JP2000040585A - Organic el element module - Google Patents

Organic el element module

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JP2000040585A
JP2000040585A JP10221041A JP22104198A JP2000040585A JP 2000040585 A JP2000040585 A JP 2000040585A JP 10221041 A JP10221041 A JP 10221041A JP 22104198 A JP22104198 A JP 22104198A JP 2000040585 A JP2000040585 A JP 2000040585A
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organic
sealing
sealing body
circuit
element module
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Hirotada Furukawa
広忠 古川
Yoshio Kaida
佳生 海田
Mitsunari Suzuki
満成 鈴木
Yoshihiro Saito
義広 斎藤
Shiro Nakagawa
士郎 中川
Osamu Onizuka
理 鬼塚
Hiroshi Yamamoto
洋 山本
Takashi Tanaka
俊 田中
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    • H01L2924/16152Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL element module which is hardly affected by a noise or the like generated by the EL element and heating generated by a driving electric circuit, an IC or the like even when a phase-down system is used, of which a life and the like are prevented from being deteriorated, for which a fraction defective of products is reduced, in which a trouble such as leakage of a sealing adhesive is hardly generated, in which adhesive strength is prevented from being deteriorated, for which airtightness is maintained for long time, which has mechanical strength to some extent, for which handling is easy, which is hardly affected by light, and of which malfunction is prevented. SOLUTION: This organic EL element module has an organic EL structure having one kind or more of an organic layer 12 concerned in at least luminous function between a pair of electrodes 11, 13 formed on a sustarte, and a sealing means for sealing the organic EL structure. The sealing means has an inside sealing body 3 arranged in the position nearest to the organic EL structure, and one or more of an outside sealing body 6 arranged outside the inside sealing body 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、発光層に有機材料
を用いた有機EL構造体を有する有機EL素子モジュー
ルに関する。
The present invention relates to an organic EL device module having an organic EL structure using an organic material for a light emitting layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機エレクトロルミネッセンス素子(有
機EL素子)は、発光材料に有機材料を用いた電荷注入
再結合型のELで、自発光、高輝度、高視野角、低消費
電力、低電圧駆動、高効率等の特徴を有することから種
々の応用が期待されているが、なかでも種々の表示装置
への応用が試みられている。
2. Description of the Related Art An organic electroluminescence element (organic EL element) is a charge injection / recombination type EL using an organic material as a light emitting material, and is self-luminous, has high brightness, has a wide viewing angle, has low power consumption, and has a low voltage drive. Various applications are expected because they have features such as high efficiency and high efficiency. Among them, applications to various display devices have been attempted.

【0003】有機EL素子は、有機物質による発光作用
を利用しているため、この有機物質の分子設計を変更す
ることにより種々の発光色(発光波長)を得られる可能
性を秘めている。しかし、その反面、このような有機物
質は水蒸気、酸素、あるいは封止剤や有機物質自体の放
出するガスなどにより、容易に酸化したり、劣化したり
して発光素子としての機能を損ない易い。
[0003] Since the organic EL element utilizes the light emitting action of an organic substance, there is a possibility that various emission colors (emission wavelengths) can be obtained by changing the molecular design of the organic substance. However, on the other hand, such an organic substance is easily oxidized or deteriorated by water vapor, oxygen, or a gas released from the sealant or the organic substance itself, so that the function as a light emitting element is easily damaged.

【0004】このため、有機EL素子を表示装置などに
応用する場合、様々な使用環境が予想される実用面での
利用を考えると、自発光、高輝度、高視野角、低消費電
力、低電圧駆動、高効率等の諸特性を長期間にわたって
安定して維持しすることが重要である。従って、有機E
L素子が上記のような種々の酸化性、腐食性ガスに晒さ
れるのを有効に防止し、機械的衝撃等からも保護する必
要から従来よりガラス材等の硬質部材を用いた封止が行
われている。
For this reason, when the organic EL element is applied to a display device or the like, considering self-luminance, high brightness, high viewing angle, low power consumption, It is important to maintain various characteristics such as voltage driving and high efficiency stably for a long period of time. Therefore, organic E
Since it is necessary to effectively prevent the L element from being exposed to various oxidizing and corrosive gases as described above and to protect the element from mechanical shocks, sealing using a hard member such as a glass material has conventionally been performed. Have been done.

【0005】図8に、従来の封止構造を有する有機EL
素子モジュールを示す。図示例の有機EL素子モジュー
ルは、基板31上の有機EL構造体32を、ガラスや金
属等の封止板33で覆い、接着剤44で固定している。
ここで、封止板の内側に、水蒸気による有機EL素子3
2の酸化を防止するために、例えば、特開平5−412
81号公報に記載されているような吸湿材を配置する方
法、特開平8−78159号公報に記載されているよう
な不活性液体を充填する方法等が知られているが、上記
図示例では、吸湿剤35をフッ素樹脂系の多孔質薄膜3
6で固定した例を表している。
FIG. 8 shows an organic EL having a conventional sealing structure.
3 shows an element module. In the illustrated organic EL element module, an organic EL structure 32 on a substrate 31 is covered with a sealing plate 33 made of glass, metal, or the like, and is fixed with an adhesive 44.
Here, the organic EL element 3 using water vapor is
In order to prevent the oxidation of No. 2, for example,
No. 81, a method of arranging a hygroscopic material, and a method of filling an inert liquid as described in JP-A-8-78159 are known. , The moisture absorbent 35 and the fluororesin-based porous thin film 3
6 shows an example fixed.

【0006】この他にも、特開平4−267097号公
報に記載されているような、有機EL素子上に薄膜を形
成し、重ねて光硬化型樹脂を塗布するような、2つ以上
の層により封止する方法等のものも知られている。
[0006] In addition, two or more layers described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-267097, in which a thin film is formed on an organic EL element and a photo-curable resin is applied on top of the thin film. There is also known a method of sealing with a method.

【0007】しかし、これらのいずれのものも、有機E
L素子の封止効果が不十分であり、素子の劣化を抑制す
ることができず、素子寿命を延ばすことが困難であっ
た。
[0007] However, none of these are organic E
The sealing effect of the L element was insufficient, so that deterioration of the element could not be suppressed, and it was difficult to extend the life of the element.

【0008】一方、液晶表示装置(LCD)を中心に、
コンパクトで信頼性の高い表示モジュールへの需要の高
まりから、チップオングラス(COG)、チップサイズ
パッケージ(CSP)技術により、表示装置のガラス基
板上に、直接駆動用電気回路ないしICを実装すること
が多くなってきている。一般に、COG実装、CSP実
装される電気回路ないしICは、ベアチップであり、実
装の後、例えば特開平4−337317号公報に記載さ
れているように熱硬化樹脂等により封止される。
On the other hand, focusing on a liquid crystal display (LCD),
Due to the growing demand for compact and highly reliable display modules, chip-on-glass (COG) and chip-size package (CSP) technologies must be used to directly mount an electric circuit or IC for driving on a glass substrate of a display device. Are increasing. Generally, an electric circuit or an IC to be COG-mounted or CSP-mounted is a bare chip, and after mounting, is sealed with a thermosetting resin or the like as described in, for example, JP-A-4-337317.

【0009】図9にCOG実装された液晶表示モジュー
ルの構成例を示す。図示例の液晶表示モジュールは、基
板31上に、一対の電極41,42と、配向膜43,4
4間に形成配置された液晶45を有する液晶表示素子が
形成され、さらにこの液晶表示素子をガラス封止板33
とシール材47により封止固定されている。そして、こ
の封止板の外側の基板31上には、電気回路ないしIC
等の回路素子36が固定用の樹脂36により固定されて
いる。また、上部の電極42は、パッド47により基板
上の回路パターン34と接続されている。
FIG. 9 shows a configuration example of a liquid crystal display module mounted with COG. The liquid crystal display module of the illustrated example has a pair of electrodes 41 and 42 and alignment films 43 and 4 on a substrate 31.
A liquid crystal display element having a liquid crystal 45 formed and arranged between the liquid crystal display elements is formed.
And a sealing member 47 for sealing. An electric circuit or an IC is provided on the substrate 31 outside the sealing plate.
And the like are fixed by a fixing resin 36. The upper electrode 42 is connected to the circuit pattern 34 on the substrate by a pad 47.

【0010】一対の電極41,42のいずれかはITO
等の透明電極や、アルミニウム等の金属により形成され
ているが、微細なピッチでの加工が可能である。従っ
て、COG技術、CSP技術により、多端子化が進む表
示装置と駆動用電気回路ないしICとの接点数を減ら
し、処理性を向上させ、信頼性を高めることができる。
One of the pair of electrodes 41 and 42 is made of ITO.
Etc., or a metal such as aluminum, but can be processed at a fine pitch. Therefore, the number of contacts between the display device and the driving electric circuit or the IC, which are increasingly multi-terminal, can be reduced by the COG technology and the CSP technology, the processability can be improved, and the reliability can be improved.

【0011】また、今後は有機EL素子モジュールにお
いても、駆動装置をCOG実装、CSP実装して、モジ
ュール化することが考えられるが、主に次のような問題
がある。
[0011] In the future, it is conceivable that the organic EL element module will be modularized by mounting the driving device by COG mounting and CSP mounting. However, there are mainly the following problems.

【0012】(1) 有機EL素子は、熱や有機溶剤、
水蒸気、紫外線等に弱く、これらに暴露ことによって劣
化する。このため、外部環境からの封止を完全に行い、
有機EL素子の劣化や、寿命の低下を防止する必要があ
る。
(1) The organic EL element is formed by heat, organic solvent,
It is susceptible to water vapor, ultraviolet rays, etc., and deteriorates when exposed to these. For this reason, complete sealing from the external environment,
It is necessary to prevent the deterioration of the organic EL element and the shortening of the life.

【0013】(2) パネルの配線引き回しが複雑とな
り、使用する駆動用電気回路素子ないしICのピン配置
との兼ね合いが難しくなる。つまり、駆動用電気回路素
子ないしICがCOG実装、CSP実装される基板は、
有機EL素子が配置されるガラスのような透明基板や、
有機EL素子を封止する封止基板であり、これらの基板
を多層化できなければ、配線の引き回しが極めて困難に
なる。
(2) The wiring layout of the panel becomes complicated, and it becomes difficult to balance with the pin arrangement of the driving electric circuit element or IC to be used. In other words, the substrate on which the driving electric circuit element or IC is mounted by COG and CSP is
A transparent substrate such as glass on which an organic EL element is arranged,
It is a sealing substrate for sealing the organic EL element. If these substrates cannot be multilayered, it is extremely difficult to route wiring.

【0014】(3) 駆動用電気回路ないしICの入力
出力信号、電源電圧の供給に工夫が必要となる。すなわ
ち、前出の配線引き回しの問題から、入出力信号、電源
電圧の供給に工夫が必要となる。つまり、配線引き回し
の問題から、入出力信号、電源の接続が分散される場合
があり、配線が乱雑になると共に、ノイズ等の外乱の影
響を受けやすくなる。
(3) It is necessary to devise the supply of the input and output signals of the driving electric circuit or IC and the power supply voltage. That is, due to the above-described problem of wiring routing, it is necessary to devise ways to supply input / output signals and power supply voltage. That is, the connection of the input / output signals and the power supply may be dispersed due to the problem of wiring routing, and the wiring becomes messy and easily affected by disturbance such as noise.

【0015】(4) 有機EL素子は電流駆動であるた
め、有機EL素子により発生するノイズが駆動用の電気
回路ないしIC等を誤動作させ恐れがある。なかでも、
有機EL素子の封止基板上に駆動用の電気回路素子ない
しICを実装するCSP実装では、フェースダウン方式
を用いる場合が多く、特にノイズへの対策が必要とな
る。
(4) Since the organic EL element is driven by current, noise generated by the organic EL element may cause a malfunction of a driving electric circuit or an IC. Above all,
In a CSP mounting in which a driving electric circuit element or an IC is mounted on a sealing substrate of an organic EL element, a face-down method is often used, and in particular, measures against noise are required.

【0016】(5) 駆動用電気回路ないしIC等によ
り発生する熱により有機EL素子の特性が変化し、ま
た、寿命を低下させる恐れがある。特に上記のフェース
ダウン方式を用いる場合、駆動用電気回路ないしICの
放熱効果を上げるためには、有機EL素子の封止板が放
熱板としても作用するため、有機EL素子がその熱の影
響を受けやすく、素子の寿命低下等を防止するために何
らかの対策が必要である。
(5) The characteristics of the organic EL element may be changed by the heat generated by the driving electric circuit or IC, and the life may be shortened. In particular, when the above-described face-down method is used, the sealing plate of the organic EL element also functions as a heat radiating plate in order to enhance the heat radiation effect of the driving electric circuit or IC. Therefore, some measures are required to prevent the life of the element from being shortened.

【0017】(6) モジュール化した場合の製品の不
良率は、有機EL素子の不良率と、駆動用電気回路素子
ないしIC等を有する制御回路、駆動回路の不良率との
積で表されるため、表示モジュールの歩留まり低下が避
けられない。このため、駆動用電気回路ないしIC等の
制御回路、駆動回路の回路素子の交換を容易にし、歩留
まり率を向上させることが必要である。
(6) The defect rate of a product in the case of modularization is represented by the product of the defect rate of an organic EL element and the defect rates of a control circuit including a driving electric circuit element or an IC, and a driving circuit. Therefore, a decrease in the yield of the display module is inevitable. For this reason, it is necessary to facilitate replacement of a driving electric circuit, a control circuit such as an IC, and circuit elements of the driving circuit, and to improve a yield rate.

【0018】(7) 有機EL素子の封止手段は、一般
には、ITO(錫ドープ酸化インジウム)等の透明電極
や、アルミニウムなどの金属薄膜上に接着剤を塗布し、
封止板を接着・固定している。このような封止方法で
は、電極上への接着剤の濡れ性等の問題から接着力が低
下し、気密性が低下してしまうといった問題を有してい
る。
(7) The sealing means of the organic EL element is generally formed by applying an adhesive onto a transparent electrode such as ITO (tin-doped indium oxide) or a thin metal film such as aluminum.
The sealing plate is bonded and fixed. In such a sealing method, there is a problem that the adhesive strength is reduced due to a problem such as wettability of the adhesive on the electrode, and the airtightness is reduced.

【0019】(8) 有機EL素子モジュール単体では
強度的に弱い場合が多く、これを補うための対策が必要
である。すなわち、薄膜発光が可能な有機EL素子をモ
ジュール化した場合、基板、および封止板に使用される
ガラス板等も薄く強度的に弱い場合が多い。このため、
搬送時、調整時、取り付け時、あるいは製品取り付け後
の機械的強度を確保するため、何らかの機械的強度を確
保できる構造が必要となる。
(8) In many cases, the strength of the organic EL element module alone is weak, and measures are required to compensate for this. That is, when an organic EL element capable of emitting light in a thin film is formed into a module, the substrate and the glass plate used for the sealing plate are often thin and weak in strength. For this reason,
In order to secure the mechanical strength at the time of transportation, adjustment, mounting, or after product mounting, a structure capable of securing some mechanical strength is required.

