JP2000002598A - 高速電気めっきの内部応力試験装置 - Google Patents

高速電気めっきの内部応力試験装置

Info

Publication number
JP2000002598A
JP2000002598A JP10166909A JP16690998A JP2000002598A JP 2000002598 A JP2000002598 A JP 2000002598A JP 10166909 A JP10166909 A JP 10166909A JP 16690998 A JP16690998 A JP 16690998A JP 2000002598 A JP2000002598 A JP 2000002598A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cathode
water tank
metal plate
internal stress
anode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10166909A
Other languages
English (en)
Inventor
Wataru Yamamoto
渡 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamamoto Mekki Shikenki KK
Original Assignee
Yamamoto Mekki Shikenki KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yamamoto Mekki Shikenki KK filed Critical Yamamoto Mekki Shikenki KK
Priority to JP10166909A priority Critical patent/JP2000002598A/ja
Priority to US09/332,910 priority patent/US6153065A/en
Publication of JP2000002598A publication Critical patent/JP2000002598A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】小型で比較的簡単な試験装置を使用して高速電
気めっきの内部応力状態を測定可能とする高速電気めっ
きの内部応力試験装置を提供する。 【解決手段】めっき液14を入れる水槽1と、前記水槽
1内に配置された陽極用金属板2と、前記陽極用金属板
2の対向する水槽1内の位置にモータ4により回転可能
に保持された円柱状の陰極用金属棒3と、前記陰極用金
属棒3の所定箇所に取り付けられた薄板状の陰極用金属
板5と、前記陽極用金属板2と陰極用金属棒3に接続さ
れた直流電源(整流器6)と、からなる構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高速電気めっきで発生
するめっき内部応力を測定する高速電気めっきの内部応
力試験装置に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、日常社会の様々な方面において金
属の表面にめっきが行われており、特にエレクトロニク
ス産業においては、IC等の半導体のリードフレームに
高速で電気めっきを行う高速電気めっきが広く普及して
いる。この高速電気めっきは、高い電流密度でめっき液
を高速で移動させるか、または高速でめっき液を吹きか
けながら行うもので、通常の電気めっきの100倍程度
のめっき速度が可能となっている。このめっきを行う際
には、それに適合しためっき浴組成と、電流密度、攪拌
速度やめっき液温度などの電着条件が必要となる。通常
のめっき方法においては、これらの条件が最適な状態か
らスタートしても、めっきを行っていくうちに徐々にめ
っき浴の組成が変化するものであり、更に、予め予期し
た不純物や、或いは予期しなかった不純物が混入するの
で、必要とするめっき皮膜の特性に変化をもたらすもの
である。
【0003】そのため最良のめっき皮膜をコンスタント
に得るためには、最適なめっき浴組成と電着条件を常に
維持する必要がある。そこで、めっき液の組成の変化に
伴い、薬品の添加や不純物の除去、電流密度等の諸条件
を調整し、更にめっき浴組成の変化の予測等をする必要
がある。そのため、新しく使用するめっき液の特性や、
現在使用しているめっき液の状態を把握することが必要
となる。このめっき液の状態には種々のファクターがあ
るが、その中でも重要なファクターであるめっき内部応
力の測定には、高速電気めっきの条件に近いものとし
て、スパイラル応力計を使用するめっき内部応力試験装
置があった。
【0004】このスパイラル応力計を使用するめっき内
部応力試験装置50は、図6に示すように、スパイラル
状に形成した試験片51を回転軸52に固定用クランプ
53,54で固定する。そしてめっき液が入れられた水
槽に入れ、陽極板55との間で図示しない電源より電流
を流すと、試験片51の表面側がめっきされるので、試
験片51にめっき内部応力が発生し、回転軸52を回転
