JP2000031622A - Method of forming through-hole - Google Patents

Method of forming through-hole

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JP2000031622A
JP2000031622A JP10216411A JP21641198A JP2000031622A JP 2000031622 A JP2000031622 A JP 2000031622A JP 10216411 A JP10216411 A JP 10216411A JP 21641198 A JP21641198 A JP 21641198A JP 2000031622 A JP2000031622 A JP 2000031622A
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hole
copper
carbon dioxide
copper foil
holes
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JP10216411A
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Japanese (ja)
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Morio Take
杜夫 岳
Nobuyuki Ikeguchi
信之 池口
Yasuo Tanaka
恭夫 田中
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of forming a through-hole, which can make a hole with a small diameter with high reliability on the hole wall in the hole position at the surface or the rear at high speed, using a carbon dioxide laser. SOLUTION: This is a method of forming a through-hole or a via hole which bores a hole by applying a carbon dioxide gas laser at least, and arranging a paint film or a sheet of organic matter including metallic powder by 3-97 volume % on the surface of the copper foil of the copper-clad plate, and subjecting it to irradiation by a carbon dioxide laser with required pulses, in a method of forming a through-hole or a via hole in a copper-clad plate which has at least two or more layers of copper, by the pulse oscillation of a carbon dioxide laser, using energy selected from 20 to 60 mJ which is pulse sufficient to remove a copper foil by the carbon dioxide laser.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、メカニカルドリル
に代わる少なくとも2層以上の銅の層を有する銅張板の
貫通孔あけまたはビア孔あけ方法に関する。さらに詳し
くは、予め表面銅箔をエッチング除去することなく、銅
箔表面に補助材料を配置し、この上から高出力の炭酸ガ
スレーザーを照射して貫通孔またはビア孔を形成する方
法に関する。本発明の方法により得られた銅張板を用い
たプリント配線板は、主として小型の半導体プラスチッ
クパッケージ用として使用される。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for drilling a through hole or a via hole in a copper clad board having at least two copper layers instead of a mechanical drill. More specifically, the present invention relates to a method of forming a through hole or a via hole by arranging an auxiliary material on a copper foil surface without etching the surface copper foil in advance, and irradiating a high-output carbon dioxide laser from above. The printed wiring board using the copper-clad board obtained by the method of the present invention is mainly used for small semiconductor plastic packages.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体プラスチックパッケージ等
に用いられる高密度のプリント配線板は、スルーホール
用の貫通孔をドリルであけていた。近年、ますますドリ
ルの径は小径となり、孔径は 0.15mm以下となってきて
おり、このような小径の孔をあける場合、ドリル径が細
いため、孔あけ時にドリルが曲がる、折れる、加工速度
が遅い等の欠点があり、生産性、信頼性等に問題のある
ものであった。上下の銅箔にあらかじめネガフィルムを
使用して所定の方法で同じ大きさの孔をあけておき、炭
酸ガスレーザーで上下を導通するスルーホールを形成し
ようとすると、上下の孔の位置にズレを生じ、ランドが
形成しにくい、製造工程が増える等の欠点があった。ま
た、金属光沢を有する銅箔表面へ炭酸ガスレーザーを直
接照射しても加工できないという欠点があった。また、
高密度のプリント配線板の回路の幅とスペースとはます
ます狭くなり、ライン/スペースが100μm/100μm以
下となるものも作成されており、この場合もパターン切
れ、或いはショート不良が多く、歩留りの悪いものであ
った。
2. Description of the Related Art Hitherto, in high-density printed wiring boards used for semiconductor plastic packages and the like, through holes for through holes have been drilled. In recent years, the diameter of drills has become increasingly smaller, and the hole diameter has become smaller than 0.15 mm.When drilling such small holes, the drill diameter is small, so the drill will bend, break, and process at drilling. It has disadvantages such as slowness, and has problems in productivity, reliability, and the like. Using a negative film on the upper and lower copper foils in advance to make holes of the same size by a predetermined method, and trying to form a through hole that conducts up and down with a carbon dioxide gas laser, the position of the upper and lower holes is shifted. This has disadvantages such as difficulty in forming lands and an increase in the number of manufacturing steps. In addition, there is a drawback that processing cannot be performed even if a carbon dioxide gas laser is directly irradiated on a copper foil surface having a metallic luster. Also,
The circuit width and space of high-density printed wiring boards are becoming increasingly narrower, and lines / spaces of less than 100 μm / 100 μm have also been created. It was bad.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、以上
の問題点を解決した、銅箔表面に補助材料を配置し、こ
の上から高出力の炭酸ガスレーザーを照射して、小径の
孔を高速で、孔壁も信頼性良く形成する方法の提供にあ
る。加えて、発生したバリを薬液でエッチング除去する
とともに、表面銅箔の一部の厚さを平面的にエッチング
除去し、その後の銅メッキにおいて、スルーホール信頼
性に優れ、かつ表面の回路形成においても、高密度の回
路が形成できるようにすることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems by arranging an auxiliary material on the surface of a copper foil and irradiating a high-output carbon dioxide laser from above to form a small-diameter hole. It is an object of the present invention to provide a method for forming a hole wall at high speed with high reliability. In addition, the generated burrs are removed by etching with a chemical solution, and part of the thickness of the surface copper foil is removed by etching in a planar manner.In the subsequent copper plating, the through hole reliability is excellent and the surface circuit is formed. Another object is to form a high-density circuit.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、銅
箔を炭酸ガスレーザーで除去できるに十分な20〜60mJ
/パルスから選ばれたエネルギーを用いて、炭酸ガスレ
ーザーのパルス発振により炭酸ガスレーザーを照射し、
少なくとも2層以上の銅の層を有する銅張板の銅箔を加
工して貫通孔またはビア孔をあける孔あけ方法におい
て、炭酸ガスレーザーが照射される銅張板の銅箔表面
に、金属粉の1種あるいは2種以上の成分を3〜97容
積%含む有機物よりなる塗膜又はシートを配置してスル
ーホール用貫通孔を銅張板にあけることにより、非常に
効率よく、多数の小径のスルーホール用貫通孔またはビ
ア孔を形成できることを見いだし完成された。その後、
銅箔の両表面を平面的にエッチングし、もとの銅箔の一
部の厚さをエッチング除去することにより、同時に孔部
に張り出した銅箔バリをエッチング除去し、孔周囲の銅
箔が残存したスルーホール用またはビア孔用メッキ孔を
形成することによって、スルーホールにおいては上下の
孔の銅箔位置がズレることもなく、ランドが形成でき、
スルーホールは上下曲がることもなく形成でき、且つ、
表層の銅箔が薄くなるために、その後の金属メッキでメ
ッキアップして得られた表裏銅箔の回路形成において、
ショートやパターン切れ等の不良の発生もなく、高密度
のプリント配線板を作成することができる。また、加工
速度はドリルであける場合に比べて格段に速く、生産性
も良好で、経済性にも優れている。スルーホール用貫通
孔またはビア孔あけ後に、薬液でエッチングする方法以
外に、機械で表面を研磨することも可能であるが、寸法
安定性、バリの除去、細密パターン作成の点からも、薬
液でエッチングすることが好ましい。また本発明の孔あ
け方法は、両面板だけでなく、多層板にも適用できる。
That is, the present invention relates to a method for removing copper foil by using a carbon dioxide gas laser, which has a thickness of 20 to 60 mJ.
Irradiates the carbon dioxide laser by the pulse oscillation of the carbon dioxide laser using the energy selected from the / pulse,
In a method of forming a through-hole or a via hole by processing a copper foil of a copper-clad board having at least two copper layers, a metal powder is applied to a surface of the copper foil of the copper-clad board to be irradiated with a carbon dioxide gas laser. By arranging a coating film or a sheet made of an organic material containing 3 to 97% by volume of one or more kinds of the above components and forming through holes for through holes in the copper clad board, it is very efficient to use a large number of small diameter The inventor has found that a through hole or a via hole for a through hole can be formed and completed. afterwards,
By etching both surfaces of the copper foil two-dimensionally and etching away part of the thickness of the original copper foil, the copper foil burrs that overhang the hole at the same time are etched away, and the copper foil around the hole is removed. By forming plating holes for the remaining through holes or via holes, lands can be formed without displacing the copper foil positions of the upper and lower holes in the through holes,
The through hole can be formed without bending up and down, and
Because the surface copper foil is thin, in the circuit formation of the front and back copper foil obtained by plating up with subsequent metal plating,
A high-density printed wiring board can be produced without occurrence of a defect such as a short circuit or a broken pattern. Also, the processing speed is much faster than when drilling, the productivity is good, and the economy is excellent. After drilling through holes or via holes for through holes, the surface can be polished with a machine other than the method of etching with a chemical solution.However, from the viewpoint of dimensional stability, removal of burrs, creation of fine patterns, Etching is preferred. Further, the hole making method of the present invention can be applied to not only a double-sided board but also a multilayer board.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明は、20〜60mJ/パル
スから選ばれたエネルギーを用いて炭酸ガスレーザーの
パルス発振により、少なくとも2層以上の銅の層を有す
る銅張板の銅箔表面に補助材料を配置して、この上に炭
酸ガスレーザーを照射して銅張板にスルーホール用貫通
孔、ビア孔を形成する方法であり、その後孔部に発生し
た銅箔のバリを薬液でエッチング除去すると同時に、銅
箔の表面の一部をエッチング除去して、スルーホール用
貫通孔、ビア孔を有する高密度プリント配線板に用いる
銅張板を得る方法である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention relates to a method of manufacturing a copper clad board having at least two copper layers by pulse oscillation of a carbon dioxide gas laser using energy selected from 20 to 60 mJ / pulse. This is a method of arranging an auxiliary material and irradiating a carbon dioxide gas laser on this to form a through hole for a through hole and a via hole in the copper clad board, and then etch the burrs of the copper foil generated in the hole with a chemical solution Simultaneously with the removal, a part of the surface of the copper foil is removed by etching to obtain a copper-clad board used for a high-density printed wiring board having a through hole for a through hole and a via hole.