【0020】(9) 一般に、COG実装される電気回
路ないしICはベアチップであり、外部からの光の影
響、特に赤外光の影響を受けやすい。このため光による
誤動作等を防止するための対策が必要である。
(9) Generally, an electric circuit or IC mounted on a COG is a bare chip, and is easily affected by external light, particularly, infrared light. For this reason, it is necessary to take measures to prevent malfunction due to light.

【0021】[0021]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、十分
な封止効果を維持し、素子の劣化を抑制して素子寿命を
延ばすことが可能な有機EL素子モジュールを実現する
ことである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an organic EL device module capable of maintaining a sufficient sealing effect, suppressing deterioration of the device and extending the life of the device.

【0022】また、駆動用電気回路素子ないしIC等が
COG実装、CSP実装される基板の多層化構造を可能
とし、配線の引き回しが容易で、入出力信号、電源の接
続等を分散することなくコンパクトに集約可能な有機E
L素子モジュールを実現することである。
Further, a multi-layer structure of a substrate on which driving electric circuit elements or ICs are mounted by COG and CSP can be realized, wiring can be easily routed, and input / output signals, power supply connections and the like can be dispersed. Organic E that can be compactly integrated
This is to realize an L element module.

【0023】また、特にフェーズダウン方式を用いた場
合などにおいても有機EL素子により発生するノイズ等
の影響を受けにくい有機EL素子モジュールを実現する
ことである。
Another object of the present invention is to realize an organic EL element module which is hardly affected by noise or the like generated by the organic EL element even when the phase-down method is used.

【0024】また、駆動用電気回路ないしIC等により
発生する熱の影響を受け難く、素子の寿命低下等を防止
可能な有機EL素子モジュールを実現することである。
It is another object of the present invention to provide an organic EL element module which is hardly affected by heat generated by a driving electric circuit or an IC and can prevent a reduction in the life of the element.

【0025】また、モジュール化した場合に制御回路、
駆動回路の回路素子の交換を容易にし、製品の不良率の
少ない有機EL素子モジュールを実現することである。
In addition, when the module is modularized,
An object of the present invention is to realize an organic EL element module that facilitates replacement of circuit elements of a drive circuit and has a low product defect rate.

【0026】また、封止用接着剤の濡れ性等の問題が生
じ難く、接着力の低下を防止し、気密性を長期間維持で
きる有機EL素子モジュールを実現することである。
Another object of the present invention is to realize an organic EL element module in which a problem such as wettability of a sealing adhesive hardly occurs, an adhesive force is prevented from lowering, and airtightness can be maintained for a long time.

【0027】また、小型、薄型化が可能な有機EL素子
モジュールを実現することである。
It is another object of the present invention to realize an organic EL element module that can be reduced in size and thickness.

【0028】また、ある程度の機械的強度を有し、取り
扱いが容易な有機EL素子モジュールを実現することで
ある。
Another object of the present invention is to realize an organic EL element module having a certain level of mechanical strength and easy to handle.

【0029】また、光による影響を受け難く、誤動作を
防止しうる有機EL素子モジュールを実現することであ
る。
It is another object of the present invention to realize an organic EL element module which is hardly affected by light and can prevent malfunction.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】すなわち、上記目的は以
下の構成により達成される。 (1) 基板上に形成された一対の電極間に、少なくと
も発光機能に関与する1種以上の有機層を有する有機E
L構造体と、前記有機EL構造体を封止する封止手段と
を有し、前記封止手段は、有機EL構造体に最も近い位
置に配置される内部封止体と、この内部封止体より外側
に配置される1つまたは2つ以上の外部封止体とを有す
る有機EL素子モジュール。 (2) 前記内部封止体、外部封止体、およびこれらの
間にある基板上のいずれかには、有機EL構造体を制御
・駆動する回路が形成されている上記(1)の有機EL
素子モジュール。 (3) 前記封止手段と基板との間には接続手段を有
し、この接続手段は封止手段内部の回路と外部の回路と
を電気的に接続し、かつ封止手段内部の気密性を保持す
る上記(1)または(2)の有機EL素子モジュール。 (4) 前記封止手段内部には吸湿剤を有する上記
(1)〜(3)のいずれかの有機EL素子モジュール。 (5) 前記封止手段内部には電磁シールドを有する上
記(1)〜(4)のいずれかの有機EL素子モジュー
ル。 (6) 前記外部封止体、またはそのいずれかは、前記
内部封止体よりも熱伝導率の高い上記(1)〜(5)の
いずれかの有機EL素子モジュール。 (7) 前記外部封止体は遮光性を有するか、または封
止手段内部に遮光性を有する部材が配置されている上記
(1)〜(6)のいずれかの有機EL素子モジュール。 (8) 前記外部封止体、またはそのいずれかは、金属
材料により形成されている上記(1)〜(7)のいずれ
かの有機EL素子モジュール。 (9) 全体の厚みが10mm以下である上記(1)〜
(8)のいずれかの有機EL素子モジュール。
That is, the above object is achieved by the following constitutions. (1) Organic E having at least one or more organic layers involved in at least a light emitting function between a pair of electrodes formed on a substrate
An L-shaped structure, and sealing means for sealing the organic EL structure, wherein the sealing means is disposed at a position closest to the organic EL structure; An organic EL element module having one or more external sealing members disposed outside the body. (2) The organic EL according to the above (1), wherein a circuit for controlling and driving the organic EL structure is formed on any of the internal sealing body, the external sealing body, and the substrate between them.
Element module. (3) A connecting means is provided between the sealing means and the substrate, the connecting means electrically connecting a circuit inside the sealing means and an external circuit, and an airtightness inside the sealing means. The organic EL element module according to (1) or (2) above, wherein (4) The organic EL element module according to any one of the above (1) to (3), wherein the sealing means has a moisture absorbent inside. (5) The organic EL element module according to any one of the above (1) to (4), wherein the sealing means has an electromagnetic shield inside. (6) The organic EL element module according to any one of the above (1) to (5), wherein the outer sealing body or any one thereof has higher thermal conductivity than the inner sealing body. (7) The organic EL element module according to any one of the above (1) to (6), wherein the outer sealing body has a light-shielding property, or a member having a light-shielding property is arranged inside the sealing means. (8) The organic EL element module according to any one of the above (1) to (7), wherein the external sealing body or any one thereof is formed of a metal material. (9) The above (1) to (10) in which the entire thickness is 10 mm or less.
The organic EL element module according to any one of (8).

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】本発明の有機EL素子モジュール
は、基板上に形成された一対の電極間に、少なくとも発
光機能に関与する1種以上の有機層を有する有機EL構
造体と、前記有機EL構造体を封止する封止手段とを有
し、前記封止手段は、有機EL構造体に最も近い位置に
配置される内部封止体と、この内部封止体を内側に有す
るように、つまりその外側に内部封止体との間に所定の
空間をおいて配置される1つまたは2つ以上の外部封止
体とを有する。また、好ましくは内部封止体、外部封止
体、およびこれらの間にある基板上のいずれかには、有
機EL構造体を制御・駆動する回路が形成されており、
封止手段と基板との間には接続手段を有し、この接続手
段は封止手段内部の回路と外部の回路とを電気的に接続
し、かつ封止手段内部の気密性を保持するものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An organic EL element module according to the present invention comprises an organic EL structure having at least one or more organic layers involved in a light emitting function between a pair of electrodes formed on a substrate; A sealing means for sealing the EL structure, wherein the sealing means has an internal sealing body disposed at a position closest to the organic EL structure, and the internal sealing body inside. That is, it has one or two or more external sealing members arranged outside the inner sealing member with a predetermined space between them. Further, preferably, a circuit for controlling and driving the organic EL structure is formed on any of the inner sealing body, the outer sealing body, and the substrate between them,
Having a connecting means between the sealing means and the substrate, the connecting means electrically connecting a circuit inside the sealing means and an external circuit and maintaining airtightness inside the sealing means; It is.

【0032】また、前記封止手段内部には吸湿材、遮光
部材、熱伝導率0.7W/m・k以上の熱伝導部材、電磁
シールドを有していてもよい。
The sealing means may include a moisture absorbing material, a light shielding member, a heat conductive member having a heat conductivity of 0.7 W / m · k or more, and an electromagnetic shield.

【0033】封止手段を、有機EL構造体を内包する内
部封止体と、この内部封止体を内包する1つまたは2つ
以上の外部封止体とで構成することにより、有機EL構
造体の封止効果を高めることができ、素子の劣化を抑制
し、素子寿命を飛躍的に向上させることができる。
By forming the sealing means with an internal sealing body containing the organic EL structure and one or more external sealing bodies containing the internal sealing body, the organic EL structure The effect of sealing the body can be enhanced, the deterioration of the element can be suppressed, and the life of the element can be drastically improved.

【0034】また、内部封止体、外部封止体、およびこ
れらの間にある基板上のいずれかに有機EL構造体を制
御・駆動する回路を形成することにより、駆動用電気回
路素子ないしIC等がCOG実装、CSP実装される基
板の多層化構造を可能とし、配線の引き回しが容易で、
入出力信号、電源の接続等を分散することなくコンパク
トに集約可能となる。また、モジュール化した場合に制
御回路、駆動回路の回路素子の交換が容易になり、製品
の不良率を少なくすることができる。
Further, by forming a circuit for controlling and driving the organic EL structure on one of the inner sealing body, the outer sealing body, and the substrate between them, a driving electric circuit element or IC is formed. Etc. enables the multi-layer structure of the substrate on which COG mounting and CSP mounting are performed, and wiring routing is easy,
It becomes possible to consolidate compactly without dispersing input / output signals, connection of power supply, and the like. In addition, when a module is formed, replacement of circuit elements of the control circuit and the drive circuit becomes easy, and the defective rate of the product can be reduced.

【0035】また、封止手段と基板との間には封止手段
内部の回路と外部の回路とを電気的に接続し、かつ封止
手段内部の気密性を保持する接続手段を有することによ
り、封止効果を損なうことなく、封止用接着剤の濡れ性
等の問題が生じ難く、接着力の低下を防止し、気密性を
長期間維持できる。
Further, a connection means for electrically connecting a circuit inside the sealing means and an external circuit and maintaining airtightness inside the sealing means is provided between the sealing means and the substrate. In addition, problems such as wettability of the sealing adhesive hardly occur without impairing the sealing effect, preventing a decrease in adhesive strength and maintaining airtightness for a long period of time.

【0036】さらに、封止手段内部に、吸湿材、遮光部
材、熱伝導率0.7W/m・k以上の熱伝導部材、電磁シ
ールドを有することにより、水分、熱、光等による素子
の劣化損傷や、寿命の低下を防止できる。
Further, by providing a hygroscopic material, a light shielding member, a heat conductive member having a heat conductivity of 0.7 W / m · k or more, and an electromagnetic shield inside the sealing means, deterioration of the element due to moisture, heat, light, etc. Damage and shortening of life can be prevented.

【0037】また、外部封止体、またはそのいずれか
は、前記内部封止体よりも熱伝導率の高いものであって
もよい。外部封止体の熱伝導率を内部封止体のそれより
も高いものとすることにより、外部封止体から有効に熱
を拡散させることができ、内部封止体内にある有機EL
構造体を熱的ストレスから保護することができる。外部
封止体の熱伝導率としては、通常、内部封止体として好
ましく使用されるガラスの熱伝導率より高いことが好ま
しい。より具体的には、5W/m・k以上、特に10W/m・k
以上、さらには150W/m・k以上であることが好まし
く、その上限としては特に規制されるものではないが、
通常、250W/m・k程度である。この場合、外部封止体
と内部封止体(内部封止体上に実装されている電気回路
ないしIC)との間に空気よりも熱伝導率が良好な熱伝
導部材を配置してもよい。
Further, the outer sealing body or any one thereof may have higher thermal conductivity than the inner sealing body. By setting the thermal conductivity of the outer sealing body higher than that of the inner sealing body, heat can be effectively diffused from the outer sealing body, and the organic EL in the inner sealing body can be diffused.
The structure can be protected from thermal stress. It is preferable that the thermal conductivity of the outer sealing body is generally higher than the thermal conductivity of glass preferably used as the inner sealing body. More specifically, 5 W / m · k or more, especially 10 W / m · k
Above, more preferably 150 W / m · k or more, the upper limit is not particularly limited,
Usually, it is about 250 W / m · k. In this case, a heat conductive member having better heat conductivity than air may be disposed between the outer sealing body and the inner sealing body (an electric circuit or an IC mounted on the inner sealing body). .

【0038】また、好ましくは全体の厚みが10mm以
下、特に2〜7mmとすることにより、小型、薄型の有機
EL素子モジュールが実現でき、装置内に組み込んだ場
合でも場所を取らず、省スペース化に寄与できる。
Further, by preferably setting the total thickness to 10 mm or less, particularly 2 to 7 mm, a small and thin organic EL element module can be realized. Can contribute to

【0039】内部封止体の材料としては、好ましくは平
板状、または断面コ字状で内部に有機EL構造体を収容
しうる空間を有するガラスやアルミナ、石英等の硬質部
材や、樹脂等の材料が挙げられる。ガラス材として、例
えば、ソーダ石灰ガラス、鉛アルカリガラス、ホウケイ
酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカガラス等のガ
ラス組成のものが好ましい。また、樹脂材としてはエポ
キシ材、テフロン、シリコン等が好ましい。特に、内部
封止体には有機EL構造体を保護するためにガラス等の
硬質部材が好ましい。
As a material of the internal sealing body, a hard member such as glass, alumina, quartz, or the like, preferably having a flat plate shape or a U-shaped cross section and having a space capable of accommodating the organic EL structure therein, or a resin or the like is used. Materials. As the glass material, for example, a glass composition such as soda-lime glass, lead-alkali glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, and silica glass is preferable. As the resin material, an epoxy material, Teflon, silicon or the like is preferable. In particular, a hard member such as glass is preferable for the internal sealing body in order to protect the organic EL structure.

【0040】また、ガラス等の平板を用いる場合には、
封止用接着剤と、必要によりスペーサとを使用するとよ
い。また、封止材料としては金属であってもかまわない
が、必要に応じて表面に絶縁コーティング、絶縁塗装、
表面処理等を施して、絶縁処理を行う必要がある。封止
板に断面コ字状となる凹部を形成する手段としては、エ
ッチングやサンドブラスト等により、内部封止体、外部
封止体の表面を削ればよい。
When a flat plate such as glass is used,
It is preferable to use a sealing adhesive and, if necessary, a spacer. In addition, metal may be used as the sealing material, but if necessary, an insulating coating on the surface, an insulating coating,
It is necessary to perform an insulation treatment by performing a surface treatment or the like. As a means for forming a concave portion having a U-shaped cross section in the sealing plate, the surfaces of the inner sealing body and the outer sealing body may be shaved by etching, sandblasting or the like.

