JP2000001608A - ポリカーボネート樹脂組成物、並びにこれで形成された光学記録媒体用基板及び光学記録媒体 - Google Patents
ポリカーボネート樹脂組成物、並びにこれで形成された光学記録媒体用基板及び光学記録媒体Info
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高密度記録に適した光学記録媒体用基板を与
えるポリカーボネート樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 アルカリ金属以外の金属の含有量が０．
５ｐｐｍ以下であり、かつ離型剤として多価アルコール
の脂肪酸エステルを１００〜１０００ｐｐｍ含有してい
ることを特徴とするポリカーボネート樹脂組成物。
えるポリカーボネート樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 アルカリ金属以外の金属の含有量が０．
５ｐｐｍ以下であり、かつ離型剤として多価アルコール
の脂肪酸エステルを１００〜１０００ｐｐｍ含有してい
ることを特徴とするポリカーボネート樹脂組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はポリカーボネート樹
脂組成物、特に射出成形により光学記録媒体用基板のよ
うな、微細な凹凸を有する成形品を製造するのに好適
な、ポリカーボネート樹脂組成物に関するものである。
また本発明は、このポリカーボネート樹脂組成物から製
造された光学記録媒体用基板、及びこれを用いた光学記
録媒体に関するものである。
脂組成物、特に射出成形により光学記録媒体用基板のよ
うな、微細な凹凸を有する成形品を製造するのに好適
な、ポリカーボネート樹脂組成物に関するものである。
また本発明は、このポリカーボネート樹脂組成物から製
造された光学記録媒体用基板、及びこれを用いた光学記
録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】非接触で情報の読み出しが可能な光学記
録方式は、従来の磁気記録方式に比較して、傷や汚れに
対して強いという特徴を有している。この方式の記録媒
体は、透明基板上に情報記録層を備えた構造を有してい
る。透明基板の素材としては、主にポリカーボネート樹
脂が用いられている。ポリカーボネート樹脂は、溶融成
形時の耐熱性及び成形後の寸法安定性に優れており、か
つ機械的特性も優れているので、光学記録媒体の素材と
して好適であるとされている。光学記録媒体用基板には
情報記録用のトラックが設けられているが、記録容量の
増大に伴い、このトラックの溝の間隔すなわちトラック
のピッチはより狭くなり、また溝の深さはより深くなり
つつある。そしてこれに対応して、射出成形により光学
記録媒体用基板を成形する際の成形温度や金型温度は、
より高温になりつつある。しかし成形温度を高くすると
離型性が悪化して、成形品にそりが発生し易くなるとい
う重大な問題がある。そりのある光学記録媒体用基板を
用いて製造した光学記録媒体は、そりの部分でビットエ
ラーを生じ易いので、エラー発生率が高くなる。
録方式は、従来の磁気記録方式に比較して、傷や汚れに
対して強いという特徴を有している。この方式の記録媒
体は、透明基板上に情報記録層を備えた構造を有してい
る。透明基板の素材としては、主にポリカーボネート樹
脂が用いられている。ポリカーボネート樹脂は、溶融成
形時の耐熱性及び成形後の寸法安定性に優れており、か
つ機械的特性も優れているので、光学記録媒体の素材と
して好適であるとされている。光学記録媒体用基板には
情報記録用のトラックが設けられているが、記録容量の
増大に伴い、このトラックの溝の間隔すなわちトラック
のピッチはより狭くなり、また溝の深さはより深くなり
つつある。そしてこれに対応して、射出成形により光学
記録媒体用基板を成形する際の成形温度や金型温度は、
より高温になりつつある。しかし成形温度を高くすると
離型性が悪化して、成形品にそりが発生し易くなるとい
う重大な問題がある。そりのある光学記録媒体用基板を
用いて製造した光学記録媒体は、そりの部分でビットエ
ラーを生じ易いので、エラー発生率が高くなる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のような事情の下
に、成形温度や金型温度が高くても、光記録媒体用基板
に要求される特性である、複屈折、複写性及びそりなど
の点で優れた製品を与える、離型性のよいポリカーボネ
ート樹脂組成物が求められている。従来から離型剤とし
