JP2000038517A - キサンテン―２，７―ジオ―ル化合物を含有する有機高分子材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】酸化、熱、光により劣化を起こす高分子材料に
対して、加工時および使用時に経時的な熱履歴を受けて
も、物性変化などの品質低下を起こし難い高分子材料安
定化組成物が求められていた。 【解決手段】高分子材料に対して、１，３，４，５，
６，８−ヘキサメチル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジ
オールなどの一般式（１） 【化１】 （式中の記号は明細書記載の通り。）により示される化
合物（以下、化合物Ａという。）を、有機高分子材料に
単独で配合してなる安定化された有機高分子材料組成
物、および化合物Ａと、フェノール系酸化防止剤および
／またはリン系酸化防止剤とを、有機高分子材料に配合
してなる安定化された高分子材料組成物は標記の課題を
解決することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は安定化された有機高
分子材料に関する。更に詳しくは、酸化、熱、光により
劣化を起こす有機高分子材料に対して、加工時および使
用時に経時的な熱履歴を受けても、物性変化などの品質
低下を起こし難い安定化された有機高分子材料に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】天然高分子、合成高分子よりなる高分子
材料は酸化、熱、光などにより劣化を受けて有用性を減
じるので、種々の酸化防止剤や安定剤が工夫されて、こ
れら有機高分子材料に添加されている。

【０００３】本発明におけるキサンテン−２，７−ジオ
ール化合物またはその誘導体（以下、キサンテン−２，
７−ジオール系化合物ともいう。）は、皮膚の劣化を防
止する外用剤やカラー写真感光材料の色素画像の退色お
よび非発色部の変色防止剤として公知であり、特開平７
−２１５８３３号公報、特開平１−２０４１５号公報、
日本化学会誌（Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐ
ｎ．）第６２巻（１９８９年）第３６０３〜３６０８頁
（１９８９年）、同誌第６６巻（１９９３年）第２４３
０〜２４３１頁、同誌第６７巻（１９９４年）第２３３
３〜２３３５頁などにその効果が記載されている。

【０００４】また、Ｂ群（以下に記載）に記載されたフ
ェノール系化合物は有機高分子材料の一次酸化防止剤と
して使用されており、Ｃ群（以下に記載）に記載された
リン系化合物は有機高分子材料の加工時の安定化剤とし
て、フェノール化合物と併用する二次酸化防止剤として
して使用されている。

【０００５】また、硫黄系酸化防止剤は有機高分子材料
の高温での使用時における熱安定剤として、フェノール
化合物と併用する二次酸化防止剤として広く使用されて
おり、また、ヒンダードアミン系化合物やベンゾトリア
ゾール系化合物などは有機高分子材料の使用時における
紫外線に対する光安定剤として使用されている。

【０００６】また、特開平７−２３３１６０号公報の段
落番号０２２６に記載された実施例１４に３−（３，４
−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第３級−３Ｈ−ベン
ゾフラン−２−オン化合物（同出願では、化合物１０３
と表記）が合成樹脂の加工安定性相乗化剤として記載さ
れている。本化合物の少量を既存酸化防止剤に配合する
ことにより既存酸化防止剤の加工安定性を増強すること
ができることが記載されている。

【０００７】最近は、高速成型のための高温化やエンジ
ニヤリングプラスチック等とのアロイによる高温成型な
どのため、更に耐熱性に加えて、加工安定性に対して効
果のある優れた酸化防止剤の要求が高まってきており、
これら公知の安定化組成物はその目的のためにはいまだ
十分に満足されるものではない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】高速成型のための高温
化やエンジニヤリングプラスチック等とのアロイによる
高温成型などにも対応できる、耐熱性に加えて、特に、
加工安定性に対して少量で効果のある優れた酸化防止剤
の要求に答える方策が求められている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる状
況に鑑み、（１）：有機高分子にＡ群の化合物の１種ま
たは２種以上を配合してなる安定化された有機高分子材
料、

【００１０】（２）：有機高分子に、Ａ群の化合物の１
種または２種以上と、下記Ｂ群の中から選ばれたフェノ
ール系酸化防止剤および／または下記Ｃ群の中から選ば
れたリン系酸化防止剤とを、配合してなる安定化された
有機高分子材料を用いることにより、上記課題を解決
し、本発明を完成するに至った。

【００１１】Ａ群の化合物とは、一般式（１）

【化１１】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、水素原子、炭素数１
〜４の直鎖または分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、
およびＲ³は互いに同じであっても異なってよい。Ｒ
⁴は、水素原子、直鎖または分岐鎖もしくは環状の炭素
数１〜１８のアルキル基、または置換または未置換のア
リール基を示す。）により表される化合物である。

【００１２】Ｂ群とは以下に示した化合物である。ｎ−
オクタデシル ３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３
級ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス〔３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシメチル〕メタン、トリス（３，５−
ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌ
レート、および１，３，５−トリメチル−２，４，６−
トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼン。

【００１３】Ｃ群とは以下に示した化合物である。トリ
ス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイト、
テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，
４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，
４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’
−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ第３
級ブチル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェニル）ペン
タエリスリトールジホスファイト、２，２’−メチレン
ビス（４，６−ジ第３級ブチルフェニル）−２−エチル
ヘキシルホスファイト、ビス［２−メチル−４，６−ビ
ス（１，１−ジメチルエチル）フェニル］エチルホスフ
ァイト、および２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル
トリス（３，３’，５，５’−テトラ−第３級ブチル−
１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスファイ
ト］。

【００１４】また、（３）：有機高分子材料が、合成樹
脂である（１）または（２）記載の安定化された有機高
分子材料、

【００１５】（４）：有機高分子材料が、ポリオレフィ
ン系樹脂である（１）または（２）記載の安定化された
有機高分子材料、

【００１６】（５）：有機高分子材料が、ポリエチレン
系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂と
ポリプロピレン系樹脂との混和物または相溶性重合体、
ポリエチレン系樹脂および／またはポリプロピレン系樹
脂を含む相溶性重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、またはエチレン−プロピレン共重合体である（１）
または（２）記載の安定化された有機高分子材料、

【００１７】（６）：Ａ群の化合物の中から選ばれるキ
サンテン−２，７−ジオール系化合物の配合量が、有機
高分子材料１００重量部に対し、０．０００５〜０．５
重量部の範囲である（１）、（２）、（３）、（４）、
または（５）のいずれかに記載の安定化された有機高分
子材料、

