立
て、スメクティック液晶ディスプレイを形成する。
業的規模でスメクティック液晶ディスプレイを製造する
ことができる、２枚の基板およびその間に存在する液晶
層を備えたスメクティック液晶ディスプレイの製造方法
を提供する。 【解決手段】スメクティック液晶層またはスメクティッ
ク液晶を含有する混合物を、印刷法により、２枚の基板
の少なくとも１枚に施し、引き続いてこの基板を組み立
て、スメクティック液晶ディスプレイを形成する。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、スメクティック液
晶ディスプレイの製造方法に関する。
晶ディスプレイの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ネマティックおよびコレステリック液晶
のほかに、近年になって、スメクティック（例えば、強
誘電性、抗強誘電性またはいわゆる、ＤＨＦ）液晶はま
た、例えばＩｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ
（ＳＩＤ），Ｖｏｌ．１４（２），１９９８年２月、２
０〜２７頁に記載されているように、市販の表示デバイ
スで使用されている。スメクティック液晶ディスプレイ
（ＬＣＤ）は、例えばインジウムスズ酸化物から形成さ
れてきている電極を備えた偏光板、配向層を備えた被覆
プラスティックまたはガラス基板および可能なその他の
膜（不動態化（passivation）膜、拡散膜、バリアー
膜、絶縁膜、反射防止膜など）、ならびにカラーフィル
ター層、液晶層および可能なアクティブ薄膜素子からな
る。一般に、スメクティックＬＣＤは、パッシブ−マト
リックスとしても、アクティブ−マトリックスとしても
製造することができ、また使用することができる。
のほかに、近年になって、スメクティック（例えば、強
誘電性、抗強誘電性またはいわゆる、ＤＨＦ）液晶はま
た、例えばＩｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ
（ＳＩＤ），Ｖｏｌ．１４（２），１９９８年２月、２
０〜２７頁に記載されているように、市販の表示デバイ
スで使用されている。スメクティック液晶ディスプレイ
（ＬＣＤ）は、例えばインジウムスズ酸化物から形成さ
れてきている電極を備えた偏光板、配向層を備えた被覆
プラスティックまたはガラス基板および可能なその他の
膜（不動態化（passivation）膜、拡散膜、バリアー
膜、絶縁膜、反射防止膜など）、ならびにカラーフィル
ター層、液晶層および可能なアクティブ薄膜素子からな
る。一般に、スメクティックＬＣＤは、パッシブ−マト
リックスとしても、アクティブ−マトリックスとしても
製造することができ、また使用することができる。
【０００３】パッシブ−マトリックスでは、液晶ディス
プレイの各画像素子（ｐｉｃｔｕｒｅ ｅｌｅｍｅｎｔ
ｓ）（画素）は、ディスプレイの上面および底面上にそ
れぞれ列およびカラムとして形成されている一連の電極
（コンダクター トラック）（ｃｏｎｄｕｃｔｏｒ ｔ
ｒａｃｋｓ）の各交点に作り出される。水平電極および
垂直電極の交点が、アドレス可能な画素を形成する。種
々の多くの方法が、このアドレス用に開発されている。
それらの有利な高速の切換え速度から、中でも、カイラ
ルスメクティック液晶材料とアクティブマトリックス素
子との組み合わせに基づく液晶ディスプレイが提案され
ている［例えば、ＷＯ９７／１２３５５またはＦｅｒｒ
ｏｅｌｅｃｔｒｉｃｓ，１９９６，１７９，１４１〜１
５２またはＩｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ
（ＳＩＤ），Ｖｏｌ．１４（２），１９９８年２月、２
０〜２７頁参照］。
プレイの各画像素子（ｐｉｃｔｕｒｅ ｅｌｅｍｅｎｔ
ｓ）（画素）は、ディスプレイの上面および底面上にそ
れぞれ列およびカラムとして形成されている一連の電極
（コンダクター トラック）（ｃｏｎｄｕｃｔｏｒ ｔ
ｒａｃｋｓ）の各交点に作り出される。水平電極および
垂直電極の交点が、アドレス可能な画素を形成する。種
々の多くの方法が、このアドレス用に開発されている。
それらの有利な高速の切換え速度から、中でも、カイラ
ルスメクティック液晶材料とアクティブマトリックス素
子との組み合わせに基づく液晶ディスプレイが提案され
ている［例えば、ＷＯ９７／１２３５５またはＦｅｒｒ
ｏｅｌｅｃｔｒｉｃｓ，１９９６，１７９，１４１〜１
５２またはＩｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ
（ＳＩＤ），Ｖｏｌ．１４（２），１９９８年２月、２
０〜２７頁参照］。
【０００４】アクティブマトリックス（ＡＭＬＣＤ）技
術においては、非構造化電極（ｕｎｓｔｒａｃｔｕｒｅ
ｄ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）を備えた基板を通常、アクテ
ィブマトリックス基板と組み合わせる。アクティブマト
リックス基板の各画素には、非線形電気素子、例えば無
定型シリコンまたは多結晶状シリコンタイプの薄膜トラ
ンジスターが存在する。この非線形素子は、公知の薄膜
法を用いて有利に製造される、ダイオード、金属／絶縁
体／金属および類似の素子であることができる。アクテ
ィブ−マトリックスディスプレイであるか、またはパッ
シブ−マトリックスディスプレイであるかに関係なく、
このようなディスプレイを製造する場合、このようなス
メクティックディスプレイの層厚さは、非常に薄くなけ
ればならず、０．５〜３μｍの範囲、特に１〜２μｍの
範囲、さらに特に１．１〜１．７μｍの範囲にある。さ
らに、スメクティック液晶は、現在広く使用されている
ネマティック液晶とは異なり、非常に高い流動粘度を有