て多価アルコールの脂肪酸エステルを配合したポリカー
ボネート樹脂組成物が離型性に優れていることが知られ
ているが、高記録容量の光学記録媒体用基板を射出成形
により製造するための高い成形温度及び金型温度の下で
は、このものは所期の良好な離型性を発現しない。従っ
て本発明は、高記録容量の光学記録媒体用基板の製造に
好適な、高い成形温度及び金型温度の下でも良好な離型
性を発現する、ポリカーボネート樹脂組成物を提供せん
とするものである。また本発明はこのようなポリカーボ
ネート樹脂組成物で成形した光学記録媒体用基板、及び
この基板を用いた光学記録媒体を提供せんとするもので
ある。
に、成形温度や金型温度が高くても、光記録媒体用基板
に要求される特性である、複屈折、複写性及びそりなど
の点で優れた製品を与える、離型性のよいポリカーボネ
ート樹脂組成物が求められている。従来から離型剤とし
て多価アルコールの脂肪酸エステルを配合したポリカー
ボネート樹脂組成物が離型性に優れていることが知られ
ているが、高記録容量の光学記録媒体用基板を射出成形
により製造するための高い成形温度及び金型温度の下で
は、このものは所期の良好な離型性を発現しない。従っ
て本発明は、高記録容量の光学記録媒体用基板の製造に
好適な、高い成形温度及び金型温度の下でも良好な離型
性を発現する、ポリカーボネート樹脂組成物を提供せん
とするものである。また本発明はこのようなポリカーボ
ネート樹脂組成物で成形した光学記録媒体用基板、及び
この基板を用いた光学記録媒体を提供せんとするもので
ある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らの検討によれ
ば多価アルコールの脂肪酸エステルを配合したポリカー
ボネート樹脂組成物が、高い成形温度及び金型温度の下
で所期の離型性を発現しないのは、成形に際し多価アル
コールの脂肪酸エステルが熱により他の形態に変化して
しまうためである。そしてこの変化は、ポリカーボネー
トの製造工程やそれに続く加工工程で、装置を構成する
金属材料から混入する鉄その他の金属により、著るしく
促進されることが判明した。また、多価アルコールの脂
肪酸エステルの配合量にも適正値があり、樹脂組成物中
における多価アルコールの脂肪酸エステルの含有量が１
００〜１０００ｐｐｍより多くても少なくても、射出成
形により得られた板に成形欠陥を生じ易いことが判明し
た。
ば多価アルコールの脂肪酸エステルを配合したポリカー
ボネート樹脂組成物が、高い成形温度及び金型温度の下
で所期の離型性を発現しないのは、成形に際し多価アル
コールの脂肪酸エステルが熱により他の形態に変化して
しまうためである。そしてこの変化は、ポリカーボネー
トの製造工程やそれに続く加工工程で、装置を構成する
金属材料から混入する鉄その他の金属により、著るしく
促進されることが判明した。また、多価アルコールの脂
肪酸エステルの配合量にも適正値があり、樹脂組成物中
における多価アルコールの脂肪酸エステルの含有量が１
００〜１０００ｐｐｍより多くても少なくても、射出成
形により得られた板に成形欠陥を生じ易いことが判明し
た。
【０００５】本発明はこのような知見に基づいて達成さ
れたもので、本発明に係るポリカーボネート樹脂組成物
は、離型剤として多価アルコールの脂肪酸エステルを１
００〜１０００ｐｐｍ含有し、かつ溶融成形に際して離
型剤の熱変化を促進する鉄その他の装置から混入する金
属の含有量が著るしく少ないことを特徴とするものであ
る。また、本発明に係る光学記録媒体用基板は、上記の
ポリカーボネート樹脂組成物の射出成形により製造され
たものであって、鉄その他の離型剤の熱変化を促進する
金属の含有量が著しく少なく、かつ成形に供した樹脂組
成物中の離型剤である多価アルコールの脂肪酸エステル
の５０％以上が残存していることを特徴とするものであ
る。
れたもので、本発明に係るポリカーボネート樹脂組成物
は、離型剤として多価アルコールの脂肪酸エステルを１
００〜１０００ｐｐｍ含有し、かつ溶融成形に際して離
型剤の熱変化を促進する鉄その他の装置から混入する金
属の含有量が著るしく少ないことを特徴とするものであ
る。また、本発明に係る光学記録媒体用基板は、上記の
ポリカーボネート樹脂組成物の射出成形により製造され
たものであって、鉄その他の離型剤の熱変化を促進する
金属の含有量が著しく少なく、かつ成形に供した樹脂組
成物中の離型剤である多価アルコールの脂肪酸エステル
の５０％以上が残存していることを特徴とするものであ
