JP2000047010A - 光拡散層、光学素子及び液晶表示装置 - Google Patents
光拡散層、光学素子及び液晶表示装置Info
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- JP2000047010A JP2000047010A JP10228704A JP22870498A JP2000047010A JP 2000047010 A JP2000047010 A JP 2000047010A JP 10228704 A JP10228704 A JP 10228704A JP 22870498 A JP22870498 A JP 22870498A JP 2000047010 A JP2000047010 A JP 2000047010A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ゴーストの防止機能を維持しつつ、ギラツキ
の防止性や防眩性にも優れる光拡散層、光学素子及び液
晶表示装置の開発。 【解決手段】 表面微細凹凸構造（１３）の紫外線硬化
樹脂皮膜（１）からなり、その皮膜が粒子含有の紫外線
硬化樹脂層の重畳層（１１，１２）からなると共に、そ
の重畳層の上下層において含有粒子の平均粒径が相違す
る光拡散層、及びその光拡散層（１）を光学層の片面又
は両面に有する光学素子、並びに液晶表示素子の視認側
に前記の光拡散層を有する液晶表示装置。
の防止性や防眩性にも優れる光拡散層、光学素子及び液
晶表示装置の開発。 【解決手段】 表面微細凹凸構造（１３）の紫外線硬化
樹脂皮膜（１）からなり、その皮膜が粒子含有の紫外線
硬化樹脂層の重畳層（１１，１２）からなると共に、そ
の重畳層の上下層において含有粒子の平均粒径が相違す
る光拡散層、及びその光拡散層（１）を光学層の片面又
は両面に有する光学素子、並びに液晶表示素子の視認側
に前記の光拡散層を有する液晶表示装置。
Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は、ゴーストやギラツキの防
止性、ノングレア性に優れて視認性の良好な液晶表示装
置などを形成しうる光拡散層と光学素子に関する。
止性、ノングレア性に優れて視認性の良好な液晶表示装
置などを形成しうる光拡散層と光学素子に関する。
【０００２】
【背景技術】液晶表示装置等の表示装置では、その表面
に光拡散層を設けることが一般的である。かかる光拡散
層は、表面反射光を拡散するノングレア（防眩）層とし
て機能させて、蛍光灯や太陽光等の照明光やキーボーダ
ーなどの外部環境が画面上に映り込むゴースト現象で視
認性が阻害されることの防止などを目的とする。従来、
その光拡散層としては、サンドブラストや透明粒子の混
入などによる粗面化方式にて表面に微細凹凸構造を付与
したものが知られていた。
に光拡散層を設けることが一般的である。かかる光拡散
層は、表面反射光を拡散するノングレア（防眩）層とし
て機能させて、蛍光灯や太陽光等の照明光やキーボーダ
ーなどの外部環境が画面上に映り込むゴースト現象で視
認性が阻害されることの防止などを目的とする。従来、
その光拡散層としては、サンドブラストや透明粒子の混
入などによる粗面化方式にて表面に微細凹凸構造を付与
したものが知られていた。
【０００３】しかしながら、表示装置、特に液晶表示装
置の高精細化やカラー化などによる画素の小型化に伴っ
て、表示光にランダムな強弱が発生するギラツキが顕著
となり、視認性が著しく低下する問題を発生するように
なってきている。
置の高精細化やカラー化などによる画素の小型化に伴っ
て、表示光にランダムな強弱が発生するギラツキが顕著
となり、視認性が著しく低下する問題を発生するように
なってきている。
【０００４】
【発明の技術的課題】本発明は、ゴーストの防止機能を
維持しつつ、ギラツキの防止性や防眩性にも優れる光拡
散層、光学素子、及び液晶表示装置の開発を課題とす
る。
維持しつつ、ギラツキの防止性や防眩性にも優れる光拡
散層、光学素子、及び液晶表示装置の開発を課題とす
る。
【０００５】
【課題の解決手段】本発明は、表面微細凹凸構造の紫外
線硬化樹脂皮膜からなり、その皮膜が粒子含有の紫外線
硬化樹脂層の重畳層からなると共に、その重畳層の上下
層において含有粒子の平均粒径が相違することを特徴と
する光拡散層、及びその光拡散層を光学層の片面又は両
面に有することを特徴とする光学素子、並びに液晶表示
素子の視認側に前記の光拡散層を有することを特徴とす
る液晶表示装置を提供するものである。
線硬化樹脂皮膜からなり、その皮膜が粒子含有の紫外線
硬化樹脂層の重畳層からなると共に、その重畳層の上下
層において含有粒子の平均粒径が相違することを特徴と
する光拡散層、及びその光拡散層を光学層の片面又は両
面に有することを特徴とする光学素子、並びに液晶表示
素子の視認側に前記の光拡散層を有することを特徴とす
る液晶表示装置を提供するものである。
【０００６】
【発明の効果】本発明によれば、液晶表示装置等におけ
るゴーストの防止と共に、ギラツキも防止でき、防眩性
に優れる光拡散層や光学素子を得ることができ、視認性
に優れる表示装置を形成することができる。その理由
は、不明であるが、本発者らは上記の複層構造による層
