CN110681303A - 一种抛光液配置装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种抛光液配置装置，包括第一搅拌机，第一搅拌机的底座上装设有第一物料桶，第一物料桶的出料口上连通有第一导管，第一导管的另一端连通有超细研磨机，第一导管上装设有第一水泵，超细研磨机的另一端连通装设有第二导管，第二导管上连通装设有第二水泵，第二导管的另一端连通有第二物料桶的进料口，第二物料桶内装设有第二搅拌机，第二物料桶的出料口连通装设有过滤装置，第二物料桶外装设有超声池。本发明设置有超细研磨机，用以将颗粒度不均匀的抛光粉颗粒研磨成超细颗粒，使抛光粉在抛光液中分散更均匀，设置有超声池，避免抛光粉颗粒在抛光液中团聚结块，设置过滤装置，用以进一步去除大颗粒的抛光粉，使抛光液颗粒更细小均匀。
Description
技术领域
本发明涉及化工领域，特别是指一种抛光液配置装置。
背景技术
作为精密加工的化学机械抛光技术(CMP)，抛光液的性能对CMP效果有非常重要的影响，尤其是抛光磨料粒径的均匀度和磨料的分散程度直接控制着抛光面的去除率和光洁度，粒径均匀的抛光磨料可以获得更好的抛光速率和准确精细的光洁面，因此对抛光磨料比如氧化铝、碳化硅、金刚石等进行配置装置的研究非常重要。本发明人发现现有技术存在如下缺陷：现有的抛光液配置装置生产出的抛光液中，抛光颗粒均匀度不足，夹带有较大颗粒，对抛光表面造成划痕。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提出一种抛光液配置装置，以致力于解决背景技术中的全部问题或者之一。
基于上述目的，本发明提供的一种抛光液配置装置，包括：第一搅拌机，所述第一搅拌机的底座上装设有第一物料桶，所述第一搅拌机的搅拌头放置在第一物料桶的内腔中，所述第一物料桶的出料口上连通有第一导管，所述第一导管的另一端连通有超细研磨机，所述第一导管上装设有第一水泵，所述超细研磨机的另一端连通装设有第二导管，所述第二导管上连通装设有第二水泵，所述第二导管的另一端连通有第二物料桶的进料口，所述第二物料桶内装设有第二搅拌机，所述第二物料桶的出料口连通装设有过滤装置，所述第二物料桶外装设有超声池，所述超声池包括液体槽，所述液体槽内注入有液体。
可选的，所述第二搅拌机还包括电机和插座。
可选的，所述过滤装置包括滤芯，所述滤芯用于过滤抛光液中直径过大的抛光颗粒，所述过滤装置可替换不同颗粒孔径的滤芯。
可选的，所述超声池包括液体槽和功率可调的超声装置。
可选的，所述超声装置为放置在液体槽内的多个超声震动板。
可选的，所述第二物料桶包括顶盖，所述顶盖上开设有PH测试口和辅料添加口。
从上面所述可以看出，本发明提供的一种抛光液配置装置，设置有第一物料桶和第一搅拌机，用以对抛光液初步搅拌混合，设置有超细研磨机，用以将抛光液中的抛光粉颗粒研磨为更细小的颗粒，避免颗粒差异过大，设置有第二物料桶和第二搅拌装置，用以对抛光液深度加工，设置有超声池，使抛光粉颗粒在溶剂中充分分散，避免出现团聚现象，出料口设置有过滤装置，进一步提高抛光液中抛光粉颗粒的均匀度，避免出现较大颗粒。
附图说明
图1为本发明实施例一种抛光液配置装置的结构示意图；
图2为本发明实施例一种抛光液配置装置的超声池结构俯视图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本发明进一步详细说明。
作为一个实施例，本发明提供一种抛光液配置装置，包括第一搅拌机1，第一搅拌机1的底座上装设有第一物料桶2，第一搅拌机1的搅拌头放置在第一物料桶2的内腔中，第一物料桶2的出料口上连通有第一导管4，第一导管4的另一端连通有超细研磨机5，第一导管4上装设有第一水泵3，超细研磨机5的另一端连通装设有第二导管7，第二导管7上连通装设有第二水泵6，第二导管7的另一端连通有第二物料桶8的进料口，第二物料桶8内装设有第二搅拌机10，第二物料桶8的出料口连通装设有过滤装置16，第二物料桶8外装设有超声池14，超声池14包括液体槽，液体槽内注入有液体。
如图1至图2所示，作为本发明的一个实施例，一种抛光液配置装置，包括第一搅拌机1，第一搅拌机1的底座上装设有第一物料桶2，第一搅拌机1的搅拌头放置在第一物料桶2的内腔中，第一物料桶2的出料口上连通有第一导管4，第一导管4的另一端连通有超细研磨机5，第一导管4上装设有第一水泵3，超细研磨机5的另一端连通装设有第二导管7，第二导管7上连通装设有第二水泵6，第二导管7的另一端连通有第二物料桶8的进料口，第二物料桶8内装设有第二搅拌机10，第二物料桶8的出料口连通装设有过滤装置16，第二物料桶8外装设有超声池14，超声池14包括液体槽，液体槽内注入有液体。
