JP2000031194A - ボンディングワイヤおよび半導体装置 - Google Patents

ボンディングワイヤおよび半導体装置

Info

Publication number
JP2000031194A
JP2000031194A JP19585798A JP19585798A JP2000031194A JP 2000031194 A JP2000031194 A JP 2000031194A JP 19585798 A JP19585798 A JP 19585798A JP 19585798 A JP19585798 A JP 19585798A JP 2000031194 A JP2000031194 A JP 2000031194A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wire
bonding
aluminum
bonding wire
semiconductor chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19585798A
Other languages
English (en)
Inventor
Shin Soyano
伸 征矢野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP19585798A priority Critical patent/JP2000031194A/ja
Publication of JP2000031194A publication Critical patent/JP2000031194A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • H01L2224/056Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/05617Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/05624Aluminium [Al] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/4501Shape
    • H01L2224/45012Cross-sectional shape
    • H01L2224/45015Cross-sectional shape being circular
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45117Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/45124Aluminium (Al) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45147Copper (Cu) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4554Coating
    • H01L2224/45565Single coating layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4554Coating
    • H01L2224/45599Material
    • H01L2224/456Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4554Coating
    • H01L2224/45599Material
    • H01L2224/456Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45617Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/45624Aluminium (Al) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/485Material
    • H01L2224/48505Material at the bonding interface
    • H01L2224/48699Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al)
    • H01L2224/487Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/48717Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950 °C
    • H01L2224/48724Aluminium (Al) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01004Beryllium [Be]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01013Aluminum [Al]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01028Nickel [Ni]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】ボンディング性を損なうことなくワイヤ1本当
たりの溶断電流の増大,および耐食性を高め、併せて半
導体チップに接続するワイヤ本数を減らして半導体装置
の組立工程のボンディング工数の低減化を図る。 【解決手段】半導体装置の組立構造で半導体チップの表
面電極と回路基板との間に配線するボンディングワイヤ
7として、銅ワイヤ7aを芯線としてその表面にアルミ
被覆層7b,あるいはニッケルメッキ層を被覆したワイ
ヤ構造のものを採用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、パワートランジ
スタモジュールなどを対象としたパワー半導体チップの
接続用ボンディングワイヤ,および半導体装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】まず、頭記したパワートランジスタモジ
ュールを例とした半導体装置の組立構造を図4(a),(b)
に示す。図において、1は放熱用の銅ベース板、2は回
路基板2aにパワー半導体チップ(IGBT,フリーホ
イーリングダイオードなど)2bを搭載したパワー回路
ブロック、3はプリント基板などの回路基板3aにIC
などの回路部品3bを実装した制御回路ブロック、4は
端子一体形の外囲樹脂ケース、5は主回路の外部導出端
子、6は制御回路の外部導出端子である。また、パワー
回路ブロック2に搭載したパワー半導体チップの表面電
極と回路基板2a,3aとの間がボンディングワイヤ7
で接続されている。なお、図示されてないが、図4(a)
の組立状態で、樹脂ケース4の内部にはシリコーンゲル
などの充填材を充填して回路素子を樹脂封止し、さらに
