JP2000034469A - 研磨用組成物 - Google Patents

研磨用組成物

Info

Publication number
JP2000034469A
JP2000034469A JP12852399A JP12852399A JP2000034469A JP 2000034469 A JP2000034469 A JP 2000034469A JP 12852399 A JP12852399 A JP 12852399A JP 12852399 A JP12852399 A JP 12852399A JP 2000034469 A JP2000034469 A JP 2000034469A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
iron
composition
abrasive grains
accelerator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP12852399A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4099615B2 (ja
Inventor
Toshio Kasai
敏雄 河西
Isao Ota
勇夫 太田
Toru Nishimura
西村  透
Yasushi Koshi
康 高子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Priority to JP12852399A priority Critical patent/JP4099615B2/ja
Publication of JP2000034469A publication Critical patent/JP2000034469A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4099615B2 publication Critical patent/JP4099615B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高品質の研磨面を保ちながらしかも高速研磨
性により研磨工程の生産性の向上及び低コスト化が可能
な安価な酸化水酸化鉄(III) 粉末を砥粒とする研磨用組
成物を提供すること。 【解決手段】 水、砥粒及び研磨促進剤からなるアルミ
ニウムディスクの研磨組成物において、砥粒がα、β、
γ及びδ型FeO(OH)結晶構造からなる群から選ば
れた単一または複数の結晶構造と、5〜500nmの一
次粒子径とを有する酸化水酸化鉄(III) 粉末であるこ
と、及び研磨促進剤が三価又は四価の金属と無機酸又は
有機酸から形成される塩であることを特徴とするアルミ
ニウムディスク又は多層配線基板の金属層の研磨用組成
物を調製すること。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルミニウムディ
スクの最終仕上げ研磨に用いられる研磨用組成物に関す
る。及び、多層配線基板上のタングステン、銅、アルミ
ニウム、パーマロイ等の金属層の精密研磨に用いられる
研磨用組成物に関する。本発明におけるアルミニウムデ
ィスクの研磨とは、アルミニウムあるいはその合金から
なる磁気記録媒体ディスクの基材の上に設けられたNi
−P、Ni−B等のメッキ層の表面、特にNi90〜9
2%とP8〜10%の組成の硬質Ni−Pメッキ層及び
酸化アルミ層の表面あるいはアルミニウム、その合金、
アルマイトを研磨することをいう。
【0002】
【従来の技術】遊離砥粒として酸化鉄を用いた研磨の例
としては、硫酸鉄(II)を650〜700℃で焼成後粉
砕したべんがら(酸化鉄(III) )が古くから光学ガラス
の研磨に使われてきた。また特開昭55−83561号
公報には、Mn−Zn多結晶フェライトの研磨剤として
酸化鉄(III) (Fe23)と塩酸からなる研磨剤が開示
されている。特開平7−228863号公報には、シリ
コンウェハー上の多層配線基板の絶縁膜の研磨用組成物
として、平均粒子径0.1μmの酸化鉄粉末に水及びヒ
ドラジン化合物からなる研磨促進剤を添加した研磨組成
物が開示されている。
【0003】特開昭57−158280号公報には、磁
気研磨法の研磨用加工液として粒子径150Å以下のコ
ロイドサイズのマグネタイト(Fe34)を水に分散さ
せた磁性流体にアルミナ粉末を混合したものが開示され
ている。
【0004】アルミニウムディスクの研磨では、水とア
ルミナ研磨材及び研磨促進剤を、場合によっては更に表
面改質剤も混合してスラリー化した研磨用組成物が用い
られている。この研磨促進剤の例として、特開昭62−
25187号公報には、硝酸アルミニウム、硝酸ニッケ
