JP2000033548A - Washing brush - Google Patents

Washing brush

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JP2000033548A
JP2000033548A JP3897199A JP3897199A JP2000033548A JP 2000033548 A JP2000033548 A JP 2000033548A JP 3897199 A JP3897199 A JP 3897199A JP 3897199 A JP3897199 A JP 3897199A JP 2000033548 A JP2000033548 A JP 2000033548A
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JP
Japan
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brush
wire
dust
cleaning brush
diameter
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JP3897199A
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Japanese (ja)
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Mamoru Tanaka
守 田中
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NSK Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To remove burr and dust at a μm level existing on a machined surface satisfactorily. SOLUTION: This washing brush 1 is constituted in such a manner that wire materials 4 for brush having several kinds of diameters are fixed on a brush holder 3 provided at a tip of a handle 2 using adhesive such as epoxy resin. As for the wire materials 4 for brush, four kinds of wire diameters of ϕ8 μm, ϕ12 μm, ϕ25 μm, and ϕ100 μm are used, and an amount of wire materials having the smallest wire diameter is increased most and a tip of its brush hair is prolonged most. Burr and dust at a μm level are removed by the wire materials 4 for brush having the diameter of ϕ8 μm, and burr and dust having the same size as each wire diameter are removed by the wire materials 4 for brush having the diameters of ϕ12 μm, ϕ25 μm, and ϕ100 μm. The bending rigidity of a tip hair having small wire diameter is reinforced to compensate the insufficiency of a removing force.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、宇宙・航空機、医
療機器、先端電子機器、半導体基板、その他精密機器一
般、等々に用いられる様々な部品、例えば転り軸受の外
内輪の軌道面、転動体面及び機械工業におけるプレス加
工、塗装加工等々の前処理に要求される平坦清浄面のバ
リや塵埃の除去に好適な洗浄ブラッシに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to various parts used in space and aircraft, medical equipment, advanced electronic equipment, semiconductor substrates, general precision equipment, etc. The present invention relates to a cleaning brush suitable for removing burrs and dust on a flat clean surface required for pre-processing such as pressing and painting in a moving body surface and a machine industry.

【0002】[0002]

【従来の技術】この分野の清浄化技術としては、歯ブラ
ッシ状の洗浄ブラッシを用いた洗浄や超音波洗浄器を用
いた洗浄が一般に知られている。
2. Description of the Related Art As a cleaning technique in this field, cleaning using a tooth brush-like cleaning brush or cleaning using an ultrasonic cleaner is generally known.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】洗浄ブラッシを用いた
洗浄では、ブラッシの線材の径が太すぎて微小なバリや
塵埃の大きさに対応しないため、例えば、線径が0.1
mmの毛先で1μmのバリや塵埃を除去するのは困難で
ある。又、μmレベルの物質は重力よりも分子間引力の
作用の方が大きく、除去した物が再付着する現象も顕著
である。
In the cleaning using the cleaning brush, the diameter of the wire of the brush is too large to correspond to the size of minute burrs or dusts.
It is difficult to remove burrs and dust of 1 μm with a hair tip of mm. In addition, a substance having a μm level exerts an intermolecular attractive force greater than gravity, and the phenomenon that the removed matter is reattached is remarkable.