【００１８】（７）：Ａ群の化合物の中から選ばれるキ
サンテン−２，７−ジオール系化合物の配合量と、上記
Ｂ群の中から選ばれたフェノール系酸化防止剤の配合量
と、上記Ｃ群の中から選ばれたリン系酸化防止剤の配合
量との和が、有機高分子材料１００重量部に対し、０．
０１〜１０重量部の範囲である（１）、（２）、
（３）、（４）、（５）、または（６）のいずれかに記
載の安定化された有機高分子材料、

【００１９】（８）：Ａ群の化合物の中から選ばれるキ
サンテン−２，７−ジオール系化合物と、上記Ｂ群の中
から選ばれたフェノール系酸化防止剤および／または上
記Ｃ群の中から選ばれたリン系酸化防止剤と、さらに他
の添加剤を含有する（１）、（２）、（３）、（４）、
（５）、（６）、または（７）のいずれかに記載の安定
化された有機高分子材料、

【００２０】（９）：他の添加剤が、硫黄系酸化防止剤
および／または光安定剤である（８）記載の安定化され
た有機高分子材料にも関する。

【００２１】さらに、本発明は配合する酸化防止剤の総
量に対する、Ａ群の化合物の中から選ばれるキサンテン
−２,７−ジオール系化合物の割合が特定の範囲である
場合にも安定化効果に優れた有機高分子材料用安定剤組
成物を得ることができる。

【００２２】すなわち、（１０）：Ａ群の化合物の中か
ら選ばれるキサンテン−２，７−ジオール系化合物の１
種または２種以上と、フェノール系酸化防止剤および／
またはリン系酸化防止剤を含有し、これらの総量に対し
て、Ａ群の化合物の中から選ばれるキサンテン−２，７
−ジオール系化合物化合物を１〜２０重量％、フェノー
ル系酸化防止剤および／またはリン系酸化防止剤を９９
〜８０重量％の割合で含有することを特徴とする有機高
分子材料用安定剤組成物、

【００２３】（１１）：Ａ群の化合物の中から選ばれる
キサンテン−２，７−ジオール系化合物の１種または２
種以上と、フェノール系酸化防止剤と、リン系酸化防止
剤とを含有し、これらの総量に対して、Ａ群の化合物の
中から選ばれるキサンテン−２,７−ジオール系化合物
を１〜２０重量％、フェノール系酸化防止剤およびリン
系酸化防止剤との総量を９９〜８０重量％の割合で含有
することを特徴とする有機高分子材料用安定剤組成物、

【００２４】（１２）：フェノール系酸化防止剤が上記
Ｂ群からなる群より選ばれた少なくとも１種であり、リ
ン系酸化防止剤が上記Ｃ群からなる群より選ばれた少な
くとも１種である（１０）または（１１）に記載された
有機高分子材料用安定剤組成物、

【００２５】（１３）：有機高分子に、（１０）ないし
（１２）のいずれか１項に記載の有機高分子材料用安定
剤組成物を配合してなることを特徴とする有機高分子材
料、

【００２６】（１４）：有機高分子材料が、合成樹脂で
ある（１３）記載の安定化された有機高分子材料、

【００２７】（１５）：有機高分子材料が、ポリオレフ
ィン系樹脂である（１３）記載の安定化された有機高分
子材料、

【００２８】（１６）：有機高分子材料が、ポリエチレ
ン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂
とポリプロピレン系樹脂との混和物または相溶性重合
体、ポリエチレン系樹脂および／またはポリプロピレン
系樹脂を含む相溶性重合体、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、またはエチレン−プロピレン共重合体である（１
３）記載の安定化された有機高分子材料に関する。

【００２９】さらに、（１７）：Ａ群の化合物の中から
選ばれるキサンテン−２，７−ジオール系化合物を含有
する有機高分子材料用安定剤組成物にも関する。

【００３０】

【発明の実施の形態】本発明の安定化された有機高分子
材料の特徴は、Ａ群の化合物の中から選ばれたキサンテ
ン−２，７−ジオール系化合物を有機高分子に配合する
ことにより加工のために繰り返し熱履歴を与えても加工
安定性の極めて優れた有機高分子材料を得ることにあ
る。また、Ａ群の化合物の中から選ばれたキサンテン−
２，７−ジオール系化合物をごく少量を汎用酸化防止剤
と併用するすることによって、すなわち、汎用フェノー
ル系酸化防止剤および／または汎用リン系酸化防止剤
に、当該キサンテン−２，７−ジオール系化合物を、汎
用フェノール系酸化防止剤と汎用リン系酸化防止剤の添
加量の総量の数分の１〜数１０分の１である少量併用さ
せることによって、耐熱効果だけではなく、着色性も少
なく、加工安定性も飛躍的に向上することができ、汎用
酸化防止剤の効力が顕著に強化されることも大きな特徴
である。

【００３１】一般式（１）に示したＲ¹、Ｒ²、およびＲ
³としては、水素原子、炭素数１〜４の直鎖または分岐
鎖のアルキル基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は互いに
同じあっても異なってもよい。

【００３２】一般式（１）に示したＲ¹、Ｒ²、およびＲ
³としての具体例としては、水素原子、メチル基、エチ
ル基、イソプロピル基、プロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、第２級ブチル基、第３級ブチル基が挙げられ、
さらに、水素原子、メチル基、第３級ブチル基が好まし
く、このなかでも、メチル基や水素原子が特に好まし
い。

【００３３】一般式（１）に示したＲ⁴は、水素原子、
直鎖または分岐鎖もしくは環状の炭素数１〜１８のアル
キル基、または置換または未置換のアリール基を示す。

【００３４】一般式（１）に示したＲ⁴の具体例として
は、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、第２級ブチル
基、第３級ブチル基、ペプチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、
オクタデシル基、フェニル基、４−メチルフェニル基、
シクロヘキシル基などが挙げられ、この中でも、水素原
子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、プロピル
基、フェニル基、シクロヘキシル基などが好ましく、な
かでも水素原子が好ましい。