ル、硫酸ニッケル等が、また特開平2−158682号
公報には、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネ
シウム、バリウム、亜鉛、アルミニウム等の亜硝酸塩が
開示されている。更に、特開平1−205973号公報
には、ベーマイトと水溶性の金属塩の混合物が、特開平
2−158683号公報には、ベーマイトと無機酸又は
有機酸のアンモニウム塩との混合物が開示されている。
また、研磨促進剤と表面改質剤の例として特開平2−8
4485号公報には、グルコン酸又は乳酸の研磨促進剤
及びコロイダルアルミナの表面改質剤が開示されてい
る。
【0005】また半導体多層配線基板のタングステン、
銅、アルミニウム配線の研磨用組成物として特開平10
−44047号公報には、グルコン酸等のカルボン酸と
過酸化水素及び水にアンモニアでpHが5〜9に調整さ
れ、砥粒がアルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカ及
びそれらの混合物からなるものが開示されている。更に
特開平10−67986号公報には、硝酸鉄(III) と、
フッ化アンモニウム等のフッ化物含有物と、アルミナ、
チタニア、ジルコニア、ゲルマニア、シリカ、セリア等
の砥粒とからなる研磨用組成物が開示されている。
【0006】なお、アルミニウムディスクのNi−P、
Ni−B等のメッキ層及び多層配線基板のタングステ
ン、銅、アルミニウム、パーマロイ等の金属層の研磨に
酸化水酸化鉄(III) 粉末を砥粒に用いて、高速研磨性及
び高品質の研磨面が得られた報告例は見当たらない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】近年、アルミニウムデ
ィスクの性能は、ますます高密度化、高速化していく傾
向にある。そのためにオレンジピール、スクラッチ、ピ
ット、突起等の表面欠陥がないということや最大表面荒
さが小さいことだけにとどまらず、平均表面粗さにおい
ても小さな研磨面が求められている。
【0008】同様に集積回路の高密度化に伴い、多層配
線基板上のタングステン、銅、アルミニウム、パーマロ
イ等の金属層は、スクラッチがなく平坦性が優れた研磨
面が求められている。
【0009】本発明は、これらの要望に応えるものであ
って、高品質の研磨面を保ちながらしかも高速研磨性に
より研磨工程の生産性の向上及び低コスト化が可能な安
価な酸化水酸化鉄(III) 粉末を砥粒とする研磨用組成物
を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者は、α、β、γ
及びδ型FeO(OH)結晶構造からなる群から選ばれ
た単一または複数の結晶構造と、5〜500nmの一次
粒子径とを有する酸化水酸化鉄(III) 粉末を砥粒とした
研磨用組成物が、高速研磨性でしかも高品質の研磨面が
得られることを見い出し、本発明に至ったものである。
【0011】即ち、アルミニウムディスク用研磨剤とし
ては水、酸化水酸化鉄(III) 粉末及び三価又は四価の金
属と無機酸又は有機酸から形成される塩の研磨促進剤か
らなる研磨組成物を用いると、高品質の研磨面が得ら
れ、しかも高速研磨性であることを見い出した。更にア
ルミニウムディスク用研磨剤として、酸化水酸化鉄(II
I) 粉末及び研磨促進剤を含む研磨組成物に例えばアル
ミナ砥粒を加えた研磨用組成物が、従来のアルミニウム
ディスク用研磨剤と比較して表面粗さに対する研磨速度
の比率が高い、即ち高速研磨性でしかも高品質の研磨面
が得られることを見い出した。
【0012】同様に多層配線基板上のタングステン、
銅、アルミニウム、パーマロイ等の金属層の研磨でも、
高速研磨性でスクラッチがなく平坦性が優れた研磨面が
得られることが充分期待される。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明のα、β、γ及びδ型Fe
O(OH)結晶構造からなる群から選ばれた単一または
複数の結晶構造のうち、α型FeO(OH)構造を有す
る酸化水酸化鉄(III) 粉末は、特開昭61−17411
9号公報に記載のように、硫酸鉄(II)又は塩化鉄(II
I) と水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニ
ア、炭酸アンモニウム等のアルカリを中和して得られた
水酸化鉄(II)に加熱下で空気酸化することにより得る
ことができる。また、市販の酸化水酸化鉄(III) 粉末も
使用することもできる。
【0014】本発明の研磨用組成物に調製する際、砥粒
の酸化水酸化鉄(III) 粉末は、酸化水酸化鉄(III) 微粒
子の懸濁液、又は酸化水酸化鉄(III) 粉末を硝酸等の酸