する物質である（例えば、Ｈ．Ｋｎｏｐｐｅ、Ｆ．Ｓｃ
ｈｎｅｉｄｅｒによるＨａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑ
ｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ，１９９８，Ｖｏｌ．２Ａ，
１４２頁以降、Ｄ．Ｄｅｍｕｓ等編集を参照することが
できる）。
術においては、非構造化電極（ｕｎｓｔｒａｃｔｕｒｅ
ｄ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）を備えた基板を通常、アクテ
ィブマトリックス基板と組み合わせる。アクティブマト
リックス基板の各画素には、非線形電気素子、例えば無
定型シリコンまたは多結晶状シリコンタイプの薄膜トラ
ンジスターが存在する。この非線形素子は、公知の薄膜
法を用いて有利に製造される、ダイオード、金属／絶縁
体／金属および類似の素子であることができる。アクテ
ィブ−マトリックスディスプレイであるか、またはパッ
シブ−マトリックスディスプレイであるかに関係なく、
このようなディスプレイを製造する場合、このようなス
メクティックディスプレイの層厚さは、非常に薄くなけ
ればならず、０．５〜３μｍの範囲、特に１〜２μｍの
範囲、さらに特に１．１〜１．７μｍの範囲にある。さ
らに、スメクティック液晶は、現在広く使用されている
ネマティック液晶とは異なり、非常に高い流動粘度を有
する物質である（例えば、Ｈ．Ｋｎｏｐｐｅ、Ｆ．Ｓｃ
ｈｎｅｉｄｅｒによるＨａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑ
ｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ，１９９８，Ｖｏｌ．２Ａ，
１４２頁以降、Ｄ．Ｄｅｍｕｓ等編集を参照することが
できる）。
【０００５】組み合わせに際して、高粘度および薄い層
厚さという、これら２つの物性は一緒になって、大面積
ＬＣＤに必要であるが、このようなディスプレイにスメ
クティック液晶を効果的に注入するには、重大な実施上
の問題がある。現在まで、この注入処理を行う方法は、
完成されているが、空であり、また２枚の基板が、入口
開口部を除いて相互に接着結合されているディスプレイ
に注入する方法であり、この方法では、アイソトロピッ
クまたは液晶相で液晶化合物が、上記入口開口部を通し
毛管力によって、ディスプレイに注入される。この方法
ははまた、減圧を用いることにより補助することができ
る。しかしながら、非常に高められた温度においてさえ
も、高いスメクティック流動粘度および非常に狭い基板
間隔から、この方法は非効率であり、しばしばかなりの
時間を要し、また大面積の場合、すなわち１０インチ
（２５ｃｍ）を越えるスクリーン径を有するディスプレ
イの場合、大量のディスプレイに注入するには、数日さ
えもが必要である。さらにまた、アイソトロピック相を
注入する場合、混合物の各成分が蒸発する可能性があ
り、また熱分解する可能性がある。
厚さという、これら２つの物性は一緒になって、大面積
ＬＣＤに必要であるが、このようなディスプレイにスメ
クティック液晶を効果的に注入するには、重大な実施上
の問題がある。現在まで、この注入処理を行う方法は、
完成されているが、空であり、また２枚の基板が、入口
開口部を除いて相互に接着結合されているディスプレイ
に注入する方法であり、この方法では、アイソトロピッ
クまたは液晶相で液晶化合物が、上記入口開口部を通し
毛管力によって、ディスプレイに注入される。この方法
ははまた、減圧を用いることにより補助することができ
る。しかしながら、非常に高められた温度においてさえ
も、高いスメクティック流動粘度および非常に狭い基板
間隔から、この方法は非効率であり、しばしばかなりの
時間を要し、また大面積の場合、すなわち１０インチ
（２５ｃｍ）を越えるスクリーン径を有するディスプレ
イの場合、大量のディスプレイに注入するには、数日さ
えもが必要である。さらにまた、アイソトロピック相を
注入する場合、混合物の各成分が蒸発する可能性があ
り、また熱分解する可能性がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
公知方法の欠点を回避することができ、また工業的規模
でスメクティック液晶ディスプレイを製造することがで
きるスメクティック液晶ディスプレイの製造方法を提供
することにある。本発明のもう一つの課題は、このよう
な方法により製造されるスメクティック液晶ディスプレ
イを提供することにある。
公知方法の欠点を回避することができ、また工業的規模
でスメクティック液晶ディスプレイを製造することがで
きるスメクティック液晶ディスプレイの製造方法を提供
することにある。本発明のもう一つの課題は、このよう
な方法により製造されるスメクティック液晶ディスプレ
イを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明により、公知方法
の欠点を回避することができ、また工業的規模でスメク
ティック液晶ディスプレイを製造することができる、２
枚の基板およびその間に存在する液晶層を備えたスメク
ティック液晶ディスプレイの製造方法が提供される。本
発明に従い、スメクティック液晶層またはスメクティッ
ク液晶を含有する混合物を、印刷法により、２枚の基板
の少なくとも１枚に施し、引き続いてこの基板を組み立
て、スメクティック液晶ディスプレイを形成することに
よって、上記課題が解消される。従って、本発明は、ス
メクティック液晶ディスプレイの製造方法に関し、この
方法は２枚の支持基板の少なくとも１枚上にスメクティ
ック液晶層を薄膜形態で印刷することを包含し、これら