【0041】外部封止体には、内部封止体と同じ材料を
用いることもできるが、内部封止体より熱伝導率の高い
ものが好ましい。また、構造的に内部封止体を覆い、大
きな内部空間を形成しうるものであることが必要とな
る。内部封止体の外側に設けられる外部封止体は1つ以
上であれば幾つ設けてもよい。外部封止体と内部封止体
との間には、封止効果を高めたり、吸湿剤や熱伝導部
材、回路素子等を配置する為に所定の空間を有すること
が好ましい。
The same material as the inner sealing member can be used for the outer sealing member, but a material having a higher thermal conductivity than the inner sealing member is preferable. Further, it is necessary to structurally cover the internal sealing body and form a large internal space. The external sealing body provided outside the internal sealing body may be provided in any number as long as it is one or more. It is preferable that a predetermined space is provided between the outer sealing body and the inner sealing body to enhance a sealing effect or to arrange a moisture absorbent, a heat conductive member, a circuit element, and the like.

【0042】外部封止体、またはそのいずれかは、金属
材料により形成されることが好ましい。金属材料により
形成することにより、熱伝導率が良好となり、放熱効果
が高まると共に、封止材料を比較的安価にでき、封止時
の作業性、作業効率にも優れ、生産上も有利である。
It is preferable that the outer sealing body or any one thereof is formed of a metal material. By forming with a metal material, the thermal conductivity becomes good, the heat radiation effect is enhanced, and the sealing material can be made relatively inexpensive, and the workability and work efficiency at the time of sealing are excellent, and the production is advantageous. .

【0043】外部封止体に用いられる金属材料として
は、Fe,Cu,Ni,Cr,Mo,Ti,Al等の金
属単体、またはこれらの合金系を用いることができる。
なかでも、Al等の金属単体や、アルミニウム合金、オ
ーステナイト系ステンレス(SUS304等)等を好ま
しく用いることができる。また、フォルステライト系等
のセラミックス等を用いてもよく、これらの加工が容易
で、比較的熱伝導率の良好な材料が好ましい。また、外
部封止体には、上記の金属、あるいはそれらを組み合わ
せたような表面処理薄膜を設けてもよい。
As a metal material used for the external sealing body, a simple metal such as Fe, Cu, Ni, Cr, Mo, Ti, or Al, or an alloy thereof can be used.
Among them, a simple metal such as Al, an aluminum alloy, an austenitic stainless steel (such as SUS304) can be preferably used. Further, forsterite-based ceramics or the like may be used, and a material which can be easily processed and has relatively good thermal conductivity is preferable. Further, the external sealing body may be provided with a surface-treated thin film as described above or a combination thereof.

【0044】内部封止体、外部封止体は、スペーサーを
用いて高さを調整し、所望の高さに保持してもよい。ス
ペーサーの材料としては、樹脂ビーズ、シリカビーズ、
ガラスビーズ、ガラスファイバー等が挙げられ、特にガ
ラスビーズ等が好ましい。スペーサーは、通常、粒径の
揃った粒状物であるが、その形状は特に限定されるもの
ではなく、スペーサーとしての機能に支障のないもので
あれば種々の形状であってもよい。その大きさとして
は、円換算の直径が1〜20μm 、より好ましくは1〜
10μm 、特に2〜8μm が好ましい。このような直径
のものは、粒長100μm 以下程度であることが好まし
く、その下限は特に規制されるものではないが、通常1
μm 程度である。
The height of the inner sealing body and the outer sealing body may be adjusted to a desired height by using a spacer. Spacer materials include resin beads, silica beads,
Glass beads, glass fibers and the like are mentioned, and glass beads and the like are particularly preferable. The spacer is usually a granular material having a uniform particle size, but the shape is not particularly limited, and may be various shapes as long as it does not hinder the function as the spacer. As the size, the diameter in circle is 1 to 20 μm, more preferably 1 to 20 μm.
10 μm, particularly preferably 2 to 8 μm. The particle having such a diameter is preferably about 100 μm or less in grain length, and the lower limit is not particularly limited.
It is about μm.

【0045】なお、内部封止体、外部封止体に凹部を形
成した場合には、スペーサーは使用しても、使用しなく
てもよい。使用する場合の好ましい大きさとしては、前
記範囲でよいが、特に2〜8μm の範囲が好ましい。
When recesses are formed in the inner sealing body and the outer sealing body, the spacer may or may not be used. When used, the preferred size may be in the above range, but particularly preferably in the range of 2 to 8 μm.

【0046】スペーサーは、予め封止用接着剤中に混入
されていても、接着時に混入してもよい。封止用接着剤
中におけるスペーサーの含有量は、好ましくは0.01
〜30wt%、より好ましくは0.1〜5wt%である。
The spacer may be previously mixed in the sealing adhesive or may be mixed during bonding. The content of the spacer in the sealing adhesive is preferably 0.01
-30 wt%, more preferably 0.1-5 wt%.

【0047】接着剤としては、安定した接着強度が保
て、気密性が良好なものであれば特に限定されるもので
はないが、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ
樹脂接着剤を用いることが好ましい。また、外部封止体
が金属の場合、プロジェクション溶接、シーム溶接、冷
間圧接、超音波圧接、アーク溶接等を用いて封止板を固
定することができる。
The adhesive is not particularly limited as long as it can maintain stable adhesive strength and has good airtightness, but it is preferable to use a cationic curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesive. . When the external sealing body is a metal, the sealing plate can be fixed using projection welding, seam welding, cold welding, ultrasonic welding, arc welding, or the like.

【0048】内部封止体、外部封止体に回路を形成する
方法としては、蒸着法等により回路パターンをマスク蒸
着したり、Cu等の導体層形成後にこれをエッチングし
て所望のパターンを得る方法などの薄膜プロセスによる
ものや、所定のパターンの導体層を厚膜プロセスにて得
る方法などがある。そして、形成された回路パターン上
に必要な回路素子をハンダ付したり、導電性ペーストを
用いた接着等により装着すればよい。
As a method of forming a circuit on the inner sealing body and the outer sealing body, a circuit pattern is mask-deposited by a vapor deposition method or the like, or a desired pattern is obtained by etching after forming a conductor layer of Cu or the like. And a method of obtaining a conductor layer having a predetermined pattern by a thick film process. Then, the necessary circuit elements may be mounted on the formed circuit pattern by soldering or by bonding using a conductive paste.

【0049】内部封止体、外部封止体に形成される回路
パターンは、封止体表面のみならず、端面(側面)にま
で形成すると、端面に形成されたパターンと基板上のパ
ターンとを容易に接続することができる。アップルボン
ド等での接続を容易にするため、封止板の端面をテーパ
ー状に形成したり、曲率:R(アール)を持たせてもよ
い。テーパー角としては60°以下が好ましく、Rは半
径0.1mm以上あればよい。
When the circuit pattern formed on the inner sealing body and the outer sealing body is formed not only on the surface of the sealing body but also on the end face (side face), the pattern formed on the end face and the pattern on the substrate are changed. Can be easily connected. In order to facilitate connection with an Apple bond or the like, the end surface of the sealing plate may be formed in a tapered shape or may have a curvature of R (R). The taper angle is preferably 60 ° or less, and R may be a radius of 0.1 mm or more.

【0050】回路パターンは、Au、Al、Cuのうち
の少なくとも1種を有することが好ましい。これらの金
属は低抵抗であり、薄膜、厚膜プロセスのいずれによっ
ても容易に所望のパターンに形成することができる。こ
れらの中でもAlが、コストや、安定性の点で好まし
い。
The circuit pattern preferably has at least one of Au, Al, and Cu. These metals have low resistance and can be easily formed into a desired pattern by any of thin film and thick film processes. Among them, Al is preferable in terms of cost and stability.

【0051】回路パターンがAuを有する場合、厚膜プ
ロセスにより、Au含有層を単独で形成するか、気相堆
積法により、Au層を有する多層構造とすることが好ま
しい。多層構造とする場合、それぞれ含有する金属がT
i/Ni/Cu/Auであるか、Cr/Ni/Cu/A
uの順に基板上に形成された多層膜であることが好まし
い。Ti,Crは基板との密着性を改善し、Niは金属
層間の拡散を防止し、Cuはパターンの抵抗を低く維持
する効果がある。これらの金属を含有する回路パターン
(導電体層)は、それぞれ1wt%程度以下の不純物を含
有していてもよい。また、回路パターンを厚膜法により
形成する場合、ガラス等の厚膜法に必要な金属以外の物
質を含有していてもよい。
When the circuit pattern has Au, it is preferable to form the Au-containing layer alone by a thick film process or to form a multilayer structure having an Au layer by a vapor deposition method. In the case of a multi-layer structure, the metal contained therein is T
i / Ni / Cu / Au or Cr / Ni / Cu / A
u is preferably a multilayer film formed on the substrate in the order of u. Ti and Cr improve the adhesion to the substrate, Ni prevents diffusion between metal layers, and Cu has the effect of keeping the pattern resistance low. The circuit patterns (conductor layers) containing these metals may each contain about 1% by weight or less of impurities. When the circuit pattern is formed by the thick film method, the circuit pattern may contain a substance other than the metal necessary for the thick film method such as glass.

【0052】回路パターンがAlを有する場合、気相堆
積法によりAl含有層を単独に形成することが好まし
い。
When the circuit pattern has Al, it is preferable to form the Al-containing layer alone by a vapor deposition method.

【0053】回路パターンがCuを有する場合、メッキ
によりCu含有層を単独で形成するか、気相堆積法によ
り、Cu層を有する多層構造とすることが好ましい。多
層構造とする場合、それぞれ含有する金属がTi/Ni
/Cuであるか、Cr/Ni/Cuの順に基板上に形成
された多層膜であることが好ましい。
When the circuit pattern has Cu, it is preferable to form the Cu-containing layer alone by plating or to form a multilayer structure having a Cu layer by vapor deposition. In the case of a multilayer structure, the metal contained is Ti / Ni
/ Cu or a multilayer film formed on the substrate in the order of Cr / Ni / Cu.

【0054】内部封止体、外部封止体、あるいはこれら
の間の基板上に形成される回路としては、有機EL構造
体、つまり有機ELディスプレイ本体を駆動するための
回路の少なくとも一部である。また、この回路は、内部
封止体の有機EL構造体と対向する面の反対側、つまり
外部に露出する面に形成される。外部に形成することに
より有機EL構造体と接触したり、これを破壊したりす
るのを防止でき、内部ガスによる電子部品への悪影響を
防止できる。
The circuit formed on the inner sealing member, the outer sealing member, or the substrate therebetween is an organic EL structure, that is, at least a part of a circuit for driving the organic EL display main body. . This circuit is formed on the opposite side of the surface of the internal sealing body facing the organic EL structure, that is, on the surface exposed to the outside. By forming it outside, it is possible to prevent the organic EL structure from contacting or destroying the organic EL structure, and it is possible to prevent the internal gas from adversely affecting electronic components.

【0055】封止板は、湿気の侵入を防ぐために、接着
性樹脂等を用いて接着し密封する。封止ガスは、Ar、
He、N2 等の不活性ガス等が好ましい。また、この封
止ガスの水分含有量は、100ppm 以下、より好ましく
は10ppm 以下、特には1ppm 以下であることが好まし
い。この水分含有量に下限値は特にないが、通常0.1
ppm 程度である。
The sealing plate is sealed by using an adhesive resin or the like to prevent moisture from entering. The sealing gas is Ar,
An inert gas such as He or N 2 is preferable. Further, the moisture content of the sealing gas is preferably 100 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, and particularly preferably 1 ppm or less. Although there is no particular lower limit for this water content, it is usually 0.1
It is about ppm.

【0056】基板としては特に限定されるものではな
く、有機EL素子が積層可能なものであればよいが、通
常、発光した光を取り出す表示面としての機能も有する
ことから、ガラスや石英、樹脂等の透明ないし半透明材
料を用いることが好ましい。
The substrate is not particularly limited as long as the organic EL element can be laminated thereon, but usually has a function as a display surface for taking out emitted light, and is therefore made of glass, quartz or resin. It is preferable to use a transparent or translucent material such as

【0057】基板に色フィルター膜や蛍光性物質を含む
色変換膜、あるいは誘電体反射膜を用いて発光色をコン
トロールしてもよい。また、発光した光を取り出す側で
はない場合には、基板は透明でも不透明であってもよ
く、不透明である場合にはセラミックス等を使用しても
よい。
The emission color may be controlled by using a color filter film, a color conversion film containing a fluorescent substance, or a dielectric reflection film on the substrate. When the emitted light is not taken out, the substrate may be transparent or opaque. When the substrate is opaque, ceramics or the like may be used.

【0058】基板の大きさも特に限定されるものではな
いが、好ましくは最大長、特に対角長が10〜350m
m、特に30〜300mmの範囲が好ましい。最大長は1
0mm未満、350mmを超えるものであっても問題ない
が、収納スペースが制限されたり、製造が困難になって
くる。
The size of the substrate is not particularly limited, but preferably has a maximum length, particularly a diagonal length of 10 to 350 m.
m, especially in the range of 30 to 300 mm. Maximum length is 1
There is no problem if the length is less than 0 mm or more than 350 mm, but the storage space is limited or the production becomes difficult.

【0059】接続手段は、封止手段と基板との間にあっ
て、封止手段内部の回路と外部の回路とを電気的に接続
し、かつ封止手段内部の気密性を保持するものである。
すなわち、この接続手段を有する領域以外の部分を、構
造物を有しない基板面とすることにより、接着性が向上
し、気密性を確保することができる。このような接続手
段としては、コネクタ、端子電極、端子ピン等が挙げら
れるが、好ましくはコネクタであり、特に、封止効果や
接着剤との濡れ性を考慮するとガラス等の接着剤との濡
れ性、封止効果に優れた外装部材に、金属導体を埋め込
んだコネクタが好ましい。
The connecting means is provided between the sealing means and the substrate to electrically connect a circuit inside the sealing means to an external circuit and to maintain the airtightness inside the sealing means.
That is, by setting the portion other than the region having the connection means to the substrate surface having no structure, the adhesiveness is improved and the airtightness can be secured. Examples of such connection means include a connector, a terminal electrode, a terminal pin and the like, but a connector is preferable, and in particular, in consideration of a sealing effect and wettability with an adhesive, wetness with an adhesive such as glass is considered. A connector in which a metal conductor is embedded in an exterior member having excellent sealing properties and sealing effect is preferable.