にて解膠した微粒子の懸濁液にて取り扱うことが、作業
上簡便で好ましい。
【0015】本発明の粉末中の各々微粒子の一次粒子径
の求め方については、電子顕微鏡観察により粒子の長軸
径(L)と短軸径(B)とを求めて、その長短平均径
((L+B)/2)を一次粒子径(D)とする。
【0016】本発明の研磨用組成物中の好ましい酸化水
酸化鉄(III) 粉末の濃度は、1〜20重量%である。但
し、酸化水酸化鉄(III) 粉末の濃度は、酸化物Fe23
で換算した重量%で示す。研磨用組成物中の酸化水酸化
鉄(III) 粉末の濃度が1重量%より小さいと研磨速度は
遅く、20重量%より多くしても研磨速度は、速くなら
ないため、酸化水酸化鉄(III) 粉末の濃度は1〜20重
量%が好ましい。
【0017】本発明の研磨促進剤は、三価又は四価の金
属と無機酸又は有機酸から形成される塩であり、その塩
は正塩と塩基性塩とからなる。
【0018】塩基性塩は、例えば三価の金属としては、
アルミニウム、インジウム、鉄等が、また四価の金属と
してはジルコニウム、セリウム、錫、チタン等が挙げら
れる。無機酸としては、硝酸、塩酸、硫酸等が、また有
機酸としては酢酸、ギ酸、スルファミン酸、酒石酸、シ
ュウ酸、グルコン酸等が挙げられる。三価及び四価の金
属の中でアルミニウム及び鉄が、また無機酸及び有機酸
の中で硝酸が研磨特性が最も優れて、より好ましく、塩
基性硝酸アルミニウム、塩基性硝酸鉄が挙げられる。
【0019】正塩は、例えば三価の金属としては、アル
ミニウム、インジウム、鉄等が、また四価の金属として
はジルコニウム、セリウム、錫、チタン等が挙げられ
る。無機酸としては、硝酸、塩酸、硫酸等が、また有機
酸としては酢酸、ギ酸、スルファミン酸、酒石酸、シュ
ウ酸、グルコン酸等が挙げられる。三価及び四価の金属
の中でアルミニウム及び鉄が、また無機酸及び有機酸の
中で硝酸、塩酸、スルファミン酸が研磨特性が最も優れ
て、より好ましく、硝酸アルミニウム、スルファミン酸
アルミニウム、硝酸鉄が挙げられる。
【0020】本発明の好ましい研磨促進剤の含有量は、
0.02〜10重量%、より好ましくは0.05〜6重
量%である。但し、研磨促進剤の含有量は、三価の金属
と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩及び正塩で
は酸化物M23(Mは三価の金属)、また四価の金属と
無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩及び正塩では
酸化物MO2(Mは四価の金属)で換算した重量%で示
す。
【0021】研磨促進剤の含有量において、0.02重
量%より少ないと研磨促進剤としての効果が認められ
ず、また10重量%より多くしても研磨促進剤としての
効果の更なる向上は認められないため、0.02〜10
重量%が好ましい。そして、研磨促進剤の含有量が0.
2〜6重量%では、研磨促進剤としての効果が安定する
と共に、表面粗さに対する研磨速度の比率も高く維持さ
れてより好ましい。
【0022】本発明の酸化水酸化鉄(III) 粉末を砥粒と
した研磨用組成物に混合するアルミナ、シリカ、ジルコ
ニア、セリアは、市販されている研磨材用の粉末をその
ままか、場合によっては乾式及び湿式粉砕して微粒子化
したものを用いることができる。またアルミナ粉に関し
ては、特開平10−87324号公報(対応特許:EP
0820961 A1)記載の酸性水性アルミナゾル
を500〜1100℃で焼成することにより得られた
γ、δ、κ、θ及びη型アルミナを湿式粉砕することに
より得られる10〜50nmの一次粒子径、100〜5
00nmの二次粒子径及び粒状の一次粒子径を有するア
ルミナ粉末及び1100〜1200℃で焼成することに
より得られたα型アルミナを湿式粉砕することにより得
られる60〜150nmの一次粒子径、200〜500
nmの二次粒子径及び粒状の一次粒子径を有するアルミ
ナ粉末も用いることができる。シリカ、ジルコニア、セ
リアなどの粉末に関しては、市販のシリカゾル、特開平
10−36819号公報記載のジルコニアゾル、特開平
8−155997号公報記載のセリアゾルなどの金属酸
化物微粒子(粉末)の懸濁液(ゾル)が用いることがで
きる。
【0023】アルミナ、シリカ、ジルコニア、セリアな
どの微粒子からなる粉末は、酸化水酸化鉄(III) 粉末に
対して任意の割合で混合できるが、高速研磨性及び高品
質の研磨面を得るためには、酸化鉄100重量部に対し
て10〜900重量部を混合するのが好ましい。
【0024】本発明における研磨組成物には、珪酸ジル
コニウム、ムライト、酸化クロム、酸化チタン等も加え
ることができる。そして水酸化アルミニウム等の水酸化