２枚の基板は、この印刷操作の後まで、一体に結合させ
ない方法である。この印刷法は、スクリーン印刷法、オ
フセット印刷法、フレキソグラフィック印刷法（ｆｌｅ
ｘｏｇｒａｐｈｉｃ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）またはその他
慣用の印刷法を包含することができる。
の欠点を回避することができ、また工業的規模でスメク
ティック液晶ディスプレイを製造することができる、２
枚の基板およびその間に存在する液晶層を備えたスメク
ティック液晶ディスプレイの製造方法が提供される。本
発明に従い、スメクティック液晶層またはスメクティッ
ク液晶を含有する混合物を、印刷法により、２枚の基板
の少なくとも１枚に施し、引き続いてこの基板を組み立
て、スメクティック液晶ディスプレイを形成することに
よって、上記課題が解消される。従って、本発明は、ス
メクティック液晶ディスプレイの製造方法に関し、この
方法は２枚の支持基板の少なくとも１枚上にスメクティ
ック液晶層を薄膜形態で印刷することを包含し、これら
２枚の基板は、この印刷操作の後まで、一体に結合させ
ない方法である。この印刷法は、スクリーン印刷法、オ
フセット印刷法、フレキソグラフィック印刷法（ｆｌｅ
ｘｏｇｒａｐｈｉｃ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）またはその他
慣用の印刷法を包含することができる。
【０００８】本発明による方法は、長時間を要する不利
な毛管力による注入が回避され、従ってスメクティック
ＬＣＤの工場における大量生産を可能にする。本発明に
は、数種の変法がある。これらの変法の一つによれば、
一方の基板上に接着フレーム（ａｄｈｅｓｉｖｅ ｆｌ
ａｍｅ）を印刷し、もう一方の基板上にはスメクティッ
ク液晶層を印刷する。この接着フレームを次いで、適当
に予備乾燥させるか、または硬化させ、接着フレームと
液晶との間の望ましくない混合を防止する。スメクティ
ック液晶印刷層は、スメクティックＬＣＤの内部構造
体、すなわち例えばスペーサー、アクティブマトリック
ス、カラーフィルター、ブラックグリッド（ｂｌａｃｋ
ｇｒｉｄ）などと適合させることができる。この適合
は、印刷パターンを用いてＬＣＤ構築物にスメクティッ
ク層を一致させることによってなされる。この方法で、
スメクティック液晶を画像点上に精確に印刷することが
でき、他方、例えばスペーサー上には印刷しない。
な毛管力による注入が回避され、従ってスメクティック
ＬＣＤの工場における大量生産を可能にする。本発明に
は、数種の変法がある。これらの変法の一つによれば、
一方の基板上に接着フレーム（ａｄｈｅｓｉｖｅ ｆｌ
ａｍｅ）を印刷し、もう一方の基板上にはスメクティッ
ク液晶層を印刷する。この接着フレームを次いで、適当
に予備乾燥させるか、または硬化させ、接着フレームと
液晶との間の望ましくない混合を防止する。スメクティ
ック液晶印刷層は、スメクティックＬＣＤの内部構造
体、すなわち例えばスペーサー、アクティブマトリック
ス、カラーフィルター、ブラックグリッド（ｂｌａｃｋ
ｇｒｉｄ）などと適合させることができる。この適合
は、印刷パターンを用いてＬＣＤ構築物にスメクティッ
ク層を一致させることによってなされる。この方法で、
スメクティック液晶を画像点上に精確に印刷することが
でき、他方、例えばスペーサー上には印刷しない。
【０００９】これらの基板は、結合させた後に加熱し、
次いで冷却させると有利である。この結果として、液晶
は、種々の相転移を受け、従って再配向される。同時
に、接着フレームの硬化を完了させることができる。液
晶ディスプレイの適当な構成要素は、例えばＣ．Ｐｒｉ
ｎｃｅによるＳｅｍｉｎａｒ Ｌｅｃｔｕｒｅ Ｎｏｔ
ｅｓ，１巻、Ｍ−３／３−Ｍ−３／２２頁、ＳＤＳ Ｉ
ｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ １９
９７，Ｂｏｓｔｏｎ，ＵＡＳ；Ｂ．Ｂ．Ｂａｈａｄｕｒ
によるＬｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ Ａｐｐｌｉｃ
ａｔｉｏｎ ａｎｄ Ｕｓｅｓ，１巻、４１０頁、Ｗｏ
ｒｌｄＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ，
１９９０；Ｅ．ＬｏｄｅｒによるＲｅｃｅｎｔ Ｐｒｏ
ｇｒｅｓｓ ｏｆ ＡＭＬＣＤ´ｓ，Ｐｒｏｃｅｅｄｉ
ｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ １５th ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏ
ｎａｌ ｄｉｓｐｌａｙ ｒｅｓｅａｒｃｈ ｃｏｎｆ
ｅｒｅｎｃｅ，１９９５，９〜１２頁、；Ｄｉｓｐｌａ
ｙｓ １９９３，１４巻、２号、８６〜９３頁；および
Ｋｏｎｔａｋｔｅ，１９９３（２），３〜１４頁、Ｔ．
Ｔｓｕｋｕｄａ，ＴＦＴ／ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒ
ｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙｓ Ａｄｄｒｅｓｓｅｄ
ｂｙ Ｔｈｉｎ−Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒｓ，
Ｇｏｒｄｏｎ ａｎｄ Ｂｒｅａｃｈ，１９９６，ＴＳ
ＢＮ ２−９１９８７５−０１−９；またはＣ．Ｐｒｉ
ｎｃｅによるＳｅｍｉｎａｒ Ｌｅｃｔｕｒｅ Ｎｏｔ
ｅｓ，１巻、Ｍ−３／３−Ｍ−３／２２頁、ＳＤＳ Ｉ
ｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ，１９