【0060】封止手段内部に設けられる吸湿剤として
は、封止手段内部の雰囲気下で吸湿効果を発揮しうるも
のであれば特に限定されるものではないが、例えば特開
平9−148066号公報に記載されているような、酸
化ナトリウム(Na2O)、酸化カリウム(K2O)、酸
化カルシウム(CaO)、酸化バリウム(BaO)、酸
化マグネシウム(MgO)、硫酸リチウム(Li2SO4
)、硫酸ナトリウム(Na2SO4 )、硫酸カルシウム
(CaSO4 )、硫酸マグネシウム(MgSO4 )、硫
酸コバルト(CoSO4 )、硫酸ガリウム(Ga2(S
43 )、硫酸チタン(Ti(SO42 )、硫酸ニ
ッケル(NiSO4 )、塩化カルシウム(CaCl
2 )、塩化マグネシウム(MgCl2 )、塩化ストロン
チウム(SrCl2 )、塩化イットリウム(YCl
3 )、塩化銅(CuCl2 )、フッ化セシウム(Cs
F)、フッ化タンタル(TaF5 )、フッ化ニオブ(N
bF5 )、臭化カルシウム(CaBr2 )、臭化セリウ
ム(CeBr3 )、臭化セレン(SeBr4 )、臭化バ
ナジウム(VBr2 )、臭化マグネシウム(MgBr
2 )、ヨウ化バリウム(BaI2 )、ヨウ化マグネシウ
ム(MgI2 )、過塩素酸バリウム(Ba(ClO4
2 )、過塩素酸マグネシウム(Mg(ClO42 )等
を挙げることができる。
The hygroscopic agent provided inside the sealing means is not particularly limited as long as it can exhibit a hygroscopic effect in the atmosphere inside the sealing means. For example, JP-A-9-148066 (Na 2 O), potassium oxide (K 2 O), calcium oxide (CaO), barium oxide (BaO), magnesium oxide (MgO), lithium sulfate (Li 2 SO 4)
), Sodium sulfate (Na 2 SO 4 ), calcium sulfate (CaSO 4 ), magnesium sulfate (MgSO 4 ), cobalt sulfate (CoSO 4 ), gallium sulfate (Ga 2 (S
O 4 ) 3 ), titanium sulfate (Ti (SO 4 ) 2 ), nickel sulfate (NiSO 4 ), calcium chloride (CaCl 2 )
2 ), magnesium chloride (MgCl 2 ), strontium chloride (SrCl 2 ), yttrium chloride (YCl
3 ), copper chloride (CuCl 2 ), cesium fluoride (Cs
F), tantalum fluoride (TaF 5 ), niobium fluoride (N
bF 5 ), calcium bromide (CaBr 2 ), cerium bromide (CeBr 3 ), selenium bromide (SeBr 4 ), vanadium bromide (VBr 2 ), magnesium bromide (MgBr)
2), barium iodide (BaI 2), magnesium iodide (MgI 2), barium perchlorate (Ba (ClO 4)
2 ) and magnesium perchlorate (Mg (ClO 4 ) 2 ).

【0061】吸湿剤は、少なくとも内部封止体の内側
と、外部封止体と内部封止体、あるいは外部封止体と外
部封止体との間の2箇所以上に配置することが好まし
い。このように2重以上に吸湿剤を配置することによ
り、有機EL構造体を強力に水分から保護することがで
きる。
It is preferable that the hygroscopic agent is disposed at least at two positions inside the inner seal and between the outer seal and the inner seal, or between the outer seal and the outer seal. By arranging the hygroscopic agent in two or more layers as described above, the organic EL structure can be strongly protected from moisture.

【0062】封止手段内部に配置される熱伝導部材とし
ては、好ましくは空気などの気体より熱伝導率の良好な
ものが好ましく、熱伝導率0.7W/m・k以上、特に熱
伝導率1〜10W/m・kのものが好ましい。このような
熱伝導部材としては、例えば、シリコン樹脂等を用い
た、グリース、オイルコンパウンド、放熱用樹脂シート
等を挙げることができる。
The heat conductive member disposed inside the sealing means is preferably one having better heat conductivity than gas such as air, and more than 0.7 W / m · k, particularly heat conductivity. Those having 1 to 10 W / m · k are preferred. As such a heat conductive member, for example, grease, oil compound, resin sheet for heat radiation, and the like using silicon resin or the like can be given.

【0063】熱伝導部材は、内部封止体、あるいは外部
封止体のいずれの箇所に配置してもよいが、外部に対し
て熱を有効に拡散しうる位置に設けることが好ましい。
この場合、後述するように外部封止体を放熱板として利
用することが好ましい。
The heat conducting member may be disposed at any position of the inner sealing member or the outer sealing member, but is preferably provided at a position where heat can be effectively diffused to the outside.
In this case, it is preferable to use the external sealing body as a heat sink as described later.

【0064】電磁シールドとしては、従来より電磁シー
ルド剤として用いられている種々の部材を用いることが
できる。具体的には、Al、Ni、Cr、Co、Cu、
Zn、Sn、Fe、Ag、Au等の1種または2種以上
の金属薄膜や、フェライト等の各種磁性材料、上記金属
粒子や、炭素粒子などを樹脂中に分散した導電性塗膜等
を挙げることができる。
As the electromagnetic shield, various members conventionally used as electromagnetic shielding agents can be used. Specifically, Al, Ni, Cr, Co, Cu,
One or more metal thin films such as Zn, Sn, Fe, Ag, and Au, various magnetic materials such as ferrite, the above-described metal particles, and conductive coating films in which carbon particles and the like are dispersed in a resin. be able to.

【0065】電磁シールドは、直接スパッタ、蒸着、塗
布などにより内部封止体、あるいは外部封止体に形成し
てもよいし、フィルム上に形成されたものを貼り付けて
もよい。これらの薄膜の厚さは、通常、1μm 〜1mm程
度である。
The electromagnetic shield may be formed on the inner sealing body or the outer sealing body by direct sputtering, vapor deposition, coating, or the like, or may be formed on a film and adhered thereto. The thickness of these thin films is usually about 1 μm to 1 mm.

【0066】電磁シールドは、有機EL構造体からのノ
イズを外部に漏洩させないようにする場合、駆動用電気
回路素子ないしIC等の電子部品を外部ノイズから保護
する場合等、使用目的に合わせて適切な位置に形成する
とよい。
The electromagnetic shield is suitable for the purpose of use, for example, when preventing noise from the organic EL structure from leaking to the outside, or when protecting electronic components such as driving electric circuit elements or ICs from external noise. It is good to form in a suitable position.

【0067】さらに、内部封止体、外部封止体により形
成されたモジュール自体を、放熱機能を有する金属板等
と一体化して、放熱効果を高めてもよい。
Furthermore, the module itself formed by the inner sealing member and the outer sealing member may be integrated with a metal plate having a heat radiation function to enhance the heat radiation effect.

【0068】次に、図を参照しつつ本発明のよリ具体的
な構成について説明する。
Next, a specific configuration of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0069】図1は本発明の第1の構成例を示した概略
断面図である。図において、本発明の有機EL素子モジ
ュールは、基板1上に形成されている下部電極11と、
上部電極13とこれらの間にある発光機能に関与する有
機層12とからなる有機EL構造体を有する。ここで、
通常、下部電極11は、ホール注入電極として、ITO
等の透明電極により形成され、上部電極は、電子注入電
極として、低仕事関数、低抵抗の金属薄膜等により形成
されているが、用途によりこの逆の構成であったり、種
々の変形、改良が加えられている。また、有機層12
は、ホール注入輸送層、発光層、電子注入輸送層等の発
光機能に関与する有機物質を含有する機能性薄膜により
構成されている。そして、この有機EL構造体を覆うよ
うに内部封止体3が配置され、接着剤4により固定・封
止されている。この内部封止体3の内側、つまり有機E
L構造体が配置されている空間側には、吸湿剤5が配置
され、有機EL構造体が配置されている空間内の水分を
除去するようになっている。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a first configuration example of the present invention. In the figure, an organic EL element module according to the present invention includes a lower electrode 11 formed on a substrate 1,
The organic EL device has an organic EL structure including an upper electrode 13 and an organic layer 12 involved in a light emitting function between the electrodes. here,
Normally, the lower electrode 11 is made of ITO as a hole injection electrode.
The upper electrode is formed of a low work function, low resistance metal thin film, etc. as an electron injection electrode. However, depending on the application, the reverse configuration or various deformations and improvements may be made. Have been added. In addition, the organic layer 12
Is composed of a functional thin film containing an organic substance involved in a light emitting function such as a hole injection transport layer, a light emitting layer, and an electron injection transport layer. The internal sealing body 3 is arranged so as to cover the organic EL structure, and is fixed and sealed by the adhesive 4. The inside of the internal sealing body 3, that is, the organic E
On the space side where the L structure is arranged, the moisture absorbent 5 is arranged so as to remove moisture in the space where the organic EL structure is arranged.

【0070】また、前記内部封止体3の外側には、これ
を内包しうる大きさの外部封止体6が配置され、接着剤
7にて固定・封止されている。この外部封止体6の内
側、つまり内部封止体3が配置されている空間側には、
吸湿剤8が配置され、内部封止体3が配置されている空
間内の水分を除去するようになっている。このように、
2重に吸湿剤を配置することにより、有機EL構造体を
水分から強力に保護することができ、有機EL構造体の
寿命を飛躍的に向上させることができる。
Outside the internal sealing body 3, an external sealing body 6 large enough to include the internal sealing body 3 is arranged, and fixed and sealed with an adhesive 7. On the inner side of the outer sealing body 6, that is, on the space side where the inner sealing body 3 is arranged,
The moisture absorbent 8 is arranged to remove moisture in the space where the internal sealing body 3 is arranged. in this way,
By arranging the moisture absorbent twice, the organic EL structure can be strongly protected from moisture, and the life of the organic EL structure can be significantly improved.

【0071】さらに、前記内部封止体3と外部封止体6
との間に形成された空間の基板上には、前記下部電極1
1と、上部電極13とが延出し、あるいはこれに接続し
た、回路が形成されていて、この回路に制御電気回路素
子ないしIC、駆動電気回路素子ないしIC等の回路素
子21がCSGにより配置されている。また、前記回路
の少なくとも一部は、接続手段9と接続され、この接続
手段9を介して外部の回路、例えば、ホストコンピュー
タ、リモートコントロールパネル、主制御回路等と接続
されるようになっている。接続手段9は、例えば、ガラ
ス基材(外装材)に接触端子となる金属片を複数有する
コネクター等により構成され、接着剤との濡れ性が良好
で、接着効果の劣化現象が生じ難く、かつ外部雰囲気の
遮断効果の高いものにより構成されている。これによ
り、外部封止体6は接続手段9以外の部分では端子等を
有しない平滑な面で固定され、さらに封止効果が向上す
ることになる。
Further, the inner sealing body 3 and the outer sealing body 6
The lower electrode 1 is placed on the substrate in the space formed between
1 and the upper electrode 13 extend or are connected to this, a circuit is formed, and a circuit element 21 such as a control electric circuit element or an IC, a driving electric circuit element or an IC is arranged by CSG in this circuit. ing. Further, at least a part of the circuit is connected to a connection unit 9 and is connected to an external circuit, for example, a host computer, a remote control panel, a main control circuit, and the like via the connection unit 9. . The connection means 9 is composed of, for example, a connector or the like having a plurality of metal pieces serving as contact terminals on a glass base material (outer packaging material), has good wettability with an adhesive, is unlikely to cause a deterioration phenomenon of an adhesive effect, and It is made of a material having a high effect of blocking the external atmosphere. As a result, the outer sealing body 6 is fixed on a portion other than the connecting means 9 on a smooth surface having no terminals or the like, and the sealing effect is further improved.

【0072】図2は、本発明の第2の構成例を示す概略
断面図である。この例では、第1の構成例において、基
板1上に実装されていた回路構成素子21を、内部封止
体3上に直接実装、またはCSP実装したものである。
このため、内部封止体3上にも回路パターン(導体)2
2が形成され、この導体パターン22は、内部封止体3
の側部にまで形成されていて、前記下部電極11と、上
部電極13とが延出し、あるいはこれに接続した、回路
と接続されるようになっている。この場合、接続には、
ハンダ、アップルボンド、異方性導電フィルム、異方性
導電樹脂接着剤等、公知の手段を用いることができる。
その他の構成は第1の構成例と略同様であり、同一構成
要素には同一符号を付して説明を省略する。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a second configuration example of the present invention. In this example, the circuit component 21 mounted on the substrate 1 in the first configuration example is directly mounted on the internal sealing body 3 or CSP mounted.
For this reason, the circuit pattern (conductor) 2 is also provided on the internal sealing body 3.
2 are formed, and the conductor pattern 22 is
And the lower electrode 11 and the upper electrode 13 are extended or connected to a circuit connected thereto. In this case, the connection
Known means such as solder, apple bond, anisotropic conductive film, and anisotropic conductive resin adhesive can be used.
Other configurations are substantially the same as those of the first configuration example, and the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0073】図3は、本発明の第3の構成例を示す概略
断面図である。この例では、第1の構成例において、C
OG実装されていた回路素子21を、内部封止体3上に
直接実装、またはCSP実装し、さらに、この回路素子
21に対して、有機EL構造体から生じた電磁波を遮断
する電磁シールド23を形成・配置している。これによ
り、有機EL構造体から発生する電磁波が遮断ないし減
衰され、制御用電気回路素子ないしIC・駆動用電気回
路素子ないしIC等の回路素子が保護される。なお、電
磁シールド23上には、必要により絶縁膜等を形成して
もよい。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing a third configuration example of the present invention. In this example, in the first configuration example, C
The circuit element 21 that has been mounted by OG is directly mounted on the internal sealing body 3 or mounted by CSP. Further, the circuit element 21 is provided with an electromagnetic shield 23 that blocks electromagnetic waves generated from the organic EL structure. Formed and arranged. As a result, electromagnetic waves generated from the organic EL structure are cut off or attenuated, and circuit elements such as control electric circuit elements or ICs / drive electric circuit elements or ICs are protected. Note that an insulating film or the like may be formed on the electromagnetic shield 23 as necessary.

【0074】電磁シールド23は図示例では内部封止体
3の外部封止体6側の面に形成されているが、有機EL
構造体側に形成してもよい。また、電磁シールド23
と、装置のフレームグランド、あるいは接地端子等と接
続可能な配線構造を有していてもよい。その他の構成は
第1の構成例と略同様であり、同一構成要素には同一符
号を付して説明を省略する。
The electromagnetic shield 23 is formed on the surface of the inner sealing body 3 on the side of the outer sealing body 6 in the illustrated example.
It may be formed on the structure side. Also, the electromagnetic shield 23
And a wiring structure connectable to a frame ground or a ground terminal of the device. Other configurations are substantially the same as those of the first configuration example, and the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0075】図4は、本発明の第4の構成例を示す概略
断面図である。この例では、第1の構成例において、C
OG実装されていた回路素子21を、内部封止体3上に
直接実装、またはCSP実装し、回路素子からの熱を外
部に逃がすための熱伝導部材26を形成・配置してい
る。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing a fourth configuration example of the present invention. In this example, in the first configuration example, C
The circuit element 21 mounted by OG is directly mounted on the internal sealing body 3 or mounted by CSP, and a heat conductive member 26 for releasing heat from the circuit element to the outside is formed and arranged.