る。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明について詳細に説明する
と、本発明に係るポリカーボネート樹脂組成物は、任意
のポリカーボネート樹脂に離型剤を配合することにより
製造される。ポリカーボネートの原料であるフェノール
性化合物としては、ヒドロキノン、レゾルシン、ジヒド
ロキシジフェニル、ビス（ヒドロキシフェニル）−アル
カン、ビス（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン、
ビス（ヒドロキシフェニル）−スルフィド、ビス（ヒド
ロキシフェニル）−エーテル、ビス（ヒドロキシフェニ
ル）−ケトン、ビス（ヒドロキシフェニル）−スルフォ
ン、ビス（ヒドロキシフェニル）−スルフォキシド、ビ
ス（ヒドロキシフェニル）−ベンゼン、及び核にアルキ
ル基やハロゲン原子などが置換しているこれらの誘導体
などが挙げられる。特に好適なフェノール性化合物とし
ては、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−プロ
パン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−シクロヘキサン及び１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロ
ヘキサンなどが挙げられる。また、３個以上のフェノー
ル性水酸基を有するものをこれらのフェノール性化合物
に少量併用して、分岐を有するポリカーボネートを得る
こともできる。
と、本発明に係るポリカーボネート樹脂組成物は、任意
のポリカーボネート樹脂に離型剤を配合することにより
製造される。ポリカーボネートの原料であるフェノール
性化合物としては、ヒドロキノン、レゾルシン、ジヒド
ロキシジフェニル、ビス（ヒドロキシフェニル）−アル
カン、ビス（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン、
ビス（ヒドロキシフェニル）−スルフィド、ビス（ヒド
ロキシフェニル）−エーテル、ビス（ヒドロキシフェニ
ル）−ケトン、ビス（ヒドロキシフェニル）−スルフォ
ン、ビス（ヒドロキシフェニル）−スルフォキシド、ビ
ス（ヒドロキシフェニル）−ベンゼン、及び核にアルキ
ル基やハロゲン原子などが置換しているこれらの誘導体
などが挙げられる。特に好適なフェノール性化合物とし
ては、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−プロ
パン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−シクロヘキサン及び１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロ
ヘキサンなどが挙げられる。また、３個以上のフェノー
ル性水酸基を有するものをこれらのフェノール性化合物
に少量併用して、分岐を有するポリカーボネートを得る
こともできる。
【０００７】これらのフェノール性化合物からポリカー
ボネートを製造するのは、ホスゲンを用いる界面重縮合
法、又はジフェニルカーボネートを用いる溶融法のいず
れの方法によることもできる。得られるポリカーボネー
トの平均分子量（Ｍｖ）は通常１×１０4 〜１×１０5
程度であるが、光学記録媒体用基板の製造に用いるに
は、１３０００〜２００００、特に１４０００〜１８０
００の範囲であるのが好ましい。
ボネートを製造するのは、ホスゲンを用いる界面重縮合
法、又はジフェニルカーボネートを用いる溶融法のいず
れの方法によることもできる。得られるポリカーボネー
トの平均分子量（Ｍｖ）は通常１×１０4 〜１×１０5
程度であるが、光学記録媒体用基板の製造に用いるに
は、１３０００〜２００００、特に１４０００〜１８０
００の範囲であるのが好ましい。
【０００８】ポリカーボネートの製造に際しては、使用
する原料及び装置から金属が混入しないように細心の注
意を払う必要がある。例えばホスゲンを用いる界面重縮
合法による場合には、ホスゲンの配管は、腐蝕を防止す
るため完全に乾燥させてからホスゲンを通すことが必要
であり、かつホスゲンは活性炭と接触させて含まれてい
るかもしれない金属成分を除去してから、反応に供する
のが好ましい。またアルカリ水溶液の配管は、管壁から
の金属成分の溶出を防止するため、耐蝕性に富むものを
用いることが必要である。本発明者らの検討によれば、
ポリカーボネート中に普通に検出される金属のうちアル
カリ金属は離型剤である多価アルコールの脂肪酸エステ
ルが熱により変質するのを促進する作用は比較的弱い
が、鉄やクロム、ニッケル、アルミニウムなど、配管や
機器の壁面から混入してくる金属は離型剤の熱変化を促
進する作用が著るしく大きい。そしてポリカーボネート
中に通常有意量で見出されるのはこれらの金属なので、
通常はこれらの合計を指標として、その含有量が０．５
ｐｐｍ以下のものを用いる。好ましくは、上記で述べた
金属を含めアルカリ金属以外の金属の含有量が０．５ｐ
ｐｍ以下のものを用いる。樹脂組成物中の金属含有量は
少ないほど好ましく、鉄、クロム、ニッケル及びアルミ
ニウムの合計量が０．１ｐｐｍ以下、特に０．０５ｐｐ
ｍ以下のものを用いると更に好ましい。
する原料及び装置から金属が混入しないように細心の注
意を払う必要がある。例えばホスゲンを用いる界面重縮
合法による場合には、ホスゲンの配管は、腐蝕を防止す
るため完全に乾燥させてからホスゲンを通すことが必要
であり、かつホスゲンは活性炭と接触させて含まれてい
るかもしれない金属成分を除去してから、反応に供する
のが好ましい。またアルカリ水溶液の配管は、管壁から
の金属成分の溶出を防止するため、耐蝕性に富むものを
用いることが必要である。本発明者らの検討によれば、
ポリカーボネート中に普通に検出される金属のうちアル
カリ金属は離型剤である多価アルコールの脂肪酸エステ
ルが熱により変質するのを促進する作用は比較的弱い
が、鉄やクロム、ニッケル、アルミニウムなど、配管や
機器の壁面から混入してくる金属は離型剤の熱変化を促
進する作用が著るしく大きい。そしてポリカーボネート
中に通常有意量で見出されるのはこれらの金属なので、
通常はこれらの合計を指標として、その含有量が０．５
ｐｐｍ以下のものを用いる。好ましくは、上記で述べた
金属を含めアルカリ金属以外の金属の含有量が０．５ｐ
ｐｍ以下のものを用いる。樹脂組成物中の金属含有量は
少ないほど好ましく、鉄、クロム、ニッケル及びアルミ
ニウムの合計量が０．１ｐｐｍ以下、特に０．０５ｐｐ
ｍ以下のものを用いると更に好ましい。
【０００９】金属の含有量が多いと、射出成形に際し成
形温度及び金型温度を高くすると、離型剤として含有さ
せた多価アルコールの脂肪酸エステルが不完全エステル
から完全エステルその他にすみやかに熱変化して、得ら
れる成形体中に殆んど残存しなくなる。そして例えばグ
リセリンモノエステルがグリセリントリエステルに変化
すると、離型剤としての作用は著しく低下する。離型剤
の多価アルコールの脂肪酸エステルは１００〜１０００
ｐｐｍとなるようにポリカーボネートに配合することが
必要である。この離型剤の量が過少であると離型性が不
十分となり、成形品にそりなどの欠陥が生じ易い。逆に
この量が過多であると、成形時にガスを生じ易く、この
ガスがスタンパーに付着して転写不良を生じ易い。離型
剤の好ましい配合量は１００〜６００ｐｐｍ、特に１５
０〜５００ｐｐｍである。多価アルコールの脂肪酸エス
テルとしては、グリセリン、トリメチロールプロパン、
ヘキサントリオールのような３価のアルコールや、ペン
タエリスリトール、メソエリスリトール、キシリトー
ル、ソルビトールのような４価以上の多価アルコール
と、炭素数１０〜３０程度の脂肪酸との不完全エステル
が用いられる。脂肪酸としてはカプリン酸、ウンデカン
酸、ラウリン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、ペンタ
デカン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン
酸、ノナデカン酸、エイコサン酸、ベヘン酸などが好ま
しい。これらの多価アルコールと脂肪酸とのエステルと
しては、通常はグリセリンモノステアレート、グリセリ
ンモノパルミテート、グリセリンモノミリステート、グ
リセリンモノラウレートなどのグリセリンモノエステ
ル、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリ
スリトールトリステアレート、ペンタエリスリトールモ
ノパルミテート、ペンタエリスリトールジパルミテー
ト、ペンタエリスリトールトリパルミテート、メソエリ
スリトールトリラウレート、キシリトールジステアレー
ト、キシリトールトリステアレート、キシリトールテト
ラステアレートなどが用いられる。これらのエステルは
いくつかを併用することもできる。
形温度及び金型温度を高くすると、離型剤として含有さ
せた多価アルコールの脂肪酸エステルが不完全エステル
から完全エステルその他にすみやかに熱変化して、得ら
れる成形体中に殆んど残存しなくなる。そして例えばグ
リセリンモノエステルがグリセリントリエステルに変化
すると、離型剤としての作用は著しく低下する。離型剤
の多価アルコールの脂肪酸エステルは１００〜１０００
ｐｐｍとなるようにポリカーボネートに配合することが
必要である。この離型剤の量が過少であると離型性が不
十分となり、成形品にそりなどの欠陥が生じ易い。逆に
この量が過多であると、成形時にガスを生じ易く、この
ガスがスタンパーに付着して転写不良を生じ易い。離型
剤の好ましい配合量は１００〜６００ｐｐｍ、特に１５
０〜５００ｐｐｍである。多価アルコールの脂肪酸エス
テルとしては、グリセリン、トリメチロールプロパン、
ヘキサントリオールのような３価のアルコールや、ペン
タエリスリトール、メソエリスリトール、キシリトー
ル、ソルビトールのような４価以上の多価アルコール
と、炭素数１０〜３０程度の脂肪酸との不完全エステル
が用いられる。脂肪酸としてはカプリン酸、ウンデカン
酸、ラウリン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、ペンタ
デカン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン
酸、ノナデカン酸、エイコサン酸、ベヘン酸などが好ま
しい。これらの多価アルコールと脂肪酸とのエステルと
しては、通常はグリセリンモノステアレート、グリセリ
ンモノパルミテート、グリセリンモノミリステート、グ
リセリンモノラウレートなどのグリセリンモノエステ
ル、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリ
スリトールトリステアレート、ペンタエリスリトールモ
ノパルミテート、ペンタエリスリトールジパルミテー
ト、ペンタエリスリトールトリパルミテート、メソエリ
スリトールトリラウレート、キシリトールジステアレー
ト、キシリトールトリステアレート、キシリトールテト
ラステアレートなどが用いられる。これらのエステルは
いくつかを併用することもできる。
【００１０】本発明に係るポリカーボネート樹脂組成物
は射出成形、押出成形などによって種々の成形品、例え
ばフィルム、糸、板などに加工することができる。照明
器具用部品や光学機器用部品、例えば灯火のハウジング
や光学レンズなどにも好適に加工することができる。こ
れらの加工に際しては、所望により常用の種々の添加
剤、例えば安定剤、帯電防止剤、燃焼遅延剤などを添加
することもできる。本発明に係るポリカーボネート樹脂
組成物の特に好適な用途は、射出成形による光学記録媒
体用基板の製造である。光学記録媒体としては再生専用
型光ディスク（ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ
等）、記録再生型光ディスク（ライトワンス型；ＣＤ−
Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等）、記録、再生、消去、再書込可能型
光ディスク（リライタブル型；ＭＯ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶ
Ｄ−ＲＡＭ等）があり、いずれもポリカーボネート樹脂
組成物の射出成形により基板の製造が行われている。こ
れらのディスクのトラックピッチは記録密度により異な
るが、高記録密度のものでは２．０μｍ以下のトラック
ピッチが要求されており、将来的には更に狭いピッチ、
例えば１．８μｍ以下のものが要求されるものと考えら
れるが、このようなディスクの基板を射出成形により製
造する場合には特に離型性の良いことが必要なので、本
発明に係る樹脂組成物は好適である。
は射出成形、押出成形などによって種々の成形品、例え
ばフィルム、糸、板などに加工することができる。照明
器具用部品や光学機器用部品、例えば灯火のハウジング
や光学レンズなどにも好適に加工することができる。こ
れらの加工に際しては、所望により常用の種々の添加
剤、例えば安定剤、帯電防止剤、燃焼遅延剤などを添加
することもできる。本発明に係るポリカーボネート樹脂
組成物の特に好適な用途は、射出成形による光学記録媒
体用基板の製造である。光学記録媒体としては再生専用
型光ディスク（ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ
等）、記録再生型光ディスク（ライトワンス型；ＣＤ−
Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等）、記録、再生、消去、再書込可能型
光ディスク（リライタブル型；ＭＯ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶ
Ｄ−ＲＡＭ等）があり、いずれもポリカーボネート樹脂
組成物の射出成形により基板の製造が行われている。こ
れらのディスクのトラックピッチは記録密度により異な
るが、高記録密度のものでは２．０μｍ以下のトラック
ピッチが要求されており、将来的には更に狭いピッチ、
例えば１．８μｍ以下のものが要求されるものと考えら
れるが、このようなディスクの基板を射出成形により製
造する場合には特に離型性の良いことが必要なので、本
発明に係る樹脂組成物は好適である。
【００１１】本発明に係るポリカーボネート樹脂組成物
を用いて光学記録媒体用の基板を射出成形する場合に
は、成形温度は３００〜４００℃、特に３２０〜３８０
℃が好ましい。また、一般に光学記録媒体用基板の射出
成形に際しては、押出機の先端に金属繊維から成るフィ
ルターを設置して樹脂中の異物を除去するが、フィルタ
ーを構成する金属繊維の表面が化学変化して金属化合物
になっていると、この金属化合物がここを通過する溶融
樹脂中に混入し、樹脂に含有させてある離型剤の熱変化
を促進することがある。従ってフィルターは十分に洗浄
して、金属繊維の表面に存在するかもしれない金属化合
物を除去してから用いることが望ましい。本発明に係る
ポリカーボネート樹脂組成物を用いる場合でも、成形過
程で金属が混入するなどして組成物中の離型剤である多
価アルコールの脂肪酸エステルの５０％以上が熱変化す
るような条件で射出成形したのでは、離型むらや転写不
良などの成形不良を生じ易い。
を用いて光学記録媒体用の基板を射出成形する場合に
は、成形温度は３００〜４００℃、特に３２０〜３８０
℃が好ましい。また、一般に光学記録媒体用基板の射出
成形に際しては、押出機の先端に金属繊維から成るフィ
ルターを設置して樹脂中の異物を除去するが、フィルタ
ーを構成する金属繊維の表面が化学変化して金属化合物
になっていると、この金属化合物がここを通過する溶融
樹脂中に混入し、樹脂に含有させてある離型剤の熱変化
を促進することがある。従ってフィルターは十分に洗浄
して、金属繊維の表面に存在するかもしれない金属化合
物を除去してから用いることが望ましい。本発明に係る
ポリカーボネート樹脂組成物を用いる場合でも、成形過
程で金属が混入するなどして組成物中の離型剤である多
価アルコールの脂肪酸エステルの５０％以上が熱変化す
るような条件で射出成形したのでは、離型むらや転写不
良などの成形不良を生じ易い。
【００１２】本発明に係るポリカーボネート樹脂組成物
を用いて、上記したところに従い、添加した離型剤であ
る多価アルコールの脂肪酸エステルの５０％以上がその
ままの形態で残存するような条件で製造した光学記録媒
体用基板は、後記する実施例と比較例との対比からも明
らかなように、成形欠陥が無くかつ基板特性に優れてい
るので、これに常法により記録層を形成することにより
高品質の光学記録媒体とすることができる。
を用いて、上記したところに従い、添加した離型剤であ
る多価アルコールの脂肪酸エステルの５０％以上がその
ままの形態で残存するような条件で製造した光学記録媒
体用基板は、後記する実施例と比較例との対比からも明
らかなように、成形欠陥が無くかつ基板特性に優れてい
るので、これに常法により記録層を形成することにより
高品質の光学記録媒体とすることができる。
【００１３】
【実施例】以下に実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。 ポリカーボネートの製造；苛性ソーダ水溶液、塩化メチ
レン及びビスフェノールＡを混合し、この混合液中にホ
スゲンを供給してポリカーボネートのオリゴマーを生成
させた。なお、触媒としてはトリエチルアミンを用い、
分子量調節剤としてはｔ−ブチルフェノールを用いた。
水相と油相とを分離し、得られた油相に塩化メチレン、
苛性ソーダ水溶液及びトリエチルアミンを添加して、窒
素雰囲気下、３０℃で反応させてポリカーボネートを生
成させた。水相と油相とを分離し、油相を希塩酸で洗浄
し、次いで排水中に塩素イオンが検出されなくなるまで
純水で洗浄した。得られた精製ポリカーボネート溶液を
ニーダーで粉化して、ポリカーボネートの粉末を得た。
得られたポリカーボネートの物性を表−１に示す。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。 ポリカーボネートの製造；苛性ソーダ水溶液、塩化メチ