させる。この回転をトランスデューサ56により捩じれ
角度(θ)に変換して、めっき内部応力を測定するもの
である。このときのめっきの内部応力(σ)は式(1)
により算出することができる。
【0005】 ただし k:スパイラル定数(mm・N/deg ) α:捩じれ角(deg ) p:スパイラルのピッチ(mm) t:スパイラル板の厚さ(mm) d:めっきの厚さ(mm)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のパイラル応力計を使用するめっきの内部応力試
験装置では、被めっき物の試験片51が静止した状態
か、或いは図示しない揺動装置を使用してめっき液を揺
動させることにより相対的に試験片51を動かしても最
大5m/分程度の速度の揺動であり、電流も数アンペア
で、数分間のめっきにしか対応できないので、近年盛ん
に行われるようになってきたフープめっきと呼ばれる電
子部品のめっきや、製鉄所、電線メーカー等で製造され
る電線に連続して高速にめっきを行う高速電気めっきに
は対応できないという問題があった。即ち、この高速電
気めっきは、被めっき物を最大120m/分の高速で移
動させ、数十アンペアの高電流で瞬時にめっきを行う方
法なので、この状態を再現するためには試験設備が大が
かりになり、従来の小型で簡単な試験装置では到底実現
できるものではなかった。
【0007】本発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、小型で比較的簡単な試験装置を使用して高速電
気めっきのめっき内部応力を測定可能とする高速電気め
っきの内部応力試験装置を提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、めっき液を入れる水槽と、前記水槽内に
配置された陽極用金属板と、前記陽極用金属板の対向す
る水槽内の位置にモータにより回転可能に保持された円
柱状の陰極用金属棒と、前記陰極用金属棒の所定箇所に
とりつけられた薄板状の陰極用金属板と、前記陽極用金
属板と陰極用金属棒に接続された直流電源と、からなる
ことを特徴とするものである。
【0009】また、前記水槽は、矩形の箱に形成され、
前記陽極用金属板と陰極用金属棒が一対に配置されてい
ることを特徴とするものである。また、前記水槽は、矩
形の箱に形成され、前記陽極用金属板は、陰極用金属棒
に対して点対象に複数個配置されていることを特徴とす
るものである。また、前記水槽は、円筒形に形成され、
前記陽極用金属板は、前記水槽の壁面に沿った円筒形に
形成されていることを特徴とするものである。さらに、
前記陰極用金属板は、陰極用金属棒の下部に形成された
平面部に固定されていることを特徴とするものである。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる高速電気め
っきの内部応力試験装置の実施の形態を図に基づいて説
明する。図1は本発明の高速電気めっきの内部応力試験
装置の構成を示す説明図、図2は、図1の高速電気めっ
きの内部応力試験装置に使用される陰極用金属棒の要部
拡大の斜視図、図3は、図1の高速電気めっきの内部応
力試験装置の陰極用金属板の内部応力の測定状態を示す
斜視図である。
【0011】本発明の高速電気めっきの内部応力試験装
置Aは、図1に示すように、めっき液を入れる水槽1
と、前記水槽内に配置された陽極用金属板2と、前記陽
極用金属板2の対向する水槽の内部にモータ4により回
転可能に保持された円柱状の陰極用金属棒3と、前記陰
極用金属棒3の所定箇所の両面に取り付けられた薄板状
の陰極用金属板5,5と、前記陽極用金属板2と陰極用
金属棒3に接続された直流電源である整流器6と、から
主として構成されている。また、陰極用金属棒3と整流
器6のマイナス極6aに接続された配線7には、めっき
電流を測定するための電流計8が挿入され、陽極用金属
板2と整流器6のプラス極6bは配線9で接続されてお
り、配線7と配線9の間には高速電気めっき試験装置A
に印加する電圧を測定するための電圧計10が挿入され
ている。
【0012】この高速電気めっき試験装置Aに使用する
水槽1は、めっき液で腐食されにくいアクリル、ポリプ
ロピレン、テフロン等の合成樹脂の材料から形成された
水槽で、外形が略長さ100mm、幅70mm、高さ1
50mmの箱体である。この水槽1に配設されている陽
極用金属板2は、銅、ニッケル、錫、白金、コバルト
等、めっきの種類に応じて使用されるもので、陽極用金
属板2の大きさは水槽1の大きさに合わせて製作され、
板厚はめっきによる消耗を考慮して略2mm程度のもの
が使用される。この陽極用金属板2の上端部は配線9に
より整流器6のプラス極6bに接続されている。
【0013】この陽極用金属板2の対向する水槽1内の
位置に配設されている陰極用金属棒3は、銅や真鍮の導
電性の金属棒で直径は略10mmに形成されている。こ
の陰極用金属棒3は、上端部をモータ4により把持され
て、モータ4の駆動軸により回転されるようになってい
る。また陰極用金属棒3の上部にはカーボンブラシなど
スリップリング11等を介して配線7と接続されてお
り、この配線7は整流器6のマイナス極6aに接続され