９７，Ｂｏｓｔｏｎ，ＵＡＳおよびこれらの刊行物で引
用されている刊行物に記載されている。
次いで冷却させると有利である。この結果として、液晶
は、種々の相転移を受け、従って再配向される。同時
に、接着フレームの硬化を完了させることができる。液
晶ディスプレイの適当な構成要素は、例えばＣ．Ｐｒｉ
ｎｃｅによるＳｅｍｉｎａｒ Ｌｅｃｔｕｒｅ Ｎｏｔ
ｅｓ，１巻、Ｍ−３／３−Ｍ−３／２２頁、ＳＤＳ Ｉ
ｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ １９
９７，Ｂｏｓｔｏｎ，ＵＡＳ；Ｂ．Ｂ．Ｂａｈａｄｕｒ
によるＬｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ Ａｐｐｌｉｃ
ａｔｉｏｎ ａｎｄ Ｕｓｅｓ，１巻、４１０頁、Ｗｏ
ｒｌｄＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ，
１９９０；Ｅ．ＬｏｄｅｒによるＲｅｃｅｎｔ Ｐｒｏ
ｇｒｅｓｓ ｏｆ ＡＭＬＣＤ´ｓ，Ｐｒｏｃｅｅｄｉ
ｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ １５th ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏ
ｎａｌ ｄｉｓｐｌａｙ ｒｅｓｅａｒｃｈ ｃｏｎｆ
ｅｒｅｎｃｅ，１９９５，９〜１２頁、；Ｄｉｓｐｌａ
ｙｓ １９９３，１４巻、２号、８６〜９３頁；および
Ｋｏｎｔａｋｔｅ，１９９３（２），３〜１４頁、Ｔ．
Ｔｓｕｋｕｄａ，ＴＦＴ／ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒ
ｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙｓ Ａｄｄｒｅｓｓｅｄ
ｂｙ Ｔｈｉｎ−Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒｓ，
Ｇｏｒｄｏｎ ａｎｄ Ｂｒｅａｃｈ，１９９６，ＴＳ
ＢＮ ２−９１９８７５−０１−９；またはＣ．Ｐｒｉ
ｎｃｅによるＳｅｍｉｎａｒ Ｌｅｃｔｕｒｅ Ｎｏｔ
ｅｓ，１巻、Ｍ−３／３−Ｍ−３／２２頁、ＳＤＳ Ｉ
ｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ，１９
９７，Ｂｏｓｔｏｎ，ＵＡＳおよびこれらの刊行物で引
用されている刊行物に記載されている。
【００１０】実用的には、印刷される液晶の粘度は好ま
しくは、特定の範囲にあることが見出された。この粘度
は、例えばＢｏｈｌｉｎ Ｖｉｓｃｏｓｉｍｅｔｅｒ
（製造会社：Ｂｏｈｌｉｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ
Ｌｔｄ．，Ｃｉｒｅｎｃｅｓｔｅｒ，ＵＫ．；“Ｅｉｎ
ｆｏｈｒｕｎｇ ｉｎ ｄｉｅ ｐｒａｋｔｉｓｃｈｅ
Ｒｈｅｏｌｏｇｉｅ”［実用レオロジイ入門］、１９９
５年１２月参照）で測定される平均粘度で表わされる。
塗布操作中における液晶の好適ディレクターは明確に規
定されないから、この平均粘度は、相対値である。次い
で、印刷操作における好適粘度を決定するために、剪断
速度および温度の関数としての粘度を、液晶について測
定する。塗布操作にかかわる剪断速度範囲を次いで測定
するか、あるいは製造業者の指示からのその仕様を想定
し、次いで、測定された粘度をこの範囲全体で平均化す
る。この剪断速度の範囲は、０．１〜１０5 ｌ／ｓ、有
利には１〜１０4 ｌ／ｓ、好ましくは１０〜１０００ｌ
／ｓ、特に好ましくは２０〜５００ｌ／ｓである。
しくは、特定の範囲にあることが見出された。この粘度
は、例えばＢｏｈｌｉｎ Ｖｉｓｃｏｓｉｍｅｔｅｒ
（製造会社：Ｂｏｈｌｉｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ
Ｌｔｄ．，Ｃｉｒｅｎｃｅｓｔｅｒ，ＵＫ．；“Ｅｉｎ
ｆｏｈｒｕｎｇ ｉｎ ｄｉｅ ｐｒａｋｔｉｓｃｈｅ
Ｒｈｅｏｌｏｇｉｅ”［実用レオロジイ入門］、１９９
５年１２月参照）で測定される平均粘度で表わされる。
塗布操作中における液晶の好適ディレクターは明確に規
定されないから、この平均粘度は、相対値である。次い
で、印刷操作における好適粘度を決定するために、剪断
速度および温度の関数としての粘度を、液晶について測
定する。塗布操作にかかわる剪断速度範囲を次いで測定
するか、あるいは製造業者の指示からのその仕様を想定
し、次いで、測定された粘度をこの範囲全体で平均化す
る。この剪断速度の範囲は、０．１〜１０5 ｌ／ｓ、有
利には１〜１０4 ｌ／ｓ、好ましくは１０〜１０００ｌ
／ｓ、特に好ましくは２０〜５００ｌ／ｓである。
【００１１】本印刷操作の温度は、上記平均粘度が、２
０Ｐａｓ（パスカル秒）よりも低い、好ましくは１０Ｐ
ａｓよりも低い、好ましくは４Ｐａｓよりも低い、特に
好ましくは２．５Ｐａｓよりも低い、そして最も特に好
ましくは１．５Ｐａｓよりも低くなるように選択すると
好ましい。この粘度は特に、印刷操作の温度および剪断
速度における印刷される成分の平均剪断粘度である。こ
の方法で確認される平均粘度は、一般に０．１〜２Ｐａ
ｓにある電気光学回転粘度とは直接に関係しない（例え
ば、Ｃ．Ｅｓｃｈｅｒ等によるＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔ
ａｌｓ，１９８８，３巻、４号、４６９〜４８４頁参
照）。
０Ｐａｓ（パスカル秒）よりも低い、好ましくは１０Ｐ
ａｓよりも低い、好ましくは４Ｐａｓよりも低い、特に
好ましくは２．５Ｐａｓよりも低い、そして最も特に好
ましくは１．５Ｐａｓよりも低くなるように選択すると
好ましい。この粘度は特に、印刷操作の温度および剪断
