JP2000031213A - Tabテープの製造方法 - Google Patents

Tabテープの製造方法

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JP2000031213A
JP2000031213A JP10194863A JP19486398A JP2000031213A JP 2000031213 A JP2000031213 A JP 2000031213A JP 10194863 A JP10194863 A JP 10194863A JP 19486398 A JP19486398 A JP 19486398A JP 2000031213 A JP2000031213 A JP 2000031213A
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Japan
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tape
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wide
tab
tab tape
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JP10194863A
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Tsugio Gomi
二夫 五味
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93Batch processes
    • H01L2224/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L2224/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting

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Abstract

(57)【要約】 【課題】TABテープの製造能力を大幅に向上させる幅
広複数列TABテープの製造において、既存の製造ライ
ンを使用できる幅広複数列TABテープの製造方法を提
供すること。 【解決手段】所望のTABテープ幅の複数倍幅のベース
フィルムテープをプレス抜きした後に、所望幅の複数倍
幅の銅箔を1本ラミネートする。これに従来のTABテ
ープ製造と同じ方法を用い、複数本の回路パターンが並
列に形成された幅広複数列TABテープを製造する。こ
れをスリットして複数本の所望幅のTABテープを得
る。上記の幅広複数列TABテープの製造方法によれ
ば、スリットするまでの工程は、従来の単列TABテー
プを製造する方法と同じであるので、既存の製造ライン
をライン変更することなくそのまま使用し、幅広複数列
TABテープを製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ICリード用等に
近年広範囲に渡り使用されているTAB(Tape A
utomated Bonding)テープ、別名TC
P(Tape Carrier Package)テー
プの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のTABテープの製造においては、
所望のTABテープと同一幅のベースフィルムテープが
使用されており、このベースフィルムテープに回路パタ
ーンを形成してTABテープを得ていた。しかし、従来
の製造方法では1系列の製造ラインで常に1本のTAB
テープを製造することしかできず、生産性の向上に限界
があった。
【0003】そこで前記課題を解決するために、「特開
平5−29395」に開示されているような幅広複数列
TABテープの製造方法が考案された。
【0004】上記考案を図を用いて説明する。図1は幅
広複数列TABテープのプレス抜き後の実施例を示す概
念図である。図3は従来の幅広複数列TABテープのラ
ミネート後の実施例を示す概念図である。図4は幅広複
数列TABテープの回路パターン形成後の実施例を示す
概念図である。図中の記号において、1は幅広ベースフ
ィルムテープ、2はデバイスホール、3は入力端子用ス
リットホール、4はパーフォレーション、5は銅箔、6
回路パターンをそれぞれ示す。
【0005】先ず、所望のTABテープ幅の複数倍幅の
幅広ベースフィルムテープ1にデバイス2等をプレス抜
きし、これに所望幅の銅箔5を複数本ラミネートする。
続いて、この銅箔テープにフォトレジストを塗布し、回
路パターンを露光および現像する。次いで、この銅箔テ
ープをエッチングして銅の回路パターン6を形成し、そ
の回路パターン上にソルダーレジストを印刷した後メッ
キを施す。前記により得られた所望幅のTABテープが
並列に複数接続した幅広のTABテープをスリットし、
所望幅のTABテープを得る、という製造方法である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
幅広複数列TABテープの製造方法においては、幅広ベ
ースフィルムテープに複数本の銅箔が並列にラミネート
されたテープを使用していることから、銅箔と銅箔の間
の銅箔がラミネートされていないベースフィルム上の強
度が弱く、既存の製造ラインではテープ搬送時に、銅箔
と銅箔の間のベースフィルムの部分でテープが折れ曲が
るという問題があった。この問題を解決するためには、
既存の製造ラインのテープ搬送スプロケット、テープ搬
送ローラー等を、銅箔と銅箔の間にベースフィルムを支
える機構のついた特殊なテープ搬送スプロケット、テー
プ搬送ローラーに変更しなければならなかった。
【0007】また、フォトレジストを塗布する工程にお
いて、現在広く使用されているロールコート方式の場
合、従来の塗布ローラーでは塗布できず、所望のテープ
幅の塗布ローラーが並列に複数並んだ特殊な塗布ローラ
ーを使用しなければならなかった。
【0008】以上のように、前述の幅広複数列TABテ
ープの製造方法においては、既存の製造装置をそのまま
使用することができず、専用の特殊な冶具を用意しなけ
ればならなかった。
【0009】また、同一幅の、単列TABテープと複数
列TABテープを、1系列の製造ラインにおいて製造す
る場合には、その都度冶具等を変更するライン変更を行
なわなければならず、多大な時間がかかってしまった。
ゆえに、生産性の向上が目的であった幅広複数列TAB
テープ製造の効果が十分得られなかった。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決する製造方法であり、詳しくは請求項1に記載のよ
うな製造方法である。すなわち、先ず所望のTABテー
プ幅の複数倍幅の幅広ベースフィルムテープにデバイス
等をプレス抜きし、これに所望幅の複数倍幅の銅箔を1
本ラミネートする。続いて、この幅広銅箔テープにフォ
トレジストを塗布し、並列に並んだ複数本の回路パター
ンを露光および現像する。次いで、この銅箔テープをエ
ッチングして銅の回路パターンを形成し、その回路パタ
ーン上にソルダーレジストを印刷した後メッキを施す。
前記により得られた回路パターンが並列に複数接続した
幅広のTABテープをスリットし、所望幅のTABテー
プを得る。
【0011】上記製造方法によれば、本発明の幅広複数
列TABテープをスリットするまでの工程においては、
従来の単列TABテープを製造する方法と同じであるの
で、幅広複数列TABテープの幅が、従来の単列TAB
テープの幅と同じであれば、既存の製造ラインをライン
変更することなくそのまま使用し、幅広複数列TABテ
ープを製造することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明において使用される幅広ベ
ースフィルムテープは、所望のTABテープ幅を有する
絶縁体であればよく、特に制限されないが、現在は35
mm幅と70mm幅がTABテープの標準サイズである
ことから、35mm70mmの複数倍幅の物が好まし
い。更に、幅広ベースフィルムテープの幅が70mmで
かつ所望のTABテープの幅が35mmであると既存の
70mm幅用の製造ラインを使用できるので特に好まし
い。
【0013】そこで、幅広ベースフィルムテープの幅が
70mmでかつ所望のTABテープの幅が35mmの場
合の実施例を図を用いて説明する。図1は幅広複数列T
ABテープのプレス抜き後の実施例を示す概念図であ
る。図2は本発明における幅広複数列TABテープのラ
ミネート後の実施例を示す概念図である。図4は幅広複
数列TABテープの回路パターン形成後の実施例を示す
概念図である。図中の記号において、1は幅広ベースフ
ィルムテープ、2はデバイスホール、3は入力端子用ス
リットホール、4はパーフォレーション、5は銅箔、6
回路パターンをそれぞれ示す。
【0014】先ず、幅70mmのポリイミド樹脂製幅広
ベースフィルムテープ1にデバイスホール2、入力端子
用スリットホール3、パーフォレーション4をプレス抜
きする。幅広ベースフィルムテープの一方の面上に幅6
1mmの銅箔テープ5を1本ラミネートする。銅箔テー
プ5の表面にロールコータ方式によりフォトレジストを
塗布し、並列に並んだ回路パターンを露光および現像す
る。ポリイミド面に樹脂製の裏面コート剤を塗布した後
に銅をエッチングし回路パターン5を形成する。上記回
路パタンからフォトレジストおよび裏面コート剤を剥離
した後に回路パターン5上の必要部分にソルダーレジス
トを印刷し、続いてスズを電解メッキして複数の回路パ
ターンが並列に形成された幅広TABテープを得る。幅
広TABテープをスリッターにより2分割し、2本の3
5mm幅TABテープを得る。
【0015】このように、スリットをするまでの70m
m幅2列TABテープの製造方法は、従来の70幅単列
テープと同一であるため、既存の70mm幅製造ライン
にてライン変更を行なわずに製造することができる。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の幅広複数
列TABテープの製造方法において、幅広複数列TAB
テープをスリットするまでの工程は、従来の単列TAB
テープを製造する工程と同じであるので、幅広複数列T
ABテープの幅が、従来の単列TABテープの幅と同じ
であれば、既存の製造ラインをライン変更することなく
そのまま使用し、幅広複数列TABテープを製造するこ
とができる。この製造方法により1製造ラインの生産能
力を飛躍的に向上させることが可能となる
【図面の簡単な説明】
【図1】幅広複数列TABテープのプレス抜き後の実施
例を示す概念図である。
【図2】本発明における幅広複数列TABテープのラミ
ネート後の実施例を示す概念図である。
【図3】従来の幅広複数列TABテープのラミネート後
の実施例を示す概念図である。
【図4】幅広複数列TABテープの回路パターン形成後
の実施例を示す概念図である。
【符号の説明】
1:幅広ベースフィルムテープ 2:デバイスホール 3:入力端子用スリットホール 4:パーフォレーション 5:銅箔 6:回路パターン