【0006】本発明で使用する銅張板としては、無機、
有機基材補強熱硬化性樹脂銅張積層板、フィルムの両面
に銅箔の付いた両面板、及びそれらの多層板が挙げられ
る。また、樹脂付き銅箔、樹脂シート、塗料塗布による
ビルドアップ多層板も挙げられる。中でも、ガラス布を
基材とし、熱硬化性樹脂組成物を絶縁層として用い、染
料または顔料を配合して黒色とし、かつ無機絶縁性充填
剤を10〜60容積%混合して、均質とした構成の両面
銅張積層板、多層板が好適に用いられる。
The copper-clad board used in the present invention includes inorganic,
Organic substrate reinforced thermosetting resin copper-clad laminates, double-sided boards having copper foil on both sides of a film, and multilayer boards thereof. Also, a copper foil with a resin, a resin sheet, and a build-up multilayer board by applying a paint may be used. Above all, a glass cloth is used as a base material, a thermosetting resin composition is used as an insulating layer, a dye or a pigment is blended to make black, and an inorganic insulating filler is mixed at 10 to 60% by volume to be homogeneous. A double-sided copper-clad laminate and a multilayer board having the above configuration are preferably used.

【0007】基材としては、一般に公知の無機、有機の
繊維の織布、不織布が使用できる。無機繊維としては、
E,A,C,L,M,S,D,N,C,クォーツガラス
等が挙げられ、単独或いは混抄して用いられる。有機繊
維としては、全芳香族ポリアミド、液晶ポリエステル等
が挙げられる。さらにポリイミドフィルム等も基材とし
て使用できる。
As the substrate, generally known woven or nonwoven fabrics of inorganic or organic fibers can be used. As inorganic fibers,
E, A, C, L, M, S, D, N, C, quartz glass and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination. Examples of the organic fibers include wholly aromatic polyamides and liquid crystal polyesters. Further, a polyimide film or the like can be used as the base material.

【0008】本発明で使用される熱硬化性樹脂組成物の
樹脂としては、一般に公知の熱硬化性樹脂が使用され
る。具体的には、エポキシ樹脂、多官能性シアン酸エス
テル樹脂、多官能性マレイミド−シアン酸エステル樹
脂、多官能性マレイミド樹脂、不飽和基含有ポリフェニ
レンエーテル樹脂等が挙げられ、これらの1種或いは2
種類以上が組み合わせて使用される。耐熱性、耐湿性、
耐マイグレーション性、吸湿後の電気的特性等の点から
多官能性シアン酸エステル樹脂組成物が好適である。
As the resin of the thermosetting resin composition used in the present invention, generally known thermosetting resins are used. Specific examples include an epoxy resin, a polyfunctional cyanate ester resin, a polyfunctional maleimide-cyanate ester resin, a polyfunctional maleimide resin, and a polyphenylene ether resin containing an unsaturated group.
More than one type is used in combination. Heat resistance, moisture resistance,
A polyfunctional cyanate resin composition is preferred in terms of migration resistance, electrical properties after moisture absorption, and the like.

【0009】本発明の熱硬化性樹脂分である多官能性シ
アン酸エステル化合物とは、分子内に2個以上のシアナ
ト基を有する化合物である。具体的に例示すると、1,3
−又は 1,4−ジシアナトベンゼン、1,3,5 −トリシアナ
トベンゼン、1,3 −、1,4 −、1,6 −、1,8 −、2,6 −
又は2,7 −ジシアナトナフタレン、1,3,6 −トリシアナ
トナフタレン、4,4 −ジシアナトビフェニル、ビス(4
−ジシアナトフェニル)メタン、2,2 −ビス (4−シア
ナトフェニル) プロパン、2,2 −ビス (3,5 −ジブロモ
ー4−シアナトフェニル) プロパン、ビス (4−シアナ
トフェニル) エーテル、ビス (4−シアナトフェニル)
チオエーテル、ビス (4−シアナトフェニル) スルホ
ン、トリス (4−シアナトフェニル) ホスファイト、ト
リス (4−シアナトフェニル) ホスフェート、およびノ
ボラックとハロゲン化シアンとの反応により得られるシ
アネート類などである。
The polyfunctional cyanate compound which is the thermosetting resin component of the present invention is a compound having two or more cyanato groups in the molecule. To give a concrete example, 1,3
-Or 1,4-dicyanatobenzene, 1,3,5-tricyanatobenzene, 1,3-, 1,4-, 1,6-, 1,8-, 2,6-
Or 2,7-dicyanatonaphthalene, 1,3,6-tricyanatonaphthalene, 4,4-dicyanatobiphenyl, bis (4
-Dicyanatophenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dibromo-4-cyanatophenyl) propane, bis (4-cyanatophenyl) ether, Bis (4-cyanatophenyl)
Thioether, bis (4-cyanatophenyl) sulfone, tris (4-cyanatophenyl) phosphite, tris (4-cyanatophenyl) phosphate, and cyanates obtained by reacting novolak with cyanogen halide .