速度における印刷される成分の平均剪断粘度である。こ
の方法で確認される平均粘度は、一般に０．１〜２Ｐａ
ｓにある電気光学回転粘度とは直接に関係しない（例え
ば、Ｃ．Ｅｓｃｈｅｒ等によるＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔ
ａｌｓ，１９８８，３巻、４号、４６９〜４８４頁参
照）。
【００１２】
【実施の形態】本発明を、下記例によりさらに詳細に説
明する。 例１ ２枚のガラス基板ＡおよびＢを充分に洗浄した後に、下
記のとおりに別々に処理することによって、スメクティ
ック液晶層を有するアクティブ−マトリックスＬＣＤを
製造した： 基板Ａ： − 赤−緑−青カラーフィルター点（ｐｏｉｎｔｓ）
を、フォトリトグラフィにより施す； − 平衡層（ｂａｌａｎｃｉｎｇ ｌａｙｅｒ）を施
す； − 広表面透明インジウム スズ酸化物電極を、スパッ
タリングにより施す； − 薄い二酸化シリコン絶縁層を、スパッタリングまた
は蒸着により施す； − 接着フレーム用の補助層を、フォトリトグラフィに
より施す； − 配向層用の含水薄膜を、スピンコーティングまたは
スプレイコーティング、あるいはローラーコーティン
グ、または印刷により施す； − 含水薄膜を、乾燥および硬化させる； − 補助層を分離し、これにより接着フレームのための
表面を露出させる； − 配向層を摩擦することによって、配向層を配向させ
る； − この露出された表面上に、例えばスクリーン印刷に
より、接着フレームを施す； − この接着フレーム中の接着剤を予備乾燥させる。
明する。 例１ ２枚のガラス基板ＡおよびＢを充分に洗浄した後に、下
記のとおりに別々に処理することによって、スメクティ
ック液晶層を有するアクティブ−マトリックスＬＣＤを
製造した： 基板Ａ： − 赤−緑−青カラーフィルター点（ｐｏｉｎｔｓ）
を、フォトリトグラフィにより施す； − 平衡層（ｂａｌａｎｃｉｎｇ ｌａｙｅｒ）を施
す； − 広表面透明インジウム スズ酸化物電極を、スパッ
タリングにより施す； − 薄い二酸化シリコン絶縁層を、スパッタリングまた
は蒸着により施す； − 接着フレーム用の補助層を、フォトリトグラフィに
より施す； − 配向層用の含水薄膜を、スピンコーティングまたは
スプレイコーティング、あるいはローラーコーティン
グ、または印刷により施す； − 含水薄膜を、乾燥および硬化させる； − 補助層を分離し、これにより接着フレームのための
表面を露出させる； − 配向層を摩擦することによって、配向層を配向させ
る； − この露出された表面上に、例えばスクリーン印刷に
より、接着フレームを施す； − この接着フレーム中の接着剤を予備乾燥させる。
【００１３】基板Ｂ： − 薄膜トランジスター（ＴＦＴｓ）を鉛とともに、適
当な薄膜テクノロジイ法（上記引用刊行物Ｔｓｕｃｕｂ
ａ、１９９６年参照）を用いて施す； − 薄い二酸化ケイ素絶縁層を、スパッタリングまたは
蒸着により施す； − 接着フレーム用の補助層を、フォトリトグラフィに
より施す； − 配向層用の含水薄膜を、スピンコーティングまたは
スプレイコーティング、あるいはローラーコーティン
グ、または印刷により施す； − 含水薄膜を、乾燥および硬化させる； − この補助層を分離し、これにより接着フレームのた
めの表面を露出させる； − 配向層を摩擦することによって、配向層を配向させ
る； − 事前に注意深く脱気し、濾過した市販のスメクティ
ック液晶混合物、ＦＥＬＩＸ−０１５−０００（登録商
品名）（製造会社：Ｃｌａｒｉａｎｔ ＧｍｂＨ／Ｆｒ
ａｎｋｆｕｒｔ）を、生成したＴＦＴ素子と露出された
接着フレームとが離れるようにして、市販オフセット印
刷装置を用いて印刷することによって施す。
当な薄膜テクノロジイ法（上記引用刊行物Ｔｓｕｃｕｂ
ａ、１９９６年参照）を用いて施す； − 薄い二酸化ケイ素絶縁層を、スパッタリングまたは
蒸着により施す； − 接着フレーム用の補助層を、フォトリトグラフィに
より施す； − 配向層用の含水薄膜を、スピンコーティングまたは
スプレイコーティング、あるいはローラーコーティン
グ、または印刷により施す； − 含水薄膜を、乾燥および硬化させる； − この補助層を分離し、これにより接着フレームのた
めの表面を露出させる； − 配向層を摩擦することによって、配向層を配向させ
る； − 事前に注意深く脱気し、濾過した市販のスメクティ
ック液晶混合物、ＦＥＬＩＸ−０１５−０００（登録商
品名）（製造会社：Ｃｌａｒｉａｎｔ ＧｍｂＨ／Ｆｒ
ａｎｋｆｕｒｔ）を、生成したＴＦＴ素子と露出された
接着フレームとが離れるようにして、市販オフセット印
刷装置を用いて印刷することによって施す。
【００１４】ディスプレイの二つの半分を別々に製造し
た後、基板Ｂを、位置決定装置（ｐｏｓｉｔｉｏｎｉｎ
ｇ ｄｅｖｉｃｅ）に配置し、次いで基板Ａを、その上
に置き、これら２枚の基板に一緒に圧力をかける。この
セルを、接着フレームと、例えばマスクした赤外線灯を
用いる短時間の局所的加熱により、あるいは赤外線灯ま
たはエネルギー照射により硬化させることによって結合
させる。このセルを次いで、透明点以上の温度に、すな
わち約９０℃に加熱し、次いで再度、冷却させる。これ
により、スメクティック液晶は、摩擦方向に従い配向さ
れる。このセルに、偏光板を付与し、次いで駆動エレク
トロニクスに連結する。
た後、基板Ｂを、位置決定装置（ｐｏｓｉｔｉｏｎｉｎ
ｇ ｄｅｖｉｃｅ）に配置し、次いで基板Ａを、その上
に置き、これら２枚の基板に一緒に圧力をかける。この
セルを、接着フレームと、例えばマスクした赤外線灯を
用いる短時間の局所的加熱により、あるいは赤外線灯ま
たはエネルギー照射により硬化させることによって結合
させる。このセルを次いで、透明点以上の温度に、すな
