JP2000044932A - 研磨材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
に破砕してシリコンウェーファ研磨用の粒子にする。 【解決手段】 攪拌槽32内にゼオライトアモルファス
と水の混合物からなる被処理液Lを入れて回転羽根42
を周速50m/sec以上の高速で回転させる。被処理
液Lは遠心力で厚さtの円筒状になって高速回転し、粒
子は回転羽根42や槽との衝突及び摩擦、粒子相互の摩
擦などで破砕されると共に角が取れて丸味のある形状に
なり、被加工面に傷をつけない。
Description
して半導体基板として使用されるシリコンウェーファの
表面を、平滑に研磨するための研磨材の製造方法に関す
る。
段としては、図1に示すような手段が用いられている。
図1において1は矢印方向に回転する回転台で、これに
多数のシリコンウェーファ2が保持され、該シリコンウ
ェーファ2の表面に砥粒と水の混合物3が供給される。
そして下面にパッドを取付けたディスク4を混合物3上
から圧接しながら矢印方向に回転することによりシリコ
ンウェーファ2の研磨がなされる。この研磨に使用され
る砥粒としては、セリア系、シリカ系、アルミナ系、ジ
ルコニア系、二酸化マンガン系などの結晶体又は非晶質
体の粉末が用いられているが、該粉末は、鋭い凸部をも
つ多数の粒子が集合した2次凝集の状態で使用されてい
る。
ェーファに対して、メカノケミカル研磨即ちケミカルメ
カニカル研磨(CMP)を行なうことができる前記従来
のセリア系、シリカ系、アルミナ系その他の研磨材の粒
子又はゼオライトアモルファスの粒子を、任意の大きさ
の丸味をもった微粒子に加工して優れた研磨作用が生じ
るようにすることを課題とする。
に用いる手段は、請求項1に記載したとおり、円筒形の
攪拌槽と、該攪拌槽と同心で攪拌槽の内周面と僅かの間
隙を存して高速回転する回転羽根とを有する微粒化装置
を設け、該攪拌槽内に、溶媒に無機又は有機の砥粒原料
の微粉体を混合及び溶解させた混合液を供給し、回転羽
根を50〜100m/secの周速で駆動して混合液を
薄膜円筒状に高速回転させながら攪拌して前記微粉体を
超微粉体に破粋し、前記混合液を該超微粒子を有する懸
濁液とすることを特徴とする。この方法で製造した研磨
材は、粒径が小さく丸味を有するから、半導体基板に掻
き傷をつけることなく極めて平滑に研磨することができ
る。
したとおり、請求項1において、前記微粒化装置の前段
に、円筒形の攪拌槽と、該攪拌槽と同心で攪拌槽内面と
僅かの間隙を存して高速回転する回転羽根と、攪拌槽下
部の溶媒入口と、攪拌槽上部中心の砥粒原料粉入口とを
有する混合装置を設け、溶媒と無機又は有機の砥粒原料
粉を攪拌槽に同時に供給しながら攪拌し、任意の割合に
混合された攪拌処理液を取出して前記微粒化装置の攪拌
槽に供給することを特徴とする。この手段によれば、筒
状に旋回する混合液の内側から砥粒原料粉が分散しなが
ら供給されるので、砥粒原料粉と溶媒がいわゆる「ダ
マ」を生じることなく充分に混合し、後段の微粒化装置
における攪拌作業に支障が生じない。
する。該実施の形態においては、研磨材の原材料として
ゼオライトアモルファスを用いたものを一例として説明
するが、本発明は、セリア系、シリカ系、アルミナ系、
ジルコニア系、二酸化マンガン系等の全ての研磨材の製
造に用いることができる。この実施の形態において原材
料として使用するゼオライトアモルファスは、例えば本
出願人が先に出願した特公平5−67568号公報に示
されている、ゼオライト生成時にその先駆体として生成
される微細な非晶質のアルミノ珪酸塩である。該アルミ
ノ珪酸塩は、同公報に記載のように、イオン交換能や吸
着能を有する微粒子で、例えば水40ml、水酸化ナト
リウム4g(グラム)、アルミン酸ナトリウム2g、4
0wt%のコロイダルシリカ14gを混合し、これに適
量のゼラチンを水溶液として加えて攪拌後、100℃で
1時間程度加熱することにより得ることができる。この
アルミノ珪酸塩は、メカノケミカル研磨用の砥粒として
知られているが、直径25μm以上の粒子であり、すで
に生成されたこれより大径のゼオライトも若干混合して
いて平均粒径は65μm程度である。このような粒径で
は砥粒として過大であり、表面形状が角張ったものも含
まれているので被加工物の表面に掻き傷がつくおそれが
ある。
ァス又はこれとゼオライトの混合物を、超微細な粒子に
分割すると共に表面に角部がなく丸味を帯びた形状にな
る加工手段を提供するもので、この目的のために図2の