物、ベーマイト等の水和酸化物及びダイヤモンド、窒化
硼素、窒化珪素、炭化珪素、炭化硼素等の非酸化物の砥
粒も加えることができる。
【0025】また、本発明における研磨用組成物に一般
的に加えられているエタノール、プロパノール、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール等の水溶性アルコ
ール、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、リン酸等の酸、アルキ
ルベンザンスルホン酸ナトリウム、ホルマリン縮合物等
の界面活性剤、ポリアクリル酸塩等の有機ポリアニオン
系物質、セルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース等のセルロース類を加えるこ
とができる。
【0026】本発明の研磨用組成物のpHとしては、1
〜7、好ましくは2〜6の弱酸性である。研磨用組成物
をアルカリ性にすると多孔質網状組織からなる研磨布の
目詰まり劣化や被研磨物へのスクラッチ発生等が起きる
ため好ましくない。
【0027】
【実施例】下記の実施例により、本発明を更に説明す
る。 [研磨用組成物の調整] 実施例1 9.8重量%の炭酸アンモニウム水溶液50kgを攪拌
機付きの100L反応槽に仕込み、30℃の液温で窒素
ガスを2Nm3/時で吹き込みながら、硫酸鉄(II)・
7水和物を5.7kgを純水45kgに溶解させた硫酸
鉄(II)水溶液を添加した。添加終了後30℃で空気を
3Nm3/時で吹き込み酸化反応を開始し、3時間で酸
化反応が終了した。反応液は茶色の微粒子を有するpH
=9.0で、反応液より微粒子を濾別、洗浄した後、透
過型電子顕微鏡(TEM)で観察したところ長軸が30
〜70nm、短軸が20〜30nmの紡錘状の粒子で、
粉末X線回折でゲータイト(α型FeO(OH))と同
定された。洗浄したゲータイトを0.4重量%の硝酸を
含有する純水で分散させ、Fe23換算で20重量%の
α型FeO(OH)構造を有する酸化水酸化鉄(III) 微
粒子の懸濁液(ゾル)を作成した。
【0028】次に、硝酸アルミニウム・九水塩380g
を純水1kgに溶解した後、この水溶液を沸騰させ、1
320gの35%過酸化水素水溶液と110gのアルミ
ニウム金属粉末を徐々に添加し溶解・反応させた。該反
応液を濾過して塩基性硝酸アルミニウム水溶液(BAN
a)を得た。この塩基性硝酸アルミニウム水溶液(BA
Na)は、Al23換算濃度9.9重量%、硝酸イオン
7.2重量%を含み、塩基度として80.0%で、Al
(OH)2.4(NO30.6 の化学組成で表示される塩基
性硝酸アルミニウム水溶液であった。
【0029】更に、塩基性硝酸アルミニウム(BAN
a)水溶液に60重量%硝酸を添加して、塩基性硝酸ア
ルミニウム水溶液(BANb)を調製した。この塩基性
硝酸アルミニウム(BANb)水溶液は、Al23換算
濃度7.1重量%、硝酸イオン17.3重量%を含み、
塩基度として33.3%で、Al(OH)(NO32
化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム水溶液で
あった。
【0030】そして、酸化水酸化鉄(III) 微粒子の懸濁
液に純水及び研磨促進剤として塩基性硝酸アルミニウム
水溶液(BANb)を加えて、Fe23換算濃度で6.
7重量%のゲータイトと、Al23換算濃度で0.62
重量%及び硝酸濃度1.4重量%のAl(OH)(NO
32の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム濃
度を有する研磨用組成物Aを調整した。
【0031】実施例2 研磨促進剤として、塩基性硝酸アルミニウム水溶液(B
ANb)の代わりに、硝酸鉄(III) をFe23換算濃度
で0.61重量%にした以外は、実施例1と同様にして
研磨用組成物Bを調製した。
【0032】実施例3 硝酸鉄(III) ・九水塩404gを純水1kgに溶解した
後、この水溶液を沸騰させ、1320gの35%過酸化
水素水溶液と112gの鉄粉末を徐々に添加し溶解・反
応させた。該反応液を濾過して塩基性硝酸鉄(III) 水溶
液(BFNa)を得た。この塩基性硝酸鉄水溶液(BF
Na)は、Fe23換算濃度9.9重量%、硝酸イオン
11.0重量%を含み、塩基度として66.7%で、F
e(OH)2(NO31 の化学組成で表示される塩基性
硝酸鉄(III) 水溶液であった。
【0033】そして、実施例1記載の酸化水酸化鉄(II
I) 微粒子の懸濁液に純水及び研磨促進剤として塩基性
硝酸鉄(III) 水溶液(BFNa)を加えて、Fe23
算濃度で6.7重量%のゲータイトと、Fe23換算濃
度で0.62重量%及び硝酸濃度0.70重量%のFe