【0010】これらのほかに特公昭41-1928、同43-1846
8、同44-4791、同45-11712、同46-41112、同47-26853及
び特開昭51-63149号公報等に記載の多官能性シアン酸エ
ステル化合物類も用いられ得る。また、これら多官能性
シアン酸エステル化合物のシアナト基の三量化によって
形成されるトリアジン環を有する分子量400〜600のプレ
ポリマーも使用される。このプレポリマーは、上記の多
官能性シアン酸エステルモノマーを、例えば鉱酸、ルイ
ス酸等の酸類;ナトリウムアルコラート、第三級アミン
類等の塩基;炭酸ナトリウム等の塩類等を触媒として重
合させることにより得られる。このプレポリマー中には
一部未反応のモノマーも含まれており、モノマーとプレ
ポリマーとの混合物の形態をしており、このような原料
は本発明の用途に好適に使用される。一般には可溶な有
機溶剤に溶解させて使用する。
In addition to these, Japanese Patent Publication Nos. 41-1928 and 43-1846
8, polyfunctional cyanate compounds described in JP-A-44-4791, JP-A-45-11712, JP-A-46-41112, JP-A-47-26853 and JP-A-51-63149 can also be used. Further, a prepolymer having a molecular weight of 400 to 600 and having a triazine ring formed by trimerization of a cyanato group of these polyfunctional cyanate compounds is also used. This prepolymer is obtained by polymerizing the above-mentioned polyfunctional cyanate ester monomer using, for example, an acid such as a mineral acid or a Lewis acid; a base such as sodium alcoholate or a tertiary amine; a salt such as sodium carbonate as a catalyst. Is obtained by The prepolymer also contains some unreacted monomers and is in the form of a mixture of the monomer and the prepolymer, and such a raw material is suitably used for the purpose of the present invention. Generally, it is used after being dissolved in a soluble organic solvent.

【0011】エポキシ樹脂としては、一般に公知のもの
が使用できる。具体的には、液状或いは固形のビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ
樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂;ブ
タジエン、ペンタジエン、ビニルシクロヘキセン、ジシ
クロペンチルエーテル等の二重結合をエポキシ化したポ
リエポキシ化合物類;ポリオール、水酸基含有シリコン
樹脂類とエポハロヒドリンとの反応によって得られるポ
リグリシジル化合物類等が挙げられる。これらは1種或
いは2種類以上が組み合わせて使用され得る。
As the epoxy resin, a generally known epoxy resin can be used. Specifically, liquid or solid bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, alicyclic epoxy resin; butadiene, pentadiene, vinylcyclohexene, dicyclopentyl ether, etc. And polyglycidyl compounds obtained by reacting a polyol, a hydroxyl group-containing silicone resin with an ephalohydrin, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

【0012】ポリイミド樹脂としては、一般に公知のも
のが使用され得る。具体的には、多官能性マレイミド類
とポリアミン類との反応物、特公昭57−005406号公報に
記載の末端三重結合のポリイミド類が挙げられる。
As the polyimide resin, generally known ones can be used. Specific examples thereof include a reaction product of a polyfunctional maleimide and a polyamine, and a polyimide having a terminal triple bond described in JP-B-57-005406.

【0013】これらの熱硬化性樹脂は、単独でも使用さ
れるが、特性のバランスを考え、適宜組み合わせて使用
するのが良い。
These thermosetting resins may be used alone, but it is preferable to use them in an appropriate combination in consideration of the balance of properties.

【0014】本発明の熱硬化性樹脂組成物には、組成物
本来の特性が損なわれない範囲で、所望に応じて種々の
添加物を配合することができる。これらの添加物として
は、不飽和ポリエステル等の重合性二重結合含有モノマ
ー類及びそのプレポリマー類;ポリブタジエン、エポキ
シ化ブタジエン、マレイン化ブタジエン、ブタジエン−
アクリロニトリル共重合体、ポリクロロプレン、ブタジ
エン−スチレン共重合体、ポリイソプレン、ブチルゴ
ム、フッ素ゴム、天然ゴム等の低分子量液状〜高分子量
のelastic なゴム類;ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリブテン、ポリ−4−メチルペンテン、ポリスチレ
ン、AS樹脂、ABS樹脂、MBS樹脂、スチレン−イ
ソプレンゴム、ポリエチレン−プロピレン共重合体、4
−フッ化エチレン−6−フッ化エチレン共重合体類;ポ
リカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリスルホ
ン、ポリエステル、ポリフェニレンサルファイド等の高
分子量プレポリマー若しくはオリゴマー;ポリウレタン
等が例示され、適宜使用される。また、その他、公知の
有機の充填剤、染料、顔料、増粘剤、滑剤、消泡剤、分
散剤、レベリング剤、光増感剤、難燃剤、光沢剤、重合
禁止剤、チキソ性付与剤等の各種添加剤が、所望に応じ
て適宜組み合わせて用いられる。必要により、反応基を
有する化合物は硬化剤、触媒が適宜配合される。
Various additives can be added to the thermosetting resin composition of the present invention, if desired, as long as the inherent properties of the composition are not impaired. These additives include polymerizable double bond-containing monomers such as unsaturated polyesters and prepolymers thereof; polybutadiene, epoxidized butadiene, maleated butadiene, butadiene-
Low molecular weight liquid to high molecular weight elastic rubbers such as acrylonitrile copolymer, polychloroprene, butadiene-styrene copolymer, polyisoprene, butyl rubber, fluoro rubber, natural rubber; polyethylene, polypropylene,
Polybutene, poly-4-methylpentene, polystyrene, AS resin, ABS resin, MBS resin, styrene-isoprene rubber, polyethylene-propylene copolymer,
-Fluorinated ethylene-6-fluorinated ethylene copolymers; high molecular weight prepolymers or oligomers such as polycarbonate, polyphenylene ether, polysulfone, polyester, and polyphenylene sulfide; and polyurethane are exemplified and appropriately used. In addition, other known organic fillers, dyes, pigments, thickeners, lubricants, defoamers, dispersants, leveling agents, photosensitizers, flame retardants, brighteners, polymerization inhibitors, thixotropic agents And various other additives are used in combination as needed. If necessary, the compound having a reactive group is appropriately blended with a curing agent and a catalyst.

【0015】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、それ自体
は加熱により硬化するが硬化速度が遅く、作業性、経済
性等に劣るため使用した熱硬化性樹脂に対して公知の熱
硬化触媒を用い得る。使用量は、熱硬化性樹脂100重量
部に対して0.005〜10重量部、好ましくは0.01〜5重量
部である。
The thermosetting resin composition of the present invention can be cured by heating itself, but has a low curing rate and is inferior in workability and economic efficiency. Can be used. The amount used is 0.005 to 10 parts by weight, preferably 0.01 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermosetting resin.