混合装置10と図3,4の微粒化装置11又は11aが
使用される。これらの混合装置10と微粒化装置11,
11aは、高速攪拌機としての機能を有するもので、本
出願人の出願に係る特開平9−75698号公報に高速
攪拌装置として記載されたものと同種のものである。
形の攪拌槽で、その上部にリング状の堰板13と上部室
12aが重なって固定され、上端に蓋14が取付けられ
る。攪拌槽12の下部には底壁12bを貫通して回転軸
15が設けられ、その上端に回転羽根16が固定され、
下端にモータ15aが接続されている。該回転羽根16
は多孔の円筒部16aをアーム16bで回転軸15に連
結したもので、円筒部16aの外径は、攪拌槽12の内
径より僅かに小さい。
の入口17が開けられ、ポンプ17a,水タンク17b
が接続されている。また蓋14にはホッパ18が取付け
られ、その上方に粉体フィーダ19が設置されている。
前記上部室12aの側部には、混合物を排出するための
流出管20が設けられ、パイプ20aでバッファタンク
21に接続されている。該バッファタンク21には真空
ポンプ21aが接続されて被処理液L中の空気を抜き取
るようにされ、該被処理液Lは、液送ポンプ23,パイ
プ23aを介して図3,4に示す微粒化装置11又は1
1aへ送られる。図中21bは、バッファタンク21の
液面センサで、該タンク21の被処理液Lの液面高さを
検出して混合装置10に供給される水と原料粉の量を制
御させる。また24は攪拌室12の冷却水室で冷却水の
入口24aと出口24bを有し、攪拌によって生じる摩
擦熱を吸収する。
回転羽根16を周速25m/sec程度で回転させ、水
を水入口17から供給しながら原料粉をホッパ18から
供給すると、両者は回転羽根16の回転力を受けて薄膜
円筒状に回転しながら攪拌処理される。
いるとき、該ゼオライトアモルファスの粉体は、粒子間
に作用する凝集力で2次凝集しており、これを水に混合
しても「ダマ」と称する塊りになって溶解し難い。とこ
ろが、この混合装置10を作動させながら水と粉体を同
時に供給すると、回転羽根16の回転によって回転作用
と攪拌作用が生じ、ダマを生じることなく分散、溶解し
た被処理液Lとなる。そして遠心力で生じた圧力によっ
て槽内面を上昇し、堰板3を越えて上部室12aに入り
流出管20からバッファタンク21に流入する。
円筒形の攪拌槽で、その上部にリング状の堰板33と上
部室32aが重なって固定され、上端に蓋34が取付け
られる。35,36は被処理原料の供給管で、開閉弁3
5a,36aを有するが、微粒化装置11として用いる
ときは、供給管35,36の一方が使用され、前記図2
のパイプ23aに接続される。
11を連続運転した場合の製品の取出しに使用される。
この場合、図2の混合装置1と同様に前記堰板33とし
て中心孔33aが大きいものを用い、該中心孔33aか
ら上部室32aに被処理液Lを溢流させて流出管37か
ら流出させる。しかし図示の堰板33は、微粒化装置1
1をバッチ運転するためのもので、被処理液Lが上部室
32aに入るのを防止する。攪拌終了後は、被処理液L
は、供給管35,36の他方の管から取出される。図中
38,39は、攪拌によって生じる摩擦熱を冷却させる
ための冷却水室で、一方の冷却水室38に冷却水の流入
管38aと流出管38bを備え、他方の冷却水室39に
は管38a,38bから分岐した管が接続されている。
は、予め蓋34、上部室32a、堰板33を貫通し、そ
の下端に回転羽根42が固定される。
型式のもので、無数のワイヤを放射方向に並べて重ね合
わせ、ボス部42aに固定したものである。その外径φ
は、攪拌槽32の内径Dより僅かに小さく、間隙Sは
(D−φ)/2であるから極めて小さい。実験的装置と
してD=80mm、φ=76mmとしたものはS=2m
mである。
粉体を混合した被処理液Lを入れて回転軸41を駆動
し、回転羽根42を高い周速度で回転させると、被処理
液Lは、これに連れて強制回転され、遠心力で攪拌槽3
2の内面に押付けられながら厚さtの薄膜円筒状になっ
て回転する。そして、被処理液Lのそれぞれの部分は、
円周方向及び上下方向に速度差があり、半径方向に圧力
差があるから、全体として薄膜円筒状を保ちながらその
内部で複雑な方向に流動すると共に、回転羽根42で叩
かれて強い破砕及び分散作用を受ける。このため、極め
て短時間で攪拌作用が達成される。なお、被処理液Lを
薄膜円筒状にする理由は、回転羽根における攪拌に有効
な高速部分だけで攪拌作用を行ない、中心側の部分では
液との接触を避けて、ここで摩擦熱が発生したり回転抵