(OH)2(NO3)の化学組成で表示される塩基性硝酸
鉄(III) 濃度を有する研磨用組成物Cを調整した。
【0034】実施例4 研磨促進剤として、塩基性硝酸アルミニウム水溶液(B
ANb)の代わりに、スルファミン酸アルミニウムをA
23換算濃度で0.80重量%にした以外は、実施例
1と同様にして研磨用組成物Dを調製した。
【0035】実施例5 市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉(平均粒子径1.00
μm、α相含有率98%)750g、1mmφのジルコ
ニアビーズ12.6kg及び純水1600gを3Lのア
トライター容器(三井鉱山(株)製)に仕込み、200
rpmで8時間30分粉砕して、平均粒子径が0.35
μmでα相含有率が98%のアルミナ結晶構造を有する
アルミナを固形分として31重量%を含有する水性アル
ミナスラリーを得た。
【0036】実施例1に記載の酸化水酸化鉄(III) 微粒
子の懸濁液及び塩基性硝酸アルミニウム水溶液(BAN
b)を研磨促進剤とした研磨用組成物に純水及び該水性
アルミナスラリー(Sc)を加えて、Fe23換算濃度
で3.3重量%及び3.3重量%のアルミナ固形分と、
Al23換算濃度で0.62重量%及び硝酸濃度1.4
重量%のAl(OH)(NO32の化学組成で表示され
る塩基性硝酸アルミニウム濃度を有する研磨用組成物E
を調整した。
【0037】実施例6 実施例1に記載の記載の酸化水酸化鉄(III) 微粒子の懸
濁液及び塩基性硝酸アルミニウム水溶液(BANb)を
研磨促進剤とした研磨用組成物に純水及び実施例5の水
性アルミナスラリー(Sc)を加えて、Fe23換算濃
度で5.9重量%及び0.7重量%のアルミナ固形分
と、Al23換算濃度で0.62重量%及び硝酸濃度
1.4重量%のAl(OH)(NO32の化学組成で表
示される塩基性硝酸アルミニウム濃度を有する研磨用組
成物Fを調整した。
【0038】比較例1 3.9重量%の炭酸アンモニウム水溶液50kgを攪拌
機付きの100L反応槽に仕込み、30℃の液温で窒素
ガスを2Nm3/時で吹き込みながら、硫酸鉄(II)・
7水和物を5.7kgを純水45kgに溶解させた硫酸
鉄(II)水溶液を添加した。添加終了後80℃まで昇温
し、80℃に到達後、空気を2Nm3/時で吹き込み酸
化反応を開始し、3時間で酸化反応が終了した。反応液
は黒色の微粒子を有するpH=5.5で、反応液より微
粒子を濾別、洗浄した後、透過型電子顕微鏡(TEM)
で観察したところ20〜50nmの立方体粒子で、粉末
X線回折でマグネタイト(Fe34)と同定された。洗
浄したマグネタイトを0.4重量%の硝酸を含有する純
水で分散させ、Fe23換算で20重量%のマグネタイ
ト微粒子の懸濁液(ゾル)を作成した。
【0039】そして、マグネタイト微粒子の懸濁液に純
水及び研磨促進剤として塩基性硝酸アルミニウム水溶液
(BANb)を加えて、Fe23換算濃度で6.7重量
%のマグネタイトと、Al23換算濃度で0.62重量
%及び硝酸濃度1.4重量%のAl(OH)(NO32
の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム濃度を
有する研磨用組成物aを調整した。
【0040】比較例2 比較例1マグネタイト微粒子を大気中で400℃で5時
間加熱することにより赤色の粉末が得られた。この粉末
を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察したところ20〜
50nmの立方体粒子で、粉末X線回折でヘマタイト
(α型Fe23)と同定された。このヘマタイト粒子を
0.4重量%の硝酸を含有する純水で分散させ、Fe2
3換算で20重量%のヘマタイト微粒子の懸濁液(ゾ
ル)を作成した。
【0041】そして、ヘマタイト微粒子の懸濁液に純水
及び研磨促進剤として塩基性硝酸アルミニウム水溶液
(BANb)を加えて、Fe23換算濃度で6.7重量
%のヘマタイトと、Al23換算濃度で0.62重量%
及び硝酸濃度1.4重量%のAl(OH)(NO32
化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム濃度を有
する研磨用組成物bを調整した。
【0042】比較例3 実施例5の水性アルミナスラリーを純水で希釈する際
に、研磨促進剤として実施例1と同様にして得た塩基性
硝酸アルミニウム水溶液(BANb)を加えて、6.7
重量%のアルミナ固形分と、Al23換算濃度で0.6
2重量%及び硝酸濃度1.4重量%のAl(OH)(N
32の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム
濃度を有する研磨用組成物cを調整した。