内拡散性などにより表示光の歪が抑制されることによる
ものと考えている。
るゴーストの防止と共に、ギラツキも防止でき、防眩性
に優れる光拡散層や光学素子を得ることができ、視認性
に優れる表示装置を形成することができる。その理由
は、不明であるが、本発者らは上記の複層構造による層
内拡散性などにより表示光の歪が抑制されることによる
ものと考えている。
【０００７】すなわち上記した従来の光拡散層によるギ
ラツキ問題等は、画素の小型化でそのピッチが光拡散層
の表面凹凸構造との対応性が高まり、画素を通過した表
示光が光拡散層の表面凹凸構造にて屈折や拡散等の歪を
受けやすくなり、その歪によりブラックマトリクスで区
画されて平行光化した画素からの表示光にランダムな強
弱差を発生させて、ギラツキ現象が生じるものと考えら
れる。
ラツキ問題等は、画素の小型化でそのピッチが光拡散層
の表面凹凸構造との対応性が高まり、画素を通過した表
示光が光拡散層の表面凹凸構造にて屈折や拡散等の歪を
受けやすくなり、その歪によりブラックマトリクスで区
画されて平行光化した画素からの表示光にランダムな強
弱差を発生させて、ギラツキ現象が生じるものと考えら
れる。
【０００８】前記に対し本発明による光拡散層にては、
複層構造による層内拡散性等に基づいてブラックマトリ
クスによる区画にて平行光化された画素からの表示光が
散乱され、表示光の強弱差によるギラツキ現象が抑制さ
れるものと思われる。また表面の凹凸を微細化した場合
には、各画素からの表示光の画面上での面積の均一化が
はかられてより良好な視認性が達成されるものと思われ
る。
複層構造による層内拡散性等に基づいてブラックマトリ
クスによる区画にて平行光化された画素からの表示光が
散乱され、表示光の強弱差によるギラツキ現象が抑制さ
れるものと思われる。また表面の凹凸を微細化した場合
には、各画素からの表示光の画面上での面積の均一化が
はかられてより良好な視認性が達成されるものと思われ
る。
【０００９】
【発明の実施形態】本発明による光拡散層は、表面微細
凹凸構造の紫外線硬化樹脂皮膜からなり、その皮膜が粒
子含有の紫外線硬化樹脂層の重畳層からなると共に、そ
の重畳層の上下層において含有粒子の平均粒径が相違す
るものからなる。その例を図１、図２に示した。１が紫
外線硬化樹脂皮膜からなる光拡散層、１１，１２が紫外
線硬化樹脂層の重畳層、１３，１４が微細凹凸構造面、
２が透明基材であり、３は必要に応じての接着層であ
る。
凹凸構造の紫外線硬化樹脂皮膜からなり、その皮膜が粒
子含有の紫外線硬化樹脂層の重畳層からなると共に、そ
の重畳層の上下層において含有粒子の平均粒径が相違す
るものからなる。その例を図１、図２に示した。１が紫
外線硬化樹脂皮膜からなる光拡散層、１１，１２が紫外
線硬化樹脂層の重畳層、１３，１４が微細凹凸構造面、
２が透明基材であり、３は必要に応じての接着層であ
る。
【００１０】図例の如く光拡散層１は、粒子含有の紫外
線硬化樹脂層１１，１２の重畳層からなる紫外線硬化樹
脂皮膜そのものからなるシート等の独立層として形成さ
れていてもよいし、透明基材２を介しその片面又は両面
上に紫外線硬化樹脂皮膜１を支持した形態の光拡散シー
トからなっていてもよい。また後者に準じて、支持母体
に付設された従属層などとして形成されていてもよい。
線硬化樹脂層１１，１２の重畳層からなる紫外線硬化樹
脂皮膜そのものからなるシート等の独立層として形成さ
れていてもよいし、透明基材２を介しその片面又は両面
上に紫外線硬化樹脂皮膜１を支持した形態の光拡散シー
トからなっていてもよい。また後者に準じて、支持母体
に付設された従属層などとして形成されていてもよい。
【００１１】樹脂皮膜を形成する紫外線硬化型樹脂とし
ては、例えばポリエステル系やアクリル系、ウレタン系
やアミド系、シリコーン系やエポキシ系等の樹脂を形成
しうるモノマーやオリゴマーやポリマーに紫外線重合開
始剤を配合して、紫外線照射による硬化処理で樹脂皮膜
を形成しうるようにしたものなどの適宜なものを用いう
る。
ては、例えばポリエステル系やアクリル系、ウレタン系
やアミド系、シリコーン系やエポキシ系等の樹脂を形成
しうるモノマーやオリゴマーやポリマーに紫外線重合開
始剤を配合して、紫外線照射による硬化処理で樹脂皮膜
を形成しうるようにしたものなどの適宜なものを用いう
る。
【００１２】好ましく用いうる紫外線硬化型樹脂は、例
えば紫外線重合性の官能基を３〜６個有するアクリル系
のモノマーやオリゴマーを成分とするものの如く、付設
対象に対する密着性や透明性、ハードコート性や配合粒
子の分散性などに優れるものである。
えば紫外線重合性の官能基を３〜６個有するアクリル系
のモノマーやオリゴマーを成分とするものの如く、付設
対象に対する密着性や透明性、ハードコート性や配合粒
子の分散性などに優れるものである。
【００１３】表面微細凹凸構造の紫外線硬化樹脂皮膜の
形成は、例えば紫外線硬化型樹脂中に屈折率相違の透明
粒子を分散含有させてそれをドクターブレード法やグラ
ビアロールコータ法等の適宜な方式で所定面に塗工し、
その塗工層を紫外線照射を介し硬化処理して透明粒子に
よる凹凸が表面に反映した微細凹凸構造を形成する方
式、あるいは透明基材の表面をサンドブラストやエンボ