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】TABテープの製造方法において、所望の
    TABテープ幅の複数倍幅の幅広ベースフィルムテープ
    にデバイスホール、パーフォレーション等をプレス抜き
    する工程、ベースフィルムテープに所望のTABテープ
    幅の複数倍幅の幅広の銅箔を1本ラミネートする工程、
    銅箔をラミネートした幅広テープにフォトレジストを塗
    布する工程、フォトレジストを塗布した幅広銅箔テープ
    に並列に並んだ複数本の回路パターンを露光する工程、
    露光したフォトレジストを現像しフォトレジストの回路
    パターンを形成する工程、銅箔テープをエッチングし銅
    箔の回路パターンを形成する工程、回路パターン上の必
    要な部分にソルダーレジストを塗布する工程、銅箔の回
    路パターンにメッキを施す工程、前記の工程により得ら
    れた所望のTABテープ幅の複数倍幅の幅広TABテー
    プを所望のTABテープ幅にスリットする工程を有する
    事を特徴とするTABテープの製造方法。
  2. 【請求項2】前記幅広ベースフィルムテープ及び幅広T
    ABテープの幅が70mmであり、得られるTABテー
    プの幅が35mmである請求項1記載のTABテープの
    製造方法。
JP10194863A 1998-07-09 1998-07-09 Tabテープの製造方法 Withdrawn JP2000031213A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100359658C (zh) * 2003-02-21 2008-01-02 三井金属矿业株式会社 检查安装电子器件的薄膜载带的设备和方法
CN110471258A (zh) * 2019-08-23 2019-11-19 江苏上达电子有限公司 一种cof基板的高精度制造方法
KR102670029B1 (ko) * 2021-06-28 2024-05-29 해성디에스 주식회사 연속적인 베이크 장치를 구비하는 포토리소그래피 시스템

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