【0043】参考例1 市販のシリカゾル(スノーテックス−ZL(商標)、日
産化学工業(株)製、SiO2濃度40重量%、一次粒
子径70〜100nm)を純水で希釈して、6.7重量
%のシリカ固形分の研磨用組成物Xを調製した。
【0044】参考例2 市販のシリカゾル(スノーテックス−ZL(商標)、日
産化学工業(株)製、SiO2濃度40重量%、一次粒
子径70〜100nm)を純水で希釈する際に、研磨促
進剤として実施例1と同様にして得た塩基性硝酸アルミ
ニウム水溶液(BANb)を加えて、6.7重量%のシ
リカ固形分と、Al23換算濃度で0.62重量%及び
硝酸濃度1.4重量%のAl(OH)(NO32の化学
組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム濃度を有する
研磨用組成物Yを調整した。
【0045】[研磨試験]研磨試験は、下記のように行
った。
【0046】被加工物は、アルミニウム基板にNi−P
を10μmの厚さに無電解メッキ(Ni90〜92%と
P8〜10%の組成の硬質Ni−Pメッキ層)をした
3.5インチメモリーハードディスク基板を使用した。
尚、この基板は1次研磨してあり平均表面粗さは、1.
2nmである。
【0047】ラップマスターLM−15研磨機(ラップ
マスター製)の定盤に人工皮革タイプのポリウレタン製
研磨布(POLITEX DG(商標)、380mm
φ、ロデール・ニッタ(株)製)を貼り付け、これに基
板の研磨面を対向させ11kPaの荷重をかけて研磨し
た。
【0048】定盤回転数は、毎分45回転であり、研磨
組成物(スラリー)供給量は10ml/分である。
【0049】研磨の後、被加工物を取り出し超音波洗浄
を繰り返して洗浄した。
【0050】洗浄後アルミディスクを乾燥し、重量減少
から研磨速度を求めた。表面欠陥については、微分干渉
顕微鏡により観察し、突起、ピット、スクラッチ等の度
合を判定した。平均表面粗さは、市販品の装置、例えば
米国のZygo社製の「NewView 100」という名称の装
置を使用することによる、FDAを用いた走査型白色干
渉法あるいは位相測定法により測定した。
【0051】研磨試験における研磨速度(Vp)、平均
表面粗さ(Ra)並びにピット及びスクラッチの発生に
ついての結果は第1表に示す。平均表面粗さに対する研
磨速度の比率(Vp/Ra)については第2表に示す。
【0052】
【表1】第1表 研磨用 研磨速度 平均表面粗さ ピット及び組成物 (nm/分) (Å) スクラッチ発生 A 102 3.4 なし B 201 3.9 なし C 148 3.6 なし D 110 3.0 なし E 281 4.5 なし F 276 5.0 なし a 62 4.2 なし b 44 3.9 なし c 239 6.0 あり X 47 3.6 なしY 37 4.1 なし
【0053】
【表2】第2表 研磨用 平均表面粗さに対する研磨速度組成物 (1/分) A 300 B 515 C 411 D 367 E 624 F 552 a 148 b 113 c 398 X 130Y 90
【0054】第1表と第2表より、研磨剤組成物X及び
Yに挙げた高品質の研磨面が得られる研磨剤として知ら
れているシリカゾルと比較した場合、研磨剤組成物Aな
いしDはいずれも表面粗さが同等以上で、しかも研磨速
度が2倍以上速く優れていることがわかる。
【0055】研磨剤組成物AないしDと研磨剤組成物a
及びbを比較した場合、研磨剤組成物a及びbは研磨速
度が半分近く遅くなっていることがわかる。また平均粗
さに対する研磨速度の比率が小さいことがわかる。
【0056】研磨剤組成物E及びFと研磨剤組成物cを
比較した場合、研磨剤組成物E及びFの方が高速研磨性
で、平均粗さに対する研磨速度の比率が大きく、しかも
研磨面の平均表面粗さが良好でしかもピットが発生しな
いなど高品質の研磨面が得られていることがわかる。
【0057】
【発明の効果】本発明の砥粒は、α、β、γ及びδ型F
eO(OH)結晶構造からなる群から選ばれた単一また
は複数の結晶構造と、5〜500nmの一次粒子径とを
有する酸化水酸化鉄(III) 微粒子からなる粉末である。
本発明の酸化水酸化鉄(III)粉末は、湿式合成法で製造
するため高温焼成工程が入らない。このため酸化水酸化
鉄(III) 微粒子の表面がより活性であるため、研磨促進
剤として三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸から形
成される正塩を使用した場合でも、一部酸化水酸化鉄(I
II) 粒子が溶解して塩基性塩になると推定される。この
ため研磨促進剤として三価又は四価の金属と無機酸又は
有機酸から形成される塩基性塩を使用した場合と同じ効
果が期待できる。