樹脂ケース4の開口面には上蓋を被せて製品が完成す
る。
【0003】また、前記半導体チップ2bの表面電極は
一般にアルミニウムを用いていることから、この電極に
接続するボンディングワイヤ7には、純度99.99%
以上,線径70〜500μmのアルミワイヤ(図3参
照)を使用し、その接続には超音波ボンダが使われてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記のよう
にパワー半導体チップ2bに接続するボンディングワイ
ヤ7としてアルミワイヤを用いたものでは次記のような
問題がある。 (1) アルミニウムはその体積抵抗率ρが2.75(Ω・
m)であって銅などに比べて大きく、ワイヤ1本当たり
の溶断電流も小さい。このために、通電容量の大きな電
力用のパワー半導体チップ2bにはその表面電極に多数
本のワイヤを接続する必要があり、かつこれを超音波ボ
ンダで1本ずつボンディングするにはボンディング工程
での工数が多くなり、それだけコスト高となる。
【0005】(2) また、高純度のアルミニウムで作られ
たアルミワイヤは、図4で述べたように外囲樹脂ケース
4に充填したシリコーンゲルなどで樹脂封止するように
したとしても、高湿度の使用環境の下では封止樹脂の隙
間から侵入した湿気(水分)によって腐食が生じる。こ
の発明は上記の点にかんがみなされたものであり、その
目的はボンディング性を損なうことなく、ワイヤ1本当
たりの溶断電流の増大化,および耐食性を高めたボンデ
ィングワイヤ,およびそのボンディングワイヤを採用し
て組立工程でのボンディング工数の低減化を図った半導
体装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明によれば、半導体チップの表面電極に接続
するボンディングワイヤを次のような構造とする。 (1) 銅ワイヤを芯線として、その芯線の表面にアルミニ
ウムを被覆する(請求項1)。
【0007】(2) 前項(1) において、アルミニウムに遷
移金属として微量のニッケルを含有させる(請求項
2)。 (3) 銅ワイヤを芯線としてその表面にニッケルメッキを
施す(請求項3)。 すなわち、銅はアルミニウムに比べて体積抵抗率が小さ
く(銅の体積抵抗率ρ=1.72(Ω・m))、かつ融
点も高くてボンディングワイヤの1本当たりの溶断電流
がアルミワイヤよりも大となる反面、銅単独のワイヤは
超音波ボンディングが困難である。そこで、従来のアル
ミワイヤの線径と略同等な銅ワイヤを芯線としてその表
面にアルミニウムを被覆する,あるいはニッケルメッキ
を施すことにより、銅ワイヤのもつ電気的特性の利点
(体積抵抗率が小さく,溶断電流が大きい)を十分に生
かしつつ、アルミワイヤと同等なボンディング性を確保
したボンディングワイヤが得られる。また、銅ワイヤに
被覆するアルミニウムに遷移金属としてのニッケルを微
量(0.001〜0.2重量%)含有させる、あるいは
銅ワイヤの表面にニッケルメッキを施すことでボンディ
ングワイヤの耐食性も高まる。
【0008】また、この発明によれば、前項(1) ないし
(3) のボンディングワイヤを半導体チップの表面電極と
回路基板との間に配線して半導体装置を組立てるものと
する(請求項4)。これにより、電流容量の大きなパワ
ー半導体チップに対しても、その表面電極に接続するボ
ンディングワイヤの本数がアルミワイヤの使用と比べて
大幅に少なくて済むとともに、半導体装置の組立工程に
おけるワイヤのボンディング工数も削減できる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
示実施例に基づいて説明する。すなわち、図4に示した
半導体装置において、パワー半導体チップ2bと回路基
板2a,3aとの間に配線用に用いるボンディングワイ
ヤ7として、この発明ではアルミワイヤに代えて、次記
の実施例1,実施例2で述べるようなワイヤ構造のボン
ディングワイヤを採用するものとする。
【0010】〔実施例1〕図1はこの発明の請求項1,
ないし2に対応するボンディングワイヤの部分図を表し
ており、ボンディングワイヤ7は、銅ワイヤ7aを芯線
としてその表面をアルミニウム被覆層7bで覆ったワイ
ヤ構造とする。また、アルミニウム被覆層7bの耐食性
をより一層高めるために、アルミニウムに遷移金属とし
てニッケルを0.001〜0.2wt%含有させた合金
でアルミニウム被覆層7bを形成するのがよい。
【0011】〔実施例2〕図2はこの発明の請求項3に
対応するボンディングワイヤの部分図であり、ボンディ
ングワイヤ7は、銅ワイヤ7aを芯線としてその表面に
ニッケルメッキ層7cを施したワイヤ構造とする。そし
て、図4に示したパワートランジスタモジュールなどの
半導体装置を組立てるに際しては、前記の実施例1,2
で述べたワイヤ構造のボンディングワイヤ7を採用し、
超音波ボンダなどを使ってパワー半導体チップ2bの表
面電極と回路基板2a,3aの間にボンディングワイヤ
7を配線するものとする。
【0012】これにより、ボンディングワイヤ7にアル
ミワイヤを採用した従来の組立構造と比べて、ボンディ
ングワイヤの配線本数が少なくて済むほか、その分だけ
組立工程でのボンディング工数が減少してコスト低減化
が図れる。
【0013】
【発明の効果】以上述べたように、この発明によれば、
次記の効果を奏する。 (1) 半導体チップの表面電極に接続するボンディングワ
イヤを、銅ワイヤを芯線としてその表面にアルミニウム
を被覆する,あるいはニッケルメッキを施したワイヤ構
造とすることにより、銅ワイヤのもつ電気的特性の利点
(体積抵抗率が小さく,溶断電流が大きい)を十分に生
かしつつ、アルミワイヤと同等なボンディング性をもっ
たボンディングワイヤが得られる。また、銅ワイヤに被
覆するアルミニウムに遷移金属としてのニッケルを含有
させる、あるいは銅ワイヤの表面にニッケルメッキを施
すことでボンディングワイヤの耐食性も向上する。
【0014】(2) また、前記ワイヤ構造のボンディング
ワイヤを半導体チップの表面電極と回路基板との間に配
線して半導体装置を組立てることにより、電流容量の大
きなパワー半導体チップに対しても、その表面電極に接
続するボンディングワイヤの本数がアルミワイヤの使用
と比べて大幅に少なくて済むとともに、半導体装置の組
立工程におけるワイヤのボンディング工数を減少して組
立コストの低減化が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例1に対応するボンディングワ
イヤの部分図
【図2】この発明の実施例2に対応するボンディングワ
イヤの部分図
【図3】従来の半導体装置にボンディングワイヤとして
採用されているアルミワイヤの部分図
【図4】この発明の実施対象となるパワートランジスタ
モジュールの組立構造を表す図で、(a) は分解斜視図、
(b) は組立状態の斜視図
【符号の説明】
2a,3a 回路基板 2b パワー半導体チップ 7 ボンディングワイヤ 7a 銅ワイヤ(芯線) 7b アルミニウム被覆層 7c ニッケルメッキ層