【0004】更に、機械加工面はたとえ鏡面状に仕上が
っていても、ミクロ的に見れば数μm幅の畝が観察さ
れ、畝の陵部付近には恰も薙ぎ倒された様なバリが存在
している。この様なバリは超音波洗浄器の付与する力で
は到底除去できない。本発明はかかる不都合を解消する
ためになされたものであり、被加工面のバリや塵埃を良
好に除去することができる洗浄ブラッシを提供すること
を目的とする。
Further, even if the machined surface is finished in a mirror-like shape, ridges having a width of several μm are observed from a microscopic viewpoint, and burrs are present near the ridges. ing. Such burrs cannot be removed at all by the force applied by the ultrasonic cleaner. The present invention has been made in order to solve such inconvenience, and an object of the present invention is to provide a cleaning brush capable of satisfactorily removing burrs and dust on a surface to be processed.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明の係る洗浄ブラッシは、被加工面のバリ及
び塵埃の大きさ並びに該塵埃の付着強度に対応した線径
の毛先を有することを特徴とする。原則として数μmの
被除去物は、線径が数μmの毛先を有するブラッシを用
いて除去する。この場合、線径が小さい線材のみだと該
線材の径と長さの点から該ブラッシの腰折れや曲がりが
生じて除去力が不足するが、この除去力を補うために線
径の大きな線材を混在させる。線径の大きな線材につい
ては、該線径と同程度の大きさの被除去物が有る場合に
は該被除去物を除去する。
In order to achieve this object, a cleaning brush according to the present invention provides a brush having a wire tip corresponding to the size of burrs and dust on a surface to be processed and the adhesion strength of the dust. It is characterized by having. In principle, an object to be removed having a diameter of several μm is removed using a brush having a hair tip having a diameter of several μm. In this case, if only a wire having a small wire diameter is used, the brush may be bent or bent due to the diameter and length of the wire, and the removal force is insufficient, but a wire having a large diameter is used to compensate for the removal force. Mix. For a wire having a large wire diameter, if there is an object to be removed having a size similar to the wire diameter, the object to be removed is removed.

【0006】例えば、大きさの異なるバリや塵埃が数種
類混在すると想定した場合に、数μm、十数μm、二十
数μm、三十数μm、五十μm、百μmの夫々の径の線
材を混在させたブラッシとする。この場合、細い線径の
線材ほど量を多くし、また、細い線径の線材ほど毛先を
長くするのが好ましい。そして、夫々の線径の線材が同
程度の大きさのバリ、塵埃の除去に関与し、それより太
い線径の線材が除去力の不足を補う。
For example, when it is assumed that several types of burrs and dusts having different sizes are mixed, wire rods having diameters of several μm, ten and several μm, twenty and several μm, thirty and several μm, fifty μm, and hundred μm, respectively. Is used as a brush. In this case, it is preferable that the wire material has a larger amount as the wire material has a smaller diameter, and that the bristle tip has a longer length as the wire material has a smaller wire diameter. The wires having the respective wire diameters are involved in removing burrs and dust having substantially the same size, and wires having a larger wire diameter compensate for the shortage of the removing power.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図を
参照して説明する。図1は本発明の実施の形態の一例で
ある洗浄ブラッシを説明するための図、図2は図1のI
I−II線断面図、図3は本発明の他の実施の形態であ
る洗浄ブラッシを説明するための図、図4は図3の右側
面図、図5〜図12は洗浄ブラッシの製造方法を説明す
るための図、図13〜図20は本発明の他の実施の形態
である洗浄ブラッシを説明するための図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram for explaining a cleaning brush which is an example of an embodiment of the present invention, and FIG.
3 is a view for explaining a cleaning brush according to another embodiment of the present invention, FIG. 4 is a right side view of FIG. 3, and FIGS. 5 to 12 are manufacturing methods of the cleaning brush. FIG. 13 to FIG. 20 are views for explaining a cleaning brush according to another embodiment of the present invention.

【0008】図1及び図2は歯ブラッシ状の洗浄ブラッ
シ1を示しており、この洗浄ブラッシ1は柄2の先端に
設けられたブラッシホルダ3に数種類の径のブラッシ用
線材4がエポキシ樹脂等の接着剤Sによって固定されて
いる。ブラッシ用線材4の材質は、被加工面に存在する
被除去物の物質や状況によって、グラスファイバー、カ
ーボンファイバー等の非金属物若しくはステンレススチ
ール、タングステン等の金属又はこれらの非金属と金属
とを組み合わせたものを適宜選択して用いることができ
る。
FIGS. 1 and 2 show a tooth brush-like cleaning brush 1. In this cleaning brush 1, a brush holder 3 provided at the tip of a handle 2 is provided with brush wires 4 of various diameters such as epoxy resin. Is fixed by the adhesive S. The material of the wire 4 for brushing may be a non-metallic material such as glass fiber or carbon fiber, a metal such as stainless steel or tungsten, or a metal such as these, depending on the substance or condition of the material to be removed present on the surface to be processed. The combination can be appropriately selected and used.

