JP2000029069A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

液晶表示装置およびその製造方法

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JP2000029069A
JP2000029069A JP10196406A JP19640698A JP2000029069A JP 2000029069 A JP2000029069 A JP 2000029069A JP 10196406 A JP10196406 A JP 10196406A JP 19640698 A JP19640698 A JP 19640698A JP 2000029069 A JP2000029069 A JP 2000029069A
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JP
Japan
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photosensitive resin
liquid crystal
resin film
negative photosensitive
crystal display
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JP10196406A
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English (en)
Inventor
Koji Inoue
浩治 井上
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶表示装置において、カラーフィルタ製造
方法をカラーフィルタオンアレイに応用するには、RG
B樹脂膜にコンタクトホールを形成し、画素電極とこれ
を駆動させるスイッチング能動素子とに導電処理を施し
て、両者を導通させる必要がある。したがって、カラー
フィルタ製造方法をカラーフィルタオンアレイに展開す
る場合は、このコンタクトホールの形成が重要な課題と
なる。 【解決手段】 基板3上に遮光膜5を形成したうえで、
RGB材料として着色されたネガ型感光性樹脂膜6Aを
形成する。そして、このネガ型感光性樹脂膜6Aを、遮
光膜5をマスクとして、背面露光、現像によりパタニン
グする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置およ
びその製造方法に関し、特に、液晶表示装置のカラー化
を目的として、画素電極を駆動するためのスイッチング
素子が形成されたアレイ基板の表面にカラーフィルタを
設けたカラーフィルタオンアレイ型の液晶表示装置、カ
ラーフィルタを用いた液晶表示装置、およびそれらの製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の薄膜トランジスタ(Thin F
ilm Transistor、以下「TFT」と称す
る)型の液晶表示装置(以下「液晶パネル」と称する)
の断面構成を、図13に示す。このTFT型液晶パネル
45は、アレイ基板31と、カラーフィルタ基板32と
を有する。このうちアレイ基板31は、ガラス基板33
上に、信号線および走査線が共に形成される能動素子3
4と、平坦化膜38と、透明電極39とが形成されてい
る。カラーフィルタ基板32は、ガラス基板33A上
に、遮光膜35と、カラーフィルタ36と、透明電極3
9Aとが形成されている。これらアレイ基板31とカラ
ーフィルタ基板32との相対向する面には、配向膜4
0、40Aが形成されている。そして、ガラス基板3
3、33Aの周辺部がシール材41で固着され、球状の
スペーサ42を介して液晶43が充填されることで、液
晶パネル45が形成されている。なお、液晶パネル45
の用途に応じて、パネル表裏面に偏光板44、44Aが
貼り付けられるこのような従来のTFT液晶パネル45
においては、アレイ基板31とカラーフィルタ基板32
とを組み合わせる工程において、位置合わせ精度の問題
が生じる。このため、パタン設計の段階において、この
位置合わせ誤差を見込み、カラーフィルタ36上に形成
されている遮光膜35のパタン幅を広くし、位置ズレ不
良が発生しにくいようにしている。なお、遮光膜35の
パタン幅を広くすることにより、画素開口率が小さくな
り、液晶パネルの表示品位として暗いものとなる。
【0003】ところで、近年、液晶パネルの高輝度化の
実現のため、画素の高開口化が求められている。そし
て、画素の高開口化に伴って、製造設備における更なる