【００３５】Ａ群の化合物とは、具体的には以下に示し
た化合物が挙げられるが、これに限るものではない。９
−メチル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール、９−
エチル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール、９−イ
ソプロピル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール、９
−フェニル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール、
３，４，５，６−テトラメチル−９Ｈ−キサンテン−
２，７−ジオール、３，４，５，６，９−ペンタメチル
−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール、３，４，５，
６−テトラメチル−９−エチル−９Ｈ−キサンテン−
２，７−ジオール、１，３，４，５，６，８−ヘキサメ
チル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール、３，６−
ジ第３級ブチル−９−メチル−９Ｈ−キサンテン−２，
７−ジオール、３，６−ジ第３級ブチル−９−エチル−
９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール、３，６−ジ第３
級ブチル−９−シクロヘキシル−９Ｈ−キサンテン−
２，７−ジオール、１，３，４，５，６，８，９−ヘプ
タメチル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール、１，
３，４，５，６，８−ヘキサメチル−９Ｈ−キサンテン
−２，７−ジオール、１，３，４，５，６，８−ヘキサ
メチル−９−エチル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオ
ール、１，３，４，５，６，８−ヘキサメチル−９−イ
ソプロピル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール、
１，３，４，５，６，８−ヘキサメチル−９−フェニル
−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール

【００３６】特に、１，３，４，５，６，８−ヘキサメ
チル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール、１，３，
４，５，６，８−ヘキサメチル−９−イソプロピル−９
Ｈ−キサンテン−２，７−ジオールが好ましく、なかで
も１，３，４，５，６，８−ヘキサメチル−９Ｈ−キサ
ンテン−２，７−ジオールが特に好ましい。

【００３７】本発明組成物により安定化される有機高分
子材料には、合成有機高分子、天然有機高分子が挙げら
れる。

【００３８】合成有機高分子としては、熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂などの樹脂が挙げられる。

【００３９】熱可塑性樹脂としては、例えば、オレフィ
ン系樹脂、含ハロゲン系重合体、スチレン系樹脂、アク
リル系樹脂、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリアミド樹
脂、芳香族ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹
脂、ポリエチレンオキシド樹脂、ポリフェニレンエーテ
ル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリウレタン樹脂、石油樹
脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ビニルアセタール樹脂、繊維
素（セルロース）系樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、
ポリフェニレンスルフィッド樹脂、ポリエーテルケトン
樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリオキシベンゾイル
樹脂、ポリイミド樹脂、ポリマレイミド樹脂、ポリアミ
ドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、フッ素樹脂、アイ
オノマー、熱可塑性エラストマーなどが挙げられ、これ
らの混合物を使用することもできる。

【００４０】前記オレフィン系樹脂としては、例えば、
低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、中密
度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超高分子量ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１、ポリペン
テン、ポリ−３−メチルブチレンなどの炭素数２〜８の
α−オレフィン単独重合体；エチレン・プロピレンラン
ダム共重合体、エチレン・プロピレンブロック共重合
体、エチレン・ブテン−１ランダム共重合体、プロピレ
ン・エチレン・ブテン−１ランダム共重合体などのα−
オレフィン共重合体；無水マレイン酸変性ポリプロピレ
ン、エチレン・酢酸ビニル共重合体などのα−オレフィ
ンと他の単量体との共重合体などが挙げられ、これらの
２種類以上、または、これらと他の相溶性重合体との混
合物を使用することもできる。

【００４１】これらのオレフィン系樹脂は重合後、触媒
残渣を除去する工程を入れた僅かに精製処理を行ったも
のや、比較的高度に精製したもののほかに、高活性触媒
を用い、触媒除去工程を経ていないか、または簡略化し
て得られる触媒残渣を含有するオレフィン系樹脂、特
に、ハロゲン含有マグネシウム化合物を触媒担体とする
チーグラー型触媒やクロム系触媒を用いて得られ、未だ
触媒残留物除去工程を経ていない結晶性オレフィン系樹
脂であってもよい（特公昭６２−４４１８号公報、特公
平３−５６２４５号公報、米国特許４１１５６３９号明
細書参照）。さらに、メタロセン系シングルサイト触媒
によって得られる分子量分布の非常に狭いオレフィン系
樹脂であってもよい（ジャーナル・オブ・ポリマー・サ
イエンス．ポリマー・ケミストリー・エディション（Ｊ
ｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃ
ｅ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｅｄｉｔｉ
ｏｎ）第２３巻，２１５１頁（１９８５年））。

【００４２】前記含ハロゲン系重合体としては、例え
ば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、ポリフッ化ビニリデン、塩化ビニル・アクリル
酸アルキルエステル共重合体、塩素化ポリエチレンなど
が挙げられる。前記スチレン系樹脂としては、例えば、
ポリスチレン、耐衝撃性ポリスチレン、スチレン・アク
リロニトリル共重合体、スチレン・ＭＭＡ共重合体、Ａ
ＢＳ樹脂、ＡＥＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、ＡＡＳ樹脂、ＥＥ
Ｓ樹脂など、およびこれらの混合物などが挙げられる。

【００４３】前記アクリル系樹脂としては、例えば、ポ
リアクリレート、ポリメタクリレートなどが挙げられ
る。 前記熱可塑性ポリエステル樹脂としては、例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレートなどが挙げられる。前記ポリアミド樹脂として
は、例えば、ナイロン４、ナイロン６、ナイロン４・
６、ナイロン６・６、ナイロン６・１０、ナイロン７、
ナイロン８、ナイロン１２、ナイロン６・１２、ナイロ
ン１１・１２、アラミドなど、およびこれらの混合物な
どが挙げられる。

【００４４】また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリ
エステル樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹
脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、
ジアリルフタレート樹脂、ポリウレタン樹脂、フラン樹
脂などが挙げられる。

【００４５】また、天然有機高分子としては、天然ゴ
ム、蛋白質、セルロースなどの誘導体、鉱油、動植物
油、ロウ、油脂などを挙げることができる。

【００４６】本発明の安定化された有機高分子材料の高
分子材料としては、特にポリオレフィン系樹脂、なかで
もα−オレフィン単独重合体またはα−オレフィン共重
合体に配合した場合、優れた酸化防止効果を示す。α−
オレフィンとして最も好適であるのはプロピレンであ
る。

【００４７】本発明に用いられるＡ群に記載されたキサ
ンテン−２，７−ジオール系化合物類は、公知の方法に
よって製造することができる。

【００４８】例えば、１，３，４，５，６，８−ヘキサ
メチル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオールは、２，
３，５−トリメチルハイドロキノンを、メタノール１０
０ｇに溶解して、酸性下で、攪拌しながらホルマリンを
滴下し、１０時間加熱還流することにより製造できる。
その他のＡ群の化合物も同様の方法によって製造でき
る。