【0009】ここで、この実施の形態では、ブラッシ用
線材4として、φ8μm、φ12μm、φ25μm、φ
100μmの4種類の線径のものを用い、線径の細い線
材ほど量を多くするとともに、毛先を長くしている。な
お、ブラッシ用線材4の線径は、この実施の形態に限定
されず、被加工面に存在するバリや塵埃の大きさを想定
して適宜変更して決定する。
In this embodiment, as the brush wire 4, φ8 μm, φ12 μm, φ25 μm, φ
Four types of wire diameters of 100 μm are used, and the thinner the wire, the larger the amount and the longer the bristle tips. In addition, the wire diameter of the brush wire 4 is not limited to this embodiment, and is appropriately changed and determined assuming the size of burrs and dust existing on the surface to be processed.

【0010】そして、φ8μmの線径のブラッシ用線材
4によってμmレベルのバリ、塵埃を除去し、φ12μ
m、φ25μm、φ100μmの線径のブラッシ用線材
4によって各線径と同程度の大きさのバリ、塵埃を除去
すると共により細い線径の毛先の曲がり剛性を補強して
除去力の不足を補う。この場合、線径の細い線材ほど毛
先を長くしているので、被加工面の洗浄に際して、ま
ず、最も細いφ8μmのブラッシ用線材4が最初にたわ
み、次いで、順次、φ12μm、φ25μmのブラッシ
用線材4がたわみ、最後に最も太いφ100μmのブラ
ッシ用線材4がたわむようになるので、細い毛先から太
い毛先によって被加工面のバリ、塵埃を良好に除去する
ことができるとともに、洗浄ブラッシ1の毛先に除去さ
れたバリ、塵埃が付着しにくくなってバリ、塵埃を排除
し易くすることができる。なお、除去されたバリ、塵埃
が洗浄ブラッシ1の毛先に付着するのを防ぐため、ブラ
ッシングの最中に気体もしくは液体を高速で流すように
してもよく、また、適宜、毛先に付着したバリ、塵埃を
別のブラッシで除去するようにしてもよい。
[0010] Then, burrs and dusts at the μm level are removed by the brush wire 4 having a wire diameter of φ8 μm, and
A brush wire 4 having a wire diameter of m, φ25 μm, φ100 μm removes burrs and dusts of the same size as each wire diameter, and reinforces the bending stiffness of a finer wire diameter to compensate for insufficient removal power. . In this case, the thinner the wire diameter, the longer the bristle tips. Therefore, when cleaning the surface to be processed, first, the thinnest brush wire 4 of φ8 μm bends first, and then the brush wires 4 of φ12 μm and φ25 μm sequentially. Since the wire 4 bends and finally the thickest wire wire 4 for φ100 μm bends, the bristles and dust on the surface to be processed can be satisfactorily removed from the thin ends to the thick ends. The burr and dust removed from the hair tips are less likely to adhere to the bristles, making it easier to remove the burr and dust. In order to prevent the removed burrs and dust from adhering to the tips of the cleaning brush 1, a gas or a liquid may be caused to flow at a high speed during the brushing. Burrs and dust may be removed by another brush.