高精度アライメント技術の開発が行われている。しか
し、工法上、これ以上の高開口化は困難な状況になって
いる。
【0004】そこで、近年、図14に示すようにアレイ
基板上31にカラーフィルタ36を形成して組立時にア
ライメントを不要としたカラーフィルタオンアレイ構造
の開発が行われている。このカラーフィルタオンアレイ
構造により、カラーフィルタ36が形成されたアレイ基
板31と全面に電極が形成された対向基板とのアライメ
ントが不要となり、基板を組み立てる際の位置ズレ不良
が無くなると共に、アレイメント作業が不要になって、
工程を簡略化できる。また、両基板を組み合わせる際の
位置合わせ精度の問題が生じないため、この位置合わせ
誤差を見込まなくてもよいパタン設計ができ、遮光膜の
パタン幅を更に狭くした究極の超高開口化が実現でき
る。
【0005】また、これらカラーフィルタオンアレイに
おけるカラーフィルタ形成方法として、染色法、顔料分
散法、電着法、フィルム転写法等の各種の工法が開発さ
れている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このようなカ
ラーフィルタ製造方法をカラーフィルタオンアレイに応
用するには、図14にその断面構成を示すように、RG
B樹脂膜36にコンタクトホール37を形成し、画素電
極39とこれを駆動させるスイッチング能動素子34と
に導電処理を施して、両者を導通させる必要がある。し
たがって、カラーフィルタ製造方法をカラーフィルタオ
ンアレイに展開する場合は、このコンタクトホールの形
成が重要な課題となってくる。
【0007】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るため、本発明は、RGB材料として着色されたネガ型
感光性樹脂膜をアレイ基板上に形成した後、アレイ配線
をマスクとして背面露光することによりこの感光性樹脂
をパタニングするものである。
【0008】すなわち、コンタクトホールはアレイ配線
上に形成されるが、背面露光および現像によってこの部
分の着色感光性樹脂膜が除去されるため、画素電極とこ
れを駆動するスイッチング能動素子とを導通させること
が可能となる。また、背面露光により、RGBの着色層
形成を位置ズレなしに行えるため、パタン精度の要求さ
れるカラーフィルタオンアレイには有効な方式である。
【0009】
【発明の実施の形態】請求項1記載の本発明は、画素電
極および前記画素電極を駆動するスイッチング能動素子
を備えたアレイ基板と、前記画素電極の対向電極を備え
た対向基板とを有し、これらアレイ基板と対向基板との
間隙に液晶を封入した液晶表示装置において、前記画素
電極とスイッチング能動素子との間にネガ型感光性樹脂
膜を形成し、このネガ型感光性樹脂膜が、前記アレイ基
板のアレイ配線をマスクとして背面露光、現像によりパ
タニングされているとともに、このパタニングによって
前記ネガ型感光性樹脂膜が除去された部分に、画素電極
とスイッチング能動素子とを導通するための電気的導通
手段が形成されているようにしたものである。
【0010】これにより、着色層のパタニングと、コン
タクトホールの形成とが、容易にかつ確実に行われる。
【0011】請求項2記載の本発明は、カラーフィルタ
基板と対向基板との間隙に液晶を封入した液晶表示装置
において、カラーフィルタ基板上に遮光膜とネガ型感光
性樹脂膜とが形成され、このネガ型感光性樹脂膜が、前
記遮光膜をマスクとして背面露光、現像によりパタニン
グされているようにしたものである。
【0012】これにより、遮光膜上には着色樹脂膜が形
成されないので、アライメント精度や平坦性に優れたカ
ラーフィルタを提供できる。
【0013】請求項3記載の本発明は、ネガ型感光性樹
脂膜が着色ネガ型感光性樹脂膜であり、この着色ネガ型
感光性樹脂膜が単色毎に形成されているようにしたもの
である。一般的には着色材として顔料が用いられる。
【0014】請求項4記載の本発明は、ネガ型感光性樹
脂膜が単色毎に染色により着色されているようにしたも
のである。一般的には着色材として染料が用いられる。
【0015】請求項5記載の本発明は、着色ネガ型感光
性樹脂膜が印刷により形成されているようにしたもので
ある。
【0016】請求項6記載の本発明は、滴状の出射によ
ってネガ型紫外線硬化膜が形成されているようにしたも
のである。
【0017】請求項7記載の本発明は、画素電極および
前記画素電極を駆動するスイッチング能動素子を備えた
アレイ基板と、前記画素電極の対向電極を備えた対向基
板とを配置するとともに、これらアレイ基板と対向基板
との間隙に液晶を封入することで、液晶表示装置を製造