【0076】すなわち、図4において、内部封止体3上
には、有機EL構造体を駆動するための回路パターン2
2と、回路素子21が実装されている。これにより、回
路素子21から生じた熱が、有機EL構造体に伝達し難
くなり、有機EL構造体を、回路素子21の装着時や、
交換時、あるいは駆動時における熱的ストレスから保護
することができる。さらに、回路素子21と外部封止体
6との間には熱伝導部材26が形成・配置され、回路素
子21から生じた熱を速やかに外部封止体6に伝達し、
有機EL構造体への熱の拡散を防止している。これによ
り、さらに有機EL構造体は熱的ストレスから保護され
ることになる。その他の構成は第1の構成例と略同様で
あり、同一構成要素には同一符号を付して説明を省略す
る。
That is, in FIG. 4, a circuit pattern 2 for driving the organic EL structure is provided on the internal sealing body 3.
2 and a circuit element 21 are mounted. This makes it difficult for heat generated from the circuit element 21 to be transmitted to the organic EL structure.
It can be protected from thermal stress during replacement or driving. Further, a heat conducting member 26 is formed and arranged between the circuit element 21 and the external sealing body 6, and the heat generated from the circuit element 21 is quickly transmitted to the external sealing body 6,
The diffusion of heat to the organic EL structure is prevented. This further protects the organic EL structure from thermal stress. Other configurations are substantially the same as those of the first configuration example, and the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0077】図5は、本発明の第5の構成例を示す概略
断面図である。この例では、第1の構成例において、C
OG実装されていた回路素子21を、内部封止体3上に
MCM(Multi Chip Module)実装している。すなわ
ち、内部封止体3上に制御・駆動用電気回路配線22を
形成し、回路素子21を配置してMCMとし高密度実装
を実現している。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing a fifth configuration example of the present invention. In this example, in the first configuration example, C
The circuit element 21 mounted by OG is mounted on the internal sealing body 3 by MCM (Multi Chip Module). That is, the control / driving electric circuit wiring 22 is formed on the internal sealing body 3 and the circuit element 21 is arranged to form an MCM, thereby realizing high-density mounting.

【0078】この場合にも上記各構成例における電磁シ
ールドを形成して、電磁波から回路素子21を保護して
もよいし、熱伝導部材を形成・配置して有機EL構造体
を熱的ストレスから保護してもよい。
In this case as well, the electromagnetic shield in each of the above-described configuration examples may be formed to protect the circuit element 21 from electromagnetic waves, or a heat conductive member may be formed and arranged to reduce the organic EL structure from thermal stress. May be protected.

【0079】図6は、本発明の第6の構成例を示す概略
断面図である。この例では、第5の構成例において、外
部封止体6を金属としたものである。このように外部封
止体を熱伝導性の良好な金属とすることで、例えば図示
例のように内部封止体3上にMCM(Multi Chip Modul
e)実装している制御・駆動用電気回路配線22、回路
素子21による発熱などを効果的に外部に放出すること
ができる。
FIG. 6 is a schematic sectional view showing a sixth configuration example of the present invention. In this example, in the fifth configuration example, the external sealing body 6 is made of metal. By making the external sealing body a metal having good thermal conductivity in this manner, for example, as shown in the illustrated example, an MCM (Multi Chip Modul
e) Heat generated by the mounted control / drive electric circuit wiring 22 and circuit element 21 can be effectively released to the outside.

【0080】この場合、外部封止体6の外側に更に放熱
板(ヒートシンク)を配置してもよい。また、内部にシ
リコングリースやシリコンオイルコンパウンド等の熱伝
導部材を充填してもよい。
In this case, a heat sink (heat sink) may be further provided outside the external sealing body 6. Further, the inside may be filled with a heat conductive member such as silicon grease or silicon oil compound.

【0081】以上の各構成例では、内部封止体に対し、
これを内包する外部封止体とを1つずつ配置した例を示
したが、外部封止体は複数あってもよく、上記各構成例
の外側にさらに封止体を設けるような構成であってもよ
い。
In each of the above configuration examples, the inner sealing body is
Although an example is shown in which one external sealing body is included and one external sealing body is included therein, a plurality of external sealing bodies may be provided, and a configuration in which a sealing body is further provided outside each of the above configuration examples. You may.

【0082】有機EL構造体(ディスプレイ本体)を駆
動するための回路は、例えば図7に示すように、ディス
プレイに表示するデータや、表示に関するデータを与え
る主制御手段111を有し、この主制御手段111から
与えられる表示データに応じて有機ELディスプレイの
走査電極、データ電極を駆動する信号である走査電極駆
動信号、データ電極駆動信号を送出するディスプレイ制
御手段112を有する。さらにこのディスプレイ制御手
段112と接続され、主制御手段111等から与えられ
る表示データをマトリクスデータ、ビットマップデータ
等に展開するためのデータや、あらかじめ決められた表
示内容のデータ等を格納する表示データ記憶手段113
と、ディスプレイ制御手段112からの走査電極駆動信
号、データ電極駆動信号により、有機EL構造体(有機
ELディスプレイ本体)116の走査電極、データ電極
を駆動する走査電極駆動手段114と、データ電極駆動
手段115とを有する。
The circuit for driving the organic EL structure (display main body) has, for example, as shown in FIG. 7, a main control means 111 for giving data to be displayed on the display and data relating to the display. There is provided a display control means 112 for transmitting a scan electrode drive signal which is a signal for driving the scan electrode and the data electrode of the organic EL display according to the display data given from the means 111 and a data electrode drive signal. Further, it is connected to the display control means 112, and is used for expanding display data provided from the main control means 111 and the like into matrix data, bitmap data, etc., and display data for storing data of predetermined display contents and the like. Storage means 113
Scanning electrode driving means 114 for driving a scanning electrode and a data electrode of an organic EL structure (organic EL display main body) 116 by a scanning electrode driving signal and a data electrode driving signal from a display control means 112; 115.

【0083】主制御手段111は、有機EL構造体11
6に表示させる表示データを与えたり、表示データ記憶
手段113に記憶されている表示データを指定したり、
表示に必要なタイミングや制御データを与えたりする。
この制御手段111は、通常、汎用のマイクロプロセッ
サ(MPU)と、このMPUと接続されている記憶媒体
(ROM、RAM等)上の制御アルゴリズム等により構
成することができる。制御手段11は、CISC、RI
SC、DSP等プロセッサの態様を問わず使用可能であ
り、その他ASIC等論理回路の組み合わせなどにより
構成してもよい。また、この例では主制御手段111は
独立に設けているが、ディスプレイ制御手段112や、
ディスプレイが備え付けられる装置の制御手段等と一体
としてもよい。
The main control means 111 includes the organic EL structure 11
6, display data to be displayed, or designation of display data stored in the display data storage unit 113,
Gives timing and control data necessary for display.
The control means 111 can be generally constituted by a general-purpose microprocessor (MPU) and a control algorithm on a storage medium (ROM, RAM, etc.) connected to the MPU. The control means 11 includes CISC, RI
It can be used irrespective of the mode of the processor such as SC and DSP, and may be configured by a combination of logic circuits such as ASIC. In this example, the main control unit 111 is provided independently, but the display control unit 112,
It may be integrated with the control means of the device provided with the display.

【0084】ディスプレイ制御手段112は、主制御手
段111等から与えられる表示データ等を解析し、必要
により表示データ記憶手段113に格納されているデー
タを検索して、その表示データを有機ELディスプレイ
上の所定の位置に表示させるためのマトリクスデータに
変換する。すなわち、表示する画像(イメージまたはキ
ャラクタ)データが、各マトリクスの交点で与えられる
有機EL素子の画素単位のドットデータとした場合、そ
のドット座標を与える走査電極とデータ電極を駆動する
ような信号を発生する。また、上記のような各フレーム
単位での駆動や、走査電極とデータ電極の駆動比(デュ
ーティ)制御等も行う。
The display control means 112 analyzes display data and the like provided from the main control means 111 and the like, searches data stored in the display data storage means 113 as necessary, and stores the display data on the organic EL display. Is converted into matrix data to be displayed at a predetermined position. That is, when the image (image or character) data to be displayed is dot data in pixel units of the organic EL element given at the intersection of each matrix, a signal for driving the scanning electrode and the data electrode giving the dot coordinates is provided. appear. In addition, driving in units of frames as described above, driving ratio (duty) control between the scanning electrodes and the data electrodes, and the like are also performed.

【0085】ディスプレイ制御手段112は、例えば、
所定の演算機能を有するプロセッサや複合論理回路、前
記プロセッサ等が外部の主制御手段等とのデータの授受
を行うためのバッファ、制御回路へのタイミング信号、
表示タイミング信号や外部記憶手段等への読み出し、書
き込みタイミング信号等を与えるタイミング信号発生回
路(発振回路)、外部の記憶手段から表示データ等の授
受を行う記憶素子制御回路、外部の記憶素子から読み出
したり、外部から与えられ、あるいはこれを加工するこ
とにより得られた表示データを駆動信号として送出する
駆動信号送出回路、外部から与えられる表示機能や表示
させるディスプレイ等に関するデータ、制御コマンド等
を格納する各種レジスタ等により構成することができ
る。
The display control means 112 includes, for example,
A processor or a complex logic circuit having a predetermined arithmetic function, a buffer for the processor or the like to exchange data with an external main control unit or the like, a timing signal to a control circuit,
A timing signal generating circuit (oscillation circuit) for giving a display timing signal and reading / writing to external storage means and a writing timing signal, a storage element control circuit for sending and receiving display data and the like from an external storage means, and reading from an external storage element Or a drive signal transmission circuit for transmitting display data, which is supplied from the outside or obtained by processing the data, as a drive signal, and stores data relating to a display function and a display to be externally supplied, control commands, and the like. It can be composed of various registers and the like.

【0086】表示データ記憶手段113は、外部から与
えられた画像データを、ディスプレイ上にマトリクスデ
ータとして展開するためのデータ(変換テーブル)や、
所定のキャラクタデータやイメージデータをそのままマ
トリクスデータに展開したデータ等が格納され、それぞ
れ必要に応じて格納位置(アドレス)を指定することに
より読み出し(書き込み)が可能なようになっている。
このような、表示データ記憶手段としてはRAM(VR
AM)、ROM等の半導体記憶素子を好ましく挙げるこ
とができるが、これに限定されるものではなく、光や磁
気を応用した記憶媒体を用いてもよい。
The display data storage means 113 stores data (conversion table) for developing image data given from outside as matrix data on a display,
Data in which predetermined character data and image data are directly expanded into matrix data and the like are stored, and can be read (written) by designating a storage position (address) as necessary.
Such a display data storage means is a RAM (VR
AM), and a semiconductor storage element such as a ROM can be preferably mentioned, but the present invention is not limited to this, and a storage medium using light or magnetism may be used.

【0087】走査電極駆動手段114およびデータ電極
駆動手段115はディスプレイ制御手段112から与え
られた走査電極駆動信号、データ電極駆動信号に応じて
走査電極、データ電極を駆動する。有機ELディスプレ
イを構成する有機EL素子は電流駆動により発光する発
光素子である。このため、通常電圧信号として与えられ
る走査電極駆動信号、データ電極駆動信号を所定の電流
値の信号に変換し、これを所定の走査電極、データ電極
に与えることにより駆動する。
The scanning electrode driving means 114 and the data electrode driving means 115 drive the scanning electrodes and the data electrodes according to the scanning electrode driving signal and the data electrode driving signal given from the display control means 112. The organic EL element constituting the organic EL display is a light emitting element that emits light by current driving. Therefore, the scan electrode drive signal and the data electrode drive signal, which are usually given as voltage signals, are converted into signals of a predetermined current value, and the signals are supplied to predetermined scan electrodes and data electrodes for driving.

【0088】より具体的には、必要な電流容量を有する
電圧−電流変換素子、あるいは増幅素子(電力増幅)等
を用いて、所定位置の走査電極、データ電極を駆動す
る。このような駆動回路として、オープンドレイン、オ
ープンコレクタ回路、トーテムポール接続、プッシュプ
ル接続等が挙げられる。電圧−電流変換素子、あるいは
増幅素子としては、リレー等の有接点デバイスを用いる
ことも考えられるが、動作の高速性、信頼性等を考慮す
ると、トランジスタ、FETおよびこれらと同等の機能
を有する半導体素子が好ましい。これら半導体素子は、
電源側または接地側のいずれかに走査電極、データ電極
を接続する。ここで、電源側、接地側とは直接電源や接
地ラインに接続する場合の他、電流制限抵抗、保護用デ
バイス、レギュレータ等の素子を介して接続する場合も
含まれる。
More specifically, a scan electrode and a data electrode at predetermined positions are driven by using a voltage-current conversion element having a necessary current capacity, an amplification element (power amplification), or the like. Examples of such a driving circuit include an open drain, an open collector circuit, a totem pole connection, a push-pull connection, and the like. A contact device such as a relay may be used as the voltage-current conversion element or the amplifying element. However, in consideration of high-speed operation and reliability, transistors, FETs, and semiconductors having functions equivalent to these are used. Elements are preferred. These semiconductor elements are
The scanning electrode and the data electrode are connected to either the power supply side or the ground side. Here, the power supply side and the ground side include not only a case where the power supply side and the ground side are directly connected to the power supply and the ground line, but also a case where the power supply side and the ground side are connected via elements such as a current limiting resistor, a protection device, and a regulator.

【0089】本発明では上記回路構成要素のうち、特に
ディスプレイ制御手段112、表示データ記憶手段11
3、走査電極駆動手段114およびデータ電極駆動手段
115等を回路素子およびその周辺の回路として内部封
止体と外部封止体との間の部分に形成することが好まし
い。また、その他の回路との接続には、基板用コネク
タ、FPC等の接続手段を用いて接続される。この場
合、信号線としては、通常、プロセッサ等の制御手段の
処理に必要なデータが転送可能な本数でよく、コネクタ
やケーブルが小型で済み、線径が太いケーブルを使用す
る必要もなく、信頼性も良好なものとなる。
In the present invention, among the above circuit components, in particular, the display control means 112 and the display data storage means 11
3. It is preferable that the scanning electrode driving means 114 and the data electrode driving means 115 are formed as a circuit element and peripheral circuits in a portion between the internal sealing body and the external sealing body. Further, connection with other circuits is made by using a connection means such as a board connector or an FPC. In this case, the number of signal lines is usually sufficient to transfer data necessary for processing by a control means such as a processor, and the size of connectors and cables is small, and there is no need to use a cable with a large diameter, and reliability can be improved. The properties are also good.

【0090】上記回路は有機EL構造体(有機ELディ
スプレイ本体)を駆動するための回路構成の一例にすぎ
ず、同等な機能を有するものであれば他の回路構成をと
ることも可能である。また、ディスプレイ制御手段、走
査電極駆動手段およびデータ電極駆動手段等と明確に分
割せずにこれらが渾然一体となった構成であってもよ
い。また、上記例では主に単純マトリクスタイプのディ
スプレイについて説明しているが、TFT等を用いた、
アクティブマトリクスタイプのディスプレイであっても
よい。なお、これらの回路装置は、通常、1種または2
種以上のICおよびその周辺部品として構成されてい
る。
The above circuit is merely an example of a circuit configuration for driving an organic EL structure (organic EL display main body), and other circuit configurations may be employed as long as they have equivalent functions. Further, the display control means, the scan electrode driving means, the data electrode driving means and the like may be completely integrated without being clearly divided. Although the above example mainly describes a simple matrix type display, a TFT or the like is used.
It may be an active matrix type display. Incidentally, these circuit devices are usually one type or two types.
It is configured as more than one kind of IC and its peripheral parts.