【0016】炭酸ガスレーザーの照射で孔形状を良好に
するには、種々の添加剤を入れるのが好ましい。無機充
填剤としては、一般に公知のものが使用できる。具体的
には、天然シリカ、焼成シリカ、アモルファスシリカ等
のシリカ類;ホワイトカーボン、チタンホワイト、アエ
ロジル、クレー、タルク、ウォラストナイト、天然マイ
カ、合成マイカ、カオリン、マグネシア、アルミナ、パ
ーライト等が挙げられる。添加量は、10〜60重量%、好
適には15〜50重量%である。
In order to improve the hole shape by irradiation with a carbon dioxide gas laser, it is preferable to add various additives. As the inorganic filler, generally known inorganic fillers can be used. Specific examples include silicas such as natural silica, calcined silica, and amorphous silica; white carbon, titanium white, aerosil, clay, talc, wollastonite, natural mica, synthetic mica, kaolin, magnesia, alumina, pearlite, and the like. Can be The amount added is 10 to 60% by weight, preferably 15 to 50% by weight.

【0017】また、炭酸ガスレーザーの照射で、光が分
散しないように樹脂に黒色の染料、或いは顔料を添加す
ることが好ましい。染料、顔料の種類は、一般に公知の
ものが使用され得る。粒子径は均一分散のために1μm
以下が好ましい。添加量は、0.1〜10重量%が好適であ
る。さらには、繊維の表面を黒色に染める方法、有機繊
維の中に黒色の染料等を配合する方法等も使用し得る。
Preferably, a black dye or pigment is added to the resin so that the light is not dispersed by the irradiation of the carbon dioxide laser. As the types of dyes and pigments, generally known ones can be used. Particle size is 1μm for uniform dispersion
The following is preferred. The addition amount is preferably 0.1 to 10% by weight. Furthermore, a method of dyeing the surface of the fiber with black, a method of blending a black dye or the like into the organic fiber, and the like can also be used.

【0018】最外層の銅箔は、一般に公知のものが使用
できる。好適には厚さ3〜18μmの銅箔、銅合金箔等
が使用される。内層の銅箔も同様である。
A generally known copper foil can be used as the outermost layer. Preferably, a copper foil, a copper alloy foil or the like having a thickness of 3 to 18 μm is used. The same applies to the inner layer copper foil.

【0019】ガラス布基材補強銅張積層板は、まず上記
基材に熱硬化性樹脂組成物を含浸し、乾燥させてBステ
ージとし、プリプレグを作成する。ガラス含有量は特に
限定しないが、一般には30〜80重量%となるように
樹脂を付着させる。次に、このプリプレグを所定枚数用
い、上下に銅箔を配置して、加熱、加圧下に積層成形
し、両面銅張積層板とする。また、無機充填剤を配合す
ることが好ましい。この銅張積層板の断面は、ガラス以
外の樹脂と無機充填剤が均質に分散していて、レーザー
孔あけした場合、孔が均一にあく。また黒色顔料または
黒色染料を配合することにより、レーザー光が分散せ
ず、孔壁がより均質となる。
The glass cloth substrate reinforced copper-clad laminate is first impregnated with a thermosetting resin composition and dried to form a B stage to prepare a prepreg. Although the glass content is not particularly limited, the resin is generally adhered so as to be 30 to 80% by weight. Next, a predetermined number of the prepregs are used, copper foils are arranged on the upper and lower sides, and laminated under heat and pressure to form a double-sided copper-clad laminate. Further, it is preferable to add an inorganic filler. In the cross section of the copper clad laminate, the resin and inorganic filler other than glass are uniformly dispersed, and the holes are uniformly formed when laser drilling is performed. Further, by blending a black pigment or a black dye, the laser beam does not disperse and the pore wall becomes more uniform.

【0020】銅張板あるいは多層板の、炭酸ガスレーザ
ーを照射する面の孔形成位置の銅箔表面に、補助材料の
一部として使用する金属粉としては一般に公知のものが
使用できる。具体的には、銀、アルミニウム、ビスマ
ス、コバルト、銅、鉄、マンガン、モリブデン、ニッケ
ル、バナジウム、アンチモン、ケイ素、スズ、チタン、
亜鉛等の単体、あるいはそれらの合金の一種あるいは二
種以上を組み合わせて使用する。これらは、使用する溶
剤、有機物等の種類を考慮し、適宜選択使用する。水、
溶剤等に安定であり、溶解して発熱、反応しないものを
使用する。配合量は3〜97容積%、好ましくは5〜9
5容積%である。通常平均粒子径5μm以下、より好ま
しくは粒子径は1μm以下である。
As the metal powder to be used as a part of the auxiliary material on the copper foil surface of the copper clad plate or the multilayer plate at the hole forming position on the surface to be irradiated with the carbon dioxide gas laser, generally known metal powder can be used. Specifically, silver, aluminum, bismuth, cobalt, copper, iron, manganese, molybdenum, nickel, vanadium, antimony, silicon, tin, titanium,
A simple substance such as zinc, or one or a combination of two or more of these alloys is used. These are appropriately selected and used in consideration of the type of a solvent, an organic substance, and the like to be used. water,
Use a material that is stable in solvents, etc., does not generate heat and reacts when dissolved. The amount is 3 to 97% by volume, preferably 5 to 9%.
5% by volume. Usually, the average particle diameter is 5 μm or less, more preferably the particle diameter is 1 μm or less.

【0021】補助材料の有機物としては、特に制限はな
いが、混練して銅箔表面に塗布、乾燥した場合、あるい
はシートとした場合、剥離、欠落しないものを選択す
る。好ましくは、樹脂が使用される。特に、環境、或い
は加工後の銅箔表面の洗浄除去の点からも、水溶性の樹
脂、例えば、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポ
リエーテル、澱粉等の、一般に公知の樹脂が使用され
る。更に、必要により、前述の各種樹脂、添加剤等を適
宜選択して使用され得る。
The organic material of the auxiliary material is not particularly limited, but those which do not peel or drop when kneaded and applied to the surface of the copper foil and dried or when formed into a sheet are selected. Preferably, a resin is used. In particular, a water-soluble resin, for example, a generally known resin such as polyvinyl alcohol, polyester, polyether, and starch is also used from the viewpoint of washing the environment or the copper foil surface after processing. Further, if necessary, the above-mentioned various resins, additives and the like can be appropriately selected and used.

【0022】金属粉と有機物からなる組成物を作成する
方法は、特に限定しないが、例えばニーダー等で無溶剤
にて高温で練り、シート状に押し出す方法、溶剤或いは
水に溶解する樹脂組成物を用い、これに金属粉を加え、
均一に撹拌混合し、塗料として銅箔表面に塗布、乾燥し
て皮膜とする方法、スプレーで銅箔面に直接吹きかける
方法、フィルムに塗布、乾燥してシート状にする方法、
有機、無機基材に含浸、乾燥して基材入りシートとする
方法等、一般に公知の方法が使用し得る。厚さは、特に
限定しないが、好適には、30〜200μmである。塗布す
るフィルムは、公知のものが使用できる。例えばポリエ
チレンフタレート等のフィルムが好適である。フィルム
の厚さは特に限定しないが、好適には25〜200μmであ
る。
The method for preparing a composition comprising a metal powder and an organic substance is not particularly limited. For example, a method of kneading at a high temperature without a solvent using a kneader or the like and extruding into a sheet form, or a method of dissolving a resin composition soluble in a solvent or water. Use, add the metal powder to this,
A method of uniformly stirring and mixing, applying a coating to the copper foil surface as a paint, drying to form a film, a method of directly spraying the copper foil surface with a spray, a method of applying and drying a film to form a sheet,
A generally known method, such as a method of impregnating an organic or inorganic substrate and drying to obtain a sheet containing the substrate, can be used. The thickness is not particularly limited, but is preferably 30 to 200 μm. Known films can be used as the film to be applied. For example, a film such as polyethylene phthalate is suitable. The thickness of the film is not particularly limited, but is preferably 25 to 200 μm.