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体チップの表面電極に接続するボンデ
    ィングワイヤであって、銅ワイヤを芯線としてその表面
    にアルミニウムを被覆したことを特徴とするボンディン
    グワイヤ。
  2. 【請求項2】請求項1記載のボンディングワイヤにおい
    て、アルミニウムに遷移金属として微量のニッケルを含
    有させたことを特徴とするボンディングワイヤ。
  3. 【請求項3】半導体チップの表面電極に接続するボンデ
    ィングワイヤであって、銅ワイヤを芯線としてその表面
    にニッケルメッキを施したことを特徴とするボンディン
    グワイヤ。
  4. 【請求項4】請求項1ないし3のいずれかに記載のボン
    ディングワイヤを半導体チップの表面電極と回路基板と
    の間に配線して組立てたことを特徴とする半導体装置。
JP19585798A 1998-07-10 1998-07-10 ボンディングワイヤおよび半導体装置 Pending JP2000031194A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19585798A JP2000031194A (ja) 1998-07-10 1998-07-10 ボンディングワイヤおよび半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19585798A JP2000031194A (ja) 1998-07-10 1998-07-10 ボンディングワイヤおよび半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000031194A true JP2000031194A (ja) 2000-01-28

Family

ID=16348159

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19585798A Pending JP2000031194A (ja) 1998-07-10 1998-07-10 ボンディングワイヤおよび半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000031194A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002222831A (ja) * 2001-01-29 2002-08-09 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd フリップチップ型半導体素子
JP2007123597A (ja) * 2005-10-28 2007-05-17 Nippon Steel Materials Co Ltd 半導体装置用ボンディングワイヤ
EP1925037A1 (en) * 2005-09-13 2008-05-28 Showa Denko Kabushiki Kaisha Light-emitting device
JP2012019177A (ja) * 2010-07-09 2012-01-26 Nisshin Steel Co Ltd Alめっき鋼線を用いたワイヤボンディング構造
JP2015519746A (ja) * 2012-05-07 2015-07-09 ヘレーウス ドイチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテルハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトHeraeus Deutschland GmbH&Co.KG アルミニウム被覆された銅のボンディングワイヤおよびその製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002222831A (ja) * 2001-01-29 2002-08-09 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd フリップチップ型半導体素子
JP4568440B2 (ja) * 2001-01-29 2010-10-27 東レ・ダウコーニング株式会社 フリップチップ型半導体素子および半導体装置
EP1925037A1 (en) * 2005-09-13 2008-05-28 Showa Denko Kabushiki Kaisha Light-emitting device
EP1925037A4 (en) * 2005-09-13 2011-10-26 Showa Denko Kk LIGHT EMITTING DEVICE
JP2007123597A (ja) * 2005-10-28 2007-05-17 Nippon Steel Materials Co Ltd 半導体装置用ボンディングワイヤ
JP2012019177A (ja) * 2010-07-09 2012-01-26 Nisshin Steel Co Ltd Alめっき鋼線を用いたワイヤボンディング構造
JP2015519746A (ja) * 2012-05-07 2015-07-09 ヘレーウス ドイチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテルハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトHeraeus Deutschland GmbH&Co.KG アルミニウム被覆された銅のボンディングワイヤおよびその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR930002804B1 (ko) 수지밀봉형 반도체장치
US6482674B1 (en) Semiconductor package having metal foil die mounting plate
US8890310B2 (en) Power module package having excellent heat sink emission capability and method for manufacturing the same
US4862245A (en) Package semiconductor chip
JP2819285B2 (ja) 積層型ボトムリード半導体パッケージ
US8916958B2 (en) Semiconductor package with multiple chips and substrate in metal cap
US8723304B2 (en) Semiconductor package and methods of fabricating the same
KR950703207A (ko) 다중칩 모듈 합체용 금속 전자 패키지(Metal electronic package incorparating a multi-chip module)
JPS61241959A (ja) 半導体モジユ−ル
CN208111434U (zh) 一种功率模块
JP2000031194A (ja) ボンディングワイヤおよび半導体装置
JP4208490B2 (ja) 半導体電力用モジュール及びその製造方法
JPH0645504A (ja) 半導体装置
JPS622587A (ja) ハイパワ−用混成集積回路
JP2003209132A (ja) リードフレーム組立体及びそれを使用した半導体装置
JP4861200B2 (ja) パワーモジュール
JP2001053222A (ja) 半導体装置
JP4277168B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその製法
KR102378171B1 (ko) 커플드 반도체 패키지
CN220400571U (zh) 一种散热型功率模块封装结构
CN214797378U (zh) 一种新型高可靠性大功率模块
JP2612468B2 (ja) 電子部品搭載用基板
KR100212392B1 (ko) 반도체 패키지
JP2002093855A (ja) 半導体装置
JPS63250164A (ja) ハイパワ−用混成集積回路基板とその集積回路