【0091】本発明の有機EL構造体は、例えば、基板
上に組以上のマトリクス配置された走査電極(電子注入
電極)およびデータ電極(ホール注入電極)を有し、こ
れらの電極の間に有機層であるホール注入・輸送層、発
光および電子注入輸送層、必要により保護層が積層さ
れ、さらにこの上にガラス等の封止板を配置した構成を
有する。
The organic EL structure of the present invention has, for example, scanning electrodes (electron injecting electrodes) and data electrodes (hole injecting electrodes) arranged in a matrix of at least a set on a substrate. It has a structure in which a hole injection / transport layer, a light emission and electron injection / transport layer, which is a layer, and a protective layer as required, are laminated, and a sealing plate such as glass is disposed thereon.

【0092】封止板上に形成された回路はボールボンド
またはワイヤーボンドにより基板上の回路と電気的に接
続され、それぞれ走査電極(電子注入電極)およびデー
タ電極(ホール注入電極)と接続される。これにより、
封止板上の走査電極駆動手段(回路)およびデータ電極
駆動手段(回路)と、走査電極(電子注入電極)および
データ電極(ホール注入電極)とが接続されることとな
る。
The circuit formed on the sealing plate is electrically connected to the circuit on the substrate by ball bonding or wire bonding, and is connected to a scanning electrode (electron injection electrode) and a data electrode (hole injection electrode), respectively. . This allows
The scanning electrode driving means (circuit) and the data electrode driving means (circuit) on the sealing plate are connected to the scanning electrode (electron injection electrode) and the data electrode (hole injection electrode).

【0093】有機EL構造体は、次のようなものであ
る。発光層は、ホール(正孔)および電子の注入機能、
それらの輸送機能、ホールと電子の再結合により励起子
を生成させる機能を有する。発光層には、比較的電子的
にニュートラルな化合物を用いることが好ましい。
The organic EL structure is as follows. The light emitting layer has a hole (hole) and electron injection function,
They have a transport function and a function of generating excitons by recombination of holes and electrons. It is preferable to use a relatively electronically neutral compound for the light emitting layer.

【0094】ホール注入輸送層は、ホール注入電極から
のホールの注入を容易にする機能、ホールを安定に輸送
する機能および電子を妨げる機能を有するものであり、
電子注入輸送層は、電子注入電極からの電子の注入を容
易にする機能、電子を安定に輸送する機能およびホール
を妨げる機能を有するものである。これらの層は、発光
層に注入されるホールや電子を増大・閉じこめさせ、再
結合領域を最適化させ、発光効率を改善する。
The hole injecting and transporting layer has a function of facilitating the injection of holes from the hole injecting electrode, a function of stably transporting holes, and a function of preventing electrons.
The electron injection transport layer has a function of facilitating injection of electrons from the electron injection electrode, a function of stably transporting electrons, and a function of preventing holes. These layers increase and confine holes and electrons injected into the light emitting layer, optimize the recombination region, and improve luminous efficiency.

【0095】発光層の厚さ、ホール注入輸送層の厚さお
よび電子注入輸送層の厚さは、特に制限されるものでは
なく、形成方法によっても異なるが、通常5〜500nm
程度、特に10〜300nmとすることが好ましい。
The thickness of the light emitting layer, the thickness of the hole injecting and transporting layer, and the thickness of the electron injecting and transporting layer are not particularly limited, and vary depending on the forming method.
It is preferable that the thickness be in the range of 10 to 300 nm.

【0096】ホール注入輸送層の厚さおよび電子注入輸
送層の厚さは、再結合・発光領域の設計によるが、発光
層の厚さと同程度または1/10〜10倍程度とすれば
よい。ホールまたは電子の各々の注入層と輸送層とを分
ける場合は、注入層は1nm以上、輸送層は1nm以上とす
るのが好ましい。このときの注入層、輸送層の厚さの上
限は、通常、注入層で500nm程度、輸送層で500nm
程度である。このような膜厚については、注入輸送層を
2層設けるときも同じである。
The thickness of the hole injecting and transporting layer and the thickness of the electron injecting and transporting layer depend on the design of the recombination / light emitting region, but may be about the same as the thickness of the light emitting layer or about 1/10 to 10 times. When the hole or electron injection layer and the transport layer are separated from each other, it is preferable that the injection layer has a thickness of 1 nm or more and the transport layer has a thickness of 1 nm or more. At this time, the upper limit of the thickness of the injection layer and the transport layer is usually about 500 nm for the injection layer and 500 nm for the transport layer.
It is about. Such a film thickness is the same when two injection / transport layers are provided.

【0097】有機EL素子の発光層には、発光機能を有
する化合物である蛍光性物質を含有させる。このような
蛍光性物質としては、例えば、特開昭63−26469
2号公報に開示されているような化合物、例えばキナク
リドン、ルブレン、スチリル系色素等の化合物から選択
される少なくとも1種が挙げられる。また、トリス(8
−キノリノラト)アルミニウム等の8−キノリノールま
たはその誘導体を配位子とする金属錯体色素などのキノ
リン誘導体、テトラフェニルブタジエン、アントラセ
ン、ペリレン、コロネン、12−フタロペリノン誘導体
等が挙げられる。さらには、特開平8−12600号公
報(特願平6−110569号)に記載のフェニルアン
トラセン誘導体、特開平8−12969号公報(特願平
6−114456号)に記載のテトラアリールエテン誘
導体等を用いることができる。
The light emitting layer of the organic EL device contains a fluorescent substance which is a compound having a light emitting function. Examples of such a fluorescent substance include, for example, JP-A-63-26469.
No. 2 discloses at least one compound selected from compounds such as quinacridone, rubrene, and styryl dyes. Also, Tris (8
Quinolinol derivatives such as metal complex dyes having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, such as (quinolinolato) aluminum; tetraphenylbutadiene, anthracene, perylene, coronene, and 12-phthaloperinone derivatives. Further, phenylanthracene derivatives described in JP-A-8-12600 (Japanese Patent Application No. 6-110569), tetraarylethene derivatives described in JP-A-8-12969 (Japanese Patent Application No. 6-114456), and the like are described. Can be used.

【0098】また、それ自体で発光が可能なホスト物質
と組み合わせて使用することが好ましく、ドーパントと
しての使用が好ましい。このような場合の発光層におけ
る化合物の含有量は0.01〜20wt% 、さらには0.
1〜15wt% であることが好ましい。ホスト物質と組み
合わせて使用することによって、ホスト物質の発光波長
特性を変化させることができ、長波長に移行した発光が
可能になるとともに、素子の発光効率や安定性が向上す
る。
Further, it is preferable to use in combination with a host substance capable of emitting light by itself, and it is preferable to use it as a dopant. In such a case, the content of the compound in the light emitting layer is 0.01 to 20% by weight, and more preferably 0.1 to 20% by weight.
It is preferably 1 to 15% by weight. When used in combination with a host substance, the emission wavelength characteristics of the host substance can be changed, light emission shifted to a longer wavelength becomes possible, and the luminous efficiency and stability of the device are improved.

【0099】ホスト物質としては、キノリノラト錯体が
好ましく、さらには8−キノリノールまたはその誘導体
を配位子とするアルミニウム錯体が好ましい。このよう
なアルミニウム錯体としては、特開昭63−26469
2号、特開平3−255190号、特開平5−7073
3号、特開平5−258859号、特開平6−2158
74号等に開示されているものを挙げることができる。
The host substance is preferably a quinolinolato complex, and more preferably an aluminum complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand. Such an aluminum complex is disclosed in JP-A-63-26469.
No. 2, JP-A-3-255190, JP-A-5-7073
3, JP-A-5-258859, JP-A-6-2158
No. 74 and the like.

【0100】具体的には、まず、トリス(8−キノリノ
ラト)アルミニウム、ビス(8−キノリノラト)マグネ
シウム、ビス(ベンゾ{f}−8−キノリノラト)亜
鉛、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウ
ムオキシド、トリス(8−キノリノラト)インジウム、
トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アルミニウ
ム、8−キノリノラトリチウム、トリス(5−クロロ−
8−キノリノラト)ガリウム、ビス(5−クロロ−8−
キノリノラト)カルシウム、5,7−ジクロル−8−キ
ノリノラトアルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−
8−ヒドロキシキノリノラト)アルミニウム、ポリ[亜
鉛(II)−ビス(8−ヒドロキシ−5−キノリニル)メ
タン]等がある。
Specifically, first, tris (8-quinolinolato) aluminum, bis (8-quinolinolato) magnesium, bis (benzo {f} -8-quinolinolato) zinc, bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum Oxide, tris (8-quinolinolato) indium,
Tris (5-methyl-8-quinolinolato) aluminum, 8-quinolinolatolithium, tris (5-chloro-
8-quinolinolato) gallium, bis (5-chloro-8-
Quinolinolato) calcium, 5,7-dichloro-8-quinolinolatoaluminum, tris (5,7-dibromo-
8-hydroxyquinolinolato) aluminum and poly [zinc (II) -bis (8-hydroxy-5-quinolinyl) methane].

【0101】このほかのホスト物質としては、特開平8
−12600号公報(特願平6−110569号)に記
載のフェニルアントラセン誘導体や特開平8−1296
9号公報(特願平6−114456号)に記載のテトラ
アリールエテン誘導体なども好ましい。
Other host materials are disclosed in
Phenylanthracene derivative described in JP-A-12600 (Japanese Patent Application No. 6-110569) and JP-A-8-1296
No. 9 (Japanese Patent Application No. 6-114456) is also preferable.

【0102】発光層は電子注入輸送層を兼ねたものであ
ってもよく、このような場合はトリス(8−キノリノラ
ト)アルミニウム等を使用することが好ましい。これら
の蛍光性物質を蒸着すればよい。
The light emitting layer may also serve as an electron injection / transport layer. In such a case, it is preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like. These fluorescent substances may be deposited.

【0103】また、発光層は、必要に応じて、少なくと
も1種のホール注入輸送性化合物と少なくとも1種の電
子注入輸送性化合物との混合層とすることも好ましく、
さらにはこの混合層中にドーパントを含有させることが
好ましい。このような混合層における化合物の含有量
は、0.01〜20wt% 、さらには0.1〜15wt% と
することが好ましい。
The light emitting layer is preferably a mixed layer of at least one kind of hole injecting and transporting compound and at least one kind of electron injecting and transporting compound, if necessary.
Further, it is preferable that a dopant is contained in the mixed layer. The content of the compound in such a mixed layer is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight.

【0104】混合層では、キャリアのホッピング伝導パ
スができるため、各キャリアは極性的に有利な物質中を
移動し、逆の極性のキャリア注入は起こりにくくなるた
め、有機化合物がダメージを受けにくくなり、素子寿命
がのびるという利点がある。また、前述のドーパントを
このような混合層に含有させることにより、混合層自体
のもつ発光波長特性を変化させることができ、発光波長
を長波長に移行させることができるとともに、発光強度
を高め、素子の安定性を向上させることもできる。
In the mixed layer, a carrier hopping conduction path is formed, so that each carrier moves in a polarly advantageous substance and carrier injection of the opposite polarity is less likely to occur, so that the organic compound is less likely to be damaged. This has the advantage that the element life is extended. Further, by including the above-described dopant in such a mixed layer, the emission wavelength characteristics of the mixed layer itself can be changed, the emission wavelength can be shifted to a longer wavelength, and the emission intensity is increased, The stability of the device can be improved.

【0105】混合層に用いられるホール注入輸送性化合
物および電子注入輸送性化合物は、各々、後述のホール
注入輸送層用の化合物および電子注入輸送層用の化合物
の中から選択すればよい。なかでも、ホール注入輸送層
用の化合物としては、強い蛍光を持ったアミン誘導体、
例えばホール輸送材料であるトリフェニルジアミン誘導
体、さらにはスチリルアミン誘導体、芳香族縮合環を持
つアミン誘導体を用いるのが好ましい。
The hole injecting / transporting compound and the electron injecting / transporting compound used in the mixed layer may be selected from the compounds for the hole injecting / transporting layer and the compounds for the electron injecting / transporting layer described below, respectively. Among them, compounds for the hole injection transport layer include amine derivatives having strong fluorescence,
For example, it is preferable to use a triphenyldiamine derivative which is a hole transport material, a styrylamine derivative, or an amine derivative having an aromatic condensed ring.

【0106】電子注入輸送性の化合物としては、キノリ
ン誘導体、さらには8−キノリノールないしその誘導体
を配位子とする金属錯体、特にトリス(8−キノリノラ
ト)アルミニウム(Alq3 )を用いることが好まし
い。また、上記のフェニルアントラセン誘導体、テトラ
アリールエテン誘導体を用いるのも好ましい。
As the compound capable of injecting and transporting electrons, it is preferable to use a quinoline derivative, furthermore a metal complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, particularly tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3). It is also preferable to use the above-mentioned phenylanthracene derivatives and tetraarylethene derivatives.

【0107】ホール注入輸送層用の化合物としては、強
い蛍光を持ったアミン誘導体、例えば上記のホール輸送
材料であるトリフェニルジアミン誘導体、さらにはスチ
リルアミン誘導体、芳香族縮合環を持つアミン誘導体を
用いるのが好ましい。
As the compound for the hole injecting and transporting layer, an amine derivative having strong fluorescence, for example, a triphenyldiamine derivative which is the above-described hole transporting material, a styrylamine derivative, or an amine derivative having an aromatic condensed ring is used. Is preferred.

【0108】この場合の混合比は、それぞれのキャリア
移動度とキャリア濃度によるが、一般的には、ホール注
入輸送性化合物の化合物/電子注入輸送機能を有する化
合物の重量比が、1/99〜99/1、さらに好ましく
は10/90〜90/10、特に好ましくは20/80
〜80/20程度となるようにすることが好ましい。ま
た、混合層の厚さは、分子層一層に相当する厚み以上
で、有機化合物層の膜厚未満とすることが好ましい。具
体的には1〜85nmとすることが好ましく、さらには5
〜60nm、特には5〜50nmとすることが好ましい。
The mixing ratio in this case depends on the respective carrier mobility and carrier concentration. In general, the weight ratio of the compound of the hole injecting and transporting compound / the compound having the electron injecting and transporting function is 1/99 to less. 99/1, more preferably 10/90 to 90/10, particularly preferably 20/80
It is preferable to set it to about 80/20. The thickness of the mixed layer is preferably equal to or greater than the thickness of one molecular layer and less than the thickness of the organic compound layer. Specifically, the thickness is preferably 1 to 85 nm, more preferably 5 to 85 nm.
6060 nm, particularly preferably 5-50 nm.