スロール、エッチング等の適宜な方式で粗面化し、その
粗面化表面に紫外線硬化樹脂皮膜を塗工形成して皮膜表
面に前記粗面化表面の凹凸を反映させて微細凹凸構造を
形成する方式などの適宜な方式にて行うことができる。
形成は、例えば紫外線硬化型樹脂中に屈折率相違の透明
粒子を分散含有させてそれをドクターブレード法やグラ
ビアロールコータ法等の適宜な方式で所定面に塗工し、
その塗工層を紫外線照射を介し硬化処理して透明粒子に
よる凹凸が表面に反映した微細凹凸構造を形成する方
式、あるいは透明基材の表面をサンドブラストやエンボ
スロール、エッチング等の適宜な方式で粗面化し、その
粗面化表面に紫外線硬化樹脂皮膜を塗工形成して皮膜表
面に前記粗面化表面の凹凸を反映させて微細凹凸構造を
形成する方式などの適宜な方式にて行うことができる。
【００１４】また粒子含有の紫外線硬化樹脂層の重畳層
からなり、その重畳層の上下層において含有粒子の平均
粒径が相違する紫外線硬化樹脂皮膜の形成は、例えば前
記において、先に形成した粒子含有の紫外線硬化樹脂層
の上に、その層の粒子とは平均粒径が相違する粒子含有
の紫外線硬化型樹脂を重ね塗りして、それを紫外線照射
により硬化処理する方法などにより行うことができる。
からなり、その重畳層の上下層において含有粒子の平均
粒径が相違する紫外線硬化樹脂皮膜の形成は、例えば前
記において、先に形成した粒子含有の紫外線硬化樹脂層
の上に、その層の粒子とは平均粒径が相違する粒子含有
の紫外線硬化型樹脂を重ね塗りして、それを紫外線照射
により硬化処理する方法などにより行うことができる。
【００１５】紫外線硬化樹脂層に含有させる粒子として
は、例えばシリカやアルミナ、チタニアやジルコニア、
酸化カルシウムや酸化錫、酸化インジウムや酸化カドミ
ウム、酸化アンチモン等の導電性のこともある無機系粒
子、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）やポリウレ
タン等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系
粒子などの適宜なものを用いうる。
は、例えばシリカやアルミナ、チタニアやジルコニア、
酸化カルシウムや酸化錫、酸化インジウムや酸化カドミ
ウム、酸化アンチモン等の導電性のこともある無機系粒
子、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）やポリウレ
タン等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系
粒子などの適宜なものを用いうる。
【００１６】好ましく用いうる粒子は、透明性に優れ
て、紫外線硬化型樹脂中で硬化皮膜形成前には溶解しな
いものである。また上記した表面粗さ特性の形成などの
点より好ましく用いうる透明粒子は、平均粒径が３０μ
m以下、就中１５μm以下、特に０．１〜１０μmのもの
である。
て、紫外線硬化型樹脂中で硬化皮膜形成前には溶解しな
いものである。また上記した表面粗さ特性の形成などの
点より好ましく用いうる透明粒子は、平均粒径が３０μ
m以下、就中１５μm以下、特に０．１〜１０μmのもの
である。
【００１７】重畳する紫外線硬化樹脂層は、上下の層に
て含有粒子の平均粒径を相違させる組合せとする点を除
いて特に限定はなく、２層又は３層以上の適宜な重畳層
数とすることができる。また上下の層にて相違させる含
有粒子の平均粒径についても適宜に決定しうるが、一般
には粒径の相違による重畳層内部での光拡散性によるギ
ラツキ防止などの点より、０．２μm以上、就中０．４
μm以上、特に０．６μm以上相違する平均粒径の組合せ
とすることが好ましい。
て含有粒子の平均粒径を相違させる組合せとする点を除
いて特に限定はなく、２層又は３層以上の適宜な重畳層
数とすることができる。また上下の層にて相違させる含
有粒子の平均粒径についても適宜に決定しうるが、一般
には粒径の相違による重畳層内部での光拡散性によるギ
ラツキ防止などの点より、０．２μm以上、就中０．４
μm以上、特に０．６μm以上相違する平均粒径の組合せ
とすることが好ましい。
【００１８】また光拡散層の薄型化等を目的に２層の重
畳層からなる紫外線硬化樹脂皮膜とする場合には、平均
粒径が０．１〜１．０μm以下の粒子を含有する小粒子
層と、平均粒径が１．０超〜５μmの粒子を含有する大
粒子層との組合せとすることが重畳層内部での光拡散性
によるギラツキ防止などの点より特に好ましい。
畳層からなる紫外線硬化樹脂皮膜とする場合には、平均
粒径が０．１〜１．０μm以下の粒子を含有する小粒子
層と、平均粒径が１．０超〜５μmの粒子を含有する大
粒子層との組合せとすることが重畳層内部での光拡散性
によるギラツキ防止などの点より特に好ましい。
【００１９】さらにギラツキの防止等による鮮明画像の
形成性などの点より一層好ましい光拡散層は、重畳層内
部での光拡散性がヘイズに基づいて５〜４０％、就中１
０〜３５％であるものであり、表面の微細凹凸構造にお
ける表面粗さが中心線平均粗さ０．０８〜０．５μm、
就中０．１〜０．３μm、平均山谷間隔２０〜８０μm、
就中２５〜６０μmであるものである。山谷間隔は、可
及的に一定であることが好ましい。