【0011】次に、洗浄ブラッシ1の製法の一例を説明
する。即ち、図5〜図12に示すように、各線径のブラ
ッシ用線材4毎に所定の本数を整列状態で粘着テープ5
に固定して束状に巻き取っておき、巻き取ったものを線
径毎に適宜組み合わせてブラッシホルダ3にエポキシ樹
脂等の接着剤Sよって固定する。このようにすると、線
径の異なるμmレベルのブラッシ用線材4を容易に束ね
ることができるので、洗浄ブラッシ1の製作を簡単にす
ることができる。この場合、線径の異なるブラッシ用線
材4に対する粘着テープ5の位置及び数は毛先の長さに
応じて決定する。また、単一線径のブラッシ用線材4を
粘着テープ5に固定してこれを環状に多重に巻き取るよ
うにしてもよい。
Next, an example of a method for manufacturing the cleaning brush 1 will be described. That is, as shown in FIG. 5 to FIG. 12, a predetermined number of the adhesive tapes 5 are arranged in a state of being aligned for each brush wire 4 of each wire diameter.
And wound up in a bundle, and the wound pieces are appropriately combined for each wire diameter and fixed to the brush holder 3 with an adhesive S such as epoxy resin. In this way, the brush wires 4 having a wire diameter of μm level having different wire diameters can be easily bundled, so that the manufacturing of the cleaning brush 1 can be simplified. In this case, the position and number of the adhesive tapes 5 with respect to the brush wires 4 having different wire diameters are determined according to the length of the bristle tips. Further, the brush wire 4 having a single wire diameter may be fixed to the adhesive tape 5 and may be wound up in a loop in a multiplex manner.

【0012】なお、上記実施の形態では、本発明を歯ブ
ラッシ状の洗浄ブラッシ1に適用した場合を例に採った
が、これに限定されず、例えば、図3及び図4に示すよ
うに、円筒状のブラッシホルダ10にφ8μm、φ25
μm、φ100μmの線径のブラッシ用線材4をエポキ
シ樹脂等の接着剤Sよって固定してもよく、また、図1
3〜図16のようにしてもよい。
In the above embodiment, the case where the present invention is applied to the toothbrush-like cleaning brush 1 is taken as an example. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIGS. Φ8 μm, φ25 in cylindrical brush holder 10
The brush wire 4 having a wire diameter of 100 μm or 100 μm may be fixed with an adhesive S such as an epoxy resin.
3 to 16 may be used.

【0013】図13はステンレス鋼製ワイヤ20をねじ
り、先端L2 の部分に細い線材21を取り付けた例で、
先端に行くに従って細くなるテーパー状のブラッシの例
である。これにより、細孔等の側壁、孔底などを洗浄す
るようにしたものである。図14は取付金具30に多列
に埋め込んだ細い線材31を加締めにより取り付けたも
のである。これにより、製品の表面或いは溝底、溝側面
を洗浄するようにしたものである。なお、図14では矩
形状のブラッシとしているが、取付金具を略円形やその
他の形状にして線材31を取付金具の形状に応じて配置
するようにしてもよい。
FIG. 13 shows an example in which a stainless steel wire 20 is twisted and a thin wire 21 is attached to the tip L 2 .
It is an example of a tapered brush that becomes thinner toward the tip. Thus, the side walls of the pores and the like, the bottoms of the pores, and the like are cleaned. FIG. 14 shows an example in which thin wires 31 embedded in multiple rows in a mounting bracket 30 are attached by caulking. Thus, the surface of the product, the bottom of the groove, and the side surface of the groove are cleaned. In FIG. 14, the brush is a rectangular brush. However, the fitting may be substantially circular or another shape, and the wire 31 may be arranged according to the shape of the fitting.

【0014】図15は2枚のバネ板40の間にブラッシ
となる線材を内外径に露出するように挟み、2枚のバネ
板40をコイルスプリング状としてらせんの内外周面に
露出した線材41a,41bで洗浄するようにしたもの
である。この場合、バネ板40より小径のコイルスプリ
ング状線材をバネ板40の内周部に同様にして1本以上
挿入してブラッシ全体の剛性を高めるようにしてもよ
い。
FIG. 15 shows a wire 41a which is sandwiched between two spring plates 40 so as to be exposed to the inner and outer diameters, and the two spring plates 40 are formed as coil springs and are exposed on the inner and outer peripheral surfaces of the spiral. , 41b. In this case, one or more coil spring-shaped wires having a smaller diameter than the spring plate 40 may be similarly inserted into the inner peripheral portion of the spring plate 40 to increase the rigidity of the entire brush.