【００４９】一般式（１）により表されるＡ群に記載さ
れたキサンテン−２，７−ジオール系化合物と、フェノ
ール系酸化防止剤またはＢ群の化合物、リン系酸化防止
剤またはＣ群の化合物の総量に対して、一般式（１）に
より表されるＡ群に記載されたキサンテン−２，７−ジ
オール系化合物の割合が、０．１〜３０重量％、好まし
くは１〜２０重量％、さらに好ましくは１〜１７重量
％、その中でも好ましくは２〜８重量％である。

【００５０】本発明の安定化された有機高分子材料にＢ
群のフェノール系化合物としてＢ群に記載の化合物のほ
かに、その他のフェノール系酸化防止剤を組み合わせる
ことにより、より安定性に優れた有機高分子材料を得る
ことができる。

【００５１】その他のフェノール系酸化防止剤として、
２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノール、２，
４−ジメチル−６−第３級ブチルフェノール、２，６−
ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシメチルフェノール、
２，６−ジ第３級ブチル−４−エチルフェノール、２，
４，６−トリ第３級ブチルフェノール、ブチル化ヒドロ
キシアニソール、イソオクチル・３−（４−ヒドロキシ
−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピオネート、
ジステアリル・（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第
３級ブチル）ベンジルマロネート、没食子酸プロピル、
没食子酸オクチル、没食子酸ドデシル、トコフェロール
（ビタミンＥ）、２，２，５，７，８−ペンタメチル−
６−ヒドロキシクロマン、２，２’−メチレンビス（４
−メチル−６−第３級ブチルフェノール）、２，２’−
メチレンビス（４−エチル−６−第３級ブチルフェノー
ル）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ第３級ブチ
ルフェノール）、２，２’−ブチリデンビス（４−エチ
ル−６−第３級ブチルフェノール）、４，４’−ブチリ
デンビス（３−メチル−６−第３級ブチルフェノー
ル）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−第３級ブ
チルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−
６−第３級ブチルフェノール）、スチレン化フェノー
ル、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ第３級
ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、ビス
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジルホ
スホン酸エチル）カルシウム、１，１，３−トリス（２
−メチル−４−ヒドロキシ−５−第３級ブチルフェニ
ル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−ト
リス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）ベンゼン、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス［６−（１−メチルシクロヘキシル）−４−メ
チルフェノール］、１，３，５−トリス（４−第３級ブ
チル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イ
ソシアヌル酸、１，３，５−トリス（３，５−ジ第３級
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル酸、ト
リエチレングリコール−ビス［３−（３−第３級ブチル
−４−ヒドロキシ−５− メチルフェニル）プロピオネ
ート］、エチレングリコール−ビス（３，３−ビス（３
−第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチラー
ト）、２−第３級ブチル−６−（３−第３級ブチル−５
−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェ
ニルアクリラート、２，２’−オキザミド−ビス［エチ
ル・３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオネート］、６−（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ第３級ブチルアニリノ）−２，４−ジオクチ
ルチオ−１，３，５−トリアジン、ビス［２−第３級ブ
チル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第３級
ブチル−５−メチルベンジル）フェニル］テレフタレー
ト、３，９−ビス［２−［３−（３−第３級ブチル−４
−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキ
シ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−
テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、３，９−ビ
ス［２−［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチ
ルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ
［５．５］ウンデカン、１，３，５−トリス［３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ］エチルイソシアネート、２，２−
チオジエチレン−ビス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−
［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ペンチルフ
ェニル）エチル］−４，６−ジ第３級ペンチルフェニル
アクリレート、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−
メチルフェノールなどが挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。

【００５２】好ましいその他のフェノール系酸化防止剤
として、２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノー
ル、２，６−ジ第３級ブチル−４−エチルフェノール、
２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−第３級ブチ
ルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル
−６−第３級ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデ
ンビス（３−メチル−６−第３級ブチルフェノール）、
４，４’−チオビス（３−メチル−６−第３級ブチルフ
ェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒ
ドロキシ−５−第３級ブチルフェニル）ブタン、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）イソシアヌル酸、トリエチレングリ
コール−ビス［３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）プロピオネート］、３，９−
ビス［２−［３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１
−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサ
スピロ［５．５］ウンデカン、２，２−チオジエチレン
−ビス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオネート］、２−［１−（２−ヒド
ロキシ−３，５−ジ第３級−ペンチルフェニル）エチ
ル］−４，６−ジ第３級−ペンチルフェニルアクリレー
ト、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−メチルフェ
ノールなどが挙げられる。

【００５３】本発明においてこれらその他のフェノール
系酸化防止剤の１種または２種以上をさらに添加するこ
とにより、有機高分子材料用安定剤として使用すること
ができる。その他のフェノール系酸化防止剤は、有機高
分子材料１００重量部に対し、好ましくはそれぞれ０．
０１〜１０重量部、より好ましくは０．０１〜５重量
部、特に好ましくは０．０１〜１重量部の割合で配合す
るのがよい。

【００５４】本願に記載のフェノール系酸化防止剤と
は、Ｂ群に記載の化合物やその他のフェノール系酸化防
止剤の双方が含まれる。

【００５５】本発明の安定化された有機高分子材料に、
その他のリン系酸化防止剤を組み合わせることにより、
より安定性に優れた有機高分子材料を得ることができ
る。

【００５６】その他のリン系酸化防止剤として、（２，
４，６−トリ第３級ブチルフェニル）−２−ブチル−２
−エチル−１，３−プロパンジオールホスファイト、ジ
ステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ヘキ
サトリデシル１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒ
ドロキシ−５−第３級ブチルフェニル）ブタントリホス
ファイトなどが挙げられる。

【００５７】本発明においてこれらその他のリン系酸化
防止剤の１種または２種以上をさらに添加することによ
り、有機高分子材料用安定剤として使用することができ
る。その他のリン系酸化防止剤は、有機高分子材料１０
０重量部に対し、好ましくはそれぞれ０．０１〜１０重
量部、より好ましくは０．０１〜５重量部、特に好まし
くは０．０１〜１重量部の割合で配合するのがよい。

【００５８】本願に記載のリン系酸化防止剤とは、Ｃ群
に記載の化合物やその他のリン系酸化防止剤の双方が含
まれる。

【００５９】本発明の安定化された有機高分子材料に、
硫黄系酸化防止剤を組み合わせることにより、より安定
性に優れた有機高分子材料を得ることができる。

【００６０】硫黄系酸化防止剤として、特に限定されな
いが、好ましくはジラウリルチオジプロピオネート、ラ
ウリルステアリルチオジプロピオネート、ジミリスチル
チオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネ
ート、ジトリデシルチオジプロピオネート、テトラキス
［（３−ラウリルチオプロピオニルオキシ）メチル］メ
タン、テトラキス［（３−ステアリルチオプロピオニル
オキシ）メチル］メタン、ビス［２−メチル−４−（３
−ｎ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１４）チオプロピオニルオ
キシ）−５−第３級ブチルフェニル］スルフィドなどが
挙げられる。