【0109】また、混合層の形成方法としては、異なる
蒸着源より蒸発させる共蒸着が好ましいが、蒸気圧(蒸
発温度)が同程度あるいは非常に近い場合には、予め同
じ蒸着ボード内で混合させておき、蒸着することもでき
る。混合層は化合物同士が均一に混合している方が好ま
しいが、場合によっては、化合物が島状に存在するもの
であってもよい。発光層は、一般的には、有機蛍光物質
を蒸着するか、あるいは、樹脂バインダー中に分散させ
てコーティングすることにより、発光層を所定の厚さに
形成する。
As a method of forming a mixed layer, co-evaporation in which evaporation is performed from different evaporation sources is preferable. However, when the vapor pressures (evaporation temperatures) are the same or very close, the mixed layers are previously mixed in the same evaporation board. Alternatively, it can be deposited. In the mixed layer, it is preferable that the compounds are uniformly mixed, but in some cases, the compounds may exist in an island shape. The light-emitting layer is generally formed to a predetermined thickness by vapor-depositing an organic fluorescent substance or by dispersing and coating the resin in a resin binder.

【0110】ホール注入輸送層には、例えば、特開昭6
3−295695号公報、特開平2−191694号公
報、特開平3−792号公報、特開平5−234681
号公報、特開平5−239455号公報、特開平5−2
99174号公報、特開平7−126225号公報、特
開平7−126226号公報、特開平8−100172
号公報、EP0650955A1等に記載されている各
種有機化合物を用いることができる。例えば、テトラア
リールベンジシン化合物(トリアリールジアミンないし
トリフェニルジアミン:TPD)、芳香族三級アミン、
ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール
誘導体、イミダゾール誘導体、アミノ基を有するオキサ
ジアゾール誘導体、ポリチオフェン等である。これらの
化合物は、1種のみを用いても、2種以上を併用しても
よい。2種以上を併用するときは、別層にして積層した
り、混合したりすればよい。
The hole injecting and transporting layer is described in, for example,
JP-A-3-295695, JP-A-2-191694, JP-A-3-792, JP-A-5-234681
JP, JP-A-5-239455, JP-A-5-5-2
JP-A-99174, JP-A-7-126225, JP-A-7-126226, JP-A-8-100172
Various organic compounds described in JP-A No. 06509555 A1 and the like can be used. For example, a tetraarylbendicine compound (triaryldiamine or triphenyldiamine: TPD), an aromatic tertiary amine,
Examples include hydrazone derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, oxadiazole derivatives having an amino group, and polythiophene. These compounds may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, they may be stacked as separate layers or mixed.

【0111】ホール注入輸送層をホール注入層とホール
輸送層とに分けて積層する場合は、ホール注入輸送層用
の化合物のなかから好ましい組合せを選択して用いるこ
とができる。このとき、ホール注入電極(ITO等)側
からイオン化ポテンシャルの小さい化合物の順に積層す
ることが好ましい。また、ホール注入電極表面には薄膜
性の良好な化合物を用いることが好ましい。このような
積層順については、ホール注入輸送層を2層以上設ける
ときも同様である。このような積層順とすることによっ
て、駆動電圧が低下し、電流リークの発生やダークスポ
ットの発生・成長を防ぐことができる。また、素子化す
る場合、蒸着を用いているので1〜10nm程度の薄い膜
も均一かつピンホールフリーとすることができるため、
ホール注入層にイオン化ポテンシャルが小さく、可視部
に吸収をもつような化合物を用いても、発光色の色調変
化や再吸収による効率の低下を防ぐことができる。ホー
ル注入輸送層は、発光層等と同様に上記の化合物を蒸着
することにより形成することができる。
When the hole injecting and transporting layer is divided into a hole injecting layer and a hole transporting layer, a preferable combination can be selected from the compounds for the hole injecting and transporting layer. At this time, it is preferable to laminate the compounds in order from the hole injecting electrode (ITO or the like) with the smallest ionization potential. Further, it is preferable to use a compound having a good thin film property on the surface of the hole injection electrode. Such a stacking order is the same when two or more hole injection transport layers are provided. With such a stacking order, the driving voltage is reduced, and the occurrence of current leakage and the occurrence and growth of dark spots can be prevented. In addition, in the case of forming an element, since a thin film of about 1 to 10 nm can be made uniform and pinhole-free because evaporation is used,
Even if a compound having a small ionization potential and having absorption in the visible region is used for the hole injection layer, it is possible to prevent a change in the color tone of the emission color and a decrease in efficiency due to reabsorption. The hole injecting and transporting layer can be formed by vapor deposition of the above compound in the same manner as the light emitting layer and the like.

【0112】電子注入輸送層には、トリス(8−キノリ
ノラト)アルミニウム(Alq3 )等の8−キノリノー
ルまたはその誘導体を配位子とする有機金属錯体などの
キノリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘
導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリ
ン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオ
レン誘導体等を用いることができる。電子注入輸送層は
発光層を兼ねたものであってもよく、このような場合は
トリス(8−キノリノラト)アルミニウム等を使用する
ことが好ましい。電子注入輸送層の形成は、発光層と同
様に、蒸着等によればよい。
The electron injecting / transporting layer includes a quinoline derivative such as an organometallic complex having 8-quinolinol such as tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3) or a derivative thereof as a ligand, an oxadiazole derivative, a perylene derivative, or the like. A pyridine derivative, a pyrimidine derivative, a quinoxaline derivative, a diphenylquinone derivative, a nitro-substituted fluorene derivative, or the like can be used. The electron injection / transport layer may also serve as the light emitting layer. In such a case, it is preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like. The electron injecting and transporting layer may be formed by vapor deposition or the like, similarly to the light emitting layer.

【0113】電子注入輸送層を電子注入層と電子輸送層
とに分けて積層する場合には、電子注入輸送層用の化合
物の中から好ましい組み合わせを選択して用いることが
できる。このとき、電子注入電極側から電子親和力の値
の大きい化合物の順に積層することが好ましい。このよ
うな積層順については、電子注入輸送層を2層以上設け
るときも同様である。
When the electron injecting and transporting layer is divided into an electron injecting layer and an electron transporting layer, a preferable combination can be selected from the compounds for the electron injecting and transporting layer. At this time, it is preferable to stack the compounds in descending order of the electron affinity value from the electron injection electrode side. Such a stacking order is the same when two or more electron injection / transport layers are provided.

【0114】ホール注入輸送層、発光層および電子注入
輸送層の形成には、均質な薄膜が形成できることから、
真空蒸着法を用いることが好ましい。真空蒸着法を用い
た場合、アモルファス状態または結晶粒径が0.1μm
以下の均質な薄膜が得られる。結晶粒径が0.1μm を
超えていると、不均一な発光となり、素子の駆動電圧を
高くしなければならなくなり、ホールの注入効率も著し
く低下する。
The hole injecting and transporting layer, the light emitting layer and the electron injecting and transporting layer can be formed by forming a uniform thin film.
It is preferable to use a vacuum deposition method. When vacuum deposition is used, the amorphous state or the crystal grain size is 0.1 μm
The following homogeneous thin film is obtained. If the crystal grain size exceeds 0.1 μm, non-uniform light emission occurs, the driving voltage of the device must be increased, and the hole injection efficiency is significantly reduced.

【0115】真空蒸着の条件は特に限定されないが、1
-4Pa以下の真空度とし、蒸着速度は0.01〜1nm/
sec 程度とすることが好ましい。また、真空中で連続し
て各層を形成することが好ましい。真空中で連続して形
成すれば、各層の界面に不純物が吸着することを防げる
ため、高特性が得られる。また、素子の駆動電圧を低く
したり、ダークスポットの発生・成長を抑制したりする
ことができる。
The conditions for vacuum deposition are not particularly limited.
The degree of vacuum is 0 -4 Pa or less, and the deposition rate is 0.01 to 1 nm /
It is preferable to set it to about sec. Further, it is preferable to form each layer continuously in a vacuum. If they are formed continuously in a vacuum, impurities can be prevented from adsorbing at the interface between the layers, so that high characteristics can be obtained. Further, the driving voltage of the element can be reduced, and the occurrence and growth of dark spots can be suppressed.

【0116】これら各層の形成に真空蒸着法を用いる場
合において、1層に複数の化合物を含有させる場合、化
合物を入れた各ボートを個別に温度制御して共蒸着する
ことが好ましい。
In the case where a plurality of compounds are contained in one layer when the vacuum evaporation method is used for forming each of these layers, it is preferable to co-deposit each boat containing the compounds by individually controlling the temperature.

【0117】また、有機EL構造体は上記有機層の他
に、基板および基板上に有機層を挟み込むように形成さ
れた、ホール注入電極、電子注入電極等の機能性薄膜を
有する。
Further, in addition to the organic layer, the organic EL structure has a substrate and a functional thin film such as a hole injection electrode or an electron injection electrode formed on the substrate so as to sandwich the organic layer.

【0118】電子注入電極としては、低仕事関数の物質
が好ましく、例えば、K、Li、Na、Mg、La、C
e、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Z
n、Zr等の金属元素単体、または安定性を向上させる
ためにそれらを含む2成分、3成分の合金系を用いるこ
とが好ましい。合金系としては、例えばAg・Mg(A
g:0.1〜50at%)、Al・Li(Li:0.01
〜12at%)、In・Mg(Mg:50〜80at%)、
Al・Ca(Ca:0.01〜20at%)等が挙げられ
る。なお、電子注入電極は蒸着法やスパッタ法でも形成
することが可能である。
As the electron injection electrode, a substance having a low work function is preferable. For example, K, Li, Na, Mg, La, C
e, Ca, Sr, Ba, Al, Ag, In, Sn, Z
It is preferable to use a single metal element such as n or Zr, or a two-component or three-component alloy system containing them for improving the stability. As an alloy system, for example, Ag · Mg (A
g: 0.1 to 50 at%), Al.Li (Li: 0.01)
1212 at%), In · Mg (Mg: 50 to 80 at%),
Al.Ca (Ca: 0.01 to 20 at%) and the like. Note that the electron injection electrode can also be formed by an evaporation method or a sputtering method.

【0119】電子注入電極薄膜の厚さは、電子注入を十
分行える一定以上の厚さとすれば良く、0.5nm以上、
好ましくは1nm以上、より好ましくは3nm以上とすれば
よい。また、その上限値には特に制限はないが、通常膜
厚は3〜500nm程度とすればよい。電子注入電極の上
には、さらに補助電極ないし保護電極を設けてもよい。
The thickness of the electron injecting electrode thin film may be a certain thickness or more for sufficiently injecting electrons.
The thickness is preferably 1 nm or more, more preferably 3 nm or more. The upper limit is not particularly limited, but the thickness may be generally about 3 to 500 nm. An auxiliary electrode or a protection electrode may be further provided on the electron injection electrode.

【0120】蒸着時の圧力は好ましくは1×10-8〜1
×10-5Torrで、蒸発源の加熱温度は、金属材料であれ
ば100〜1400℃、有機材料であれば100〜50
0℃程度が好ましい。
The pressure during the deposition is preferably 1 × 10 −8 to 1
The heating temperature of the evaporation source is 100 to 1400 ° C. for a metal material and 100 to 50 ° C. for an organic material at × 10 −5 Torr.
About 0 ° C. is preferable.

【0121】ホール注入電極は、発光した光を取り出す
ため、透明ないし半透明な電極が好ましい。透明電極と
しては、ITO(錫ドープ酸化インジウム)、IZO
(亜鉛ドープ酸化インジウム)、ZnO、SnO2 、I
23 等が挙げられるが、好ましくはITO(錫ドー
プ酸化インジウム)、IZO(亜鉛ドープ酸化インジウ
ム)が好ましい。ITOは、通常In2 3 とSnOと
を化学量論組成で含有するが、O量は多少これから偏倚
していてもよい。ホール注入電極は、透明性が必要でな
いときは、不透明の公知の金属材質であってもよい。
The hole injection electrode is preferably a transparent or translucent electrode for extracting emitted light. As the transparent electrode, ITO (tin-doped indium oxide), IZO
(Zinc-doped indium oxide), ZnO, SnO 2 , I
Examples include n 2 O 3 , and preferably ITO (tin-doped indium oxide) and IZO (zinc-doped indium oxide). ITO usually contains In 2 O 3 and SnO in a stoichiometric composition, but the amount of O may slightly deviate from this. When transparency is not required, the hole injection electrode may be made of a known opaque metal material.

【0122】ホール注入電極は、発光波長帯域、通常3
50〜800nm、特に各発光光に対する光透過率が80
%以上、特に90%以上であることが好ましい。発光光
は、通常、ホール注入電極を通って取り出されるため、
その透過率が低くなると、発光層からの発光自体が減衰
され、発光素子として必要な輝度が得られなくなる傾向
がある。ただし、一方のみから発光光を取り出すときに
は、取り出し側と反対側の発光光に対し80%以上であ
ればよい。両側から取り出すときには、各発光光に対し
80%以上であればよい。
The hole injection electrode has an emission wavelength band, usually 3
50-800 nm, especially 80% light transmittance for each emitted light.
%, Particularly preferably 90% or more. The emitted light is usually extracted through the hole injection electrode,
When the transmittance is low, the light emission itself from the light emitting layer is attenuated, and the luminance required for the light emitting element tends not to be obtained. However, when the emitted light is extracted from only one side, it is sufficient that the emitted light is at least 80% of the emitted light on the side opposite to the extraction side. When taking out light from both sides, it is sufficient that the light emission is 80% or more for each emitted light.

【0123】ホール注入電極の厚さは、ホール注入を十
分行える一定以上の厚さを有すれば良く、好ましくは5
0〜500nm、さらには50〜300nmの範囲が好まし
い。また、その上限は特に制限はないが、あまり厚いと
剥離などの心配が生じる。厚さが薄すぎると、製造時の
膜強度やホール輸送能力、抵抗値の点で問題がある。
The thickness of the hole injecting electrode may be a certain value or more so as to sufficiently inject holes, and is preferably 5 or more.
The range is preferably from 0 to 500 nm, more preferably from 50 to 300 nm. The upper limit is not particularly limited, but if the thickness is too large, there is a fear of peeling or the like. If the thickness is too small, there is a problem in the film strength at the time of manufacturing, the hole transport ability, and the resistance value.

【0124】このホール注入電極層は蒸着法等によって
も形成できるが、好ましくはスパッタ法、特にパルスD
Cスパッタ法により形成することが好ましい。
This hole injection electrode layer can be formed by a vapor deposition method or the like.
It is preferable to form by the C sputtering method.

【0125】有機EL構造体各層を成膜した後に、Si
X 等の無機材料、テフロン、塩素を含むフッ化炭素重
合体等の有機材料等を用いた保護膜を形成してもよい。
保護膜は透明でも不透明であってもよく、保護膜の厚さ
は50〜1200nm程度とする。保護膜は、前記の反応
性スパッタ法の他に、一般的なスパッタ法、蒸着法、P
ECVD法等により形成すればよい。
After forming each layer of the organic EL structure, the Si
Inorganic materials O X such as Teflon, a protective film may be formed using an organic material such as fluorocarbon polymers containing chlorine.
The protective film may be transparent or opaque, and the thickness of the protective film is about 50 to 1200 nm. The protective film can be formed by a general sputtering method, a vapor deposition method,
It may be formed by an ECVD method or the like.

【0126】基板に色フィルター膜や蛍光性物質を含む
色変換膜、あるいは誘電体反射膜を用いて発光色をコン
トロールしてもよい。
The light emission color may be controlled by using a color filter film, a color conversion film containing a fluorescent substance, or a dielectric reflection film on the substrate.