形成性などの点より一層好ましい光拡散層は、重畳層内
部での光拡散性がヘイズに基づいて５〜４０％、就中１
０〜３５％であるものであり、表面の微細凹凸構造にお
ける表面粗さが中心線平均粗さ０．０８〜０．５μm、
就中０．１〜０．３μm、平均山谷間隔２０〜８０μm、
就中２５〜６０μmであるものである。山谷間隔は、可
及的に一定であることが好ましい。
【００２０】一方、上記した紫外線硬化樹脂皮膜からな
る光拡散層を支持する透明基材としては、例えばポリエ
チレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの如
きポリエステル系ポリマー、二酢酸セルロースや三酢酸
セルロースの如きセルロース系ポリマー、ポリカーボネ
ート系ポリマーやＰＭＭＡの如きアクリル系ポリマー等
の透明ポリマーからなるフィルムがあげられる。
る光拡散層を支持する透明基材としては、例えばポリエ
チレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの如
きポリエステル系ポリマー、二酢酸セルロースや三酢酸
セルロースの如きセルロース系ポリマー、ポリカーボネ
ート系ポリマーやＰＭＭＡの如きアクリル系ポリマー等
の透明ポリマーからなるフィルムがあげられる。
【００２１】またポリスチレンやアクリロニトリル・ス
チレン共重合体（ＡＳ樹脂）の如きスチレン系ポリマ
ー、ポリエチレンやポリプロピレン、シクロ系ないしノ
ルボルネン構造を有するポリオレフィンやエチレン・プ
ロピレン共重合体の如きオレフィン系ポリマー、塩化ビ
ニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミドの如きア
ミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムもあ
げられる。
チレン共重合体（ＡＳ樹脂）の如きスチレン系ポリマ
ー、ポリエチレンやポリプロピレン、シクロ系ないしノ
ルボルネン構造を有するポリオレフィンやエチレン・プ
ロピレン共重合体の如きオレフィン系ポリマー、塩化ビ
ニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミドの如きア
ミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムもあ
げられる。
【００２２】さらにイミド系ポリマーやスルホン系ポリ
マー、ポリエーテルスルホン系ポリマーやポリエーテル
エーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド
系ポリマーやビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリ
デン系ポリマーやビニルブチラール系ポリマー、アリレ
ート系ポリマーやポリオキシメチレン系ポリマー、エポ
キシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物等の透明ポ
リマーからなるフィルムなどもあげられる。
マー、ポリエーテルスルホン系ポリマーやポリエーテル
エーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド
系ポリマーやビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリ
デン系ポリマーやビニルブチラール系ポリマー、アリレ
ート系ポリマーやポリオキシメチレン系ポリマー、エポ
キシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物等の透明ポ
リマーからなるフィルムなどもあげられる。
【００２３】就中、透明性に優れるポリマーからなり、
複屈折による位相差の可及的に小さいフィルムなどが好
ましく用いられる。透明基材の厚さは、適宜に決定しう
るが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの
点より１０〜５００μm、就中３０〜３００μm、特に５
０〜２００μmの厚さとされる。
複屈折による位相差の可及的に小さいフィルムなどが好
ましく用いられる。透明基材の厚さは、適宜に決定しう
るが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの
点より１０〜５００μm、就中３０〜３００μm、特に５
０〜２００μmの厚さとされる。
【００２４】重畳する紫外線硬化樹脂層の各層の厚さ
は、適宜に決定しうるが、一般には上記した特性の光拡
散層の形成性などの点より、５０μm以下、就中１〜３
０μm、特に３〜１０μmとされる。なお図２に例示の如
く、必要に応じて設ける接着層３は、光学層等の他部材
に接着することを目的とし、例えばアクリル系やゴム
系、シリコーン系等の粘着剤やホットメルト系接着剤な
どの適宜な接着剤にて形成することができ、透明性や耐
候性などに優れるものが好ましい。
は、適宜に決定しうるが、一般には上記した特性の光拡
散層の形成性などの点より、５０μm以下、就中１〜３
０μm、特に３〜１０μmとされる。なお図２に例示の如
く、必要に応じて設ける接着層３は、光学層等の他部材