【００６１】本発明の安定化された有機高分子材料に、
紫外線安定剤や光安定剤を組み合わせることにより、よ
り安定性に優れた有機高分子材料を得ることができる。

【００６２】紫外線吸収剤および光安定剤として、サリ
チル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリ
アゾール系化合物、ベンゾエート系化合物、シアノアク
リレート系化合物、ニッケル系化合物、またはピペリジ
ン系化合物などが挙げられる。

【００６３】紫外線吸収剤として用いることができるサ
リチル酸系化合物としては、フェニルサリチレート、ｐ
−第３級ブチルフェニルサリチレート、ｐ−オクチルフ
ェニルサリチレートなどが挙げられる。

【００６４】紫外線吸収剤として用いることができるベ
ンゾフェノン系化合物として、２，４−ジヒドロキシベ
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキ
シベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチル
オキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−イソオク
チルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデ
シルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オク
タデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、ビス（５
−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトシキフェニ
ル）メタン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スル
ホベンゾフェノン・トリハイドレート、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−ベンゾイルオキシベンゾフェノンなどの化合物
が挙げられる。

【００６５】紫外線吸収剤として用いることができるベ
ンゾトリアゾール系化合物として、２−（２−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第３
級ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級
ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２
−［２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−テトラメ
チルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２
−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジ
ル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、メチル・
３−［３−第３級ブチル−５−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオ
ネートと、ポリエチレングリコールとの縮合物、２−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級−アミルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ
−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−
（２−ヒドロキシ−５−第３級オクチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，
４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−
メチルフェニル］ベンゾトリアゾールなどの化合物が挙
げられる。

【００６６】光安定剤として用いることができるベンゾ
エート系化合物として、ｎ−ヘキサデシル・３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２，４−
ジ第３級ブチルフェニル・３，５−ジ第３級ブチル−４
−ヒドロキシベンゾエートなどの化合物が挙げられる。

【００６７】紫外線吸収剤として用いることができるシ
アノアクリレート系化合物として、エチル・２−シアノ
−３，３−ジフェニルアクリレート、オクチル・２−シ
アノ−３，３−ジフェニルアクリレートなどが挙げられ
る。

【００６８】紫外線吸収剤として用いることができるニ
ッケル系化合物として、２−エチルヘキシルアミン・ニ
ッケル、ジメチルジチオカルバミン酸ニッケル、［２，
２’−チオビス［４−（１，１，３，３−テトラメチル
ブチル）フェノラート］］−ｎ−ブチルアミン・ニッケ
ル、［２，２’−チオビス［４−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）フェノラート］］ニッケルなどの化
合物が挙げられる。

【００６９】光安定剤として用いることができるピペリ
ジン系化合物として、ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチ
ルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピぺリジル）−２−（３，５−ジ第３級ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロ
ネート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピぺリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカル
ボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペン
タメチル−４−ピぺリジル）−１，２，３，４−ブタン
テトラカルボキシレート、ポリ［［６−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）イミノ−ｓ−トリアジン−
２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピぺリジル）イミノ］］、
ポリ［（６−モルホリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジ
イル）［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピぺリ
ジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］（塩化シアヌ
ル／第３級オクチルアミン／１，６−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサ
ン縮合物）、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸縮合物、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチルジアミン
／２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ］−６−ク
ロロ−１，３，５−トリアジン縮合物などの化合物が挙
げられる。

【００７０】紫外線吸収剤および光安定剤として用いる
ことができる好ましい化合物として、２−ヒドロキシ−
４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、２−（２−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−３−第３級ブチル−５−メチル
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２
−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ポリ
［［６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミ
ノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］［（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキ
サメチレン［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）イミノ］］（塩化シアヌル／第３級オクチル
アミン／１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン縮合物）などが挙げ
られる。

【００７１】本発明のＡ群の中から選ばれたキサンテン
−２，７−ジオール系化合物、あるいは、本発明のＡ群
の中から選ばれたキサンテン−２，７−ジオール系化合
物と、Ｂ群の中から選ばれたフェノール系酸化防止剤お
よび／またはＣ群の中から選ばれたリン系酸化防止剤を
配合された、さらに、その他のフェノール系酸化防止
剤、その他のリン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、紫
外線吸収剤、または光安定剤のいずれか１種以上を配合
していてもよい、安定化された有機高分子材料を得るこ
とができる。

【００７２】さらに必要に応じて、本発明の安定化され
た有機高分子材料の性能を著しく損なわない程度の他の
添加物、たとえばハイドロタルサイト類、ステアリン酸
カルシウムなどの金属石鹸、ヒドラジン系化合物などの
重金属不活性化剤、モノアルキル錫トリス（チオグリコ
ール酸オクチルエステル）、ジアルキル錫トリス（チオ
グリコール酸オクチルエステル）、モノアルキル錫トリ
ス（マレイン酸モノアルキルエステル）またはジアルキ
ル錫トリス（マレイン酸モノアルキルエステル）などの
有機錫安定剤、エポキシ化大豆油またはエポキシオクチ
ルステアレートなどのエポキシ化合物、各種の有機顔
料、リン酸エステルなどの難燃剤、カチオン系またはア
ニオン系界面活性剤などの帯電防止剤、脂肪族アミドま
たは脂肪酸の低級アルコールエステル類などの滑剤、ア
クリル系高分子加工助剤、ジ−２−エチルヘキシルフタ
レートまたはジ−２−エチルヘキシルアジペートなどの
可塑剤、酸化アルミニウムなどの充填剤、重炭酸ナトリ
ウムまたはアゾジカルボンアミドなどの発泡剤などの１
種以上と併用することもできる。