【0023】銅張板の、炭酸ガスレーザーを照射する面
の孔形成位置の銅箔表面に、金属粉を含む樹脂組成物か
らなる塗膜あるいはシートを配置し、目的とする径まで
絞った高出力の炭酸ガスレーザーを照射して孔あけを行
う。シートの場合、樹脂融点以上の温度で銅張板にラミ
ネートして使用する方が、孔形状の点からも好ましい。
A coating film or a sheet made of a resin composition containing metal powder is placed on the copper foil surface of the copper clad plate at the hole forming position on the surface to be irradiated with the carbon dioxide gas laser, and is squeezed to a target diameter. Drill holes by irradiating the output with a carbon dioxide laser. In the case of a sheet, it is preferable to use the sheet by laminating it on a copper-clad board at a temperature equal to or higher than the melting point of the resin from the viewpoint of the hole shape.

【0024】炭酸ガスレーザーを、出力20〜60mJ/パル
スから選ばれたエネルギーで照射して貫通孔またはビア
孔を形成した場合、孔周辺にはバリが発生する。そのた
め、炭酸ガスレーザー照射後、銅箔の両表面を平面的に
エッチングし、もとの金属箔の一部の厚さをエッチング
除去することにより、同時にバリもエッチング除去す
る。これにより、得られた銅箔は細密パターン形成に適
しており、高密度のプリント配線板に適した孔周囲の両
面の銅箔が残存したスルーホールメッキ用貫通孔または
ビア孔が形成される。ビア孔をあける場合、最初は高出
力とし、その後低出力とする方法を用いることもでき
る。
When a carbon dioxide laser is irradiated with an energy selected from an output of 20 to 60 mJ / pulse to form a through hole or a via hole, burrs are generated around the hole. Therefore, after the carbon dioxide laser irradiation, both surfaces of the copper foil are etched two-dimensionally, and the thickness of a part of the original metal foil is removed by etching, thereby simultaneously removing the burrs by etching. As a result, the obtained copper foil is suitable for forming a fine pattern, and a through hole for plating through holes or a via hole in which copper foil on both sides around a hole suitable for a high-density printed wiring board is formed. When drilling a via hole, a method in which the output is initially high and then the output is low may be used.

【0025】本発明の孔部に発生した銅のバリをエッチ
ング除去する方法としては、特に限定しないが、例え
ば、特開平02−22887 、同02−22896 、同02−25089 、
同02−25090 、同02−59337 、同02−60189 、同02−16
6789、同03−25995 、同03−60183 、同03−94491 、同
04−199592、同04−263488号公報で開示された、薬品で
金属表面を溶解除去する方法(SUEP法と呼ぶ)が好
ましい。一般的には、エッチング速度は、0.02〜1.0 μ
m/秒で行う。銅箔のバリを機械研磨で削ることは可能
であるが、銅張積層板が薄い場合、寸法変化が大きくな
る等の問題点が生じ、又、バリも完全に取れないことが
ある。
The method of etching and removing copper burrs generated in the holes according to the present invention is not particularly limited, and examples thereof include, for example, JP-A Nos. 02-22887, 02-22896, and 02-25089.
02-25090, 02-59337, 02-60189, 02-16
6789, same 03-25995, same 03-60183, same 03-94491, same
A method of dissolving and removing a metal surface with a chemical (referred to as a SUEP method) disclosed in JP-A-04-199592 and JP-A-04-263488 is preferable. Generally, the etching rate is 0.02-1.0 μ
Perform at m / s. Although it is possible to remove the burrs of the copper foil by mechanical polishing, when the copper-clad laminate is thin, there are problems such as a large dimensional change, and the burrs may not be completely removed.

【0026】炭酸ガスレーザーは、赤外線波長域にある
9.3 〜10.6μmの波長が一般に使用される。出力は20〜
60mJ/パルス、好適には22〜55mJ/パルスである。本発
明の方法は、貫通孔の形成だけでなく、レーザーを銅張
積層板のすぐ下の銅箔部で止めて、ビアホールを形成す
る方法にも適用可能である。
The carbon dioxide laser is in the infrared wavelength range.
Wavelengths between 9.3 and 10.6 μm are commonly used. Output is 20 ~
60 mJ / pulse, preferably 22-55 mJ / pulse. The method of the present invention can be applied not only to the formation of the through hole but also to the method of forming the via hole by stopping the laser at the copper foil portion immediately below the copper clad laminate.

【0027】[0027]

【実施例】以下に実施例、比較例で本発明を具体的に説
明する。尚、特に断らない限り、「部」は重量部を表
す。 実施例1 2,2 −ビス(4−シアナトフェニル)プロパン900 部、
ビス(4−マレイミドフェニル)メタン100 部を150℃
に熔融させ、撹拌しながら4時間反応させ、プレポリマ
ーを得た。これをメチルエチルケトンとジメチルホルム
アミドの混合溶剤に溶解した。これにビスフェノールA
型エポキシ樹脂(商品名:エピコート1001、油化シェル
エポキシ<株>製)400 部、クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂(商品名:ESCN−220F、住友化学工業<株>
製)600 部を加え、均一に溶解混合した。更に触媒とし
てオクチル酸亜鉛0.4 部を加え、溶解混合し、これに無
機充填剤(商品名:焼成タルクBST−#200 、日本タ
ルク<株>製)500 部、及び黒色染料8部を加え、均一
撹拌混合してワニスAを得た。このワニスを厚さ100μ
mのガラス織布に含浸し150℃で乾燥して、ゲル化時間
(at 170℃)120 秒、ガラス布の含有量が57重量%のプ
リプレグ(プリプレグB)を作成した。厚さ12μmの電
解銅箔を、上記プリプレグB4枚の上下に配置し、200
℃、20kgf/cm2、30mmHg以下の真空下で2時間積層成形
し、絶縁層厚み400μmの両面銅張積層板を得た。この
表面に銅粉(平均粒子径: 0.9μm)をポリビニルアル
コール水溶液に添加した塗料を厚さ60μmとなるように
塗布、乾燥して、金属粉10vol %の膜を形成した。この
上から、間隔300 μmで、孔径 100μmの孔を 900個直
接炭酸ガスレーザーで、出力40mJ/パルスで6パルス
(ショット)かけ、70ブロックのスルーホール用貫通孔
をあけた。SUEP法にて、孔周辺の銅箔バリを溶解除
去すると同時に、表面の銅箔も5μmまで溶解した。こ
の板に通常の方法にて銅メッキを15μm(総厚み:20μ
m)施した。この孔周辺のランド用の銅箔は全て残存し
ていた。この表裏に、常法にて回路(ライン/スペース
=50/50μmを 200個)、ソルダーボール用ランド等を
形成し、少なくとも半導体チップ部、ボンディング用パ
ッド部、ハンダボールパッド部を除いてメッキレジスト
で被覆し、ニッケル、金メッキを施し、プリント配線板
を作成した。このプリント配線板の評価結果を表1に示
す。
The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. Unless otherwise specified, “parts” indicates parts by weight. Example 1 900 parts of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane,
100 parts of bis (4-maleimidophenyl) methane at 150 ° C
To obtain a prepolymer. This was dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and dimethylformamide. This is bisphenol A
Epoxy resin (trade name: Epicoat 1001, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) 400 parts, Cresol novolak type epoxy resin (trade name: ESCN-220F, Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
Was added and mixed uniformly. Further, 0.4 part of zinc octylate was added as a catalyst, and the mixture was dissolved and mixed. To this, 500 parts of an inorganic filler (trade name: calcined talc BST- # 200, manufactured by Nippon Talc Co., Ltd.) and 8 parts of a black dye were added. The varnish A was obtained by stirring and mixing. This varnish is 100μ thick
m, and dried at 150 ° C. to prepare a prepreg (prepreg B) having a gel time (at 170 ° C.) of 120 seconds and a glass cloth content of 57% by weight. The 12 μm-thick electrolytic copper foil was placed above and below the four prepregs B, and
The laminate was molded under a vacuum of 20 kgf / cm 2 and a pressure of 30 mmHg or less for 2 hours to obtain a double-sided copper-clad laminate having an insulating layer thickness of 400 μm. On this surface, a paint obtained by adding copper powder (average particle diameter: 0.9 μm) to an aqueous solution of polyvinyl alcohol was applied to a thickness of 60 μm and dried to form a film of 10 vol% of metal powder. From above, 900 pulses of 100 μm in diameter with a spacing of 300 μm were directly irradiated with 6 pulses (shot) at an output of 40 mJ / pulse by a carbon dioxide gas laser to form 70 blocks of through-holes. By the SUEP method, the copper foil burrs around the holes were dissolved and removed, and the copper foil on the surface was also dissolved to 5 μm. This plate is plated with copper by a usual method at 15 μm (total thickness: 20 μm).
m) applied. All of the land copper foil around this hole remained. A circuit (line / space = 50/50 μm 200 pieces), a land for solder balls, etc. are formed on the front and back sides by a conventional method. And plated with nickel and gold to prepare a printed wiring board. Table 1 shows the evaluation results of the printed wiring board.