に接着することを目的とし、例えばアクリル系やゴム
系、シリコーン系等の粘着剤やホットメルト系接着剤な
どの適宜な接着剤にて形成することができ、透明性や耐
候性などに優れるものが好ましい。
【００２５】本発明による光拡散層は、従来に準じた各
種の目的に用いうる。特に液晶表示装置の如く所定の間
隔で画素を配列してなる表示装置などに好ましく用いう
る。その適用に際しては、光学層の片面又は両面に光拡
散層を設けた光学素子として用いることもできる。
種の目的に用いうる。特に液晶表示装置の如く所定の間
隔で画素を配列してなる表示装置などに好ましく用いう
る。その適用に際しては、光学層の片面又は両面に光拡
散層を設けた光学素子として用いることもできる。
【００２６】本発明による光学素子の例を図３、図４に
示した。４は偏光板、５は位相差板、６はそれら偏光板
４と位相差板５との積層体からなる楕円偏光板である。
従って光学層としては、偏光板や位相差板、それらの積
層体からなる楕円偏光板などの適宜なものであってよ
い。
示した。４は偏光板、５は位相差板、６はそれら偏光板
４と位相差板５との積層体からなる楕円偏光板である。
従って光学層としては、偏光板や位相差板、それらの積
層体からなる楕円偏光板などの適宜なものであってよ
い。
【００２７】前記の偏光板には適宜なものを用いうる。
ちなみにその例としては、ポリビニルアルコール系フィ
ルムや部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィル
ム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィル
ムの如き親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料
等の二色性物質を吸着させて延伸したもの、ポリビニル
アルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理
物の如き偏光フィルムがあげられる。偏光フィルムの厚
さは、５〜８０μmが一般的であるが、これに限定され
ない。
ちなみにその例としては、ポリビニルアルコール系フィ
ルムや部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィル
ム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィル
ムの如き親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料
等の二色性物質を吸着させて延伸したもの、ポリビニル
アルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理
物の如き偏光フィルムがあげられる。偏光フィルムの厚
さは、５〜８０μmが一般的であるが、これに限定され
ない。
【００２８】また前記した偏光フィルムの片面又は両面
に耐水性等の保護目的で、ポリマーの塗布層やフィルム
のラミネート層等からなる透明保護層を設けたものなど
もあげられる。透明保護層の形成には、上記した透明基
材で例示のポリマーなどの適宜なものを用いうるが、透
明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性などに優れる
ものが好ましく用いうる。
に耐水性等の保護目的で、ポリマーの塗布層やフィルム
のラミネート層等からなる透明保護層を設けたものなど
もあげられる。透明保護層の形成には、上記した透明基
材で例示のポリマーなどの適宜なものを用いうるが、透
明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性などに優れる
ものが好ましく用いうる。
【００２９】一方、位相差板としても、適宜なものを用
いうる。ちなみにその例としては、上記の透明基材で例
示したポリマーフィルムの一軸や二軸等の適宜な方式に
よる延伸フィルムや液晶ポリマーフィルムなどがあげら
れる。位相差板は、２層以上の延伸フィルムの重畳体な
どとして形成されていてもよい。
いうる。ちなみにその例としては、上記の透明基材で例
示したポリマーフィルムの一軸や二軸等の適宜な方式に
よる延伸フィルムや液晶ポリマーフィルムなどがあげら
れる。位相差板は、２層以上の延伸フィルムの重畳体な
どとして形成されていてもよい。
【００３０】楕円偏光板は、偏光板と位相差板を積層す
ることにより形成しうる。その場合、光拡散層は少なく
とも偏光板側に設けることが実用性などの点より好まし
い。なお楕円偏光板における偏光板と位相差板は、上記
の接着層などを介して接着積層されていることがズレ防
止等による光学特性の安定性などの点より好ましい。
ることにより形成しうる。その場合、光拡散層は少なく
とも偏光板側に設けることが実用性などの点より好まし
い。なお楕円偏光板における偏光板と位相差板は、上記
の接着層などを介して接着積層されていることがズレ防
止等による光学特性の安定性などの点より好ましい。
【００３１】また光学素子における光拡散層は、図３に
例示の如く光学層４に直接付設されていてもよいし、図
４に例示の如く透明基材２と一体化した光拡散シートと
して付設されていてもよい。光拡散シートの場合にも上