【００７３】また、本発明の安定化された有機高分子材
料に、必要に応じて、結晶核剤、透明化剤などと併用す
ることもできる。結晶核剤、透明化剤として、ビス（ｐ
−第３級ブチル安息香酸）ヒドロキシアルミニウム、ビ
ス（４−第３級ブチルフェニル）ホスフェートナトリウ
ム、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチル
フェニル）ホスフェートナトリウム塩、ジベンジリデン
ソルビトール、ビス（ｐ−メチルベンジリデン）ソルビ
トール、ビス（ｐ−エチルベンジリデン）ソルビトー
ル、ビス（ｐ−クロルベンジリデン）ソルビトールなど
が挙げられる。

【００７４】当該安定剤を有機高分子に配合する方法
は、特に限定されず、従来公知の方法などが挙げられ、
たとえば、有機高分子と安定剤を混合した後、混練り、
押し出しなどの工程を経て処理する方法などが挙げられ
る。

【００７５】本発明に係る有機高分子材料を調製するに
は、本発明のキサンテン−２，７−ジオール系化合物ま
たはその化合物を含む混合物を、必要に応じてフェノー
ル系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止
剤、紫外線吸収剤、光安定剤、あるいはその他添加剤と
を、それぞれ所定量秤量し、有機高分子に混合すればよ
く、混合した後に混練してもよい。混合する際には、有
機高分子に添加物を混合する際に従来から使用されてい
る混合機、例えば、ボールミル、ペブルミル、タンブル
ミキサー、チェンジカンミキサー、スーパーミキサー
（ヘンシェルミキサー）などが挙げられ、混練する際に
は、有機高分子に添加物を混練する際に従来から使用さ
れている混練機、例えば、ミキシングロール、バンバリ
ーミキサー、Σ羽根型混合機、高速二軸連続ミキサー、
押出機型混練機などが挙げられる。

【００７６】本発明に係る有機高分子材料は、従来から
知られている有機高分子材料の各種成形法、例えば、射
出成形法、押出成形法、カレンダー成形法、吹込み成形
法、圧縮成形法などによって、目的の製品に成形するこ
とができる。製品は特に制限がなく、屋内で使用される
もの、屋外で使用されるもののいずれでもよく、具体的
には、電気製品の部品、電子製品の部品、農業機械の部
品、農業用製品、水産機械の部品、水産用製品、自動車
の部品、日用品、雑貨品などが挙げられる。さらに具体
的には、重質油高温輸送用鋼管の被覆層、温熱パイプ
（給湯用、床下暖房用など）、ジャー、ポット、洗濯機
などの家庭電器製品の部品などが挙げられる。

【００７７】

【実施例】次に、実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるもの
ではない。

【００７８】合成例１ ３００ｍｌの４頚コルベンに、２，３，５−トリメチル
ハイドロキノン１５．２ｇを、メタノール１００ｇに溶
解し、さらに濃硫酸２ｇを加えた。攪拌しながら３７％
ホルマリン４．５ｇを滴下し、１０時間加熱還流した。
冷却後析出した結晶を濾取して、エタノール−ジメチル
ホルムアミド混合溶媒で再結晶すると、融点２６０〜２
６５℃の、１，３，４，５，６，８−ヘキサメチル−９
Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール

【化１２】 の白色結晶が得られた。

【００７９】 元素分析値 炭素原子 水素原子 理論値 ７６．４７％ ７．４５％ 実験値 ７６．３２％ ７．４４％

【００８０】流動性の尺度として有機高分子材料、特に
高分子重合体の成形加工性を予想したり、規格表示や品
質管理を行う目的で、メルトインデックス（以下、ＭＩ
ともいう。）が、工業的に広く用いられている。ＭＩは
一定温度で溶融した高分子重合体を規定の長さと径の円
形ダイから一定荷重で押出すとき、１０分間の流量を重
量（ｇ単位）で表した数値であり、溶融粘度の指標とし
て使われている。高分子重合体のうち、ポリプロピレン
の場合にはその数値が小さいほど加工安定性がよく、大
きいほど加工安定性が悪いと考えられ、また、ＭＩを繰
り返し測定することにより、その数値の変動の少ないも
のがＭＩ保持効果が大きく、加工安定性に優れていると
されている。実施例において、加工安定性をこの方法に
よって評価した。

【００８１】実施例１ タンブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した表１
に記載した配合処方により調製した混合物を、直径２０
ｍｍの押し出し機（ダイス設定温度２６０℃）で繰り返
しストランドを押し出し、水冷した後に、切断しペレッ
トを得る。これを５回繰り返した。加工安定性を見るた
めに各回毎に押し出したペレットをＪＩＳ Ｋ−７２１
０に準じてメルトインデックス（ＭＩ値）を測定した。
設定温度は２３０℃、測定荷重は２．１６ｋｇｆとし
た。

【００８２】表１に記載の記号の意味は以下の通りであ
る。 Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１３：１，３，４，５，６，８−ヘキサメチル−９
Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール（合成例１により合
成したものを用いた。） ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム ×：すでに樹脂が劣化しておりストランド押し出し後ペ
レットを得ることができなかったことを示す。

【００８３】この試験結果を表１に記載した。

【００８４】

【表１】

【００８５】表１の結果から、既存の酸化防止剤と比較
して、１，３，４，５，６，８−ヘキサメチル−９Ｈ−
キサンテン−２，７−ジオール（Ｓ−１３）を単独添加
した場合も、既存の酸化防止剤にＳ−１３を少量添加し
た併用添加の場合も、既存酸化防止剤に比較して、顕著
な加工安定化効果があることがわかった。

【００８６】実施例２

【００８７】実施例１と同様に試験した。配合処方は表
２に記載した。

【００８８】表２に記載の記号の意味は以下の通りであ
る。 Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」）。 Ｓ−１３：１，３，４，５，６，８−ヘキサメチル−９
Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール Ｒ−１０：３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７
−ジ第３級−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（特開平７
−２３３１６０号公報に記載の方法によって合成し
た。） ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム ×：すでに樹脂が劣化しておりストランド押し出し後ペ
レットを得ることができなかったことを示す。

【００８９】この試験結果を表２に記載した。

【００９０】

【表２】

【００９１】表２の結果から、１，３，４，５，６，８
−ヘキサメチル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール
（Ｓ−１３）と、フェノール系酸化防止剤（Ｔ−ＴＴ）
と、リン系酸化防止剤（Ｔ２０２）とを配合した樹脂
は、１，３，４，５，６，８−ヘキサメチル−９Ｈ−キ
サンテン−２，７−ジオール（Ｓ−１３）の替わりに３
−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第３級−
３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（Ｒ−１０）を添加した
ものと比較して、顕著な加工安定化効果があることがわ
かった。