抗が生じるのを防止するためである。
作用によって、ゼオライトアモルファスの粒子を極めて
小径の粒子に破砕し分散させると共に、その表面を丸味
を帯びた滑らかな形状にすることができる。
装置11に比べて回転羽根の構造は異なるがその他の構
造は実質上同一である。装置11aにおける回転羽根4
4は円筒型と称するもので、円筒部44aが数本のアー
ム44bでボス44cに接続されたものであり、槽内径
Dと回転羽根外径φ、間隙Sは、図3のものと同一であ
る。この装置11aでは、円筒部44aが高速回転する
ことにより、被処理液Lは、円筒部44aの内外周を上
下方向に循環しながら薄膜円筒状になって回転し、液中
のゼオライトアモルファスの粒子は、粒子相互又は粒子
と回転羽根、槽内面との衝突と摩擦で破砕、分散、平滑
化の作用を受ける。
を示すグラフで、該装置11に水142.5g、ゼオラ
イトアモルファス7.5gの混合物(5%水溶液)を入
れて、回転羽根42の周速を変えて攪拌した場合の攪拌
時間に対する平均粒子径の変化を、攪拌速度ごとに示し
ている。ワイヤ型の回転羽根42の周速が、曲線W1で
は30m/sec、曲線W2では40m/sec、曲線
W3では50m/secである。また曲線Mは、別の型
式の攪拌機で、周速23m/secで駆動されたもので
ある。
スの粒子径は、2.5分経過しても原体の65μmのま
まであり、30分攪拌して23μmである。これに対し
て装置11による攪拌では、曲線W1,W2,W3がすべ
て作動開始直後から微細化が始まり、その後も急速に粒
径が減少し、周速30m/secの曲線W1では15分
で13μmであるが、周速40m/secの曲線W2で
は10分で4.5μmになり、周速が50m/secの
曲線W3では10分で1μm以下になる。
する装置11と図4の円筒型の回転羽根44を有する装
置を用いて実験したデータをグラフにしたもので曲線W
1,W2,W3は図5のものと同じである。また曲線C1〜
C4は円筒型回転羽根44を30,50,60,70m
/secで駆動した場合である。
42を用いれば周速40m/sec以上で平均粒径が1
0μm以下になり、円筒型の回転羽根14を用いれば周
速50m以上で10μm以下になる。そして、このよう
な攪拌処理をすると、各粒子は角が取れた丸味のある粒
子になる。
の水混合物を入れて膜厚tを21mmに設定して周速5
0m/secで作動させたとき、作動時間によって平均
粒径と粒度分布がどのように変化するかを調べたもので
あり、平均粒径の数値は枠内に記載され、該枠内のFM
はワイヤ型、80は槽内径、50は周速を示す。図6
(a)はゼオライトアモルファスの原料について示し、
平均粒径は59.459μmで15〜300μmの範囲
に分布する。
すると(b)に示すように平均粒径が1.194μmに
なり、0.08〜40μmの範囲に分布する。1時間処
理したものは、(c)に示され平均粒径0.171μm
で0.08〜50μmの範囲に分布し、16時間処理し
たものは、(d)に示され平均粒径が0.128μmで
0.03〜0.4μmの範囲に分布する。
が進行するが、高速で或る時間以上攪拌すると、粒子の
沈殿が殆どなくなり、懸濁安定度が極めて大になること
が発見された。図8は、微粒化装置11で処理した液体
と他の手段で処理した液体の懸濁安定度を比べたもので
あり、処理後の液体を試験管に入れてlか月放置した後
の状態を示し、の試験管に示した上部の白いイの部分
は、水のみが存在する透明部であり、中間の斜線つきの
口の部分は白濁部分であり、底部の点を付したハの部分
は装置から分離した金属粉の沈澱部である。
の微粒化装置11においてD=80mmとし、φ=76
mmのワイヤ型羽根を用いた装置を周速70m/sec
で作動させ、図中試験管〜の下に記入した時間ごと
に資料を採取した。図中、FMは薄膜円筒型式を示し、
80は内径、100は最大速度を示す。
ィアミルによって処理したもので、該ミルの攪拌槽内に
径0.3mmのガラスビーズを85%の充填率で封入
し、多重の回転羽根を10m/secで駆動し、該メデ
ィアミルを1〜3回通過させたものである。また試験管
は、高圧ジェット型微粒化分散機で処理したもの
で、該分散機は、前記と同じ材料を口径0.18mmの
ノズルから100〜150m/secの高速で噴出させ
ることにより微粒化するもので、該分散機を1〜3回通
過させた。
れるように短時間で粒径2〜3μm程度になり、透明部
イが極めて少なく、特に試験管においては透明部が全
く無く、懸濁安定度が極大である。これに対して
のメディアミルによるものは、3パスによって粒径0.