記の接着層などを介して光学層と接着積層されているこ
とがズレ防止等による光学特性の安定性などの点より好
ましい。なお光拡散層は、平均粒径の大きい粒子を含有
する層が表面の微細凹凸構造を形成する面として位置す
ることがノングレア性などの点より好ましい。
例示の如く光学層４に直接付設されていてもよいし、図
４に例示の如く透明基材２と一体化した光拡散シートと
して付設されていてもよい。光拡散シートの場合にも上
記の接着層などを介して光学層と接着積層されているこ
とがズレ防止等による光学特性の安定性などの点より好
ましい。なお光拡散層は、平均粒径の大きい粒子を含有
する層が表面の微細凹凸構造を形成する面として位置す
ることがノングレア性などの点より好ましい。
【００３２】上記のように本発明による光拡散層や光学
素子は、画素を介した表示光の歪が問題となる表示装
置、就中、ノート型やディスクトップ型等のパーソナル
コンピュータにおける液晶表示装置などに好ましく用い
うる。特にＴＦＴ式やＳＴＮ式の液晶表示素子の如く、
表示単位としての画素が遮光部（ブラックマトリクス）
にて等間隔に区切られて所定のピッチで形成され、その
画素ピッチが例えば５０〜５００μmである液晶表示装
置などに好ましく用いうる。
素子は、画素を介した表示光の歪が問題となる表示装
置、就中、ノート型やディスクトップ型等のパーソナル
コンピュータにおける液晶表示装置などに好ましく用い
うる。特にＴＦＴ式やＳＴＮ式の液晶表示素子の如く、
表示単位としての画素が遮光部（ブラックマトリクス）
にて等間隔に区切られて所定のピッチで形成され、その
画素ピッチが例えば５０〜５００μmである液晶表示装
置などに好ましく用いうる。
【００３３】前記において光拡散層や光学素子は、液晶
表示装置の視認側に設けられるが、その場合、ギラツキ
防止やノングレア作用などの点より光拡散層は、装置の
最表面等の可及的に外表面に位置させることが好まし
い。なお液晶表示装置は、本発明による光拡散層又は光
学素子を少なくとも１層配置する点を除いて特に限定は
なく、従来に準じたものとして形成することができる。
表示装置の視認側に設けられるが、その場合、ギラツキ
防止やノングレア作用などの点より光拡散層は、装置の
最表面等の可及的に外表面に位置させることが好まし
い。なお液晶表示装置は、本発明による光拡散層又は光
学素子を少なくとも１層配置する点を除いて特に限定は
なく、従来に準じたものとして形成することができる。
【００３４】
【実施例】実施例１ 紫外線硬化型のウレタンアクリレートモノマー１００部
（重量部、以下同じ）とベンゾフェノン系光重合開始剤
３部からなる紫外線硬化型樹脂に、平均粒径０．５μm
のシリカ粒子１５部を加え、粘度調整用溶剤の添加によ
り固形分濃度を５０重量％としたのち高速撹拌機にて混
合し、その混合液を厚さ５０μmのトリアセチルセルロ
ースフィルムの片面にバーコータにて塗工して溶剤揮発
後、紫外線を照射して硬化処理し、厚さ７μmの小粒子
層を形成した後、前記に準じ平均粒径１．４μmのシリ
カ粒子１０部を含有する混合液を調製し、それを小粒子
層上に塗工し厚さ７μmの大粒子層を重畳形成して光拡
散層を有する光拡散シートを得た。
（重量部、以下同じ）とベンゾフェノン系光重合開始剤
３部からなる紫外線硬化型樹脂に、平均粒径０．５μm
のシリカ粒子１５部を加え、粘度調整用溶剤の添加によ
り固形分濃度を５０重量％としたのち高速撹拌機にて混
合し、その混合液を厚さ５０μmのトリアセチルセルロ
ースフィルムの片面にバーコータにて塗工して溶剤揮発
後、紫外線を照射して硬化処理し、厚さ７μmの小粒子
層を形成した後、前記に準じ平均粒径１．４μmのシリ
カ粒子１０部を含有する混合液を調製し、それを小粒子
層上に塗工し厚さ７μmの大粒子層を重畳形成して光拡
散層を有する光拡散シートを得た。
【００３５】前記の光拡散層は、重畳層内部にてヘイズ
に基づき２８％の光拡散性を示し、表面の微細凹凸構造
における触針式表面粗さ測定器に基づく中心線平均粗さ
（以下同じ）が０．１２μm、表面粗さ曲線による平均
山谷間隔（以下同じ）が４２μmのものであった。
に基づき２８％の光拡散性を示し、表面の微細凹凸構造
における触針式表面粗さ測定器に基づく中心線平均粗さ
（以下同じ）が０．１２μm、表面粗さ曲線による平均
山谷間隔（以下同じ）が４２μmのものであった。
【００３６】比較例１ トリアセチルセルロースフィルム上に平均粒径０．５μ
mのシリカ粒子を含有する小粒子層を単独層として厚さ
１４μmで形成したほかは実施例１に準じて光拡散層を
有する光拡散シートを得た。その光拡散層はヘイズに基
づく内部光拡散性が３％、表面微細凹凸構造における中
心線平均粗さが０．１１μm、平均山谷間隔が４４μmで
あった。
mのシリカ粒子を含有する小粒子層を単独層として厚さ
１４μmで形成したほかは実施例１に準じて光拡散層を
有する光拡散シートを得た。その光拡散層はヘイズに基
づく内部光拡散性が３％、表面微細凹凸構造における中
心線平均粗さが０．１１μm、平均山谷間隔が４４μmで
あった。
【００３７】比較例２ トリアセチルセルロースフィルム上に平均粒径１．４μ
mのシリカ粒子を含有する大粒子層を単独層として厚さ