【0028】実施例2 エポキシ樹脂(商品名:エピコート 5045 )700 部、及
びエポキシ樹脂(商品名:ESCN220F)300部、ジシアンジ
アミド35部、2−エチル−4−メチルイミダゾール1部
をメチルエチルケトンとジメチルホルムアミドの混合溶
剤に溶解し、さらに焼成タルク(商品名;BST−#20
0 )を800部加え、強制撹拌して均一分散した。これを
厚さ 100μmのガラス織布に含浸、乾燥して、ゲル化時
間15秒、ガラス布含有量53重量%のプリプレグ(プリプ
レグC)を作成した。このプリプレグCを2枚使用し、
両面に12μmの電解銅箔を置き、190 ℃、20kgf/cm2
30mmHg以下の真空下で2時間積層成形して両面銅張積層
板Dを作成した。絶縁層の厚みは 200μmであった。こ
の表裏に回路を作成して、黒色酸化銅処理を施し、内層
板を作成した。又、厚さ80μmの液晶ポリエステル繊維
不織布に上記ワニスを含浸、乾燥してゲル化時間105秒
のプリプレグを得た。このプリプレグを上記内層板の上
下に配置し、その外側に12μmの電解銅箔を置き、同様
に積層成形して4層板を得た。一方、ポリビニルアルコ
ールと澱粉よりなる樹脂水溶液の中に、ニッケル粉(平
均粒子径0.7 μm)を配合し、均一に撹拌混合した後、
これを50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの
片面に、厚さ20μmとなるように塗布し、110℃で25分
間乾燥し、金属粉含有量 90容積%のフィルム状孔あけ
補助材料Eを作成した。上記4層銅張多層板の上に補助
材料Eを、金属粉入り樹脂層が銅箔面に接触するように
置き、この上から、炭酸ガスレーザーの出力30mJ/パル
スにて7パルス(ショット)照射し、スルーホール用貫
通孔をあけた。後は同様にして加工し、プリント配線板
を作成した。評価結果を表1に示す。
Example 2 700 parts of an epoxy resin (trade name: Epicoat 5045), 300 parts of an epoxy resin (trade name: ESCN220F), 35 parts of dicyandiamide, and 1 part of 2-ethyl-4-methylimidazole were mixed with methyl ethyl ketone and dimethylformamide. Dissolved in a mixed solvent, and further calcined talc (trade name; BST- # 20)
0) was added, and the mixture was uniformly dispersed by forced stirring. This was impregnated into a glass woven cloth having a thickness of 100 μm and dried to prepare a prepreg (prepreg C) having a gelling time of 15 seconds and a glass cloth content of 53% by weight. Using two prepregs C,
Place 12μm electrolytic copper foil on both sides, 190 ℃, 20kgf / cm 2 ,
Laminate molding was performed for 2 hours under a vacuum of 30 mmHg or less to prepare a double-sided copper-clad laminate D. The thickness of the insulating layer was 200 μm. Circuits were formed on the front and back, black copper oxide treatment was performed, and an inner layer plate was formed. The varnish was impregnated into a liquid crystal polyester fiber nonwoven fabric having a thickness of 80 μm and dried to obtain a prepreg having a gel time of 105 seconds. The prepreg was placed above and below the inner layer plate, and a 12 μm electrolytic copper foil was placed on the outside of the prepreg, and similarly laminated and molded to obtain a four-layer plate. On the other hand, nickel powder (average particle diameter 0.7 μm) was blended into a resin aqueous solution consisting of polyvinyl alcohol and starch, and after uniform stirring and mixing,
This was applied to one side of a 50 μm polyethylene terephthalate film so as to have a thickness of 20 μm, and dried at 110 ° C. for 25 minutes to prepare a film-form auxiliary material E having a metal powder content of 90% by volume. The auxiliary material E is placed on the four-layer copper-clad multilayer board such that the resin layer containing the metal powder is in contact with the copper foil surface, and from there, 7 pulses (shot) at a carbon dioxide laser output of 30 mJ / pulse. Irradiation was performed to form through holes for through holes. Thereafter, processing was performed in the same manner to produce a printed wiring board. Table 1 shows the evaluation results.

【0030】比較例1 実施例1の両面銅張積層板を用い、表面処理を行なわず
に炭酸ガスレーザーで同様に孔あけを行なったが、孔は
あかなかった。
Comparative Example 1 The double-sided copper-clad laminate of Example 1 was drilled in the same manner with a carbon dioxide laser without surface treatment, but no holes were formed.

【0031】比較例2 実施例2において、エポキシ樹脂としてエピコート5045
単独を1000部を用い、他は同様にして作成した両面銅張
多層板を用い、黒マジックで孔あけする箇所の表面に塗
り、炭酸ガスレーザーを同様に照射したが、孔はあかな
かった。
Comparative Example 2 In Example 2, Epicoat 5045 was used as the epoxy resin.
Using a double-sided copper-clad multilayer board prepared in the same manner as above, using 1000 parts alone, applying a black magic to the surface of the portion to be drilled, and irradiating the same with a carbon dioxide gas laser in the same manner, but there was no hole.