わち約９０℃に加熱し、次いで再度、冷却させる。これ
により、スメクティック液晶は、摩擦方向に従い配向さ
れる。このセルに、偏光板を付与し、次いで駆動エレク
トロニクスに連結する。
【００１５】例２ ２枚のガラス基板ＡおよびＢを充分に洗浄した後に、下
記のとおりに別々に処理することによって、スメクティ
ック液晶層を有するパッシブ−マトリックスＬＣＤを製
造した： 基板Ａ： − 赤−緑−青カラーフィルター点を、フォトリトグラ
フィにより施す； − 平衡層を施す； − 広表面の透明なインジウム スズ酸化物電極を、ス
パッタリングにより施す（ＩＴＯ層）； − このＩＴＯ層を構築し、コンダクター トラック
（列）を形成する； − 絶縁層を、蒸着により施す； − 接着フレーム用の補助層を、フォトリトグラフィに
より施す； − ポリイミド先駆溶液の含水薄膜を、スピンコーティ
ングにより施す； − 溶剤を蒸発させ、このポリイミド薄膜を硬化させ、
配向層を形成する； − 補助層を分離し、これにより接着フレームのための
表面を露出させる； − 配向層を摩擦することによって、この層を配向させ
る； − この露出された表面上に、例えばスクリーン印刷に
より、接着フレームを印刷する； − 接着剤を予備乾燥させる。
記のとおりに別々に処理することによって、スメクティ
ック液晶層を有するパッシブ−マトリックスＬＣＤを製
造した： 基板Ａ： − 赤−緑−青カラーフィルター点を、フォトリトグラ
フィにより施す； − 平衡層を施す； − 広表面の透明なインジウム スズ酸化物電極を、ス
パッタリングにより施す（ＩＴＯ層）； − このＩＴＯ層を構築し、コンダクター トラック
（列）を形成する； − 絶縁層を、蒸着により施す； − 接着フレーム用の補助層を、フォトリトグラフィに
より施す； − ポリイミド先駆溶液の含水薄膜を、スピンコーティ
ングにより施す； − 溶剤を蒸発させ、このポリイミド薄膜を硬化させ、
配向層を形成する； − 補助層を分離し、これにより接着フレームのための
表面を露出させる； − 配向層を摩擦することによって、この層を配向させ
る； − この露出された表面上に、例えばスクリーン印刷に
より、接着フレームを印刷する； − 接着剤を予備乾燥させる。
【００１６】基板Ｂ： − 広表面の透明なインジウム スズ酸化物電極を、ス
パッタリングにより施す（ＩＴＯ層）； − このＩＴＯ層を構築し、コンダクター トラック
（列）を形成する； − 絶縁層を、蒸着により施す； − 接着フレーム用の補助層を、フォトリトグラフィに
より施す； − ポリイミド先駆溶液の含水薄膜を、スピンコーティ
ングにより施す； − 溶剤を蒸発させ、このポリイミド薄膜を硬化させ、
配向層を形成する； − 補助層を分離し、これにより接着フレームのための
表面を露出させる； − 配向層を摩擦することによって、この層を配向させ
る； − 事前に注意深く脱気し、濾過し、次いでスペーサー
粒子と混合したスメクティック液晶混合物、ＦＥＬＩＸ
−０１５−０００（登録商品名）（製造会社：Ｃｌａｒ
ｉａｎｔ ＧｍｂＨ／Ｆｒａｎｋｆｕｒｔ）を、露出さ
れた接着フレームが離れているようにして、オフセット
印刷装置を用いて印刷することによって施す。
パッタリングにより施す（ＩＴＯ層）； − このＩＴＯ層を構築し、コンダクター トラック
（列）を形成する； − 絶縁層を、蒸着により施す； − 接着フレーム用の補助層を、フォトリトグラフィに
より施す； − ポリイミド先駆溶液の含水薄膜を、スピンコーティ
ングにより施す； − 溶剤を蒸発させ、このポリイミド薄膜を硬化させ、
配向層を形成する； − 補助層を分離し、これにより接着フレームのための
表面を露出させる； − 配向層を摩擦することによって、この層を配向させ
る； − 事前に注意深く脱気し、濾過し、次いでスペーサー
粒子と混合したスメクティック液晶混合物、ＦＥＬＩＸ
−０１５−０００（登録商品名）（製造会社：Ｃｌａｒ
ｉａｎｔ ＧｍｂＨ／Ｆｒａｎｋｆｕｒｔ）を、露出さ
れた接着フレームが離れているようにして、オフセット
印刷装置を用いて印刷することによって施す。
【００１７】ディスプレイの二つの半分を別々に製造し
た後、基板Ｂを、脱気した位置決定装置に配置し、次い
で基板Ａを、所望の列およびカラムの形態の間隙が生成
されるように、その上に置き、これら２枚の基板に一緒
に圧力をかける。このセルを、接着フレームと例えばマ
スクした赤外線灯を用いる短時間の局所的加熱により、
あるいは紫外線灯またはエネルギー照射により硬化させ
ることによって、結合させる。次いで、このセルを、脱
気した位置決定装置および結合装置から取り出す。この
結合されたディスプレイを外部大気圧にさらすことによ
って、２枚のガラス基板をスペーサー上に加圧設置す
る。このようにして、安定な均一セルスペーサーが得ら
れる。このセルを次いで、透明点以上の温度に加熱し、
次いで再度、冷却させる。これにより、スメクティック
液晶は、摩擦方向に従い配向される。このセルに、偏光
板を付与し、次いで駆動エレクトロニクスに連結する。
た後、基板Ｂを、脱気した位置決定装置に配置し、次い
で基板Ａを、所望の列およびカラムの形態の間隙が生成
されるように、その上に置き、これら２枚の基板に一緒
に圧力をかける。このセルを、接着フレームと例えばマ
スクした赤外線灯を用いる短時間の局所的加熱により、
あるいは紫外線灯またはエネルギー照射により硬化させ
ることによって、結合させる。次いで、このセルを、脱
気した位置決定装置および結合装置から取り出す。この
結合されたディスプレイを外部大気圧にさらすことによ
って、２枚のガラス基板をスペーサー上に加圧設置す
る。このようにして、安定な均一セルスペーサーが得ら
れる。このセルを次いで、透明点以上の温度に加熱し、
次いで再度、冷却させる。これにより、スメクティック