するに際し、前記画素電極とスイッチング能動素子との
間にネガ型感光性樹脂膜を形成し、前記アレイ基板のア
レイ配線をマスクとして背面露光、現像により前記ネガ
型感光性樹脂膜をパタニングし、このパタニングによっ
て前記ネガ型感光性樹脂膜が除去された部分を用いて、
前記画素電極とスイッチング能動素子とを導通させるも
のである。
【0018】こうすると、着色層のパタニングと、コン
タクトホールの形成とが、容易にかつ確実に行われる。
【0019】請求項8記載の本発明は、カラーフィルタ
ー基板と対向基板との間隙に液晶を封入することで、液
晶表示装置を製造するに際し、カラーフィルター基板上
に遮光膜を形成したうえでネガ型感光性樹脂膜を形成
し、このネガ型感光性樹脂膜を、前記遮光膜をマスクと
して背面露光、現像によりパタニングするものである。
【0020】こうすると、遮光膜上には着色樹脂膜が形
成されないので、アライメント精度や平坦性に優れたカ
ラーフィルタを提供できる。
【0021】請求項9記載の本発明は、ネガ型感光性樹
脂膜を着色ネガ型感光性樹脂膜により単色毎に形成する
ものである。
【0022】請求項10記載の本発明は、ネガ型感光性
樹脂膜を形成した後、このネガ型感光性樹脂膜を単色毎
に染色により着色するものである。
【0023】請求項11記載の本発明は、着色ネガ型感
光性樹脂膜を印刷法により形成するものである。
【0024】請求項12記載の本発明は、滴状の射出に
よってネガ型紫外線硬化膜を形成するものである。
【0025】(実施の形態1)以下、本発明の実施の形
態1にもとづく液晶表示装置およびその製造方法につい
て、図1の液晶パネル断面図と、図2のカラーフィルタ
が形成されたアレイ基板の形成工程を示す基板断面図と
を用いて説明する。
【0026】カラーフィルタが形成されたアレイ基板を
形成するに際しては、まず、図2(a)に示すように、
ガラス基板3上に、スイッチング能動素子4を、一般的
な半導体薄膜成膜と、絶縁膜成膜と、フォトリソ法によ
るエッチングとを繰り返すことにより形成する。さら
に、同図(b)に示すように、能動素子4を形成したガ
ラス基板3上に有機顔料を分散したブラックレジストを
塗布し、フォトリソ法により遮光膜5を所要パターン形
状に形成する。このフォトリソに用いる露光機として
は、プロキシミティ露光装置が好適である。ただし、パ
タニング精度を向上させるためには、ミラープロジェク
ション露光装置を用いてもよい。また、上記のブラック
レジストは、その成膜後の材料特性として、電気抵抗率
が1012Ω・cm以上、誘電率4以下、OD値2.5以
上のものが好適である。
【0027】次に、同図(c)に示すように、遮光膜5
が形成されたガラス基板3上に顔料分散の感光性樹脂6
Aの層を形成し、ガラス基板3の背面から紫外線13で
露光し、その後現像することにより、遮光性を示すアレ
イ配線4aを遮光膜として、同図(d)に示すように、
これら顔料分散の感光性樹脂6Aの層を所要パタン形状
に形成する。すなわち、コンタクトホール形成部7は、
アレイ配線4a内に配置され、同形成部7の上面に形成
されている樹脂6Aは露光されないため、現像によって
除去されるものである。
【0028】この後、同図(e)に示すように、このよ
うにして形成されたRGB着色層6上に、場合によって
は平坦化膜8を塗布する。この平坦化膜8としては、ア
クリル系の感光性タイプの樹脂が好適である。この場
合、上記のようにしてコンタクトホール形成部7上に塗
布された平坦化膜8に、フォトリソ法によりコンタクト
ホール7aを形成する。最後に、同図(f)に示すよう
にITOスパッタにより全面に透明電極を形成し、その
上でフォトリソ法によって画素電極9をパタニングする
ことにより、コンタクトホール7aを介して能動素子4
と電気的に導通された画素電極9を形成することができ
る。これにより、カラーフィルタオンアレイ基板1が製
造される。
【0029】図1は、上記のようにして製造されたカラ
ーフィルタオンアレイ基板1を用いたTFT型液晶パネ
ルの断面である。このTFT型液晶パネルを製造する際
には、まず、上記のカラーフィルタオンアレイ基板1
と、ガラス基板3Aの上に透明電極9aが形成された対
向基板2との相対向する面に配向膜10、10Aをそれ
ぞれ形成する。次に、両ガラス基板3、3Aの周辺部を
シール材21で閉じ、球状のスペーサ22を介してアレ
イ基板1と対向基板2とを固着し、その間隙に液晶23
を充填する。
【0030】(実施の形態2)以下、本発明の実施の形
態2にもとづく液晶表示装置およびその製造方法につい
て、図3の液晶パネル断面図と、図4のカラーフィルタ
の形成工程を示す基板断面図とを用いて説明する。
【0031】カラーフィルタの形成に際しては、まず、
図4(a)に示すように、有機顔料を分散したブラック
レジストをガラス基板3上に塗布し、フォトリソ法によ
るパタニングにより遮光膜5を所要パターン形状に形成
する。次に、同図(b)に示すように、遮光膜5が形成
されたガラス基板3上に顔料分散の感光性樹脂6Aの層
を形成する。さらに、ガラス基板3の裏面からの紫外線
13の背面露光および現像を行うことにより、同図
(c)に示すように遮光膜5をマスクとした感光性樹脂
6Aのパタン形成を行うことができる。最後に、同図
(d)に示すようにITOスパッタにより全面に透明電
極9aを形成し、対向電極とする。これにより、カラー
フィルタ基板12が製造される。6は、これにより形成
されたRGB着色層を示す。
【0032】アレイ基板11の形成に際しては、まず、
図5(a)に示すように、ガラス基板3上に、スイッチ
ング能動素子4を、一般的な半導体薄膜成膜と、絶縁膜
成膜と、フォトリソ法によるエッチングとを繰り返すこ
とにより形成する。この状態のアレイ基板を11aと表
示する。次に、同図(b)に示すように、場合によって
はこの上に平坦化膜8を塗布する。この平坦化膜8とし
ては、アクリル系の感光性タイプの樹脂が好適である。
そして、形成された平坦化膜8に、フォトリソ法により
コンタクトホール7aを形成する。最後に、ITOスパ
ッタにより全面に透明電極を形成し、そのうえでフォト
リソ法により画素電極9をパタニングすることにより、
コンタクトホール7aを介して能動素子4と電気的に導
通された画素電極9を形成する。これにより、アレイ基
板11が製造される。
【0033】図3は、上記のようにして製造されたアレ
イ基板11とカラーフィルタ基板12とを用いたTFT
型液晶パネルの断面図である。このTFT型液晶パネル
を製造する際には、まず、上記のアレイ基板11とカラ
ーフィルタ基板12の上に形成された画素電極9と透明
電極9aとの上に配向膜10、10Aをそれぞれ形成し
たうえで両者を相対向させる。次に、両基板11、12
の周辺部をシール材21で閉じ、球状のスペーサ22を
介してアレイ基板11と対向基板12とを固着し、その
間隙に液晶23を充填する。最後に、アレイ基板11と
カラーフィルタ基板12の外側に偏光板24、24Aを
貼付けて、液晶パネル25を形成することができる。
【0034】なお、上記においてはTFT型のカラーフ
ィルタについて説明したが、STN型のカラーフィルタ
についても同様の方法で形成することができる。
【0035】(実施の形態3)以下、本発明の実施の形
態3に基づき、所要パタン形状にカラーフィルタが形成
されたアレイ基板の形成工程を、基板平面図である図6
および図7を用いて説明する。
【0036】まず、図6(a)に示すように、ガラス基
板3上にスイッチング能動素子4およびアレイ配線4a
を形成する。7はコンタクトホール形成部である。次
に、スイッチング能動素子4およびアレイ配線4a上
に、同図(b)に示す遮光膜5を所要パターン形状に形
成する。この後、図7(a)のように、着色層として、
顔料分散のネガ型感光性樹脂6A、6B、6Cの膜を単
色毎にそれぞれ形成する。最後に、基板3の背面より露
光、現像することにより、同図(b)に示すように感光
性樹脂6A、6B、6Cからなる着色層を所要パタン形
状に形成することができる。
【0037】(実施の形態4)以下、本発明の実施の形
態4に基づき、所要パタン形状にカラーフィルタが形成
されたアレイ基板の形成工程を、基板平面図である図8
および図9を用いて説明する。
【0038】まず、図8(a)に示すように、ガラス基
板3上にスイッチング能動素子4およびアレイ配線4a
を形成する。7はコンタクトホール形成部である。次
に、スイッチング能動素子4およびアレイ配線4a上
に、同図(b)に示す遮光膜5を形成する。この後、図
9(a)に示すように基板3上に染色性感光性樹脂55
を形成してから、着色層26A、26B、26Cを単色
毎に染色する。最後に、基板3の背面より露光、現像す
ることにより、同図(b)に示したように、着色層26
A、26B、26Cを所要パタン形状に形成することが
できる。
【0039】(実施の形態5)以下、本発明の実施の形
態5に基づきカラーフィルタを形成するための凹版オフ
セット印刷法を、図10を用いて説明する。
【0040】まず、図10に示すように、所要パタン形
状にセル14(凹部)が形成された凹版15上に、感光
性を付与した顔料分散型インク16をディスペンサ17
により滴下する。そして、スキージ18によってスキー
ジングすることにより、凹版15のセル14内にインク
16を充填する。次に、シリコン厚膜が表面に形成され
たブランケットロール19をインク16が充填された凹
版15上を転がすことにより、ブランケットロール19
上にインク16を受理する。さらに、同ロール19を、
図5(a)に示されるようにアレイ配線が形成されたア
レイ基板11a上に転がすことにより、同基板11aに
インク16を転写する。これを3回繰り返すことによ
り、図7(a)に示したものと同様に、アレイ基板11
a上にネガ型感光性樹脂6A、6B、6Cからなる着色
層をそれぞれ形成する。この後、基板11aの背面より
露光、現像することにより、図7(b)に示したものと
同様に、感光性樹脂6A、6B、6Cからなる着色層を
所要パタン形状に形成することができる。
【0041】(実施の形態6)以下、本発明の実施の形
態6に基づきカラーフィルタを形成するための、ネガ型
感光性樹脂膜を形成した後に染色材を滴状に出射するこ
とにより着色する方法を、図11を用いて説明する。
【0042】この方法を用いる場合は、まず、図7
(a)に示したものと同様に、アレイ基板11a上に染
色性感光性樹脂55を塗布する。その後、ノズル29か
ら滴状にR、G、Bのそれぞれの染料30A、30B、
30Cを染色性樹脂55に所要パタン形状に出射し、図
9(a)に示したものと同様に、RGB染色膜26A、
26B、26Cを形成する。この後、基板11aの背面
より露光することにより、図9(b)に示したものと同
様に、染色された感光性樹脂55を所要パタン形状に形
成することができる。なお、この染色性樹脂55として
は、アクリル系の紫外線硬化型の樹脂が好適である。
【0043】(実施の形態7)以下、本発明の実施の形
態7に基づきカラーフィルタを形成するための、着色ネ
ガ型感光性樹脂層を滴状に射出する方法を、図12を用
いて説明する。
【0044】この方法を用いる場合は、まず、図7
(a)に示したものと同様に、アレイ基板11a上にノ
ズル29からネガ型感光性樹脂6A、6B、6Cを滴状
に出射することにより、R、G、Bの着色層を形成す
る。この後、基板11aの背面から露光し、現像するこ
とにより、図7(b)に示したものと同様の感光性樹脂
6A、6B、6Cからなる着色層を所要パタン形状に形
成することができる。
【0045】
【発明の効果】以上のように本発明によると、感光性を
付与した着色層を遮光膜が形成されている基板上に形成
し、この後、基板背面から露光し現像することにより着
色層の非形成部分を形成することで、この着色層の非形
成部分にコンタクトホールを形成でき、この部分に画素
電極とこれを駆動するスイッチング能動素子とを導通す
る処理を施すことが可能となり、したがってコンタクト
ホールを備えたカラーフィルタオンアレイを容易に提供
でき、液晶表示装置の超高開口率化と製造工程の合理化
が実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】カラーフィルタオンアレイ基板を用いた本発明
の実施の形態の液晶表示装置の断面図である。
【図2】本発明に基づく、背面露光法を用いたカラーフ
ィルタオンアレイ基板の製造時の工程毎の断面図であ
る。
【図3】カラーフィルタ基板を用いて背面露光法を適用
した本発明の実施の形態の液晶表示装置の断面図であ
る。
【図4】本発明に基づく、背面露光法を用いた、図3に
おけるカラーフィルタ基板の製造時の工程毎の断面図で
ある。
【図5】図3におけるアレイ基板の製造時の工程毎の断
面図である。
【図6】本発明の実施の形態の液晶表示装置の製造時の
工程毎の平面図である。
【図7】図6に続く工程毎の平面図である。
【図8】本発明の他の実施の形態の液晶表示装置の製造
時の工程毎の平面図である。
【図9】図8に続く工程毎の平面図である。
【図10】本発明の実施の形態の凹版オフセット印刷法
を示す斜視図である。
【図11】本発明の実施の形態の着色層を出射により形
成する方法の一例を示す斜視図である。
【図12】本発明の実施の形態の着色層を出射により形
成する方法の他の例を示す斜視図である。
【図13】従来の一般的な液晶表示装置の構成を示す断
面図である。
【図14】従来の一般的なカラーフィルターオンアレイ
の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
1 カラーフィルタオンアレイ基板 3 ガラス基板 4 スイッチング能動素子 4a アレイ配線 5 遮光膜 6 RGB着色膜 6A 感光性樹脂 7a コンタクトホール 9 画素電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H091 FA03Y FA35Y FB04 FC01 FC10 FC13 FC26 FD04 FD14 FD24 GA03 GA11 GA13 HA07 LA12 LA15 LA17 2H092 JA26 JA29 JA38 JA42 JA46 JB13 JB23 JB32 JB54 KB26 NA07 NA24 NA25 NA27 NA29 PA06 PA08 PA09 QA07

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 画素電極および前記画素電極を駆動する
    スイッチング能動素子を備えたアレイ基板と、前記画素
    電極の対向電極を備えた対向基板とを有し、これらアレ
    イ基板と対向基板との間隙に液晶を封入した液晶表示装
    置において、前記画素電極とスイッチング能動素子との
    間にネガ型感光性樹脂膜を形成し、このネガ型感光性樹
    脂膜が、前記アレイ基板のアレイ配線をマスクとして背
    面露光、現像によりパタニングされているとともに、こ
    のパタニングによって前記ネガ型感光性樹脂膜が除去さ
    れた部分に、画素電極とスイッチング能動素子とを導通
    するための電気的導通手段が形成されていることを特徴
    とする液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 カラーフィルタ基板と対向基板との間隙
    に液晶を封入した液晶表示装置において、カラーフィル
    タ基板上に遮光膜とネガ型感光性樹脂膜とが形成され、
    このネガ型感光性樹脂膜が、前記遮光膜をマスクとして
    背面露光、現像によりパタニングされていることを特徴
    とする液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 ネガ型感光性樹脂膜が着色ネガ型感光性
    樹脂膜であり、この着色ネガ型感光性樹脂膜が単色毎に
    形成されていることを特徴とする請求項1または2記載
    の液晶表示装置。
  4. 【請求項4】 ネガ型感光性樹脂膜が単色毎に染色によ
    り着色されていることを特徴とする請求項1または2記
    載の液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 着色ネガ型感光性樹脂膜が印刷により形
    成されていることを特徴とする請求項3記載の液晶表示
    装置。
  6. 【請求項6】 滴状の出射によってネガ型紫外線硬化膜
    が形成されていることを特徴とする請求項3または4記
    載の液晶表示装置。
  7. 【請求項7】 画素電極および前記画素電極を駆動する
    スイッチング能動素子を備えたアレイ基板と、前記画素
    電極の対向電極を備えた対向基板とを配置するととも
    に、これらアレイ基板と対向基板との間隙に液晶を封入
    することで、液晶表示装置を製造するに際し、前記画素
    電極とスイッチング能動素子との間にネガ型感光性樹脂
    膜を形成し、前記アレイ基板のアレイ配線をマスクとし
    て背面露光、現像により前記ネガ型感光性樹脂膜をパタ
    ニングし、このパタニングによって前記ネガ型感光性樹
    脂膜が除去された部分を用いて、前記画素電極とスイッ
    チング能動素子とを導通させることを特徴とする液晶表
    示装置の製造方法。
  8. 【請求項8】 カラーフィルター基板と対向基板との間
    隙に液晶を封入することで、液晶表示装置を製造するに
    際し、カラーフィルター基板上に遮光膜を形成したうえ
    でネガ型感光性樹脂膜を形成し、このネガ型感光性樹脂
    膜を、前記遮光膜をマスクとして背面露光、現像により
    パタニングすることを特徴とする液晶表示装置の製造方
    法。
  9. 【請求項9】 ネガ型感光性樹脂膜を着色ネガ型感光性
    樹脂膜により単色毎に形成することを特徴とする請求項
    7または8記載の液晶表示装置の製造方法。
  10. 【請求項10】 ネガ型感光性樹脂膜を形成した後、こ
    のネガ型感光性樹脂膜を単色毎に染色により着色するこ
    とを特徴とする請求項7または8記載の液晶表示装置の
    製造方法。
  11. 【請求項11】 着色ネガ型感光性樹脂膜を印刷法によ
    り形成することを特徴とする請求項9記載の液晶表示装
    置の製造方法。
  12. 【請求項12】 滴状の射出によってネガ型紫外線硬化
    膜を形成することを特徴とする請求項9または10記載
    の液晶表示装置の製造方法。
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