１４μmで形成したほかは実施例１に準じて光拡散層を
有する光拡散シートを得た。その光拡散層はヘイズに基
づく内部光拡散性が２％、表面微細凹凸構造における中
心線平均粗さが０．１０μm、平均山谷間隔が４５μmで
あった。
mのシリカ粒子を含有する大粒子層を単独層として厚さ
１４μmで形成したほかは実施例１に準じて光拡散層を
有する光拡散シートを得た。その光拡散層はヘイズに基
づく内部光拡散性が２％、表面微細凹凸構造における中
心線平均粗さが０．１０μm、平均山谷間隔が４５μmで
あった。
【００３８】評価試験 実施例１、比較例１，２で得た光拡散シートをノート型
パソコン用の液晶表示素子（サイズ１２．１インチ、解
像度ＸＧＡ）の上に設置して表示像を視認した。その場
合、実施例１の光拡散シートを用いた液晶表示装置で
は、ギラツキが少なく非常に鮮明な表示像が得られた
が、比較例１，２では、ギラツキの度合いが大きくて表
示像の鮮明さに劣るものであった。
パソコン用の液晶表示素子（サイズ１２．１インチ、解
像度ＸＧＡ）の上に設置して表示像を視認した。その場
合、実施例１の光拡散シートを用いた液晶表示装置で
は、ギラツキが少なく非常に鮮明な表示像が得られた
が、比較例１，２では、ギラツキの度合いが大きくて表
示像の鮮明さに劣るものであった。
【図１】光拡散層例の断面図
【図２】他の光拡散層例の断面図
【図３】光学素子例の断面図
【図４】他の光学素子例の断面図
１：紫外線硬化樹脂皮膜からなる光拡散層 １１，１２：紫外線硬化樹脂層の重畳層 １３，１４：微細凹凸構造面 ２：透明基材 ４：偏光板 ５：位相差板 ６：楕円偏光板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 正田 位守 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA03 BA12 BA15 BA20 CA15 2H049 BA02 BA04 BA06 BA25 BA26 BA27 BB16 BB63 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA31X FA31Z FA37X FA37Z FB12 FB13 FC14 FC23 FC26 GA01 LA03 LA16
Claims (6)
- 【請求項１】 表面微細凹凸構造の紫外線硬化樹脂皮膜
からなり、その皮膜が粒子含有の紫外線硬化樹脂層の重
畳層からなると共に、その重畳層の上下層において含有
粒子の平均粒径が相違することを特徴とする光拡散層。 - 【請求項２】 請求項１において、紫外線硬化樹脂皮膜
が平均粒径０．１〜１．０μm以下の粒子を含有する小
粒子層と平均粒径１．０超〜５μmの粒子を含有する大
粒子層を有し、重畳層内部においてヘイズに基づき５〜
４０％の光拡散性を示すと共に、表面微細凹凸構造の表
面粗さが中心線平均粗さ０．０８〜０．５μm、平均山
谷間隔２０〜８０μmである光拡散層。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、透明基材の片
面又は両面に支持されてなる光拡散層。 - 【請求項４】 請求項１〜３に記載の光拡散層を光学層
の片面又は両面に有することを特徴とする光学素子。 - 【請求項５】 請求項４において、光学層が偏光板、位
相差板、又はそれらの積層体からなる楕円偏光板である
光学素子。 - 【請求項６】 液晶表示素子の視認側に請求項１〜３に
記載の光拡散層を有することを特徴とする液晶表示装
置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP22870498A JP3821956B2 (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 光拡散層、光学素子及び液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22870498A JP3821956B2 (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 光拡散層、光学素子及び液晶表示装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000047010A true JP2000047010A (ja) | 2000-02-18 |
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| JP22870498A Expired - Fee Related JP3821956B2 (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 光拡散層、光学素子及び液晶表示装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2002090515A (ja) * | 2000-07-12 | 2002-03-27 | Toray Ind Inc | 面光源反射部材用白色フィルム |
| JP2003337326A (ja) * | 2000-03-31 | 2003-11-28 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