【0015】図16は靴磨き状のブラッシとしたもので
あり、線材50は千鳥状又は平行に配置して接着剤又は
加締め等によりホルダー51に固定したものである。な
お、図13〜図16において、ブラッシを構成する線材
は図1〜図4のように異径の組み合わせ又はその高さを
代えて設けてもよい。ところで、金属、特に鋼を用いる
機械産業は幾何学的平面を切削、研削、ホーニング、ラ
ツピング加工等で処理しており、例えば、ブロックゲー
ジ、鋼球、ローラー等々はその最たる物である。
FIG. 16 shows a shoe polish-like brush, in which the wires 50 are arranged in a staggered or parallel manner and fixed to the holder 51 by an adhesive or caulking. 13 to 16, the wires constituting the brush may be provided in a combination of different diameters or with different heights as shown in FIGS. By the way, the mechanical industry using metal, especially steel, processes a geometric plane by cutting, grinding, honing, lapping, and the like, and for example, a block gauge, a steel ball, a roller, and the like are the best.

【0016】半導体産業では、最近になりシリコンウェ
ハーの超平坦清浄化面の加工技術の開発が進み、金属面
もこれに相応する技術が要求される様になって来ている
が、単結晶によるシリコンに比べ金属は多結晶体であり
不純物を多く含むため、数ナノメーターレベルの精度に
なると様々な問題が出て来ている。従来からの加工法は
メカニカルな加工であり、主として削る事に依存してい
るため、精度を上げても本質的に削られた面は疵の集合
体であり、疵が小さくなるに過ぎない。また、疵と疵の
界面にはバリが生じ、このバリが互いに接触すると面上
の塵埃になり、数ミクロンの塵埃はファンデルワース力
が重力より大きくなって一般的に行われる超音波洗浄法
等では被加工面より除去することが難しくなる。
In the semiconductor industry, the development of a processing technology for an ultra-flat cleaning surface of a silicon wafer has recently been advanced, and a technology corresponding to the metal surface has been required. Metals are more polycrystalline and contain more impurities than silicon, so various problems have come up with accuracy of several nanometers. The conventional processing method is a mechanical processing and mainly depends on shaving. Therefore, even if the accuracy is increased, the cut surface is essentially an aggregate of flaws, and the flaws are only reduced. In addition, burrs are formed at the interface between the flaws, and when the burrs come into contact with each other, they become dust on the surface. Dust of several microns is generally subjected to an ultrasonic cleaning method when the van der Waals force becomes larger than gravity. In such a case, it becomes difficult to remove it from the surface to be processed.

【0017】これらの塵埃を除去するにはシリコンウェ
ハー面は例えば、溶融の様な化学的な処理がされてい
る。しかし、金属面については、上述したように、様々
な構成原子や不純物を含むため、化学研磨の様な処理が
非常に難しく、しかも、微小塵埃やバリの中に化学的処
理(例えば、溶融)の出来ない物質が存在してしまう。
また、化学的処理により、錆びと称する様な酸化物で被
加工物に好ましくない物が生成される事も多々あり、更
には、被加工面の加工法の大部分は被加工面より硬く破
砕し易い微細砥粒を用いるため、超微細な加工粒子が被
加工面に刺さり込む現象も現れ、表面機能を悪くする。
In order to remove these dusts, the silicon wafer surface is subjected to a chemical treatment such as melting. However, since the metal surface contains various constituent atoms and impurities as described above, processing such as chemical polishing is extremely difficult, and furthermore, chemical processing (for example, melting) in fine dust and burrs is performed. There are substances that cannot be used.
In addition, due to chemical treatment, undesired substances are often formed on the workpiece with oxides called rust, and most of the processing methods of the processing surface are crushed harder than the processing surface. Since fine abrasive grains that are easy to use are used, a phenomenon in which ultrafine processed particles stick into the surface to be processed also appears, deteriorating the surface function.