【００９２】実施例３

【００９３】実施例１と同様に試験をした。配合処方は
表３に記載した。

【００９４】表３に記載の記号の意味は以下の通りであ
る。 Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」）。 Ｓ−１３：１，３，４，５，６，８−ヘキサメチル−９
Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール Ｓ−１７：１，３，４，５，６，８−ヘキサメチル−９
−イソプロピル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール ＹＢＨＴ：２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノ
ール（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：「ヨ
シノックスＢＨＴ」） ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム ×：すでに樹脂が劣化しておりストランド押し出し後ペ
レットを得ることができなかったことを示す。

【００９５】この試験結果を表３に記載した。

【００９６】

【表３】

【００９７】表３の結果から、１，３，４，５，６，８
−ヘキサメチル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール
（Ｓ−１３）を配合した本発明組成物（配合８）や、
１，３，４，５，６，８−ヘキサメチル−９−イソプロ
ピル−９Ｈ−キサンテン−２，７−ジオール（Ｓ−１
７）を配合した本発明組成物（配合９）は、２，６−ジ
第３級ブチル−４−メチルフェノール（ＹＢＨＴ）を同
量配合した組成物（配合１０）や、汎用されているテト
ラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタン（Ｔ−
ＴＴ）とトリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホ
スファイト（Ｔ２０２）との１：１の割合の混合物を同
量配合した組成物（配合１１）と比較して、顕著な加工
安定性があることが認められた。

【００９８】

【発明の効果】本発明の組成物は有機高分子材料の安定
剤として使用することにより、熱加工安定性に優れた、
極めて有効な安定化された有機高分子材料を得ることが
できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 23/16 Ｃ０８Ｌ 23/16 (72)発明者 勝山 和樹 東京都文京区湯島１丁目６番７号 吉富フ ァインケミカル株式会社東京事業所内 (72)発明者 常陰 明人 東京都文京区湯島１丁目６番７号 吉富フ ァインケミカル株式会社東京事業所内