【0058】即ち、塩基性硝酸アルミニウム及び塩基性
硝酸鉄等の塩基性塩は、硝酸アルミニウム及び硝酸鉄等
の正塩と同じようにアルミニウムディスクに対して化学
的研磨効果を促進させる効果を示すと共に、正塩より研
磨組成物のpHを中性側に保つ緩衝効果があるため、研
磨時の過剰なエッチングが抑制され表面粗さを小さく、
表面欠陥が少なくし、高品質の研磨面が得られるものと
考えられる。
【0059】本発明の酸化水酸化鉄(III) 粉末を砥粒と
した研磨用組成物は、高速研磨性を有し、しかも高品質
の研磨面が得られる研磨用組成物であるため、研磨工程
の生産性の向上及び低コスト化が可能である。しかも本
発明の酸化水酸化鉄(III) 粉末は安価である。
【0060】また、本発明の研磨用組成物は、工業製品
として供給され得るアルミニウムあるいはその合金から
なる磁気記録媒体ディスクの基材の上に設けられたNi
−P、Ni−B等のメッキ層の表面、特にNi90〜9
2%とP8〜10%の組成の硬質Ni−Pメッキ層及び
酸化アルミ層の表面あるいはアルミニウム、その合金、
アルマイトを研磨するのに有用である。
【0061】更に本発明の酸化水酸化鉄(III) 粉末を砥
粒とした研磨用組成物は多層配線基板上のタングステ
ン、銅、アルミニウム、パーマロイ等の金属層の精密研
磨にも有用である。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水、砥粒及び研磨促進剤からなるアルミ
    ニウムディスクの研磨組成物において、砥粒がα、β、
    γ及びδ型FeO(OH)結晶構造からなる群から選ば
    れた単一または複数の結晶構造と、5〜500nmの一
    次粒子径とを有する酸化水酸化鉄(III) 粉末であるこ
    と、及び研磨促進剤が三価又は四価の金属と無機酸又は
    有機酸から形成される塩であることを特徴とするアルミ
    ニウムディスクの研磨用組成物。
  2. 【請求項2】 水、砥粒及び研磨促進剤からなるアルミ
    ニウムディスクの研磨組成物において、砥粒がα、β、
    γ及びδ型FeO(OH)結晶構造からなる群から選ば
    れた単一または複数の結晶構造と、5〜500nmの一
    次粒子径とを有する酸化水酸化鉄(III) 粉末と、アルミ
    ナ、シリカ、ジルコニア及びセリアよりなる群から選ば
    れる少なくとも1種の粉末との混合物であること、及び
    研磨促進剤が三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸か
    ら形成される塩であることを特徴とするアルミニウムデ
    ィスクの研磨用組成物。
  3. 【請求項3】 水、砥粒及び研磨促進剤からなる多層配
    線基板の金属層の研磨組成物において、砥粒がα、β、
    γ及びδ型FeO(OH)結晶構造からなる群から選ば
    れた単一または複数の結晶構造と、5〜500nmの一
    次粒子径とを有する酸化水酸化鉄(III) 粉末であるこ
    と、及び研磨促進剤が三価又は四価の金属と無機酸又は
    有機酸から形成される塩であることを特徴とする多層配
    線基板の金属層の研磨用組成物。
  4. 【請求項4】 水、砥粒及び研磨促進剤からなる多層配
    線基板の金属層の研磨組成物において、砥粒がα、β、
    γ及びδ型FeO(OH)結晶構造からなる群から選ば
    れた単一または複数の結晶構造と、5〜500nmの一
    次粒子径とを有する酸化鉄粉末と、アルミナ、シリカ、
    ジルコニア及びセリアよりなる群から選ばれる少なくと
    も1種の粉末との混合物であること、及び研磨促進剤が
    三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される
    塩であることを特徴とする多層配線基板の金属層の研磨
    用組成物。
  5. 【請求項5】 研磨促進剤が三価又は四価の金属と無機
    酸又は有機酸から形成される塩基性塩であることを特徴
    とする請求項1、2、3又は4に記載の研磨用組成物。
  6. 【請求項6】 研磨促進剤が三価又は四価の金属と無機
    酸又は有機酸から形成される正塩であることを特徴とす
    る請求項1、2、3又は4に記載の研磨用組成物。
JP12852399A 1998-05-11 1999-05-10 研磨用組成物 Expired - Fee Related JP4099615B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12852399A JP4099615B2 (ja) 1998-05-11 1999-05-10 研磨用組成物