【0018】そこで、本発明者等は1〜数μmのバリ、
塵埃を被加工面から良好に除去すべく、数ミクロン〜数
十ミクロンの線径のステンレス、ガラス、カーボン等の
ファイバー(線材)を束ねたものに例えば燐酸エステル
や硫黄化合物等の化学研磨剤を含ませて、これらを結合
剤で固着した洗浄ブラッシュを考案した。なお、化学研
磨剤の種類とその量は被加工物の種類と必要とする表面
精度により適宜選択して決定され、また、ファイバー毛
先の曲がり剛性は結合剤によって補強されるようになっ
ている。
Therefore, the present inventors have proposed a burr of 1 to several μm,
In order to remove dust effectively from the surface to be processed, a bundle of fibers (wires) such as stainless steel, glass, carbon, etc. having a wire diameter of several microns to several tens microns is coated with a chemical polishing agent such as a phosphoric acid ester or a sulfur compound. A cleaning brush was devised in which these were included and fixed with a binder. The type and amount of the chemical polishing agent are appropriately selected and determined depending on the type of the workpiece and the required surface accuracy, and the bending rigidity of the fiber tip is reinforced by the binder. .

【0019】図17〜図19はこの洗浄ブラッシをボー
ルラップ盤に適用した実施形態例を示す。ボールラップ
盤は、ベースプレート70の上側に砥石部71が固着さ
れた円形の固定盤72と、ベースプレート73の下側に
砥石部74が固着されて該砥石面74aを固定盤72の
砥石面72aに対向させた状態で同心に配置された円形
の回転盤75とを備える。
FIGS. 17 to 19 show an embodiment in which the cleaning brush is applied to a ball lapping machine. The ball lapping machine has a circular fixed plate 72 having a grindstone portion 71 fixed to the upper side of a base plate 70, and a grindstone portion 74 fixed to a lower side of the base plate 73, and the grindstone surface 74 a is fixed to the grindstone surface 72 a of the fixed plate 72. And a circular turntable 75 concentrically arranged in a facing state.

【0020】固定盤72及び回転盤75の各砥石面72
a,74aには環状のボール溝76が形成されており、
各砥石面72a,74aのボール溝76で鋼球77を挟
み込み、この状態で回転盤75を回転させることにより
鋼球77のラッピング加工が行われる。なお、鋼球は遊
離砥粒を用いる所謂ラッピング或いはボールラップ盤の
砥石を使ってラップを行う砥石ラッピングによって製造
される。
Each grinding wheel surface 72 of the fixed disk 72 and the rotating disk 75
a, 74a is formed with an annular ball groove 76,
The steel ball 77 is sandwiched between the ball grooves 76 of the grindstone surfaces 72a and 74a, and the lapping of the steel ball 77 is performed by rotating the rotating disk 75 in this state. The steel balls are manufactured by so-called lapping using free abrasive grains or grinding stone lapping in which lapping is performed using a grinding wheel of a ball lapping machine.

【0021】ここで、この実施の形態では、固定盤72
及び回転盤75の各砥石部71,74として、数ミクロ
ン〜数十ミクロンの線径のステンレス、ガラス、カーボ
ン等のファイバー(線材)78を束ねたものに例えば燐
酸エステルや硫黄化合物等の化学研磨剤79を含ませ
て、これらを結合剤80で固着した洗浄ブラッシュを用
いている。
In this embodiment, the fixed plate 72
And, as each of the grindstone portions 71 and 74 of the rotating disk 75, a bundle of fibers (wires) 78 of stainless steel, glass, carbon, or the like having a wire diameter of several microns to several tens microns is chemically polished with, for example, a phosphate ester or a sulfur compound. A cleaning brush containing an agent 79 and fixing them with a binder 80 is used.