ている。また、陰極用金属棒3の下部には、図2に示す
ように、両側に平面部3aが形成され、2枚の陰極用金
属板5が取り付けられている。
【0014】この陰極用金属板5は、図2に示すよう
に、銅、真鍮、鉄、ステンレスやアルミニウム等の薄い
金属板から形成されており、両端部にはこの陰極用金属
板5を陰極用金属棒3に取り付けるために、取り付け孔
5a,5bが穿設されている。この陰極用金属板5の取
り付けは、絶縁座金12を介して絶縁ビス13により陰
極用金属棒3に2箇所ねじ止めするもので、絶縁座金1
2と絶縁ビス13を使用することにより、この絶縁座金
12と絶縁ビス13および陰極用金属板5の裏側にはめ
っきが付かないようにしている。
【0015】上記のように陰極用金属棒3に取り付けら
れる陰極用金属板5は、陰極用金属板5の裏面5cが陰
極用金属棒3の平面部3aに密着して取り付けられるの
で、裏面5cにはめっきが付着せず、表面5dにのみめ
っきが付着するものである。このようにして、表面5d
にのみめっきが付着した陰極用金属板5は、陰極用金属
棒3の平面部3aから取り外すと、図3に示すように、
めっきの内部応力により陰極用金属板5にはたわみが発
生しているので、この陰極用金属板5のたわみを復元さ
せる力(F)を測定することにより、めっきの内部応力
(σ)を求めることができる。この場合のめっきの内部
応力(σ)は、ストリップ式応力計20を使用して、式
(2)により与えられる。
【0016】 ただし F: 復元させる力(N) b: 陰極用金属板5の幅(mm) t: 陰極用金属板5の厚さ(mm) l: 陰極用金属板5の長さ(mm) d: めっきの厚さ(mm)
【0017】また、この陰極用金属棒3を回転させるモ
ータ4は、図示しない支持台に固定されたもので、駆動
軸の端部に取り付けられたジョイント4aにより陰極用
金属棒3上端を把持するものである。このモータ4の回
転速度は0〜2000rpmに可変できるようになって
おり、例えば、直径10mmの陰極用金属棒6を使用す
れば最大60m/分の高速で移動させる高速電気めっき
の状態を作り出すことが可能である。更に高速の電気め
っき試験を行う場合は陰極用金属棒6の直径を増せば簡
単にできる。また、高速のモータを使用することや増速
ギヤを使用して更に高速化することも可能である。この
高速電気めっき試験装置Aに電力を供給する整流器6
は、内部にダイオードブリッジ回路等の整流回路や平滑
回路等を備えた周知の整流器であり、直流の出力電圧が
0〜20V、電流出力が0〜30A程度の能力を持つも
のである。
【0018】次に、このように構成された高速電気めっ
きの内部応力試験装置Aのめっき試験手順を図1乃至図
3に基づいて説明する。まず、水槽1に陽極用金属板2
を設置し、応力を測定したいめっき液14を水槽1に満
たしておく。次いで、陰極用金属棒3の平面部3aに試
験片となる陰極用金属板5を絶縁座金12と絶縁ビス1
3より固定する。そして陰極用金属棒3をモータ4のジ
ョイント4aに取り付け、陰極用金属棒3を水槽1の陽
極用金属板2の対向する位置になるように設置する。次
いで、陰極用金属棒3にスリップリング11をセットし
配線7を整流器6のマイナス極6aに接続し、陽極用金
属板2の配線9を整流器6のプラス極6bに接続する。
次いで、試験するめっきの種類により、モータ4の回転
数と整流器6の電圧、電流を調整して電源を入れ、高速
電気めっきの内部応力試験装置Aを所定時間(10〜6
0秒程度)稼動させる。
【0019】所定時間後、高速電気めっき内部応力試験
装置Aの電源を切って水槽1より陰極用金属棒3を引き
上げ、モータ4から取り外して陰極用金属板5を陰極用
金属棒3より取り外す。次いで、図3に示すように、陰
極用金属板5を簡易平均電着応力測定20の試験片ホル
ダ21に取り付け、陰極用金属板5を初期のストレート
な状態に復元させる力(F)を分銅22で求める。次い
で、簡易平均電着応力測定20より陰極用金属板5を取
外し、陰極用金属板5のめっきの厚さ(d)をJIS
H 8501に定める試験方法を用いて測定する。最後
に、この復元させる力(F)、めっきの厚さ(d)の値
と、予め測定しておいた陰極用金属板5の幅(b)、長
さ(l)、厚さ(t)の値を前記式(2)に入れると、
試験を行っためっきの内部応力(σ)を求めることがで
きる。
【0020】上記のように構成された高速電気めっきの
内部応力試験装置Aは、陰極用金属棒3を所定の回転数
で回転させることにより、陰極用金属棒3に取り付けら
れた陰極用金属板5は、高速で移動した状態と同等にな
るので、高速電気めっきの状態を再現できるものであ
る。
【0021】また、図4に示す高速電気めっきの内部応
力試験装置Bは、陰極用金属板5を取り付けた陰極用金
属棒3の周囲に、前後左右に陽極用金属板2を4枚配置
したもので、陰極用金属棒3を中心に点対象の位置にし
てある。このように構成された高速電気めっきの内部応
力試験装置Bは、陰極用金属棒3が回転して陰極用金属
板5がどの位置になっても、陰極用金属板5と陽極用金
属板2は常に等距離になるので、陰極用金属板5の表面
に付くめっきは、均等に厚みを増すのでムラのないめっ
きとなり、実際の高速電気めっきに近い状態を再現でき