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12743398 1998-05-11
JP10-127433 1998-05-11
JP12852399A JP4099615B2 (ja) 1998-05-11 1999-05-10 研磨用組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000034469A true JP2000034469A (ja) 2000-02-02
JP4099615B2 JP4099615B2 (ja) 2008-06-11

Family

ID=26463392

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12852399A Expired - Fee Related JP4099615B2 (ja) 1998-05-11 1999-05-10 研磨用組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4099615B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005347519A (ja) * 2004-06-03 2005-12-15 Sony Corp 研磨装置、研磨方法および研磨用スラリー
JP2016091579A (ja) * 2014-11-05 2016-05-23 Hoya株式会社 磁気ディスク用基板の製造方法
CN105829097A (zh) * 2013-12-13 2016-08-03 福吉米株式会社 带有金属氧化物膜的物品
CN108389726A (zh) * 2018-02-11 2018-08-10 国家纳米科学中心 一种碳膜包覆的α-氧化铁纳米棒阵列及其制备方法和应用

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005347519A (ja) * 2004-06-03 2005-12-15 Sony Corp 研磨装置、研磨方法および研磨用スラリー
CN105829097A (zh) * 2013-12-13 2016-08-03 福吉米株式会社 带有金属氧化物膜的物品
EP3081377A4 (en) * 2013-12-13 2016-12-07 Fujimi Inc ARTICLE WITH A METAL OXIDE FILM
US20160355930A1 (en) * 2013-12-13 2016-12-08 Fujimi Incorporated Article having metal oxide coating
JP2016091579A (ja) * 2014-11-05 2016-05-23 Hoya株式会社 磁気ディスク用基板の製造方法
CN108389726A (zh) * 2018-02-11 2018-08-10 国家纳米科学中心 一种碳膜包覆的α-氧化铁纳米棒阵列及其制备方法和应用

Also Published As

Publication number Publication date
JP4099615B2 (ja) 2008-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6007592A (en) Polishing composition for aluminum disk and polishing process therewith
JP4450142B2 (ja) 研磨用組成物
JP4273475B2 (ja) 研磨用組成物
US6117220A (en) Polishing composition and rinsing composition
US6811583B2 (en) Polishing composition for a substrate for a magnetic disk and polishing method employing it
US6440187B1 (en) Alumina powder, process for producing the same and polishing composition
JP4009986B2 (ja) 研磨用組成物、およびそれを用いてメモリーハードディスクを研磨する研磨方法
JP4090589B2 (ja) 研磨用組成物
US5997620A (en) Polishing composition
US6193790B1 (en) Polishing composition
GB2354769A (en) Polishing compositions for magnetic disks
US6328774B1 (en) Polishing composition and method for producing a memory hard disk
JPH11268911A (ja) アルミナ粉末及びその製造方法並びに研磨用組成物
JP4099615B2 (ja) 研磨用組成物
JP4557105B2 (ja) 研磨用組成物
JP2005034986A (ja) 研磨用組成物とそれを用いた基板研磨方法
JP4224650B2 (ja) アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨方法
JP4114018B2 (ja) アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法
JP2000273445A (ja) 研磨用組成物
JP2850254B2 (ja) 研磨剤組成物
GB2384003A (en) Polishing method for memory hard disks

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060308

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080220

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080304

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110328

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees