JP2000030991A - ウェハid読み取り方法および装置 - Google Patents

ウェハid読み取り方法および装置

Info

Publication number
JP2000030991A
JP2000030991A JP10196907A JP19690798A JP2000030991A JP 2000030991 A JP2000030991 A JP 2000030991A JP 10196907 A JP10196907 A JP 10196907A JP 19690798 A JP19690798 A JP 19690798A JP 2000030991 A JP2000030991 A JP 2000030991A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
detection
semiconductor
semiconductor wafer
illumination light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10196907A
Other languages
English (en)
Inventor
Haruo Nagai
晴夫 長井
Hiroshi Moriguchi
博司 森口
Kazuhiro Yamatani
和弘 山谷
Seigo Nakamura
清吾 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Priority to JP10196907A priority Critical patent/JP2000030991A/ja
Publication of JP2000030991A publication Critical patent/JP2000030991A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
    • H01L2223/54406Marks applied to semiconductor devices or parts comprising alphanumeric information
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
    • H01L2223/54493Peripheral marks on wafers, e.g. orientation flats, notches, lot number

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェハID読み取り装置において小形・高速
・低価格でかつ高機能を実現する。 【解決手段】 複数の半導体ウェハ1を収容可能なウェ
ハカセット2と、半導体ウェハ1に対してウェハ検出用
照明光3aを照射するウェハ検出用光源3と、ウェハカ
セット2内の半導体ウェハ1を撮像するウェハ撮像部4
と、ウェハカセット2から半導体ウェハ1を取り出し、
かつこの半導体ウェハ1を位置決めして支持するロボッ
ト本体5と、半導体ウェハ1のウェハIDを撮像するウ
ェハID撮像部7と、前記ウェハIDに複数の方向から
複数の照射角度でID検出用照明光を照射可能な複数の
ID検出用光源6と、ウェハカセット2内の半導体ウェ
ハ1の状態とウェハID撮像部7が撮像した前記ウェハ
IDとを画像処理によって認識するとともに、複数のI
D検出用光源6を個々に制御する認識制御部9とからな
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造技術に
関し、特に、半導体ウェハに形成されたウェハIDの認
識に適用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を研究、
完成するに際し、本発明者によって検討されたものであ
り、その概要は次のとおりである。
【0003】半導体製造工程においては、半導体ウェハ
の表面に、ウェハID(Identification)と呼ばれるマ
ーク(文字列)を印字している。
【0004】このウェハIDは、半導体ウェハの品名、
ロットNo.またはウェハNo.などを表すものである
が、印字後に様々なウェハ製造工程を経るため、半導体
ウェハの表面状態が変化してウェハIDの安定した自動
認識が困難な状況にある。
【0005】特に、半導体ウェハの表面平坦化処理を行
うCMP(Chemical Mechanical Polishing)技術の進展
に伴い、ウェハIDが低コントラストとなり、自動認識
の困難さが増える傾向にある。
【0006】また、半導体ウェハの大口径化(例えば、
φ300製品)や高集積化が進む中で半導体ウェハの価
格が上昇するとともに、製造工程での枚葉管理が必須と
なり、高性能でかつウェハ製造工程間での共通使用条件
の設定を行えるウェハIDの自動認識(読み取り)装置
が望まれている。
【0007】なお、物品(例えば、半導体ウェハ)に付
された識別コード(ウェハID)を認識する技術につい
ては、例えば、特開平9−69476号公報に開示され
ている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記した技
術におけるウェハID認識(読み取り)装置は、半導体
ウェハを検出するウェハサーチ機構と、半導体ウェハの
位置決めを行うアライナ(位置決め機構)とを備えてい
るため、半導体ウェハの大口径化に比例して使用する床
面積や装置購入への投資が増えることが問題とされる。
【0009】さらに、ウェハIDのID情報と形成され
た膜との重なりなどにより、ウェハ製造工程特有のID
認識率低下要因が発生し、これに対しての有効な手段が
無いことが問題とされる。
【0010】また、半導体ウェハを収容する前面開閉式
カセットであるFOUP(Front Open Unified Pod) の
φ300ウェハ対応のものに関して、高速処理が行える
ウェハサーチ方式が無いことが問題とされる。
【0011】本発明の目的は、小形・高速・低価格でか
つ高機能を実現するウェハID読み取り方法および装置
を提供することにある。
【0012】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0013】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0014】すなわち、本発明によるウェハID読み取
り方法は、複数のID検出用光源から照射条件を個々に
制御して、半導体ウェハに形成されたウェハIDを含む
撮像対象部位にID検出用照明光を照射する工程と、前
記半導体ウェハの前記ウェハIDをウェハID撮像部に
よって撮像する工程と、前記ウェハID撮像部が撮像し
た前記ウェハIDを画像処理によって認識する工程とを
有し、複数の前記ID検出用照明光を前記撮像対象部位
に照射する際に、前記ID検出用照明光の照射条件を個
々に制御して複数の方向から複数の照射角度で前記ID
検出用照明光を照射し得るものである。
【0015】また、本発明によるウェハID読み取り装
置は、複数の半導体ウェハを収容可能なウェハ収容部
と、前記ウェハ収容部に収容された前記半導体ウェハに
対してウェハ検出用照明光を照射するウェハ検出用光源
と、前記ウェハ収容部に収容された前記半導体ウェハを
撮像するウェハ撮像部と、前記ウェハ収容部に収容され
た前記半導体ウェハを取り出し、かつ取り出した前記半
導体ウェハを位置決めして支持するウェハ支持部と、前
記ウェハ支持部によって支持された前記半導体ウェハの
ウェハIDを含む撮像対象部位を撮像するウェハID撮
像部と、前記半導体ウェハの前記撮像対象部位に複数の
方向から複数の照射角度でID検出用照明光を照射可能
な複数のID検出用光源と、前記ウェハ撮像部が撮像し
たウェハ検出情報に基づいた前記ウェハ収容部内の前記
半導体ウェハの状態と前記ウェハID撮像部が撮像した
前記ウェハIDとを画像処理によって認識するととも
に、複数の前記ID検出用光源を個々に制御する認識制
御部とを有するものである。
【0016】これにより、画像処理に適した画像を取り
込むことができる。
【0017】したがって、画像処理を行った際に半導体
ウェハの検出を高精度に行うことができるとともに、ロ
ボットハンドによるウェハ支持部を備えることにより、
ウェハID読み取り装置において、ウェハサーチ専用装
置とアライナ(位置決め専用装置)とを不要にすること
ができる。
【0018】これにより、ウェハID読み取り装置の小
形化を図ることができ、その結果、使用するスペースを
低減できる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
【0020】図1は本発明によるウェハID読み取り装
置の基本構造の実施の形態の一例を示す構成概略図であ
り、(a)は平面図、(b)は正面図、図2は本発明の
ウェハID読み取り装置の一例であるウェハソータの構
造を示す構成概略図であり、(a)は平面図、(b)は
側面図であり、図3は図2に示すウェハソータに設けら
れたウェハID撮像部の構造の一例を示す拡大側面図、
図4は図3に示すウェハID撮像部に設置されたID検
出用照明光である高角度照明の構造の一例を示す正面
図、図5は図3に示すウェハID撮像部に設置されたI
D検出用照明光である低角度照明の構造の一例を示す底
面図、図6は図5に示す低角度照明のA矢視図、図7は
図5に示す低角度照明のB矢視図、図8は図2に示すウ
ェハソータによってウェハサーチを行った際の画像の一
例を示す図であり、(a)は撮像画像図、(b)は画像
データ、図9(a),(b),(c),(d)は図8に示す画
像データの種類の一例を示す画像データ図、図10
(a),(b),(c)は本発明のウェハID読み取り装置
によるID検出用照明光の照射方法の一例を示す照射概
念図、図11(a) は図10に示す照射方法によってI
D検出用照明光を照射した際の撮像対象部位の状態の一
例を示す概念図であり、(b)は比較例の照射方法によ
ってID検出用照明光を照射した際の撮像対象部位を示
す概念図、図12(a) は本発明のウェハID読み取り
装置によってID検出用照明光を照射した際の撮像対象
部位の状態の一例を示す照射概念図であり、(b)は部
分的照度補正用の照射方法の一例を示す概念図であり、
(c)は(b)の照射によって得られる撮像対象部位の
状態を示す照射概念図である。
【0021】本実施の形態のウェハID読み取り装置
は、図1に示すウェハカセット2(ウェハ収容部)に収
容された半導体ウェハ1をこのウェハカセット2内から
取り出し、図10に示す半導体ウェハ1の主面1aに印
字されて形成されたウェハID1bを認識する(読み取
る)ものである。
【0022】まず、図1〜図9を用いて、図1に示す前
記ウェハID読み取り装置の基本構成について説明する
と、複数(例えば、25枚程度)の半導体ウェハ1を収
容可能なウェハ収容部であるウェハカセット2と、ウェ
ハカセット2に収容された半導体ウェハ1に対してウェ
ハ検出用照明光3aを照射するウェハ検出用光源3と、
ウェハカセット2に収容された半導体ウェハ1を撮像す
るウェハ撮像部4と、ウェハカセット2に収容された半
導体ウェハ1を取り出し、かつ取り出した半導体ウェハ
1を位置決めして支持するロボット本体5(ウェハ支持
部)と、ロボット本体5によって支持された半導体ウェ
ハ1のウェハID1bを含む撮像対象部位1cを撮像す
るウェハID撮像部7と、半導体ウェハ1の撮像対象部
位1cに複数の方向から複数の照射角度でID検出用照
明光6aを照射可能な複数のID検出用光源6と、ウェ
ハ撮像部4が撮像した画像データ8a(ウェハ検出情
報)に基づいたウェハカセット2内の半導体ウェハ1の
状態とウェハID撮像部7が撮像したウェハID1bと
を画像処理によって認識するとともに、複数のID検出
用光源6を個々に制御する認識制御部9とからなる。
【0023】すなわち、本実施の形態のウェハID読み
取り装置は、ウェハカセット2内に収容された半導体ウ
ェハ1の状態を検出し、その後、ロボット本体5の動作
により所望の半導体ウェハ1を取り出して半導体ウェハ
1のウェハID1bを認識した後、再び、ウェハカセッ
ト2にこの半導体ウェハ1を戻すものである。
【0024】なお、ウェハID1bの認識を行う際、半
導体ウェハ1の主面1a(表面)の状況に合わせた最適
な照明条件によってID検出用照明光6aを照射して、
ウェハID1bの認識率を高める機能を有している。
【0025】その際、個々のID検出用照明光6aの照
射、非照射を選択する制御を認識制御部9によって行
い、これにより、選択された複数のID検出用光源6を
用いて、複数の照射角度で複数の方向からID検出用照
明光6aをウェハID1bに照射する。
【0026】また、前記ウェハID読み取り装置におい
て、動作機構を有する部材は、ロボット本体5だけであ
る。
【0027】さらに、ウェハ支持部であるロボット本体
5は、半導体ウェハ1を支持可能なロボットハンド5a
を有し、かつこのロボットハンド5aをZ方向(高さ方
向)に動作させることが可能な構造となっており、図1
(b)に示すように、ロボットハンド5aを上下動させ
ることにより、半導体ウェハ1のウェハカセット2から
の取り出しと収容とを行うことができ、さらに、このロ
ボットハンド5aには、半導体ウェハ1の位置決め機構
が設けられており、この位置決め機構によってウェハI
D読み取り時の半導体ウェハ1の位置決めを行う。
【0028】また、ウェハカセット2には、図示しない
棚がほぼ均等の間隔で設置されており、その棚の数だけ
半導体ウェハ1を収容することができる。
【0029】なお、本実施の形態において説明するウェ
ハカセット2は、オープンカセット(常時、ある一面が
開口したウェハ収容カセット)であるが、FOUPであ
ってもよい。
【0030】また、ウェハ検出用光源3は、ウェハカセ
ット2内に収容された全ての半導体ウェハ1の側面にウ
ェハ検出用照明光3aを照射するものである。
【0031】さらに、ウェハ撮像部4には、TV(Tele
vision)カメラとこれに接合された所定のレンズとが設
置され、図8(a)に示すように、ウェハカセット2内
に収容された全ての半導体ウェハ1のウェハ検出用照明
光3aが照射された箇所を撮像するものである。
【0032】したがって、ウェハ撮像部4によって撮像
されたウェハ検出情報である画像データ8aに基づいて
認識制御部9において、ウェハカセット2内の半導体ウ
ェハ1の1枚1枚の状態を認識できる。
【0033】これにより、この認識結果に基づいて、認
識制御部9によりロボット本体5のロボットハンド5a
を制御して、所望の半導体ウェハ1を保持するととも
に、半導体ウェハ1のウェハカセット2からの取り出し
や再収容などの所定の処理を行う。
【0034】さらに、ウェハID1bの認識を行う際に
は、認識制御部9によってロボットハンド5aを制御し
て、半導体ウェハ1をウェハカセット2から取り出し、
このロボットハンド5a上で位置決めを行う。
【0035】また、ウェハID撮像部7には、半導体ウ
ェハ1のウェハID1bを含む撮像対象部位1cを撮像
するID撮像TVカメラ7d(図3参照)と、これに接
合されたマウントレンズ7e(図3参照)と、複数のI
D検出用光源6とが設置されており、ロボットハンド5
aによって支持された半導体ウェハ1のウェハID1b
に対して、複数のID検出用光源6から複数のID検出
用照明光6aを照射し、前記ID撮像TVカメラ7dに
より、撮像対象部位1cの画像を取り込むものである。
【0036】なお、撮像対象部位1cに対してID検出
用照明光6aを照射する際、半導体ウェハ1の主面1a
の状況に合わせてウェハID1bとその背景とを鮮明に
区別するための最適な照明条件を探し出し、この照明条
件に基づいて複数のID検出用照明光6aを照射する。
【0037】また、認識制御部9は、ウェハ撮像部4が
取り込んだウェハカセット2内の半導体ウェハ1の画像
に基づいて、ウェハカセット2内の所望の半導体ウェハ
1の状態を検出し、さらに、この検出結果に基づいてロ
ボットハンド5aの動作を制御し、また、ID検出用照
明光6aを照射する際、半導体ウェハ1の主面1aの状
況に合わせてウェハID1bとその背景とを鮮明に区別
するための最適な照明条件に基づいて個々のID検出用
照明光6aを制御して照射する。
【0038】さらに、認識制御部9は、ウェハID撮像
部7が取り込んだ半導体ウェハ1のウェハID1bの情
報に基づいてウェハID1bを認識するものである。
【0039】なお、本実施の形態の認識制御部9は、こ
れらの制御および認識を全て行うものであるが、ウェハ
カセット2内の半導体ウェハ1の状態を検出する認識部
と、ロボットハンド5aの動作制御部と、最適な照明条
件に基づいて個々のID検出用照明光6aの照射を制御
する照射制御部と、ウェハID1bを認識するID認識
部とがそれぞれ個別に設けられていてもよく、また、何
れかの組み合わせで設けられていてもよい。
【0040】次に、本実施の形態のウェハID読み取り
装置の一例であるウェハソータ10(図2参照)の構造
について説明する。
【0041】ここで、ウェハソータ10は、図1に示す
ウェハID読み取り装置を応用したものであり、その構
造は、図1のものとほぼ同様である。
【0042】つまり、ウェハソータ10は、2つのウェ
ハ収容部である第1ウェハカセット2aおよび第2ウェ
ハカセット2bと、ロボットハンド5aを備えたロボッ
ト本体5と、ウェハ検出用光源3と、ウェハ撮像部4
と、ID検出用光源6と、ID検出用光源6が設けられ
たウェハID撮像部7と、制御かつ認識を行う認識制御
部9とから構成され、図4〜図7に示す個々のID検出
用照明光6aの照射、非照射を選択する制御を認識制御
部9によって行い、これにより、選択された複数のID
検出用光源6を用いて、複数の照射角度で複数の方向か
らID検出用照明光6aをウェハID1bに照射するも
のである。
【0043】ただし、状況に応じて図4に示す同軸照明
7aだけを用いたり、複数のID検出用照明光6aをあ
る一方向からある1つの照射角度で照射してもよい。
【0044】ここで、ウェハソータ10の図1に示すウ
ェハID読み取り装置との大きな相違点は、ウェハ収容
部(第1ウェハカセット2aと第2ウェハカセット2
b)を2つ有していることであり、ウェハソータ10で
は、第1ウェハカセット2aと第2ウェハカセット2b
との間にロボット本体5が設置されている。
【0045】これにより、ロボットハンド5aによって
支持した半導体ウェハ1を双方のウェハ収容部に対して
移載するものである。
【0046】すなわち、ロボットハンド5aによって半
導体ウェハ1を第1ウェハカセット2aから第2ウェハ
カセット2bに、また、その反対に、第2ウェハカセッ
ト2bから第1ウェハカセット2aに移載することがで
きる。
【0047】その結果、第1ウェハカセット2aまたは
第2ウェハカセット2bにおいて、半導体ウェハ1の並
べ替えを行うことも可能である。
【0048】これらにより、図2に示すウェハソータ1
0では、半導体ウェハ1のサーチ(検出)、取り出し、
位置決め、ウェハID認識、収容および並べ替えを行う
ことができる。
【0049】なお、図2(a)に示すウェハ検出用光源
3は、例えば、ウェハカセット2内の半導体ウェハ1の
配列に合わせて設けられた複数のLED(Light Emitti
ng Diode) 照明であり、その場合、超高輝度なものであ
る。
【0050】ここで、本実施の形態のウェハID読み取
り装置の一例であるウェハソータ10のウェハID撮像
部7の構造についてその詳細を説明する。
【0051】まず、ウェハソータ10の図3に示すウェ
ハID撮像部7には、ウェハID1bを含む撮像対象部
位1cを撮像するID撮像TVカメラ7dと、撮像対象
部位1cにID検出用照明光6aを照射する3つの照明
ユニットである同軸照明7a、高角度照明7bおよび低
角度照明7cとが設けられている。
【0052】なお、本実施の形態では、ID検出用照明
光6aを照射する複数のID検出用光源6がLED照明
の場合について説明する。
【0053】ここで、同軸照明7aは、ID撮像TVカ
メラ7dの撮像軸とその光軸とが一致しているものであ
り、例えば、ハロゲンランプなどである。
【0054】したがって、この同軸照明7aによる照射
光は、半導体ウェハ1の撮像対象部位1cに対してほぼ
垂直に照射される。
【0055】また、高角度照明7bは、図4に示すよう
に複数のID検出用光源6からなり、このID検出用光
源6から発するID検出用照明光6aを半導体ウェハ1
の主面1aに対してその垂線から多少(数°程度)傾斜
した角度(半導体ウェハ1の主面1aに対しては90°
に近い比較的大きな角度)で照射するものである。
【0056】つまり、高角度照明7bにおけるそれぞれ
のID検出用光源6は、同軸照明7aの照射光の光軸に
対して僅かに傾斜してID検出用照明光6aを照射可能
なように同軸照明7aに対して僅かに傾斜して設置され
ている。
【0057】一方、低角度照明7cも、図5〜図7に示
すように複数のID検出用光源6からなり、ID検出用
照明光6aを半導体ウェハ1の主面1aに対して比較的
小さな照射角度で照射するものである。
【0058】したがって、高角度照明7bおよび低角度
照明7cの両者とも、斜方照明を行うことができるもの
である。
【0059】なお、高角度照明7bおよび低角度照明7
cにおける複数のID検出用光源6は、本実施の形態で
はLEDである。
【0060】すなわち、高角度照明7bにおいては、図
4に示すように、複数のID検出用光源6であるLED
が、その中心に同軸照明7aを配置した状態で、この同
軸照明7aの周りに円周状および格子状に複数個配置さ
れている。
【0061】また、低角度照明7cにおいては、図5〜
図7に示すように、複数のID検出用光源6であるLE
Dが、四角形の4辺上にそれぞれ直線配置されており、
それぞれが所定の傾斜角度(図6、図7に示すθ1 〜θ
5 であり、θ1 〜θ5 はそれぞれ異なった任意の角度)
で取り付けられている。
【0062】すなわち、本実施の形態のウェハソータ1
0では、高角度照明7bおよび低角度照明7cに取り付
けられた複数のID検出用光源6であるLEDが、ウェ
ハID撮像部7に複数種類の異なった角度で取り付けら
れており、これにより、半導体ウェハ1の主面1aの状
態に応じて認識制御部9により、使用するID検出用光
源6を選択し、この選択されたID検出用照明光6aを
照射することにより、複数の選択的な傾斜角度で、かつ
複数の方向(例えば、周囲360°のうちの種々の方
向)からウェハID1bを含む撮像対象部位1cに対し
て選択されたID検出用照明光6aを照射することがで
きる。
【0063】また、本実施の形態のウェハソータ10で
は、低角度照明7cおよび高角度照明7bにおいて、2
種類の波長のID検出用光源6であるLEDが取り付け
られている。
【0064】例えば、図4、図5および図7において
は、黒色図示したID検出用光源6であるLEDが、赤
色の光を放つ所定の波長の光源であり、白色図示したI
D検出用光源6であるLEDが、黄色の光を放つ他の波
長の光源である。
【0065】これにより、ウェハソータ10は、ウェハ
ID撮像部7から照射するID検出用照明光6aの波長
を、何れのID検出用照明光6aを選択するかによって
認識制御部9により自動で切り換えることができ、その
結果、半導体ウェハ1の膜厚の変化に対応させてID検
出用照明光6aの波長を切り換えられる。
【0066】次に、本実施の形態のウェハID読み取り
方法について説明する。
【0067】なお、本実施の形態では、図2に示すウェ
ハソータ10の動作の一例として、第1ウェハカセット
2aに収容された複数(例えば、25枚)の半導体ウェ
ハ1をロボットハンド5aによって1枚ずつ取り出し、
それぞれのウェハID1bを認識した(読み取った)
後、第2ウェハカセット2bに収容する場合について説
明する。
【0068】まず、ウェハソータ10の動作としてウェ
ハサーチを行う。
【0069】すなわち、図2(a)に示すように、LE
D照明であるウェハ検出用光源3から第1ウェハカセッ
ト2a内に収容された全ての半導体ウェハ1の側面に対
してウェハ検出用照明光3aを照射する。
【0070】続いて、第1ウェハカセット2a内の全て
の半導体ウェハ1のウェハ検出用照明光3aが照射され
た箇所をウェハ撮像部4に設置されたTVカメラによっ
て撮像し、これにより、図8(a)に示す撮像画像8を
取り込む。
【0071】さらに、この撮像画像8から図8(b)に
示すウェハ検出情報である画像データ8aを取り出し、
この画像データ8aに基づいて認識制御部9において、
第1ウェハカセット2a内の半導体ウェハ1の1枚1枚
の状態を認識する。
【0072】この時、図9に示すように、半導体ウェハ
1の収容状態に異常がある時には、この異常を直ぐに認
識することができる。
【0073】ここで、図9(a)は、第1ウェハカセッ
ト2aの1つの棚において、半導体ウェハ1が欠落して
いる状態(「無し」)を画像データ8aによって認識し
たものである。また、図9(b)は、搬入カセットの間
違いなどにより、各棚の高さが異なって各半導体ウェハ
1の高さがずれている状態(「高さズレ」)を認識した
ものである。この場合には、この認識結果に基づいてロ
ボットハンド5aの動作位置を変えることができる。
【0074】さらに、図9(c)は、異なった高さの棚
に跨がって半導体ウェハ1が収容された状態(「クロ
ス」)を認識したものである。また、図9(d)は、1
つの棚において、2枚の半導体ウェハ1が重複して載置
された状態(「重なり」)を認識したものである。
【0075】これらの前記認識結果に基づいて、ロボッ
トハンド5aの動作にフィードバックをかけることがで
き、その結果、前記した種々の異常に直ぐに対応でき
る。
【0076】続いて、ウェハソータ10の動作のウェハ
取り出しを行う。
【0077】つまり、画像データ8aに基づいて、認識
制御部9によりロボット本体5のロボットハンド5aの
上下・回転などの動作を制御して、所望の半導体ウェハ
1を保持(把持)して第1ウェハカセット2aから取り
出す。
【0078】続いて、半導体ウェハ1のウェハID1b
がウェハID撮像部7の真下に配置されるようにロボッ
トハンド5a上で半導体ウェハ1を位置決めする。
【0079】その後、ウェハソータ10の動作のウェハ
ID1bの認識を行う。
【0080】なお、ウェハID1bの認識を行う際に
は、まず、同軸照明7aと高角度照明7bと低角度照明
7cとにおける複数のID検出用光源6から照射条件を
個々に制御して、半導体ウェハ1に形成されたウェハI
D1bを含む撮像対象部位1cにID検出用照明光6a
を照射する。
【0081】すなわち、半導体ウェハ1の主面1aの撮
像対象部位1cの状態に応じて照射するID検出用光源
6を選択する。例えば、複数のID検出用光源6のうち
幾つかの光源を選択的に組み合わせることにより、ウェ
ハID1bの部分的な箇所に対して、照射角度などの照
射条件が制御されたID検出用照明光6aを照射するこ
とも可能である。
【0082】その際には、低角度照明7cおよび高角度
照明7bにおける複数のID検出用光源6の中から適切
な照射角度のID検出用光源6を選択し、この選択した
ID検出用光源6からID検出用照明光6aをウェハI
D1bまたはその周辺の撮像対象部位1cに照射する。
【0083】なお、その際には、ハロゲンランプなどか
らなる同軸照明7aも一緒に照射してもよい。
【0084】さらに、本実施の形態のウェハソータ10
のウェハID撮像部7の低角度照明7cおよび高角度照
明7bには、2種類の波長(赤色光と黄色光)のID検
出用光源6が設けられているため、認識制御部9により
これらの中から最適な光源を選択し、選択した波長のI
D検出用照明光6aを所定の傾斜角度でかつ複数の方向
からウェハID1bに照射する。
【0085】ここで、ウェハ製造工程で生じる生成物の
ウェハID1bへの影響を低減するID検出用照明光6
aの照射方法の一例を図10〜図12を用いて説明す
る。
【0086】図10は、図11(b)に示すID撮像画
像13の周辺露光跡境界線11を図11(a)に示す周
辺露光跡境界線11のように薄くまたは消す照射方法を
示したものである。
【0087】つまり、ウェハID1bの文字ドットは円
形の窪みであるため、方向性が無く、また、周辺露光跡
境界線11は、方向性を有した1方向の段差である。
【0088】したがって、認識制御部9によって個々の
ID検出用照明光6aの使用・未使用を選択する制御を
行うことにより、図10(a),(b),(c) に示すよう
に、ウェハID1bの横方向、すなわち周辺露光跡境界
線11に沿った方向から照射角度や波長などが適切な複
数のID検出用照明光6aを照射することができ、これ
により、図11(a)に示すID撮像画像13のよう
に、周辺露光跡境界線11を薄くまたは消すことが可能
になる。
【0089】また、半導体ウェハ1のCMP処理(平坦
化処理)によってウェハID1bの文字の窪みと直径が
小さくなり、その結果、ウェハID1bとその背景との
コントラストが低くなり、ウェハID1bが認識しにく
い場合がある。
【0090】このような場合には、ウェハID撮像部7
の高角度照明7bに設けられた同軸照明7aまたはこれ
に近い照射角度のID検出用照明光6aを発するID検
出用光源6を認識制御部9によって選択し、ウェハID
1bに対してほぼ垂直にID検出用照明光6aを照射す
る。
【0091】また、図12(a)に示すように、ID撮
像画像13においてウェハID1bの一部の照度が低く
暗い低照度部1dがある場合には、図12(b)に示す
ように、照度分布を補正する照射制御を行う。
【0092】つまり、暗い低照度部1dの照度を上げる
照射制御を認識制御部9によって行う。
【0093】これは、複数のID検出用光源6のうち適
切な照射角度のID検出用照明光6aを幾つか選択し、
これらを組み合わせることにより、ウェハID1bの部
分的な暗い低照度部1dに対して、照射角度などの照射
条件が制御された幾つかのID検出用照明光6aを部分
的に照射できる。
【0094】その結果、図12(b)に示すように、部
分的に照度を上げて高照度部1eが形成されるような照
度分布補正照射を行うことにより、図12(c)に示す
ようなウェハID1b全体を鮮明に表したID撮像画像
13をウェハID撮像部7によって撮像できる。
【0095】これらの制御により、ID検出用照明光6
aの照射条件を認識制御部9によって個々に制御して複
数の方向から複数の照射角度でID検出用照明光6aを
撮像対象部位1cに照射することができる。
【0096】したがって、半導体ウェハ1の主面1aに
対して、そのウェハID1bを含む撮像対象部位1cに
適切なID検出用照明光6aを照射できる。
【0097】その後、半導体ウェハ1のウェハID1b
をウェハID撮像部7のID撮像TVカメラ7dによっ
て撮像する。
【0098】さらに、ウェハID撮像部7のID撮像T
Vカメラ7dが撮像したウェハID1bを認識制御部9
で画像処理によって認識する(読み取る)。
【0099】認識後、ロボットハンド5aによってこの
半導体ウェハ1を第2ウェハカセット2bの所定の棚に
移載してそこに収容する。
【0100】これらの動作を順次繰り返すことにより、
第1ウェハカセット2aに収容された半導体ウェハ1の
ウェハID1bを認識(読み取り)し、その後、この半
導体ウェハ1を第2ウェハカセット2bの所定の棚に収
容する。
【0101】本実施の形態のウェハID読み取り方法お
よび装置によれば、以下のような作用効果が得られる。
【0102】すなわち、複数のID検出用照明光6aの
照射条件を認識制御部9によって個々に制御してウェハ
ID1bに対してID検出用照明光6aを照射すること
により、画像処理に適した画像を取り込むことができ
る。
【0103】したがって、画像処理を行った際に半導体
ウェハ1の検出を高精度に行うことができるとともに、
ロボットハンド5aによるロボット本体5(ウェハ支持
部)を備えることにより、ウェハソータ10(ウェハI
D読み取り装置)において、ウェハサーチ専用装置とア
ライナ(位置決め専用装置)とを不要にすることができ
る。
【0104】これにより、ウェハソータ10の小形化を
図ることができ、その結果、使用するスペースを低減で
きる。
【0105】したがって、半導体ウェハ1の大口径化
(例えば、直径300mmなど)が図られても使用する
床面積を少なくすることができ、これにより、スペース
の有効活用を図ることができる。
【0106】また、ウェハサーチ専用装置とアライナと
を不要にすることができるため、アライナとのウェハ受
け渡し時間およびウェハサーチ機構動作時間を無くすこ
とができる。
【0107】その結果、ウェハID読み取り工程におけ
る処理時間を短縮して高速化を図ることができる。
【0108】また、ウェハサーチ専用装置とアライナと
を不要にすることができるため、ウェハソータ10の価
格を低減できる。
【0109】その結果、ウェハソータ10への投資を低
減できる。
【0110】これらにより、ウェハソータ10におい
て、半導体ウェハ1のサーチ(検出)、取り出し、位置
決め、ID認識および収容を1つのロボット機構の動作
によって行えるため、高機能(多機能)化を図るととも
に、小形化・高速化および低価格化を実現できる。
【0111】また、複数のID検出用光源6がウェハI
D撮像部7に複数の異なった角度で取り付けられ、この
複数のID検出用光源6において照射条件を個々に制御
してID検出用照明光6aを照射することにより、撮像
対象部位1cに対してその横方向すなわち周辺露光跡境
界線11にほぼ沿った方向からID検出用照明光6aを
照射できるため、周辺露光跡境界線11の影響を低減ま
たは消去できる。
【0112】さらに、縦・横に形成された配線跡などを
低減または消すことができる。
【0113】これにより、種々の外乱混入(例えば、周
辺露光跡境界線11とウェハID1bとの重なりによっ
て起こる横線外乱混入や製品パターン生成の時に生じる
パターンとウェハID1bとの重なりによって起こるパ
ターン外乱混入、もしくはハンドリング跡とウェハID
1bとの重なりによって起こる外乱混入および明るさム
ラなど)の影響を低減または消去できる。
【0114】さらに、半導体ウェハ1の製造工程におい
て、薄膜生成の影響によるウェハID1bとその背景と
のコントラストの変化や、CMP処理によるウェハID
1bの段差形状変化によって起こるウェハID1bの低
コントラスト現象などについては、認識制御部9によっ
て個々のID検出用照明光6aを選択する制御すなわち
適切な照射角度のID検出用光源6を選択してこれによ
るID検出用照明光6aを照射することにより、半導体
ウェハ1の主面1aの状態に対応させることができる。
【0115】また、2種類の波長(本実施の形態では、
赤色光と黄色光)のID検出用光源6が取り付けられて
いることにより、半導体ウェハ1上の膜厚に応じて異な
った波長のID検出用照明光6aを照射できる。
【0116】すなわち、照射するID検出用照明光6a
の波長を自動で切り換えることが可能になるため、膜厚
の変化に対応させてID検出用照明光6aの波長を切り
換えることができ、その結果、半導体ウェハ1のウェハ
ID1bとその背景とをより鮮明に区別できる。
【0117】これにより、半導体ウェハ1の膜厚変化に
係わらず常時ウェハID1bを高精度に読み取ることが
できる。
【0118】また、複数のID検出用光源6のうち幾つ
かの光源を選択的に組み合わせることにより、ウェハI
D1bの部分的な箇所に対して照射条件が制御されたI
D検出用照明光6aを照射することができ、これによ
り、半導体ウェハ1上のウェハID1bにおいてコント
ラストが不均一な箇所に対してスポット照射することが
可能になる。
【0119】したがって、ウェハID1bの部分的な箇
所の照度補正(例えば、部分的に暗い箇所を明るくす
る)を行うことが可能になる。
【0120】これらにより、複数のID検出用照明光6
aの照射制御を個々に行うことにより、ウェハID1b
を認識する際に、半導体ウェハ1の製造工程において形
成される生成物のウェハID1bへの影響を低減でき
る。
【0121】さらに、半導体ウェハ1の製造工程ごとに
異なる環境であっても、安定したウェハID1bの自動
認識が行えるようになり、その結果、5インチサイズの
半導体ウェハ1や直径300mmの大口径の半導体ウェ
ハ1についてもその枚葉管理も行うことができる。
【0122】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言う
までもない。
【0123】例えば、前記実施の形態において説明した
ウェハID読み取り装置の一例であるウェハソータ10
(図2参照)は、2つのウェハカセット2である第1ウ
ェハカセット2aと第2ウェハカセット2bとを有する
ものであったが、前記ウェハID読み取り装置は、ウェ
ハカセット2を少なくとも1つ有していればよく、した
がって、2つ以上の複数個有していてもよい。
【0124】ここで、4つのウェハカセット2を有した
ウェハID読み取り装置の他の実施の形態を図13に示
す。
【0125】つまり、図13に示す他の実施の形態のウ
ェハID読み取り装置は、細長いテーブル12上を移動
自在でかつロボットハンド5a(図1参照)を備えたロ
ボット本体5が設置され、かつテーブル12に沿って4
つのウェハカセット2を配置可能なものであり、その他
の構造は、図1に示すウェハID読み取り装置と同様の
ものである。
【0126】これによれば、省スペース化を図ることが
できるとともに、ロボット本体5をテーブル12上で移
動させることにより、4つのウェハカセット2に対して
半導体ウェハ1の搬入出を行うことができ、ウェハID
1bの認識とともにウェハカセット2相互における半導
体ウェハ1の入れ換えや並べ替えなどができる。
【0127】また、前記実施の形態においては、ロボッ
トハンド5aに半導体ウェハ1の位置決め機構が設けら
れている場合を説明したが、ロボットハンド5aにおけ
る半導体ウェハ1の支持は裏面吸着による吸着支持であ
ってもよい。
【0128】その際、ロボット本体5の動作との連携で
ウェハID撮像部7または他の装置の撮像部からの半導
体ウェハ1の位置情報を認識制御部9で検出してウェハ
ID1bの認識を行うウェハID読み取り装置であって
もよい。
【0129】これによれば、ロボット本体5のロボット
ハンド5aから半導体ウェハ1の位置決め機構を取り除
くことができる。
【0130】また、半導体ウェハ1の製造工程に応じた
照射条件を自動設定する上で、ハーフミラーを光路上に
設置しておき、このハーフミラーにより、ID検出用照
明光6aの照射角度を変えることも可能である。
【0131】さらに、ID検出用照明光6aの照射角度
の切り換えは、ID検出用光源6の設置角度を切り換え
る駆動機構を設置してもよく、または、撮像対象部位1
cの配置角度を切り換える駆動機構が撮像側に設置され
ていてもよい。
【0132】また、ID検出用光源6の波長の種類につ
いては、異なった複数種類の波長の光源群の組み合わせ
だけでなく、機能を限定した単一波長(1種類の波長)
の光源を用いてもよい。
【0133】なお、本実施の形態のウェハID読み取り
装置は、ウェハID1bの情報を基にした半導体ウェハ
1の製造条件の自動設定を行うこともでき、さらに、ウ
ェハID1bの情報の送信と製造装置間の情報を共有す
ることも可能である。その際、ウェハID1bの認識機
能を有していない製造装置に適用することも可能であ
る。
【0134】また、前記ウェハID読み取り装置は、前
記実施の形態で説明したウェハソータ10だけでなく、
ウェハID1bの認識機能が設けられた他の半導体製造
装置であってもよい。
【0135】例えば、ウェハ検査装置などのローダ部に
前記ウェハID読み取り装置を取り付けることにより、
予め設定しておくウェハID1bに対しての関連付け処
理条件によって検査などの処理を行うことができる。
【0136】これらにより、前記ウェハID読み取り装
置を有した各製造工程の半導体製造装置を上位ホストの
コンピュータなどと接続しておけば、所望のウェハカセ
ット2内の半導体ウェハ1の状態すなわちウェハID1
bを何れの製造工程においてもウェハID情報として共
有できるとともに、各製造工程において容易に前記ウェ
ハID情報を取り出すことが可能になる。
【0137】また、前記実施の形態のウェハID読み取
り装置においては、ウェハID1bだけでなく、半導体
チップ上に形成されたチップIDも同様にして認識する
(読み取る)ことができる。
【0138】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0139】(1).複数のID検出用照明光の照射条
件を個々に制御してウェハIDにID検出用照明光を照
射することにより、画像処理に適した画像を取り込むこ
とができる。したがって、画像処理を行った際に半導体
ウェハの検出を高精度に行うことができるとともに、ロ
ボットハンドによるウェハ支持部を備えることにより、
ウェハID読み取り装置において、ウェハサーチ専用装
置とアライナ(位置決め専用装置)とを不要にすること
ができる。これにより、ウェハID読み取り装置の小形
化を図ることができ、その結果、使用するスペースを低
減できる。
【0140】(2).前記(1)により、半導体ウェハ
の大口径化が図られても使用する床面積を少なくするこ
とができ、これにより、スペースの有効活用を図ること
ができる。また、ウェハサーチ専用装置とアライナとを
不要にすることができるため、アライナとのウェハ受け
渡し時間およびウェハサーチ機構動作時間を無くすこと
ができる。その結果、ウェハID読み取り工程における
処理時間を短縮して高速化を図ることができる。
【0141】(3).ウェハサーチ専用装置とアライナ
とを不要にすることができるため、ウェハID読み取り
装置の価格を低減できる。その結果、ウェハID読み取
り装置への投資を低減できる。
【0142】(4).前記(1)〜(3)により、ウェ
ハID読み取り装置において、半導体ウェハのサーチ
(検出)、取り出し、位置決め、ID認識および収容を
1つのロボット機構の動作によって行えるため、高機能
(多機能)化を図るとともに、小形化・高速化および低
価格化を実現できる。
【0143】(5).複数のID検出用光源のうち幾つ
かの光源を選択的に組み合わせることにより、ウェハI
Dの部分的な箇所に対して照射条件が制御されたID検
出用照明光を照射することができ、これにより、半導体
ウェハ上のウェハIDにおいてコントラストが不均一な
箇所に対してスポット照射することが可能になる。した
がって、ウェハIDの部分的な箇所の照度補正を行うこ
とが可能になる。
【0144】(6).前記(1)〜(5)により、複数
のID検出用照明光の照射制御を個々に行うことによ
り、ウェハIDを認識する際に、半導体ウェハの製造工
程において形成される生成物のウェハIDへの影響を低
減できる。さらに、半導体ウェハの製造工程ごとに異な
る環境であっても、安定したウェハIDの自動認識が行
えるようになり、その結果、半導体ウェハの枚葉管理も
行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a),(b) は本発明によるウェハID読み取
り装置の基本構造の実施の形態の一例を示す構成概略図
であり、(a)は平面図、(b)は正面図である。
【図2】(a),(b) は本発明のウェハID読み取り装
置の一例であるウェハソータの構造を示す構成概略図で
あり、(a)は平面図、(b)は側面図である。
【図3】図2に示すウェハソータに設けられたウェハI
D撮像部の構造の一例を示す拡大側面図である。
【図4】図3に示すウェハID撮像部に設置されたID
検出用照明光である高角度照明の構造の一例を示す正面
図である。
【図5】図3に示すウェハID撮像部に設置されたID
検出用照明光である低角度照明の構造の一例を示す底面
図である。
【図6】図5に示す低角度照明のA矢視図である。
【図7】図5に示す低角度照明のB矢視図である。
【図8】(a),(b) は図2に示すウェハソータによっ
てウェハサーチを行った際の画像の一例を示す図であ
り、(a)は撮像画像図、(b)は画像データである。
【図9】(a),(b),(c),(d)は図8に示す画像デ
ータの種類の一例を示す画像データ図である。
【図10】(a),(b),(c)は本発明のウェハID読
み取り装置によるID検出用照明光の照射方法の一例を
示す照射概念図である。
【図11】(a) は図10に示す照射方法によってID
検出用照明光を照射した際の撮像対象部位の状態の一例
を示す概念図であり、(b)は比較例の照射方法によっ
てID検出用照明光を照射した際の撮像対象部位を示す
概念図である。
【図12】(a) は本発明のウェハID読み取り装置に
よってID検出用照明光を照射した際の撮像対象部位の
状態の一例を示す照射概念図であり、(b)は部分的照
度補正用の照射方法の一例を示す概念図であり、(c)
は(b)の照射によって得られる撮像対象部位の状態を
示す照射概念図である。
【図13】本発明のウェハID読み取り装置の他の実施
の形態の構造を示す構成概略図である。
【符号の説明】
1 半導体ウェハ 1a 主面 1b ウェハID 1c 撮像対象部位 1d 低照度部 1e 高照度部 2 ウェハカセット(ウェハ収容部) 2a 第1ウェハカセット(ウェハ収容部) 2b 第2ウェハカセット(ウェハ収容部) 3 ウェハ検出用光源 3a ウェハ検出用照明光 4 ウェハ撮像部 5 ロボット本体(ウェハ支持部) 5a ロボットハンド 6 ID検出用光源 6a ID検出用照明光 7 ウェハID撮像部 7a 同軸照明 7b 高角度照明 7c 低角度照明 7d ID撮像TVカメラ 7e マウントレンズ 8 撮像画像 8a 画像データ(ウェハ検出情報) 9 認識制御部 10 ウェハソータ 11 周辺露光跡境界線 12 テーブル 13 ID撮像画像
フロントページの続き (72)発明者 森口 博司 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 山谷 和弘 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 中村 清吾 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のID検出用光源から照射条件を個
    々に制御して、半導体ウェハに形成されたウェハIDを
    含む撮像対象部位にID検出用照明光を照射する工程
    と、 前記半導体ウェハの前記ウェハIDをウェハID撮像部
    によって撮像する工程と、 前記ウェハID撮像部が撮像した前記ウェハIDを画像
    処理によって認識する工程とを有し、 複数の前記ID検出用照明光を前記撮像対象部位に照射
    する際に、前記ID検出用照明光の照射条件を個々に制
    御して複数の方向から複数の照射角度で前記ID検出用
    照明光を照射し得ることを特徴とするウェハID読み取
    り方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のウェハID読み取り方法
    であって、複数の前記ID検出用光源のうち幾つかの光
    源を選択的に組み合わせることにより、前記ウェハID
    の部分的な箇所に対して、照射条件が制御された前記I
    D検出用照明光を照射することを特徴とするウェハID
    読み取り方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載のウェハID読み
    取り方法であって、複数種類の波長の前記ID検出用光
    源を用いて、複数種類の波長の前記ID検出用照明光を
    前記ウェハIDに照射することを特徴とするウェハID
    読み取り方法。
  4. 【請求項4】 複数の半導体ウェハを収容可能なウェハ
    収容部と、 前記ウェハ収容部に収容された前記半導体ウェハに対し
    てウェハ検出用照明光を照射するウェハ検出用光源と、 前記ウェハ収容部に収容された前記半導体ウェハを撮像
    するウェハ撮像部と、 前記ウェハ収容部に収容された前記半導体ウェハを取り
    出し、かつ取り出した前記半導体ウェハを位置決めして
    支持するウェハ支持部と、 前記ウェハ支持部によって支持された前記半導体ウェハ
    のウェハIDを含む撮像対象部位を撮像するウェハID
    撮像部と、 前記半導体ウェハの前記撮像対象部位に複数の方向から
    複数の照射角度でID検出用照明光を照射可能な複数の
    ID検出用光源と、 前記ウェハ撮像部が撮像したウェハ検出情報に基づいた
    前記ウェハ収容部内の前記半導体ウェハの状態と前記ウ
    ェハID撮像部が撮像した前記ウェハIDとを画像処理
    によって認識するとともに、複数の前記ID検出用光源
    を個々に制御する認識制御部とを有することを特徴とす
    るウェハID読み取り装置。
  5. 【請求項5】 請求項4記載のウェハID読み取り装置
    であって、複数の前記ID検出用光源が前記ウェハID
    撮像部に取り付けられていることを特徴とするウェハI
    D読み取り装置。
  6. 【請求項6】 請求項4または5記載のウェハID読み
    取り装置であって、複数の前記ID検出用光源が前記ウ
    ェハID撮像部に複数の異なった角度で取り付けられて
    いることを特徴とするウェハID読み取り装置。
  7. 【請求項7】 請求項4,5または6記載のウェハID
    読み取り装置であって、複数種類の波長の前記ID検出
    用光源が取り付けられていることを特徴とするウェハI
    D読み取り装置。
  8. 【請求項8】 請求項4,5,6または7記載のウェハ
    ID読み取り装置であって、前記ウェハ収容部が2つ設
    けられるとともに、前記ウェハ支持部が前記半導体ウェ
    ハを支持可能なロボットハンドを有し、前記ロボットハ
    ンドにより支持された前記半導体ウェハが双方の前記ウ
    ェハ収容部間で移載されることを特徴とするウェハID
    読み取り装置。
JP10196907A 1998-07-13 1998-07-13 ウェハid読み取り方法および装置 Pending JP2000030991A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10196907A JP2000030991A (ja) 1998-07-13 1998-07-13 ウェハid読み取り方法および装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10196907A JP2000030991A (ja) 1998-07-13 1998-07-13 ウェハid読み取り方法および装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000030991A true JP2000030991A (ja) 2000-01-28

Family

ID=16365643

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10196907A Pending JP2000030991A (ja) 1998-07-13 1998-07-13 ウェハid読み取り方法および装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000030991A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003037151A (ja) * 2001-07-23 2003-02-07 Komatsu Ltd ドットマークの読取り装置
JP2015070010A (ja) * 2013-09-27 2015-04-13 三菱電機株式会社 マーク確認用治具
KR20190041410A (ko) * 2017-10-12 2019-04-22 가부시기가이샤 디스코 웨이퍼의 가공 방법
CN113161254A (zh) * 2021-03-24 2021-07-23 创微微电子(常州)有限公司 晶圆视觉检测方法、检测系统、检测晶圆损坏的方法
CN114400190A (zh) * 2022-03-25 2022-04-26 南京伟测半导体科技有限公司 一种全方位检测晶舟盒内晶圆的装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003037151A (ja) * 2001-07-23 2003-02-07 Komatsu Ltd ドットマークの読取り装置
JP4689098B2 (ja) * 2001-07-23 2011-05-25 株式会社小松製作所 ドットマークの読取り装置
JP2015070010A (ja) * 2013-09-27 2015-04-13 三菱電機株式会社 マーク確認用治具
KR20190041410A (ko) * 2017-10-12 2019-04-22 가부시기가이샤 디스코 웨이퍼의 가공 방법
KR102550937B1 (ko) 2017-10-12 2023-07-03 가부시기가이샤 디스코 웨이퍼의 가공 방법
CN113161254A (zh) * 2021-03-24 2021-07-23 创微微电子(常州)有限公司 晶圆视觉检测方法、检测系统、检测晶圆损坏的方法
CN113161254B (zh) * 2021-03-24 2024-01-30 创微微电子(常州)有限公司 晶圆视觉检测方法、检测系统、检测晶圆损坏的方法
CN114400190A (zh) * 2022-03-25 2022-04-26 南京伟测半导体科技有限公司 一种全方位检测晶舟盒内晶圆的装置
CN114400190B (zh) * 2022-03-25 2022-06-10 南京伟测半导体科技有限公司 一种全方位检测晶舟盒内晶圆的装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20040109172A1 (en) Electronic parts mounting apparatus and method
EP1154227B1 (en) Edge detecting method and edge detecting apparatus
JP4999942B2 (ja) 電子部品装着装置
JP2007180200A (ja) 識別マークの読取方法及び識別マークの読取装置
JP2000030991A (ja) ウェハid読み取り方法および装置
JP2009206382A (ja) 電子部品装着装置
KR100289208B1 (ko) 잔자부품관찰장치및전자부품관찰방법
JP5296749B2 (ja) 部品認識装置および表面実装機
JP2009135266A (ja) 電子部品装着装置
JP5027058B2 (ja) 電子部品装着装置
JP2008294072A (ja) 部品認識装置、表面実装機、及び部品試験装置
JP5412076B2 (ja) 電子部品装着装置
CN110164806B (zh)
US6649926B2 (en) Suction nozzle, and electric-component-position detecting apparatus
JPH1154585A (ja) 物品識別装置
JPH10149705A (ja) リング照明装置
JP2009188265A (ja) 実装機
JP5085599B2 (ja) 部品保持装置、電子部品認識装置及び電子部品装着装置
JP2022169211A (ja) ウエハアライメント装置、半導体製造装置および基板搬送装置
JP2000099625A (ja) 文字認識装置
JP2000208998A (ja) 部品認識装置及び部品認識方法、並びに部品装着装置
JP4047012B2 (ja) 撮像装置、および、それが設けられた電気部品装着システム
JPH10267619A (ja) 電子部品の位置認識装置
JP3783680B2 (ja) 電子部品観察装置及び電子部品観察方法
JP2009135267A (ja) 電子部品装着装置