るものである。この高速電気めっきの内部応力試験装置
Bの陽極用金属板2の数は4枚に限定されるものではな
く、陰極用金属棒3を中心に点対象の位置にあれば、何
枚でもよく、枚数が多いほど、より精度の高いめっき状
態が再現できるものである。
【0022】さらに、図5に示す高速電気めっきの内部
応力試験装置Cは、水槽1′を円筒形に形成し、陽極用
金属板2′も水槽1′に合わせた円筒形に形成したもの
である。このように構成された高速電気めっきの内部応
力試験装置Cは、陽極用金属板2′が陰極用金属棒3を
中心とした円周上にあるため、陰極用金属棒3が回転し
て陰極用金属板5がどの位置になっても、陰極用金属板
5と陽極用金属板2′は完全に対向する位置になるの
で、陰極用金属板5の表面に付くめっきは、理想的な状
態でめっきの厚みを増すので、極めて精度が高くめっき
状態が再現できるものである。
【0023】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、めっき液を入れる水槽と、前記水槽内に配置さ
れた陽極用金属板と、前記陽極用金属板の対向する水槽
内の位置にモータにより回転可能に保持された円柱状の
陰極用金属棒と、前記陰極用金属棒の所定箇所に取り付
けられた薄板状の陰極用金属板と、前記陽極用金属板と
陰極用金属棒に接続された直流電源と、からなり、前記
水槽は、矩形に形成され、前記陽極用金属板と陰極用金
属棒が一対に配置されていることにより、比較的簡単な
試験装置において高速電気めっきの状態を再現できると
いう優れた効果を奏するものである。
【0024】また、前記水槽は、矩形の箱に形成され、
前記陽極用金属板は、陰極用金属棒に対して点対象に複
数個配置され、或いは、前記水槽は、円筒形に形成さ
れ、前記陽極用金属板は、前記水槽の壁面に沿った円筒
形に形成されていることにより、前記陽極用金属板と陰
極用金属棒の位置関係がバランスのとれた状態となるの
で、陰極用金属板に付着するめっきは均一となり、より
精度の高い高速電気めっきの状態を再現できるものであ
る。また、前記陰極用金属板は、陰極用金属棒の下部に
形成された平面部に絶縁座金を介して2ヵ所ねじ止めさ
れていることにより、前記陰極用金属板の片側にのみ必
要なめっきをすることができるので、精度の高い試験が
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の高速電気めっきの内部応力試験装置の
構成を示す説明図である。
【図2】図1の高速電気めっきの内部応力試験装置に使
用される陰極用金属棒の陰極用金属板の取り付け部分を
示す要部拡大の斜視図である。
【図3】図1の高速電気の内部応力めっき試験装置の測
定装置を示す斜視図である。
【図4】本発明の高速電気めっきの内部応力試験装置の
実施例を示す斜視図である。
【図5】本発明の高速電気めっきの内部応力試験装置の
実施例を示す斜視図である。
【図6】従来の電気めっきの内部応力試験装置の測定装
置を示す斜視図である。
【符号の説明】 A 高速電気めっきの内部応力試験装置 B 高速電気めっきの内部応力試験装置 C 高速電気めっきの内部応力試験装置 1 水槽 1′ 水槽 2 陽極用金属板 2′ 陽極用金属板 3 陰極用金属棒 4 モータ 5 陰極用金属板 6 整流器 7 配線 8 電流計 9 配線 10 電圧計 11 スリップリング 12 絶縁座金 13 絶縁ビス 14 めっき液 20 ストリップ式応力計 21 試験片ホルダ 22 分銅

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 めっき液を入れる水槽と、前記水槽内に
    配置された陽極用金属板と、前記陽極用金属板の対向す
    る水槽内の位置にモータにより回転可能に保持された円
    柱状の陰極用金属棒と、前記陰極用金属棒の所定箇所に
    取り付けられた薄板状の陰極用金属板と、前記陽極用金
    属板と陰極用金属棒に接続された直流電源と、からなる
    ことを特徴とする高速電気めっきの内部応力試験装置。
  2. 【請求項2】 前記水槽は、矩形の箱に形成され、前記
    陽極用金属板と陰極用金属棒が一対に配置されているこ
    とを特徴とする請求項1に記載の高速電気めっきの内部
    応力試験装置。
  3. 【請求項3】 前記水槽は、矩形の箱に形成され、前記
    陽極用金属板は、陰極用金属棒に対して点対象に複数個
    配置されていることを特徴とする請求項1に記載の高速
    電気めっきの内部応力試験装置。
  4. 【請求項4】 前記水槽は、円筒形に形成され、前記陽
    極用金属板は、前記水槽の壁面に沿った円筒形に形成さ
    れていることを特徴とする請求項1に記載の高速電気め
    っきの内部応力試験装置。
  5. 【請求項5】 前記陰極用金属板は、陰極用金属棒の下
    部に形成された平面部に固定されていることを特徴とす
    る請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の高速電
    気めっきの内部応力試験装置。