104μmの微粒にしても、上部に水のみの透明部が存
在する。またの高圧ジェット型微粒化分散機によ
るものは、の粒径略3μmになっても透明部の量は大
である。
粒子径が3μm程度又はそれ以下になると、ゼオライト
アモルファスの粒子の沈殿が殆ど生じないか皆無になっ
て懸濁安定度が高いので、これを研磨液として使用すれ
ば沈殿防止剤を添加しなくても均質の研磨が行なわれ
る。また、顕微鏡で粒子を見ると、各粒子は角のとれた
丸味のある形状をしている。
料を供給する時に決めてもよいし、製品取出し後に調整
してもよい。
ば、被処理液中の粒子は、この微粒化装置内に生じる高
速水流で運ばれながら回転羽根又は槽内面との衝突及び
摩擦を繰り返し、粒子相互も衝突を繰り返すから、粒子
は微細化すると共に角の取れた丸味のある粒子になり、
研磨材として使用するとき被加工面に掻き傷が生じない
効果がある。また、この微粒化装置で攪拌処理した後の
液体は、粒子の沈殿が殆どないか全くないので、沈殿防
止剤を用いなくても一定混合率の研磨材を供給でき、均
質の研磨ができる利点がある。
拌槽内で薄膜筒状に旋回している溶媒又は混合液の内周
面に、砥料原料粉が分散して混合するので、該砥料原料
粉は、混合液中に平均的に分配され、ダマを生じること
がなく攪拌処理されるから、後段の微粒化装置での微粒
化作用を均等に受けることができる利点がある。
ラフ
用を示すグラフ
水室 15,41 回転軸 16,42,44 回転
羽根 L 被処理液体
Claims (2)
- 【請求項1】 円筒形の攪拌槽と、該攪拌槽と同心で攪
拌槽の内周面と僅かの間隙を存して高速回転する回転羽
根とを有する微粒化装置を設け、該攪拌槽内に、溶媒に
無機又は有機の砥粒原料の微粉体を混合及び溶解させた
混合液を供給し、回転羽根を50〜100m/secの
周速で駆動して混合液を薄膜円筒状に高速回転させなが
ら攪拌して前記微粉体を超微粉体に破粋し、前記混合液
を該超微粒子を有する懸濁液とすることを特徴とする、
研磨材の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1において、前記微粒化装置の前
段に、円筒形の攪拌槽と、該攪拌槽と同心で攪拌槽内面
と僅かの間隙を存して高速回転する回転羽根と、攪拌槽
下部の溶媒入口と、攪拌槽上部中心の砥粒原料粉入口と
を有する混合装置を設け、溶媒と無機又は有機の砥粒原
料粉を攪拌槽に同時に供給しながら攪拌し、任意の割合
に混合された攪拌処理液を取出して前記微粒化装置の攪
拌槽に供給することを特徴とする、研磨材の製造方法。
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JP21272498A JP3819155B2 (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 研磨材の製造方法 |
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JP2000044932A true JP2000044932A (ja) | 2000-02-15 |
JP3819155B2 JP3819155B2 (ja) | 2006-09-06 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001311073A (ja) * | 1999-12-22 | 2001-11-09 | Applied Materials Inc | 化学機械研磨のためのイオン交換物質 |
US7172819B2 (en) | 2002-06-25 | 2007-02-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for producing magnetic recording medium |
-
1998
- 1998-07-28 JP JP21272498A patent/JP3819155B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2001311073A (ja) * | 1999-12-22 | 2001-11-09 | Applied Materials Inc | 化学機械研磨のためのイオン交換物質 |
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