【0127】有機EL構造体は、直流駆動やパルス駆動
等され、交流駆動することもできる。印加電圧は、通
常、2〜30V 程度である。
The organic EL structure is driven by a direct current or a pulse, and can be driven by an alternating current. The applied voltage is usually about 2 to 30V.

【0128】本発明の有機EL素子モジュールは、ディ
スプレイとしての応用の他、例えばメモり読み出し/書
き込み等に利用される光ピックアップ、光通信の伝送路
中における中継装置、フォトカプラ等、種々の光応用デ
バイスに用いることができる。
The organic EL element module of the present invention can be used not only as a display, but also as various optical devices such as an optical pickup used for memory read / write, a relay device in an optical communication transmission line, and a photocoupler. It can be used for application devices.

【0129】[0129]

【実施例】ガラス基板上に、ITO透明電極(ホール注
入電極)をスパッタ法にて約100nm成膜した。得られ
たITO薄膜を、フォトリソグラフィーの手法によりパ
ターニング、エッチング処理し、240×320ドット
(画素)のパターンを構成するホール注入電極層を形成
した。
EXAMPLE An ITO transparent electrode (hole injection electrode) was formed on a glass substrate by sputtering to a thickness of about 100 nm. The obtained ITO thin film was patterned and etched by a photolithographic technique to form a hole injection electrode layer constituting a 240 × 320 dot (pixel) pattern.

【0130】ITO透明電極、電極用配線等が形成され
ている基板の表面をUV/O3 洗浄した後、蒸着用のマ
スクを装着し、真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し
て、槽内を減圧した。
After the surface of the substrate on which the ITO transparent electrode, electrode wiring, and the like are formed is subjected to UV / O 3 cleaning, a mask for vapor deposition is mounted, and the substrate is fixed to a substrate holder of a vacuum vapor deposition apparatus. The pressure was reduced.

【0131】ポリチオフェンを10nmの厚さに蒸着し、
ホール注入層とし、次いで減圧状態を保ったまま、N,
N’−ジフェニル−N,N’−m−トリル−4,4’−
ジアミノ−1,1’−ビフェニル(以下、TPD)を3
5nmの厚さに蒸着し、ホール輸送層とした。さらに、減
圧を保ったまま、トリス(8−キノリノラト)アルミニ
ウム(以下、Alq3 )を50nmの厚さに蒸着して、電
子注入輸送・発光層とした。
Evaporating polythiophene to a thickness of 10 nm,
A hole injecting layer was formed, and then N,
N'-diphenyl-N, N'-m-tolyl-4,4'-
Diamino-1,1'-biphenyl (hereinafter referred to as TPD)
Evaporation was performed to a thickness of 5 nm to form a hole transport layer. Further, while maintaining the reduced pressure, tris (8-quinolinolato) aluminum (hereinafter, Alq3) was deposited to a thickness of 50 nm to form an electron injection transport / light emitting layer.

【0132】次いで減圧を保ったまま、このEL素子構
造体基板を真空蒸着装置からスパッタ装置に移し、スパ
ッタ圧力1.0PaにてAlLi電子注入電極(Li濃
度:7.2at%)を50nmの厚さに成膜した。その際ス
パッタガスにはArを用い、投入電力は100W、ター
ゲットの大きさは4インチ径、基板とターゲットの距離
は90mmとした。さらに、減圧を保ったまま、このEL
素子基板を他のスパッタ装置に移し、Alターゲットを
用いたDCスパッタ法により、Al保護電極を200nm
の厚さに成膜した。前記マスクは、全ての成膜が終了し
た時点で取り外した。
Then, while maintaining the reduced pressure, the EL element structure substrate was transferred from the vacuum evaporation apparatus to the sputtering apparatus, and the AlLi electron injection electrode (Li concentration: 7.2 at%) was formed at a sputtering pressure of 1.0 Pa to a thickness of 50 nm. Then, a film was formed. At that time, Ar was used as a sputtering gas, the input power was 100 W, the size of the target was 4 inches in diameter, and the distance between the substrate and the target was 90 mm. Further, while maintaining the reduced pressure, the EL
The element substrate was transferred to another sputtering apparatus, and the Al protective electrode was set to 200 nm by DC sputtering using an Al target.
Was formed to a thickness of The mask was removed when all film formation was completed.

【0133】最後にガラス封止板を貼り合わせ、有機E
Lディスプレイとした。このとき、内部封止体のみとし
たもの(比較サンプル1)、内部封止体のみとし、その
内部に吸湿剤(ゼオライト)を配置したもの(比較サン
プル2)、単に内部封止体と外部封止体の2重封止とし
たもの(サンプル1)、2重封止の内部封止体の内部に
のみ吸湿剤を配置したもの(サンプル2)、2重封止の
外部封止体の内部にのみ吸湿剤を配置したもの(サンプ
ル3)、2重封止の内部封止体および外部封止体の内
部、双方に吸湿剤を配置したもの(サンプル4)をそれ
ぞれ作成した。
Finally, a glass sealing plate was attached, and organic E
L display. At this time, one having only the inner sealed body (Comparative Sample 1), one having only the inner sealed body and having a moisture absorbent (zeolite) disposed therein (Comparative Sample 2), and simply having the inner sealed body and the outer sealed body Stopper with double sealing (Sample 1), with a hygroscopic agent disposed only inside the double sealing inner sealing body (Sample 2), Inside of double sealing outer sealing body (Sample 3), in which the moisture absorbent was disposed both inside and inside the double-sealed inner sealed body and the outer sealed body (Sample 4).

【0134】得られた各有機EL素子を、温度60℃、
湿度95%の加速条件下、10mA/cm2の電流密度で連続
駆動させ、各画素の非発光面積率を観察し、30%を超
えたものを不良と判定して評価した。
Each of the obtained organic EL devices was heated at a temperature of 60 ° C.
Continuous driving was performed at a current density of 10 mA / cm 2 under an acceleration condition of 95% humidity, the non-light-emitting area ratio of each pixel was observed, and those exceeding 30% were judged to be defective and evaluated.

【0135】その結果、比較サンプル1は500時間未
満で、比較サンプル2は500時間未満で全ての画素が
不良となった。一方、本発明のサンプルは、サンプル1
が500時間以上、サンプル2が1000時間以上、サ
ンプル3が1000時間以上、サンプル5が2000時
間以上経過しても不良画素を確認することはできなかっ
た。
As a result, all the pixels of Comparative Sample 1 were defective in less than 500 hours, and Comparative Sample 2 was defective in less than 500 hours. On the other hand, the sample of the present invention is sample 1
No defective pixel could be confirmed even after 500 hours or more, Sample 2 had passed 1000 hours or more, Sample 3 had passed 1000 hours or more, and Sample 5 had passed 2000 hours or more.

【0136】[0136]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、十分な封
止効果を維持し、素子の劣化を抑制して素子寿命を延ば
すことが可能な有機EL素子モジュールを実現すること
ができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to realize an organic EL device module capable of maintaining a sufficient sealing effect, suppressing deterioration of the device and extending the life of the device.

【0137】また、駆動用電気回路素子ないしIC等が
COG実装、CSP実装される基板の多層化構造を可能
とし、配線の引き回しが容易で、入出力信号、電源の接
続等を分散することなくコンパクトに集約可能な有機E
L素子モジュールを実現することができる。
Further, a multi-layer structure of a substrate on which the driving electric circuit elements or ICs are mounted by COG and CSP is enabled, wiring is easy, and input / output signals, connection of power supply, etc. are not dispersed. Organic E that can be compactly integrated
An L element module can be realized.

【0138】また、特にフェーズダウン方式を用いた場
合などにおいても有機EL素子により発生するノイズ等
の影響を受けにくい有機EL素子モジュールを実現する
ことができる。
In addition, it is possible to realize an organic EL element module which is hardly affected by noise or the like generated by the organic EL element even when the phase down method is used.

【0139】また、駆動用電気回路ないしIC等により
発生する熱の影響を受け難く、素子の寿命低下等を防止
可能な有機EL素子モジュールを実現することができ
る。
Further, it is possible to realize an organic EL element module which is hardly affected by heat generated by a driving electric circuit or an IC and can prevent a reduction in the life of the element.

【0140】また、モジュール化した場合に制御回路、
駆動回路の回路素子の交換を容易にし、製品の不良率の
少ない有機EL素子モジュールを実現することができ
る。
Further, when the module is modularized, a control circuit,
It is possible to easily replace the circuit element of the drive circuit and to realize an organic EL element module with a low product defect rate.

【0141】また、封止用接着剤の濡れ性等の問題が生
じ難く、接着力の低下を防止し、気密性を長期間維持で
きる有機EL素子モジュールを実現することができる。
Further, it is possible to realize an organic EL element module in which a problem such as wettability of the sealing adhesive does not easily occur, a decrease in adhesive strength can be prevented, and airtightness can be maintained for a long period of time.

【0142】また、ある程度の機械的強度を有し、取り
扱いが容易な有機EL素子モジュールを実現することが
できる。
Further, an organic EL element module having a certain level of mechanical strength and easy to handle can be realized.

【0143】また、光による影響を受け難く、誤動作を
防止しうる有機EL素子モジュールを実現することがで
きる。
Further, it is possible to realize an organic EL element module which is hardly affected by light and can prevent malfunction.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の構成例を示した概略断面図であ
る。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a first configuration example of the present invention.

【図2】本発明の第2の構成例を示した概略断面図であ
る。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a second configuration example of the present invention.

【図3】本発明の第3の構成例を示した概略断面図であ
る。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing a third configuration example of the present invention.

【図4】本発明の第4の構成例を示した概略断面図であ
る。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing a fourth configuration example of the present invention.

【図5】本発明の第5の構成例を示した概略断面図であ
る。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing a fifth configuration example of the present invention.

【図6】本発明の第6の構成例を示した概略断面図であ
る。
FIG. 6 is a schematic sectional view showing a sixth configuration example of the present invention.

【図7】本発明の有機EL構造体を駆動するための回路
の構成例を示したブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram showing a configuration example of a circuit for driving the organic EL structure of the present invention.

【図8】従来の有機EL素子を用いた表示モジュールの
構成例を示した概略断面図である。
FIG. 8 is a schematic sectional view showing a configuration example of a display module using a conventional organic EL element.

【図9】CSG実装された液晶表示モジュールの構成例
を示した概略断面図である。
FIG. 9 is a schematic sectional view showing a configuration example of a liquid crystal display module mounted with CSG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 3 内部封止体 4 封止用接着剤 5 吸湿剤 6 外部封止体 7 封止用接着剤 8 吸湿剤 9 接続手段 11 下部電極 12 有機層 13 上部電極 21 回路素子 22 回路パターン 23 電磁シールド 26 熱伝導部材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 3 Internal sealing body 4 Sealing adhesive 5 Hygroscopic agent 6 External sealing body 7 Sealing adhesive 8 Hygroscopic agent 9 Connecting means 11 Lower electrode 12 Organic layer 13 Upper electrode 21 Circuit element 22 Circuit pattern 23 Electromagnetic Shield 26 Heat conduction member

フロントページの続き (72)発明者 鈴木 満成 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 斎藤 義広 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 中川 士郎 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 鬼塚 理 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 山本 洋 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 田中 俊 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB00 AB05 AB06 AB13 AB14 AB18 BA06 BB00 BB01 BB05 BB06 CA01 CC05 DA00 DA01 DB03 EB00 FA01 GA00 Continued on the front page (72) Inventor Mitsunari Suzuki 1-1-13 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDK Corporation (72) Inventor Yoshihiro Saito 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDK Corporation (72) Inventor Shiro Nakagawa 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDK Corporation (72) Inventor Osamu Onitsuka 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDK Corporation (72) Inventor Hiroshi Yamamoto 1-1-13 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDK Corporation (72) Inventor Shun 1-13-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside FTD term (reference) 3K007 AB00 AB05 AB06 AB13 AB14 AB18 BA06 BB00 BB01 BB05 BB06 CA01 CC05 DA00 DA01 DB03 EB00 FA01 GA00

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に形成された一対の電極間に、少
なくとも発光機能に関与する1種以上の有機層を有する
有機EL構造体と、 前記有機EL構造体を封止する封止手段とを有し、 前記封止手段は、有機EL構造体に最も近い位置に配置
される内部封止体と、 この内部封止体より外側に配置される1つまたは2つ以
上の外部封止体とを有する有機EL素子モジュール。
An organic EL structure having at least one or more organic layers involved in a light emitting function between a pair of electrodes formed on a substrate, and a sealing unit for sealing the organic EL structure. Wherein the sealing means comprises: an internal sealing member disposed at a position closest to the organic EL structure; and one or more external sealing members disposed outside the internal sealing member. An organic EL element module comprising:
【請求項2】 前記内部封止体、外部封止体、およびこ
れらの間にある基板上のいずれかには、有機EL構造体
を制御・駆動する回路が形成されている請求項1の有機
EL素子モジュール。
2. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein a circuit for controlling and driving an organic EL structure is formed on one of the inner sealing body, the outer sealing body, and the substrate between them. EL element module.
【請求項3】 前記封止手段と基板との間には接続手段
を有し、この接続手段は封止手段内部の回路と外部の回
路とを電気的に接続し、かつ封止手段内部の気密性を保
持する請求項1または2の有機EL素子モジュール。
3. A connecting means between the sealing means and the substrate, the connecting means electrically connecting a circuit inside the sealing means and an external circuit, and a connection inside the sealing means. 3. The organic EL element module according to claim 1, wherein the module maintains airtightness.
【請求項4】 前記封止手段内部には吸湿剤を有する請
求項1〜3のいずれかの有機EL素子モジュール。
4. The organic EL element module according to claim 1, further comprising a moisture absorbent inside said sealing means.
【請求項5】 前記封止手段内部には電磁シールドを有
する請求項1〜4のいずれかの有機EL素子モジュー
ル。
5. The organic EL element module according to claim 1, further comprising an electromagnetic shield inside said sealing means.
【請求項6】 前記外部封止体、またはそのいずれか
は、前記内部封止体よりも熱伝導率の高い請求項1〜5
のいずれかの有機EL素子モジュール。
6. The external sealing body, or any one thereof, has a higher thermal conductivity than the internal sealing body.
The organic EL element module according to any one of the above.
【請求項7】 前記外部封止体は遮光性を有するか、ま
たは封止手段内部に遮光性を有する部材が配置されてい
る請求項1〜6のいずれかの有機EL素子モジュール。
7. The organic EL element module according to claim 1, wherein the external sealing body has a light-shielding property, or a member having a light-shielding property is disposed inside the sealing means.
【請求項8】 前記外部封止体、またはそのいずれか
は、金属材料により形成されている請求項1〜7のいず
れかの有機EL素子モジュール。
8. The organic EL element module according to claim 1, wherein the external sealing body or any one thereof is formed of a metal material.
【請求項9】 全体の厚みが10mm以下である請求項1
〜8のいずれかの有機EL素子モジュール。
9. The method according to claim 1, wherein the total thickness is 10 mm or less.
An organic EL device module according to any one of items 1 to 8,
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