JP10166909A 1998-06-15 1998-06-15 高速電気めっきの内部応力試験装置 Pending JP2000002598A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10166909A JP2000002598A (ja) 1998-06-15 1998-06-15 高速電気めっきの内部応力試験装置
US09/332,910 US6153065A (en) 1998-06-15 1999-06-15 Internal stress testing device for high speed electroplating

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10166909A JP2000002598A (ja) 1998-06-15 1998-06-15 高速電気めっきの内部応力試験装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000002598A true JP2000002598A (ja) 2000-01-07

Family

ID=15839897

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10166909A Pending JP2000002598A (ja) 1998-06-15 1998-06-15 高速電気めっきの内部応力試験装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6153065A (ja)
JP (1) JP2000002598A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7682493B2 (en) 2004-02-03 2010-03-23 Yamamoto-Ms Co., Ltd. Electrode cartridge and a system for measuring an internal stress for a film of plating
CN101805918A (zh) * 2010-04-12 2010-08-18 上海新阳半导体材料股份有限公司 引线框架电镀下料装置
CN109194093A (zh) * 2018-08-07 2019-01-11 双新电器(郑州)制造有限公司 一种电解电镀电源的方法
CN112857624A (zh) * 2021-01-04 2021-05-28 北京科技大学 一种镀层内应力的测量装置及操作方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2319952C2 (ru) * 2006-03-02 2008-03-20 Игорь Геннадьевич Королев Способ контроля несущей способности железобетонного покрытия или перекрытия
FR3004466B1 (fr) * 2013-04-10 2015-05-15 Electricite De France Procede et dispositif d'electro-depot en geometrie cylindrique
CN104073861A (zh) * 2014-07-23 2014-10-01 哈尔滨工业大学 一种高速电镀旋转赫尔槽
CN105839169A (zh) * 2016-05-31 2016-08-10 上海大学 材料的电沉积高通量制备设备与方法
CN106521589B (zh) * 2016-11-22 2018-08-24 南昌大学 一种高通量制备镁合金块体样品的方法
CN107891255B (zh) * 2017-12-19 2024-05-17 晋江联兴反光材料有限公司 一种电沉积应力测试片及其制作方法
CN116559265B (zh) * 2023-07-05 2023-09-01 昆明理工大学 一种监测动态环境下金属粉体机械化学活化的方法及装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4086154A (en) * 1976-07-26 1978-04-25 The Boeing Company Apparatus for determining stress in an electrodeposit
US4647365A (en) * 1985-07-18 1987-03-03 Martin Marietta Corporation Stress monitoring apparatus for use in electroforming and electroplating processes
US4648944A (en) * 1985-07-18 1987-03-10 Martin Marietta Corporation Apparatus and method for controlling plating induced stress in electroforming and electroplating processes