【0022】そして、鋼球77の被加工面に存在する微
小バリや塵埃をファイバー78によって除去し、また、
ファィバ−78にて除去できても再付着するような超微
小塵埃やファイバー78では除去できない微小バリを化
学研磨剤で溶かすと共に、含有炭素の様な化学研磨剤に
溶けない物質はそれらの物質の周囲を溶かしてファイバ
―78にて除去する。
Then, fine burrs and dust existing on the surface to be processed of the steel ball 77 are removed by the fiber 78.
Ultra-fine dust that can be removed by the fiber 78 but re-adheres and micro-burrs that cannot be removed by the fiber 78 are dissolved with a chemical polishing agent, and substances that are insoluble in the chemical polishing agent such as carbon contained are those substances. Is melted and removed by the fiber-78.

【0023】なお、洗浄ブラッシによる加工後は化学研
磨剤による研磨の進行を確実に止める為、中和処理と研
磨の進行が確実に止まったことの確認のために超純水中
でのイオン濃度の測定を行う。また、被加工物に炭素が
含まれていると、化学研磨により被加工面の表面に炭素
が析出するが、この様な場合には、加工後に析出炭素
を、例えば先に図1〜図16で説明した洗浄ブラッシで
除去するようにするとよい。
After processing by the cleaning brush, the progress of the polishing by the chemical abrasive is reliably stopped, and the ion concentration in the ultrapure water is checked in order to confirm that the progress of the neutralization treatment and the polishing has been completely stopped. Measurement. If the workpiece contains carbon, the carbon is deposited on the surface of the workpiece by chemical polishing. In such a case, the deposited carbon is removed after the processing, for example, as shown in FIGS. It is preferable to remove with the cleaning brush described in the above.

【0024】このように、この実施の形態では、機械加
工面に存在するμmレベルのバリや塵埃及びラッピング
砥粒の残留破砕片を略完全に除去して滑らかな面を得る
ことができ、且つ、他部品と接触しても塵埃の生じない
面とすることができる。なお、この実施の形態では、ボ
ールラップ盤の砥石部に洗浄ブラッシを適用した場合を
例に採ったが、これに代えて、図20に示す超仕上げ盤
の砥石部90やホーニング盤の砥石部(図示せず。)と
して、図19及び図20で説明した様に被加工物に合わ
せた形状の洗浄ブラッシを適用するようにしてもよい。
As described above, in this embodiment, a smooth surface can be obtained by almost completely removing μm-level burrs, dust, and residual crushed pieces of lapping abrasive grains present on the machined surface. In addition, a surface that does not generate dust even when it comes into contact with other components can be provided. In this embodiment, a case in which a cleaning brush is applied to the grindstone portion of the ball wrapping machine is taken as an example. Instead, however, the grindstone portion 90 of the super-finishing machine and the grindstone portion of the honing machine shown in FIG. As shown in FIG. 19 and FIG. 20, a cleaning brush having a shape suitable for the workpiece may be applied.

【0025】また、通常のホーニング加工の後に、この
実施の形態の洗浄ブラッシによる被加工面の加工を行う
ようにしてもよく、更には、場合によっては加工対象に
応じて洗浄ブラッシに砥粒を混入させてもよい。更に、
加工後の析出炭素を図1〜図16で説明した洗浄ブラッ
シで除去する場合に、該除去を超音波流で行うようにし
てもよい。
After the normal honing, the surface to be processed may be processed by the cleaning brush of this embodiment. In some cases, abrasive grains may be applied to the cleaning brush according to the processing object. You may mix. Furthermore,
When the deposited carbon after processing is removed by the cleaning brush described with reference to FIGS. 1 to 16, the removal may be performed by an ultrasonic flow.