| US7167222B2 (en) | 2000-03-31 | 2007-01-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display with antiglare layer on viewer side having haze equal to or greater than 40 |
| KR100840471B1 (ko) * | 2000-07-24 | 2008-06-20 | 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 투과형 광산란 시트 |
| WO2008146939A1 (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-04 | Lintec Corporation | 防眩性光透過性ハードコートフィルム |
| WO2008146935A1 (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-04 | Lintec Corporation | 防眩性光透過性ハードコートフィルム |
| WO2009075201A1 (ja) * | 2007-12-11 | 2009-06-18 | Konica Minolta Opto, Inc. | 防眩性フィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
| WO2009078238A1 (ja) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Konica Minolta Opto, Inc. | 防眩性ハードコートフィルム、偏光板、画像表示装置および防眩性ハードコートフィルムの製造方法 |
| JP2009230155A (ja) * | 2002-04-24 | 2009-10-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 防眩性フィルム、偏光素子及び画像表示装置 |
| KR100928766B1 (ko) | 2007-02-14 | 2009-11-25 | 소니 가부시끼 가이샤 | 눈부심 방지 필름과 이를 제조하기 위한 방법 및 이를사용한 디스플레이 장치 |
| US7997743B2 (en) | 2008-08-13 | 2011-08-16 | Sony Corporation | Optical film and manufacturing method therefor, antiglare film, optical layer-attached polarizer, and dispaly apparatus |
| US8582204B2 (en) | 2008-06-09 | 2013-11-12 | Sony Corporation | Optical film and method for manufacturing the same, antiglare film, polarizer with optical layer, and display apparatus |
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| JP4155337B1 (ja) | 2007-02-21 | 2008-09-24 | ソニー株式会社 | 防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置 |
| US11892423B2 (en) * | 2018-03-30 | 2024-02-06 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Sensor and production method for same |
-
1998
- 1998-07-28 JP JP22870498A patent/JP3821956B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| KR100928766B1 (ko) | 2007-02-14 | 2009-11-25 | 소니 가부시끼 가이샤 | 눈부심 방지 필름과 이를 제조하기 위한 방법 및 이를사용한 디스플레이 장치 |
| WO2008146935A1 (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-04 | Lintec Corporation | 防眩性光透過性ハードコートフィルム |
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| KR101509266B1 (ko) | 2007-05-29 | 2015-04-06 | 린텍 가부시키가이샤 | 방현성 광투과성 하드코트필름 |
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