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 有機高分子に、一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、水素原子、炭素数１
   〜４の直鎖または分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、
   およびＲ³は互いに同じであっても異なってよい。Ｒ
   ⁴は、水素原子、直鎖または分岐鎖もしくは環状の炭素
   数１〜１８のアルキル基、または置換または未置換のア
   リール基を示す。）により表される化合物の１種または
   ２種以上を、配合してなる安定化された有機高分子材
   料。
2. 【請求項２】 有機高分子に、一般式（１） 【化２】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、水素原子、炭素数１
   〜４の直鎖または分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、
   およびＲ³は互いに同じであっても異なってよい。Ｒ
   ⁴は、水素原子、直鎖または分岐鎖もしくは環状の炭素
   数１〜１８のアルキル基、または置換または未置換のア
   リール基を示す。）により表される化合物の１種または
   ２種以上と、下記Ｂ群の中から選ばれたフェノール系酸
   化防止剤および／または下記Ｃ群の中から選ばれたリン
   系酸化防止剤とを、配合してなる安定化された有機高分
   子材料。 Ｂ群： ｎ−オクタデシル ３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
   第３級ブチルフェニル）プロピオネート、 テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
   ロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル〕メタン、 トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベン
   ジル）イソシアヌレート、 １，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
   −ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン Ｃ群： トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイ
   ト、 テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，
   ４’−ビフェニレンジホスホナイト、 テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
   ニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、 ビス（２，４−ジ第３級ブチル）ペンタエリスリトール
   ジホスファイト、 ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェニル）
   ペンタエリスリトールジホスファイト、 ２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチルフェ
   ニル）−２−エチルヘキシルホスファイト、 ビス［２−メチル−４，６−ビス（１，１−ジメチルエ
   チル）フェニル］エチルホスファイト ２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，
   ３’，５，５’−テトラ−第３級ブチル−１，１’−ビ
   フェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト］
3. 【請求項３】 有機高分子材料が、合成樹脂である請求
   項１または２記載の安定化された有機高分子材料。
4. 【請求項４】 有機高分子材料が、ポリオレフィン系樹
   脂である請求項１または２記載の安定化された有機高分
   子材料。
5. 【請求項５】 有機高分子材料が、ポリエチレン系樹
   脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂とポリ
   プロピレン系樹脂との混和物または相溶性重合体、ポリ
   エチレン系樹脂および／またはポリプロピレン系樹脂を
   含む相溶性重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ま
   たはエチレン−プロピレン共重合体である請求項１また
   は２記載の安定化された有機高分子材料。
6. 【請求項６】 一般式（１） 【化３】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、水素原子、炭素数１
   〜４の直鎖または分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、
   およびＲ³は互いに同じであっても異なってよい。Ｒ
   ⁴は、水素原子、直鎖または分岐鎖もしくは環状の炭素
   数１〜１８のアルキル基、または置換または未置換のア
   リール基を示す。）により表される化合物の配合量が、
   有機高分子材料１００重量部に対し、０．０００５〜
   ０．５重量部の範囲である請求項１ないし請求項５のい
   ずれか１項に記載の安定化された有機高分子材料。
7. 【請求項７】 一般式（１） 【化４】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、水素原子、炭素数１
   〜４の直鎖または分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、
   およびＲ³は互いに同じであっても異なってよい。Ｒ
   ⁴は、水素原子、直鎖または分岐鎖もしくは環状の炭素
   数１〜１８のアルキル基、または置換または未置換のア
   リール基を示す。）により表される化合物の配合量と、
   下記Ｂ群の中から選ばれたフェノール系化合物の配合量
   と、下記Ｃ群の中から選ばれたリン系化合物の配合量と
   の和が、有機高分子材料１００重量部に対し、０．０１
   〜１０重量部の範囲である請求項１ないし請求項６のい
   ずれか１項に記載の安定化された有機高分子材料。 Ｂ群： ｎ−オクタデシル ３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
   第３級ブチルフェニル）プロピオネート、 テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
   ロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル〕メタン、 トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベン
   ジル）イソシアヌレート、 １，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
   −ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン Ｃ群： トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイ
   ト、 テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，
   ４’−ビフェニレンジホスホナイト、 テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
   ニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、 ビス（２，４−ジ第３級ブチル）ペンタエリスリトール
   ジホスファイト、 ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェニル）
   ペンタエリスリトールジホスファイト、 ２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチルフェ
   ニル）−２−エチルヘキシルホスファイト、 ビス［２−メチル−４，６−ビス（１，１−ジメチルエ
   チル）フェニル］エチルホスファイト ２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，
   ３’，５，５’−テトラ−第３級ブチル−１，１’−ビ
   フェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト］
8. 【請求項８】 一般式（１） 【化５】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、水素原子、炭素数１
   〜４の直鎖または分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、
   およびＲ³は互いに同じであっても異なってよい。Ｒ
   ⁴は、水素原子、直鎖または分岐鎖もしくは環状の炭素
   数１〜１８のアルキル基、または置換または未置換のア
   リール基を示す。）により表される化合物の配合量と、
   下記Ｂ群の中から選ばれたフェノール系化合物の配合量
   および／または下記Ｃ群の中から選ばれたリン系化合物
   の配合量と、更に他の添加剤を含有する請求項１ないし
   請求項７のいずれか１項に記載の安定化された有機高分
   子材料。 Ｂ群： ｎ−オクタデシル ３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
   第３級ブチルフェニル）プロピオネート、 テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
   ロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル〕メタン、 トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベン
   ジル）イソシアヌレート、 １，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
   −ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン Ｃ群： トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイ
   ト、 テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，
   ４’−ビフェニレンジホスホナイト、 テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
   ニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、 ビス（２，４−ジ第３級ブチル）ペンタエリスリトール
   ジホスファイト、 ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェニル）
   ペンタエリスリトールジホスファイト、 ２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチルフェ
   ニル）−２−エチルヘキシルホスファイト、 ビス［２−メチル−４，６−ビス（１，１−ジメチルエ
   チル）フェニル］エチルホスファイト ２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，
   ３’，５，５’−テトラ−第３級ブチル−１，１’−ビ
   フェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト］
9. 【請求項９】 他の添加剤が、硫黄系酸化防止剤および
   ／または光安定剤である請求項８記載の安定化された有
   機高分子材料。
10. 【請求項１０】 一般式（１） 【化６】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、水素原子、炭素数１
    〜４の直鎖または分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、
    およびＲ³は互いに同じであっても異なってよい。Ｒ
    ⁴は、水素原子、直鎖または分岐鎖もしくは環状の炭素
    数１〜１８のアルキル基、または置換または未置換のア
    リール基を示す。）により表される化合物の１種または
    ２種以上と、フェノール系酸化防止剤および／またはリ
    ン系酸化防止剤を含有し、これらの総量に対して、一般
    式（１） 【化７】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、水素原子、炭素数１
    〜４の直鎖または分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、
    およびＲ³は互いに同じであっても異なってよい。Ｒ
    ⁴は、水素原子、直鎖または分岐鎖もしくは環状の炭素
    数１〜１８のアルキル基、または置換または未置換のア
    リール基を示す。）により表される化合物を１〜２０重
    量％、フェノール系酸化防止剤および／またはリン系酸
    化防止剤を９９〜８０重量％の割合で含有することを特
    徴とする有機高分子材料用安定剤組成物。
11. 【請求項１１】 一般式（１） 【化８】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、水素原子、炭素数１
    〜４の直鎖または分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、
    およびＲ³は互いに同じであっても異なってよい。Ｒ
    ⁴は、水素原子、直鎖または分岐鎖もしくは環状の炭素
    数１〜１８のアルキル基、または置換または未置換のア
    リール基を示す。）により表される化合物の１種または
    ２種以上と、フェノール系酸化防止剤と、リン系酸化防
    止剤とを含有し、これらの総量に対して、一般式（１） 【化９】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、水素原子、炭素数１
    〜４の直鎖または分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、
    およびＲ³は互いに同じであっても異なってよい。Ｒ
    ⁴は、水素原子、直鎖または分岐鎖もしくは環状の炭素
    数１〜１８のアルキル基、または置換または未置換のア
    リール基を示す。）により表される化合物を１〜２０重
    量％、フェノール系酸化防止剤およびリン系酸化防止剤
    との総量を９９〜８０重量％の割合で含有することを特
    徴とする有機高分子材料用安定剤組成物。
12. 【請求項１２】 フェノール系酸化防止剤が以下に記載
    したＢ群からなる群より選ばれた少なくとも１種であ
    り、リン系酸化防止剤が以下に記載したＣ群からなる群
    より選ばれた少なくとも１種である請求項１０または請
    求項１１に記載された有機高分子材料用安定剤組成物。 Ｂ群： ｎ−オクタデシル ３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
    第３級ブチルフェニル）プロピオネート、 テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
    ロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル〕メタン、 トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベン
    ジル）イソシアヌレート、 １，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
    −ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン Ｃ群： トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイ
    ト、 テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，
    ４’−ビフェニレンジホスホナイト、 テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
    ニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、 ビス（２，４−ジ第３級ブチル）ペンタエリスリトール
    ジホスファイト、 ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェニル）
    ペンタエリスリトールジホスファイト、 ２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチルフェ
    ニル）−２−エチルヘキシルホスファイト、 ビス［２−メチル−４，６−ビス（１，１−ジメチルエ
    チル）フェニル］エチルホスファイト ２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，
    ３’，５，５’−テトラ−第３級ブチル−１，１’−ビ
    フェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト］
13. 【請求項１３】 有機高分子に、請求項１０ないし１２
    のいずれか１項に記載の有機高分子材料用安定剤組成物
    を配合してなることを特徴とする有機高分子材料。
14. 【請求項１４】 有機高分子材料が、合成樹脂である請
    求項１３記載の安定化された有機高分子材料。
15. 【請求項１５】 有機高分子材料が、ポリオレフィン系
    樹脂である請求項１３記脂の安定化された有機高分子材
    料。
16. 【請求項１６】 有機高分子材料が、ポリエチレン系樹
    脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂とポリ
    プロピレン系樹脂との混和物または相溶性重合体、ポリ
    エチレン系樹脂および／またはポリプロピレン系樹脂を
    含む相溶性重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ま
    たはエチレン−プロピレン共重合体である請求項１３記
    載の安定化された有機高分子材料。
17. 【請求項１７】 一般式（１） 【化１０】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、水素原子、炭素数１
    〜４の直鎖または分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、
    およびＲ³は互いに同じであっても異なってよい。Ｒ
    ⁴は、水素原子、直鎖または分岐鎖もしくは環状の炭素
    数１〜１８のアルキル基、または置換または未置換のア
    リール基を示す。）により表される化合物を含有する有
    機高分子材料用安定剤組成物。