【0026】[0026]

【発明の効果】上記の説明から明らかなように、本発明
によれば、被加工面に存在するμmレベルのバリや塵埃
を良好に除去することができるという効果が得られる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to obtain an effect that burrs and dusts at the μm level existing on the surface to be processed can be removed satisfactorily.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態の一例である洗浄ブラッシ
を説明するための図である。
FIG. 1 is a diagram for explaining a cleaning brush as an example of an embodiment of the present invention.

【図2】図1のII−II線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG.

【図3】本発明の他の実施の形態である洗浄ブラッシを
説明するための図である。
FIG. 3 is a view for explaining a cleaning brush according to another embodiment of the present invention.

【図4】図3の右側面図である。FIG. 4 is a right side view of FIG.

【図5】洗浄ブラッシの製造方法を説明するための図で
ある。
FIG. 5 is a diagram for explaining a method of manufacturing a cleaning brush.

【図6】図5の右側面図である。FIG. 6 is a right side view of FIG.

【図7】洗浄ブラッシの製造方法を説明するための図で
ある。
FIG. 7 is a view for explaining a method of manufacturing a cleaning brush.

【図8】図7の右側面図である。FIG. 8 is a right side view of FIG. 7;

【図9】洗浄ブラッシの製造方法を説明するための図で
ある。
FIG. 9 is a diagram for explaining a method of manufacturing a cleaning brush.

【図10】図9の右側面図である。FIG. 10 is a right side view of FIG. 9;

【図11】洗浄ブラッシの製造方法を説明するための図
である。
FIG. 11 is a diagram for explaining a manufacturing method of the cleaning brush.

【図12】図11の右側面図である。FIG. 12 is a right side view of FIG.

【図13】本発明の他の実施の形態である洗浄ブラッシ
を説明するための図である。
FIG. 13 is a view for explaining a cleaning brush according to another embodiment of the present invention.

【図14】本発明の他の実施の形態である洗浄ブラッシ
を説明するための図である。
FIG. 14 is a view for explaining a cleaning brush according to another embodiment of the present invention.

【図15】本発明の他の実施の形態である洗浄ブラッシ
を説明するための図である。
FIG. 15 is a view for explaining a cleaning brush according to another embodiment of the present invention.

【図16】本発明の他の実施の形態である洗浄ブラッシ
を説明するための図である。
FIG. 16 is a view for explaining a cleaning brush according to another embodiment of the present invention.

【図17】本発明の他の実施の形態である洗浄ブラッシ
をボールラップ盤に用いた例を説明するための図であ
る。
FIG. 17 is a view for explaining an example in which a cleaning brush according to another embodiment of the present invention is used for a ball lapping machine.

【図18】ボールラップ盤を構成する固定盤の斜視図で
ある。
FIG. 18 is a perspective view of a fixed plate constituting the ball wrapping machine.

【図19】図18の部分拡大断面図である。FIG. 19 is a partially enlarged sectional view of FIG. 18;

【図20】本発明の他の実施の形態である洗浄ブラッシ
を説明するための図である。
FIG. 20 is a view for explaining a cleaning brush according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…洗浄ブラッシ 2…柄 3…ブラッシホルダ 4…線材 1. Cleaning brush 2. Pattern 3. Brush holder 4. Wire rod

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被加工面のバリ及び塵埃の大きさ並びに
該塵埃の付着強度に対応した線径の毛先を有することを
特徴とする洗浄ブラッシ。
1. A cleaning brush having a bristles having a wire diameter corresponding to the size of burrs and dust on a surface to be processed and the adhesion strength of the dust.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018134422A (en) * 2018-03-02 2018-08-30 花王株式会社 Cosmetic applicator
CN111633577A (en) * 2020-05-19 2020-09-08 深圳市永宏达科技有限公司 Brush polishing disc and manufacturing method thereof

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