在本实施例中，首先向第一物料桶2内投入抛光液、抛光粉颗粒和分散剂，然后第一搅拌机1工作，对抛光液进行初步搅拌，搅拌后的抛光液经第一导管4流入超细研磨机5，超细研磨机5将抛光液中的抛光粉颗粒研磨成超细颗粒，研磨后的抛光液经第二导管7流入第二物料桶8，第二搅拌机10再次将抛光液搅拌均匀，并且超声池14通过超声波震动，使抛光液进一步分散均匀，配置完成后的抛光液从第二物料桶的出料口排出，出料口设置有过滤装置16。
概括来说，设置有超细研磨机5，用以将颗粒度不均匀的抛光粉颗粒研磨成超细颗粒，使抛光粉在抛光液中分散更均匀，设置有超声池14，避免抛光粉颗粒在抛光液中团聚结块，设置过滤装置16，用以进一步去除大颗粒的抛光粉，使抛光液颗粒更细小均匀。
进一步，第二搅拌机10还包括电机和插座，设置有电机和插座，用以驱动搅拌机运转，搅拌机上还设置有感应模块和控制模块，当物料桶内注入抛光液后，感应模块接收信号，经过控制模块处理后，搅拌机接收指令能够自动运转，当抛光液排出后，搅拌机相应地能够自动停止工作。
可选的，过滤装置16包括滤芯17，滤芯17用于过滤抛光液中直径过大的抛光颗粒，滤芯17可拆卸替换；为了保证可以配置不同目数的抛光液，可设置有多种颗粒孔径的滤芯17，并且滤芯17可根据配置要求更换。
可选的，超声池14包括液体槽和功率可调的超声装置，超声池14的液体槽为声波传导提供介质，超声装置14发出的超声波频率可调。
可选的，超声装置为放置在液体槽内的多个超声震动板15。
可选的，第二物料桶8包括顶盖9，顶盖9上开设有PH测试口11和辅料添加口12，为保证抛光液在超声波震动中不会飞溅出来，第二物料桶8的上端设置有顶盖9，能够有效避免液体飞溅，顶盖9上开设有PH测试口11，用以检测抛光液的PH值，用以实时检测抛光液的PH值，以保证抛光液的PH值处在正常范围内，可从辅料添加口12添加相应的材料，用以均衡抛光液成分指标。
具体来说，在配置抛光液的生产过程中，首先向第一物料桶2内投入抛光液、抛光粉颗粒和分散剂，通过第一搅拌机1工作，对抛光液进行搅拌混合，得到分散的抛光液；第一物料桶内2的抛光液经第一导管4流入超细研磨机5中，超细研磨机5目的在于将抛光粉颗粒研磨成超细颗粒，以提升细度，更有利于抛光粉颗粒在抛光液中均匀分散，经超细研磨机5研磨后的抛光液经第二导管7流入第二物料桶8，通过第二搅拌机10再次将抛光液深度搅拌，同时超声池14通过超声波震动，使第二物料桶8内的抛光液进一步分散均匀，使抛光粉不会结块，超声装置14可以通过调节超声波震动板15的声波频率，得到不同分散度的抛光液；第二物料桶8上安装有可密封的顶盖9，确保在超声波震动过程中，液体不会飞溅出，顶盖9上配置有PH检测口11，能够检测抛光液的酸碱度，便于工人随时观测指标，顶盖9上还配置有辅料添加口12，便于工人添加特定辅料，用以调制出不同用途的抛光液，配置完成后的抛光液从第二物料桶8的出料口排出，出料口设置有过滤装置16，过滤装置中可更换不同颗粒孔径的滤芯17。
所属领域的普通技术人员应当理解：以上任何实施例的讨论仅为示例性的，并非旨在暗示本公开的范围(包括权利要求)被限于这些例子；在本发明的思路下，以上实施例或者不同实施例中的技术特征之间也可以进行组合，步骤可以以任意顺序实现，并存在如上所述的本发明的不同方面的许多其它变化，为了简明它们没有在细节中提供。
本发明的实施例旨在涵盖落入所附权利要求的宽泛范围之内的所有这样的替换、修改和变型。因此，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何省略、修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种抛光液配置装置，其特征在于，包括：第一搅拌机，所述第一搅拌机的底座上装设有第一物料桶，所述第一搅拌机的搅拌头放置在第一物料桶的内腔中，所述第一物料桶的出料口上连通有第一导管，所述第一导管的另一端连通有超细研磨机，所述第一导管上装设有第一水泵，所述超细研磨机的另一端连通装设有第二导管，所述第二导管上连通装设有第二水泵，所述第二导管的另一端连通有第二物料桶的进料口，所述第二物料桶内装设有第二搅拌机，所述第二物料桶的出料口连通装设有过滤装置，所述第二物料桶外装设有超声池，所述超声池包括液体槽，所述液体槽内注入有液体。
2.根据权利要求1所述的一种抛光液配置装置，其特征在于：所述第二搅拌机还包括电机和插座。
3.根据权利要求1所述的一种抛光液配置装置，其特征在于：所述过滤装置包括滤芯，所述滤芯用于过滤抛光液中直径过大的抛光颗粒，所述过滤装置可替换不同颗粒孔径的滤芯。
4.根据权利要求1所述的一种抛光液配置装置，其特征在于：所述超声池包括液体槽和功率可调的超声装置。
5.根据权利要求1所述的一种抛光液配置装置，其特征在于：所述超声装置为放置在液体槽内的多个超声震动板。
6.根据权利要求1所述的一种抛光液配置装置，其特征在于：所述第二物料桶包括顶盖，所述顶盖上开设有PH测试口和辅料添加口。
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