レン及びビスフェノールＡを混合し、この混合液中にホ
スゲンを供給してポリカーボネートのオリゴマーを生成
させた。なお、触媒としてはトリエチルアミンを用い、
分子量調節剤としてはｔ−ブチルフェノールを用いた。
水相と油相とを分離し、得られた油相に塩化メチレン、
苛性ソーダ水溶液及びトリエチルアミンを添加して、窒
素雰囲気下、３０℃で反応させてポリカーボネートを生
成させた。水相と油相とを分離し、油相を希塩酸で洗浄
し、次いで排水中に塩素イオンが検出されなくなるまで
純水で洗浄した。得られた精製ポリカーボネート溶液を
ニーダーで粉化して、ポリカーボネートの粉末を得た。
得られたポリカーボネートの物性を表−１に示す。
【００１４】
【表１】
【００１５】＊１ 濃度Ｃが０．６ｇ／ｄｌ塩化メチレ
ン溶液について、２０℃で測定した比粘度（ηSP）か
ら、下記式により算出。
ン溶液について、２０℃で測定した比粘度（ηSP）か
ら、下記式により算出。
【００１６】
【数１】ηSP／Ｃ＝〔η〕（１＋０．２８ηSP） 〔η〕＝１．２３×１０-5×Ｍｖ×０．８３
【００１７】＊２ ゲルパーミエーションクロマトグラ
フ（東ソー社製品、ＨＬＣ−８０２０）を用いて測定。
東ソー社のＴＳＫ ５０００ＨＬＸ、４０００ＨＬＸ、
３０００ＨＬＸ及び２０００ＨＬＸをそれぞれ充填した
４本のカラムを用い、テトラヒドロフランを溶離液と
し、検出は屈折率計で行った。得られたチャートからポ
リスチレン換算のＭｗ及びＭｎを求めた。 ＊３ １２０℃で５時間乾燥したポリカーボネート２ｇ
を、高化式フローテスター（島津製作所製品 ＣＦＴ−
５００、オリフィスは直径１ｍｍ、長さ１０ｍｍ）の２
８０℃に加熱されたオリフィスに仕込んだ。１０分後に
完全に溶融したのを確認したのち、１６０ｋｇの荷重下
で上記オリフィス中を流下させ、４ｍｍ〜７ｍｍ流下し
た時間を読み取り、流下容積／時間（ｍｌ／秒）で表示
した。 ＊４ 鉄、ニッケル、クロム及びアルミニウムの合計量
（これ以外の金属は殆んど含まれていない）。分析は試
料を灰化し、ＩＣＰ分析法により行った。
フ（東ソー社製品、ＨＬＣ−８０２０）を用いて測定。
東ソー社のＴＳＫ ５０００ＨＬＸ、４０００ＨＬＸ、
３０００ＨＬＸ及び２０００ＨＬＸをそれぞれ充填した
４本のカラムを用い、テトラヒドロフランを溶離液と
し、検出は屈折率計で行った。得られたチャートからポ
リスチレン換算のＭｗ及びＭｎを求めた。 ＊３ １２０℃で５時間乾燥したポリカーボネート２ｇ
を、高化式フローテスター（島津製作所製品 ＣＦＴ−
５００、オリフィスは直径１ｍｍ、長さ１０ｍｍ）の２
８０℃に加熱されたオリフィスに仕込んだ。１０分後に
完全に溶融したのを確認したのち、１６０ｋｇの荷重下
で上記オリフィス中を流下させ、４ｍｍ〜７ｍｍ流下し
た時間を読み取り、流下容積／時間（ｍｌ／秒）で表示
した。 ＊４ 鉄、ニッケル、クロム及びアルミニウムの合計量
（これ以外の金属は殆んど含まれていない）。分析は試
料を灰化し、ＩＣＰ分析法により行った。
【００１８】実施例１〜４及び比較例１〜２ ポリカーボネート粉末に多価アルコールの脂肪酸エステ
ルを粉末で配合し、よく混合したのち二軸押出機で窒素
雰囲気下、２９０℃で混練してペレット化した。このペ
レットを射出成形機（住友重機械社製品 ＤＩＳＫ３）
に供給し、下記条件で光学記録媒体用の３．５インチ基
板を５０００枚製造した。 シリンダー温度 ３５０℃ 金型温度 １０３℃／９８℃ スタンパー ２３０ＭＢ（ＩＳＯ／ＩＥＣ １３９６３規格） 充填時間 ０．３４秒 冷却時間 ４．５秒 圧縮力（トン） ２２．５−１３．８−１０
ルを粉末で配合し、よく混合したのち二軸押出機で窒素
雰囲気下、２９０℃で混練してペレット化した。このペ
レットを射出成形機（住友重機械社製品 ＤＩＳＫ３）
に供給し、下記条件で光学記録媒体用の３．５インチ基
板を５０００枚製造した。 シリンダー温度 ３５０℃ 金型温度 １０３℃／９８℃ スタンパー ２３０ＭＢ（ＩＳＯ／ＩＥＣ １３９６３規格） 充填時間 ０．３４秒 冷却時間 ４．５秒 圧縮力（トン） ２２．５−１３．８−１０
【００１９】得られた基板について下記の項目をチェッ
クした。結果を表−２に示す。 成形欠陥（ピットずれ）；１０００枚毎に３枚の基板を
取出し、内外周のＳＦＰ部及び外周７．８．９バンドを
光学顕微鏡で観察した。離型性の不十分な場合、及びス
タンパーに揮発物が付着した場合のいずれにもピットず
れが発生する。 成形欠陥（離型むら）；１０００枚毎に２５枚の基板を
取出し、反射光及び透過光で目視観察した。離型性が良
くない場合には離型むらが発生する。