液晶は、摩擦方向に従い配向される。このセルに、偏光
板を付与し、次いで駆動エレクトロニクスに連結する。
【００１８】例３ 低沸点溶剤または添加剤、例えばトルエン、メチレンク
ロライド、エタノールなどを用いて流動粘度を減少さ
せ、これによりこの層の印刷を容易にすることによっ
て、印刷されるスメクティック液晶層を用意することに
より、例１および２に記載の方法を改良した。２枚のセ
ルを一緒に結合させる前に、この塗布された基板を減圧
で、または空気流中で、加熱し、次いで溶剤を蒸発させ
た。 例４ ５０℃の僅かに高められた温度において、これによりさ
らに流動性であり、従って薄膜に容易に印刷できる液晶
混合物を調製することによって、印刷されるスメクティ
ック液晶層を施すことにより、例１および２に記載の方
法を改良した。
ロライド、エタノールなどを用いて流動粘度を減少さ
せ、これによりこの層の印刷を容易にすることによっ
て、印刷されるスメクティック液晶層を用意することに
より、例１および２に記載の方法を改良した。２枚のセ
ルを一緒に結合させる前に、この塗布された基板を減圧
で、または空気流中で、加熱し、次いで溶剤を蒸発させ
た。 例４ ５０℃の僅かに高められた温度において、これによりさ
らに流動性であり、従って薄膜に容易に印刷できる液晶
混合物を調製することによって、印刷されるスメクティ
ック液晶層を施すことにより、例１および２に記載の方
法を改良した。
【００１９】例５ ｘ℃またはそれ以上の僅かに高められた温度において、
これによりさらに流動性であり、従って薄膜に容易に印
刷できる液晶混合物を調製することによって、印刷され
るスメクティック液晶層を施すことにより、例１および
２に記載の方法を改良した。この場合、数値ｘは、印刷
されるスメクティック混合物の、または印刷される液晶
と流動性溶剤との混合物の平均剪断粘度を測定すること
によって得られる。この数値ｘは、その粘度が２０Ｐａ
ｓ（パスカル秒）よりも低い数値を有する温度である。
これらの試験は、この粘度以下において、市販のフレキ
ソグラフ用印刷装置（製造会社：Ｎｉｓｓｈａ Ｐｒｉ
ｎｔｉｎｇ，Ｊａｐａｎ）を用いて、印刷を容易に実施
できることを示している。 例６ 下記成分からスメクティック被験混合物を調製した： − ２−（４−ヘキシルオキシフェニル）−５−オクチ
ルピリミジン（６０ｗｔ％）； − ２−（４−デシルオキシフェニル）−５−オクチル
ピリミジン（４０ｗｔ％）。 この混合物の粘度は、温度および剪断速度の関数として
測定した。下記の結果が得られた：
これによりさらに流動性であり、従って薄膜に容易に印
刷できる液晶混合物を調製することによって、印刷され
るスメクティック液晶層を施すことにより、例１および
２に記載の方法を改良した。この場合、数値ｘは、印刷
されるスメクティック混合物の、または印刷される液晶
と流動性溶剤との混合物の平均剪断粘度を測定すること
によって得られる。この数値ｘは、その粘度が２０Ｐａ
ｓ（パスカル秒）よりも低い数値を有する温度である。
これらの試験は、この粘度以下において、市販のフレキ
ソグラフ用印刷装置（製造会社：Ｎｉｓｓｈａ Ｐｒｉ
ｎｔｉｎｇ，Ｊａｐａｎ）を用いて、印刷を容易に実施
できることを示している。 例６ 下記成分からスメクティック被験混合物を調製した： − ２−（４−ヘキシルオキシフェニル）−５−オクチ
ルピリミジン（６０ｗｔ％）； − ２−（４−デシルオキシフェニル）−５−オクチル
ピリミジン（４０ｗｔ％）。 この混合物の粘度は、温度および剪断速度の関数として
測定した。下記の結果が得られた：
【００２０】
【表１】
Claims (6)
- 【請求項１】２枚の基板およびその間に存在するスメク
ティック液晶層を有するスメクティック液晶ディスプレ
イの製造方法であって、スメクティック液晶層またはス
メクティック液晶を含有する混合物を、印刷法により、
２枚の基板の少なくとも１枚に施し、次いでこの基板を
組み立て、スメクティック液晶ディスプレイを形成す
る、前記方法。 - 【請求項２】印刷法を、３０℃を越える温度で行う、請
求項１に記載の方法。 - 【請求項３】印刷法の温度および剪断速度における印刷
する成分の平均剪断粘度が、２０Ｐａｓよりも小さい、
請求項１または２のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項４】液晶ディスプレイが、２５ｃｍ（１０イン
チ）を越えるスクリーン径を有する、請求項１〜３のい
ずれか一項に記載の方法。 - 【請求項５】スメクティック液晶ディスプレイが、１枚
のみの基板上で印刷されている、請求項１〜４のいずれ
か一項に記載の方法。 - 【請求項６】請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法
によって得ることができるスメクティック液晶ディスプ
レイ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19832812.5 | 1998-07-21 | ||
| DE1998132812 DE19832812A1 (de) | 1998-07-21 | 1998-07-21 | Verfahren zur Herstellung smektischer Flüssigkristalldisplays |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000047264A true JP2000047264A (ja) | 2000-02-18 |
Family