【0032】比較例3 比較例2の両面銅張多層板を用い、同様に補助材料を配
置してから、出力17mJ/パルスにて炭酸ガスレーザーで
同様に19ショット照射し、スルーホール用貫通孔をあけ
た。この孔壁は、ガラス繊維が孔内に見られ、孔形状は
真円ではなく、楕円形状であった。評価結果を表1に示
す。SUEP処理は行わず、あとは同様に加工してプリ
ント配線板を作成した。
Comparative Example 3 Using the double-sided copper-clad multilayer board of Comparative Example 2, similarly arranging auxiliary materials, irradiating 19 shots with a carbon dioxide laser at an output of 17 mJ / pulse in the same manner, Opened. In this hole wall, glass fiber was found in the hole, and the hole shape was not a perfect circle but an elliptical shape. Table 1 shows the evaluation results. The printed wiring board was prepared by performing the same processing without performing the SUEP process.

【0033】比較例4 実施例1の両面銅張積層板を用い、径 100μmのメカニ
カルドリルにて、回転数10万rpm 、送り速度1m/min,に
て同様に 300μ間隔で孔をあけた。デスミア処理を行わ
ず、後は同様に銅メッキを15μm施し、表裏に回路形成
し、同様に加工してプリント配線板を作成した。途中で
ドリルの折れが2本発生した。評価結果を表1に示す。
Comparative Example 4 Using the double-sided copper-clad laminate of Example 1, holes were drilled at intervals of 300 μm with a mechanical drill having a diameter of 100 μm at a rotation speed of 100,000 rpm and a feed speed of 1 m / min. After the desmear treatment was not performed, copper plating was similarly performed at 15 μm thereafter, circuits were formed on the front and back surfaces, and the same processing was performed to produce a printed wiring board. Two drill breaks occurred on the way. Table 1 shows the evaluation results.

【0034】比較例5 実施例1の両面銅張積層板の銅箔表面に間隔 300μmに
て、孔径 100μmの孔を 900個、銅箔をエッチングして
あけた。同様に裏面にも同じ位置に孔径 100μmの孔を
900個あけ、1パターン 900個を70ブロック、合計 63,
000 の孔を、表面から炭酸ガスレーザーで、出力40mJ/
パルスにて6パルス(ショット)かけ、スルーホール用
貫通孔をあけた。後は比較例4と同様にして、SUEP
処理を行わずに、銅メッキを15μm施し、表裏に回路を
形成し、同様にプリント配線板を作成した。評価結果を
表1に示す。
Comparative Example 5 On the copper foil surface of the double-sided copper-clad laminate of Example 1, 900 holes each having a hole diameter of 100 μm were formed by etching the copper foil at intervals of 300 μm. Similarly, a hole with a hole diameter of 100 μm
Open 900 pieces, 70 blocks of 900 pieces per pattern, total 63,
000 holes from the surface with carbon dioxide laser, output 40mJ /
Six pulses (shots) were applied to form a through hole for a through hole. After that, in the same manner as in Comparative Example 4, the SUEP
Without performing the treatment, copper plating was applied at 15 μm, circuits were formed on the front and back sides, and a printed wiring board was similarly prepared. Table 1 shows the evaluation results.

【0035】<測定方法> 1)表裏孔位置のズレ及び孔あけ時間 ワークサイズ 250mm角内に、孔径 100μmの孔を、 900
孔/ブロックとして70ブロック(孔計63,000孔)作成し
た。炭酸ガスレーザーで孔あけを行なった。要した時
間、及び表裏の孔位置のズレの最大値を示した。 2)回路パターン切れ、及びショート 実施例、比較例で、孔のあいていない板を同様に作成
し、ライン/スペース=50/50μmの櫛形パターンを作
成した後、拡大鏡でエッチング後の 200パターンを目視
にて観察し、パターン切れ、及びショートしているパタ
ーンの合計を分子に示した。 3)ガラス転移温度 DMA法にて測定した。 4)スルーホール・ヒートサイクル試験 各スルーホールにランド径 200μmを作成し、900 孔を
表裏交互につなぎ、1サイクルが、260 ℃・ハンダ・浸
せき 30 秒→室温・5分で、200 サイクル実施し、抵抗
値の変化率の最大値を示した。 5)プレッシャークッカー処理後の絶縁抵抗値 実施例、比較例において、ライン/スペース=50/50μ
mの櫛型パターンを作成し、パターン切れ、ショートの
ないものを選び、これに黒色金属酸化皮膜を施した後、
この上に同一のプリプレグを1枚配置し、その上に12μ
mの電解銅箔を配し、同一条件で積層成形して、多層板
とした。この上に回路を形成した後、これを121 ℃・2
気圧中に所定時間入れ、取り出してから、25℃・60%R
Hで2時間放置し、500 VDCを60秒印加して、その端
子間の絶縁抵抗値を測定した。 6)耐マイグレーション性 孔間 300μm、孔径 100μmのスルーホールをそれぞれ
独立して1個ずつ表裏交互に900個つなぎ、これを70セ
ット作成し、85℃・85%RHの雰囲気下に50VDC印加
して入れ、所定時間処理後のスルーホール間の絶縁抵抗
値を測定した。
<Measurement method> 1) Misalignment of the front and back holes and drilling time A hole with a hole diameter of 100 μm was placed in a work size of 250 mm square by 900.
70 blocks (63,000 holes total) were prepared as holes / blocks. Drilling was performed with a carbon dioxide laser. The required time and the maximum value of the deviation between the front and back hole positions are shown. 2) Cut and short circuit patterns In the examples and comparative examples, a plate without holes was prepared in the same manner, and a comb pattern of line / space = 50/50 μm was prepared, and then 200 patterns were etched with a magnifying glass. Was visually observed, and the total of the broken pattern and the short-circuited pattern was shown in the molecule. 3) Glass transition temperature Measured by the DMA method. 4) Through-hole / Heat cycle test A land diameter of 200 μm was created for each through-hole, 900 holes were connected alternately on the front and back, and one cycle was performed at 260 ° C, solder, immersion for 30 seconds → room temperature for 5 minutes, and 200 cycles were performed. And the maximum value of the rate of change of the resistance value. 5) Insulation resistance value after pressure cooker treatment In Examples and Comparative Examples, line / space = 50 / 50μ
m, create a comb pattern, select one without pattern breaks and shorts, apply a black metal oxide film on it,
One identical prepreg is placed on this, and 12μ
m of electrolytic copper foil was placed and laminated and formed under the same conditions to obtain a multilayer board. After forming a circuit on this, it is heated to 121 ° C.
Put it in the atmosphere for a predetermined time, take it out, then 25 ℃ ・ 60% R
H was left for 2 hours, 500 VDC was applied for 60 seconds, and the insulation resistance between the terminals was measured. 6) Migration resistance 900 through holes of 300 μm between holes and 100 μm in diameter are connected independently one by one alternately on the front and back sides. 70 sets of these are made, and 50 VDC is applied in an atmosphere of 85 ° C. and 85% RH. Then, the insulation resistance between the through holes after the treatment for a predetermined time was measured.