US4786376A (en) * 1988-01-05 1988-11-22 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Electrodeposition without internal deposit stress
US5698085A (en) * 1995-03-06 1997-12-16 National Science Council Coating analysis apparatus
JP3185191B2 (ja) * 1997-12-02 2001-07-09 株式会社山本鍍金試験器 高速電気めっき試験装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7682493B2 (en) 2004-02-03 2010-03-23 Yamamoto-Ms Co., Ltd. Electrode cartridge and a system for measuring an internal stress for a film of plating
KR101148216B1 (ko) * 2004-02-03 2012-05-25 가부시키가이샤 야마모토메키시켄키 전극 카트리지 및 도금내부응력 측정시스템
CN101805918A (zh) * 2010-04-12 2010-08-18 上海新阳半导体材料股份有限公司 引线框架电镀下料装置
CN109194093A (zh) * 2018-08-07 2019-01-11 双新电器(郑州)制造有限公司 一种电解电镀电源的方法
CN109194093B (zh) * 2018-08-07 2020-04-28 双新电器(郑州)制造有限公司 一种电解电镀电源的方法
CN112857624A (zh) * 2021-01-04 2021-05-28 北京科技大学 一种镀层内应力的测量装置及操作方法

Also Published As

Publication number Publication date
US6153065A (en) 2000-11-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000002598A (ja) 高速電気めっきの内部応力試験装置
JPS59137853A (ja) 銅電気めつき浴中の有機添加剤の濃度を決定するための方法
JP2935947B2 (ja) めっきバス中のトレース成分を選択的に監視する方法
JP3185191B2 (ja) 高速電気めっき試験装置
WO2005100967A2 (en) Electrochemical deposition analysis system including high-stability electrode
JPS63138246A (ja) メツキ液撹拌状態試験方法
EP0597475B1 (en) Method of monitoring major constituents in plating baths containing codepositing constituents
US4086154A (en) Apparatus for determining stress in an electrodeposit
JP5617179B2 (ja) 被膜付電線の絶縁破壊試験装置及び絶縁破壊試験方法
US7022212B2 (en) Micro structured electrode and method for monitoring wafer electroplating baths
JP3226129B2 (ja) 回転円筒均一電着性電極
JP5001492B2 (ja) 電着塗装における塗膜厚み予測装置及び塗膜厚み予測方法
JP3091966B1 (ja) 電気めっき試験装置及びその方法
TWI691620B (zh) 鍍覆裝置以及鍍覆系統
US3694324A (en) Method of measuring accelerated corrosion rate
JP2002097591A (ja) 金属粉末の製造方法
WO2013035780A1 (ja) めっき電流密度分布測定装置およびめっき電流密度分布の測定方法
CN219772321U (zh) 一种用于圆弧状试样的电解抛光装置
JPH09127052A (ja) メッキ液中の2次光沢剤の定量方法
JP2670371B2 (ja) 塗膜測定用プローブ
Tan et al. Characterising nonuniform electrodeposition and electrodissolution using the novel wire beam electrode method
CN116555882A (zh) 一种用于圆弧状试样的电解抛光装置及方法
US3262866A (en) Method and apparatus for determining the velocity of sound in a liquid
JPH04268098A (ja) 電解めっき用治具
KR100516124B1 (ko) 합금화 용융 아연 도금 강판의 합금상 두께 측정장치 및그 측정방법