ID=7874825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11206534A Pending JP2000047264A (ja) | 1998-07-21 | 1999-07-21 | スメクティック液晶ディスプレイの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000047264A (ja) |
| DE (1) | DE19832812A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH710211A2 (de) | 2014-10-06 | 2016-04-15 | castelberg design GmbH | Elektro-optisches Blendschutzglas, insbesondere für Schutz-, Sport- und Sonnenbrillen. |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS62267720A (ja) * | 1986-05-15 | 1987-11-20 | Nec Corp | 液晶素子の製造方法 |
| JPS6455520A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of ferroelectric liquid crystal element |
| JPH02179612A (ja) * | 1988-12-30 | 1990-07-12 | Canon Inc | 高分子液晶素子 |
| JPH02242222A (ja) * | 1989-03-16 | 1990-09-26 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 液晶光学素子の製造法 |
| JPH05165016A (ja) * | 1991-12-12 | 1993-06-29 | Toshiba Corp | 高分子分散型液晶表示装置およびその製造方法 |
| JPH05341271A (ja) * | 1992-06-05 | 1993-12-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 強誘電性液晶素子およびその製造方法 |
| JPH06340836A (ja) * | 1993-05-31 | 1994-12-13 | Sumitomo Chem Co Ltd | ロータリースクリーン印刷用ペーストゾル組成物及びその製造方法 |
| JPH0743691A (ja) * | 1993-07-28 | 1995-02-14 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 強誘電性高分子液晶を用いた液晶光学素子の製造方法及びその階調表示方法 |
| JPH07128143A (ja) * | 1993-10-29 | 1995-05-19 | Shimadzu Corp | 赤外線変調器及び検出装置 |
| JPH07199202A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-08-04 | Toppan Printing Co Ltd | 強誘電性液晶または反強誘電性液晶表示素子とその製造方法 |
| JPH07311394A (ja) * | 1995-05-26 | 1995-11-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 液晶光学素子の製造方法 |
| JPH10170926A (ja) * | 1996-12-06 | 1998-06-26 | Canon Inc | 液晶素子及びこれを用いた液晶装置 |
-
1998
- 1998-07-21 DE DE1998132812 patent/DE19832812A1/de not_active Ceased
-
1999
- 1999-07-21 JP JP11206534A patent/JP2000047264A/ja active Pending
Patent Citations (13)
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|---|---|---|---|---|
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| JPH02242222A (ja) * | 1989-03-16 | 1990-09-26 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 液晶光学素子の製造法 |
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| JPH07128143A (ja) * | 1993-10-29 | 1995-05-19 | Shimadzu Corp | 赤外線変調器及び検出装置 |
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| JPH07311394A (ja) * | 1995-05-26 | 1995-11-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 液晶光学素子の製造方法 |
| JPH10170926A (ja) * | 1996-12-06 | 1998-06-26 | Canon Inc | 液晶素子及びこれを用いた液晶装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19832812A1 (de) | 2000-01-27 |
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