【0036】 表1 項 目 実施例 比較例 1 2 3 4 5 表裏ランド位置 0 0 0 0 25 のズレ(μm) 孔形状 円形 円形 楕円形 円形 上円形 下楕円形 孔内部 直線 直線 内壁 直線 ほぼ直線 凹凸大 パターン切れ 及びショート(個) 0/200 0/200 55/200 57/200 57/100 ガラス転移温度(℃) 235 160 139 234 235 スルーホール・ヒー トサイクル試験(%) 2.5 5.7 25.0 2.6 5.0 プレッシャー 状態 6×1013 - 6×1013 - - クッカー処理 200hrs 4×1012 - 3×109 - - 後の絶縁抵抗 500hrs 5×1011 - < 108 - - 値(Ω) 700hrs 3×1011 - - - - 1000hrs 9×1010 - - - - 耐マイグレー 状態 5×1013 - 6×1013 - - ション性 200hrs 4×1012 - 8×109 - - (Ω) 500hrs 5×1011 - 1×109 - - 700hrs 3×1011 - < 108 - - 1000hrs 1×1011 - - - - 孔あけ時間 18 21 - 630 - (分) Table 1 Item Example Comparative Example 1 2 3 4 5 Position of Front and Back Lands 0 0 0 0 25 Deviation (μm) Hole Shape Round Circular Elliptical Round Upper Round Lower Elliptical Hole Inside Straight Line Straight Inner Wall Straight Almost Straight Unevenness Large pattern breaks and shorts (pieces) 0/200 0/200 55/200 57/200 57/100 Glass transition temperature (℃) 235 160 139 234 235 Through-hole heat cycle test (%) 2.5 5.7 25.0 2.6 5.0 Pressure condition 6 × 10 13 - 6 × 10 13 - - cooked 200hrs 4 × 10 12 - 3 × 10 9 - - insulation resistance 500hrs 5 × 10 11 after - <10 8 - - value (Ω) 700hrs 3 × 10 11 - - - - 1000hrs 9 × 10 10 - - - - anti-migration state 5 × 10 13 - 6 × 10 13 - - Deployment of 200hrs 4 × 10 12 - 8 × 10 9 - - (Ω) 500hrs 5 × 10 11 - 1 × 10 9 - - 700hrs 3 × 10 11 - <10 8 - - 1000hrs 1 × 10 11 - - - - drilling time 18 21 - 630 - (min)

【0037】[0037]

【発明の効果】銅箔を炭酸ガスレーザーで除去できるに
十分な20〜60mJ/パルスから選ばれたエネルギーを用い
て、炭酸ガスレーザーのパルス発振により、炭酸ガスレ
ーザーを照射し、少なくとも2層以上の銅の層を有する
銅張板の銅箔を加工してスルーホール用貫通孔またはビ
ア孔をあける孔あけにおいて、炭酸ガスレーザーが照射
される銅張板の銅箔表面に、金属粉と有機物からなる塗
膜を形成して、炭酸ガスレーザーを直接照射してスルー
ホール用貫通孔またはビア孔を形成する。さらに、銅箔
の両表面を平面的にエッチングし、もとの銅箔の一部の
厚さをエッチング除去するとともに、同時に孔部に発生
した金属のバリをエッチング除去し、孔周囲の両面の銅
箔が残存したスルーホール、ビア孔のメッキ用孔を形成
することにより、上下の孔の銅箔位置がズレることもな
く、ランドが形成でき、スルーホールは上下曲がること
もなく形成でき、且つ、孔部のバリを除去する時に、同
時の銅箔表面もエッチング除去でき、その後の銅メッキ
でメッキアップして得られた表裏銅箔の回路形成におい
ても、ショートやパターン切れ等の不良発生もなく高密
度のプリント配線板を作成できることができ、信頼性等
に優れたものを得ることができた。また、加工速度はド
リルであるのに比べて格段に速く、生産性についても大
幅に改善できる。
According to the present invention, a carbon dioxide laser is irradiated by pulse oscillation of a carbon dioxide laser using an energy selected from 20 to 60 mJ / pulse sufficient to remove copper foil with the carbon dioxide laser. In processing a copper foil of a copper-clad board having a copper layer by drilling a through hole or a via hole for a through hole, a metal powder and an organic substance are formed on the copper foil surface of the copper-clad board irradiated with a carbon dioxide laser. Is formed, and a carbon dioxide laser is directly irradiated to form a through hole for a through hole or a via hole. Furthermore, both surfaces of the copper foil are etched two-dimensionally, and part of the thickness of the original copper foil is removed by etching, and at the same time, burrs of the metal generated in the hole are removed by etching. By forming the plating holes of the through holes and the via holes where the copper foil remains, the copper foil positions of the upper and lower holes do not shift, lands can be formed, and the through holes can be formed without bending up and down, and When removing burrs in the holes, the surface of the copper foil can also be removed by etching at the same time, and defects such as short-circuits and pattern breaks also occur in the circuit formation of the front and back copper foil obtained by plating up with subsequent copper plating. Thus, a high-density printed wiring board could be produced without any problem, and a product excellent in reliability and the like could be obtained. Also, the processing speed is much faster than that of a drill, and the productivity can be greatly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1の炭酸ガスレーザーによるスルーホー
ル用貫通孔あけ工程図。
FIG. 1 is a process drawing of a through hole for a through hole by a carbon dioxide laser according to a first embodiment.

【図2】比較例5の炭酸ガスレーザーによる同様の工程
図。但し、SUEPは使用せず。
FIG. 2 is a similar process drawing using a carbon dioxide laser of Comparative Example 5. However, SUEP is not used.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

a 金属粉含有樹脂被膜 b 銅箔 c ガラス布基材熱硬化性樹脂層 d 炭酸ガスレーザーによる貫通孔あけ部 e 発生したバリ a Resin coating containing metal powder b Copper foil c Thermosetting resin layer of glass cloth base d Drilled through hole by carbon dioxide gas laser e Burr generated

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 恭夫 東京都葛飾区新宿6丁目1番1号 三菱瓦 斯化学株式会社東京工場内 Fターム(参考) 4E068 AA04 AF01 CA03 CF03 DA11 DB02  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Yasuo Tanaka 6-1-1 Shinjuku, Katsushika-ku, Tokyo Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. Tokyo factory F-term (reference) 4E068 AA04 AF01 CA03 CF03 DA11 DB02

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 銅箔を炭酸ガスレーザーで除去できるに
十分な20〜60mJ/パルスから選ばれたエネルギーを用い
て、炭酸ガスレーザーのパルス発振により、少なくとも
2層以上の銅の層を有する銅張板にスルーホール用貫通
孔またはビア孔を形成する方法において、少なくとも炭
酸ガスレーザーを照射する銅張板の銅箔表面に、金属粉
を3〜97容積%含む有機物の塗膜又はシートを配置
し、炭酸ガスレーザーを必要パルス照射して孔あけする
ことを特徴とするスルーホール用貫通孔の形成方法。
1. Copper having at least two or more copper layers by pulse oscillation of a carbon dioxide gas laser using an energy selected from 20 to 60 mJ / pulse sufficient to remove a copper foil with a carbon dioxide gas laser. In the method of forming a through hole or a via hole for a through hole in a veneer, an organic coating film or sheet containing 3 to 97% by volume of metal powder is arranged on at least the copper foil surface of the copper veneer to be irradiated with a carbon dioxide laser. And forming a through hole for a through hole by irradiating a required pulse of a carbon dioxide laser.
【請求項2】 該孔あけした銅張板の両表面の銅箔の一
部をエッチング除去すると同時に孔部のバリをもエッチ
ング除去してスルーホール用孔を形成することを特徴と
する請求項1記載のスルーホール用貫通孔の形成方法。
2. A hole for a through hole is formed by etching away a part of the copper foil on both surfaces of the perforated copper clad plate and simultaneously removing burrs of the hole. 2. The method for forming a through hole for a through hole according to claim 1.
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