クした。結果を表−２に示す。 成形欠陥（ピットずれ）；１０００枚毎に３枚の基板を
取出し、内外周のＳＦＰ部及び外周７．８．９バンドを
光学顕微鏡で観察した。離型性の不十分な場合、及びス
タンパーに揮発物が付着した場合のいずれにもピットず
れが発生する。 成形欠陥（離型むら）；１０００枚毎に２５枚の基板を
取出し、反射光及び透過光で目視観察した。離型性が良
くない場合には離型むらが発生する。
【００２０】複屈折；自動複屈折測定装置（オーク製作
所製 ＡＤＲ−１３０Ｎ）を用いて、面内複屈折及び垂
直複屈折を測定した。結果を最大値と最小値とで表示し
た。 機械特性；光ディスクの規格（ＩＳＯ／ＩＥＣ １３９
６３）に従って評価し、十分に余裕をもって合格するも
のを○、余裕は無いが合格するものを△とした。 脂肪酸エステル含有量；試料を塩化メチレンに溶解し、
これにピリジンとトリメチルシリルクロライドを加えて
脂肪酸エステル中の水酸基を全てトリメチルシリル化し
た。次いで反応液をガスクロマトグラフィーで分析し、
添加した脂肪酸エステルの形態で存在しているものを定
量した。
所製 ＡＤＲ−１３０Ｎ）を用いて、面内複屈折及び垂
直複屈折を測定した。結果を最大値と最小値とで表示し
た。 機械特性；光ディスクの規格（ＩＳＯ／ＩＥＣ １３９
６３）に従って評価し、十分に余裕をもって合格するも
のを○、余裕は無いが合格するものを△とした。 脂肪酸エステル含有量；試料を塩化メチレンに溶解し、
これにピリジンとトリメチルシリルクロライドを加えて
脂肪酸エステル中の水酸基を全てトリメチルシリル化し
た。次いで反応液をガスクロマトグラフィーで分析し、
添加した脂肪酸エステルの形態で存在しているものを定
量した。
【００２１】比較例１〜６ ポリカーボネート粉末に多価アルコールの脂肪酸エステ
ルと金属化合物とを添加した以外は実施例と同様にして
ペレットを製造し、次いでこのペレットを用いて実施例
と同様にして光ディスク基板を製造した。結果を表−２
に示す。 比較例７ ポリカーボネート粉末をそのまま実施例と同様にしてペ
レット化し、次いでこのペレットを用いて実施例と同様
にして光ディスク基板を製造した。結果を表−２に示
す。
ルと金属化合物とを添加した以外は実施例と同様にして
ペレットを製造し、次いでこのペレットを用いて実施例
と同様にして光ディスク基板を製造した。結果を表−２
に示す。 比較例７ ポリカーボネート粉末をそのまま実施例と同様にしてペ
レット化し、次いでこのペレットを用いて実施例と同様
にして光ディスク基板を製造した。結果を表−２に示
す。
【００２２】
【表２】
【００２３】
【表３】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河崎 博行 北九州市八幡西区黒崎城石１番１号 三菱 化学株式会社黒崎事業所内 Ｆターム(参考） 4J002 CG011 CG021 EH046 EH056 FD166 GP00 GS00 5D029 KA19 KC09
Claims (6)
- 【請求項１】 アルカリ金属以外の金属の含有量が０．
５ｐｐｍ以下であり、かつ離型剤として多価アルコール
の脂肪酸エステルを１００〜１０００ｐｐｍ含有してい
ることを特徴とするポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項２】 鉄、ニッケル、クロム及びアルミニウム
の合計含有量が０．５ｐｐｍ以下であり、かつ離型剤と
して多価アルコールの脂肪酸エステルを１００〜１００
０ｐｐｍ含有していることを特徴とするポリカーボネー
ト樹脂組成物。 - 【請求項３】 離型剤として多価アルコールの脂肪酸エ
ステルを１００〜１０００ｐｐｍ含有しているポリカー
ボネート樹脂組成物を射出成形して得られた光学記録媒
体用基板であって、アルカリ金属以外の他の金属の含有
量が０．５ｐｐｍ以下であり、かつ成形に供した樹脂組
成物中に離型剤として配合されている多価アルコールの
脂肪酸エステルの５０％以上が残存していることを特徴
とする光学記録媒体用基板。 - 【請求項４】 離型剤として多価アルコールの脂肪酸エ
ステルを１００〜１０００ｐｐｍ含有しているポリカー
ボネート樹脂組成物を射出成形して得られた光学記録媒
体用基板であって、鉄、ニッケル、クロム及びアルミニ
ウムの合計含有量が０．５ｐｐｍ以下であり、アルカリ
金属以外の他の金属の含有量は０．５ｐｐｍ以下であ
り、かつ成形に供した樹脂組成物中に離型剤として配合
されている多価アルコール脂肪酸エステルの５０％以上
が残存していることを特徴とする光学記録媒体用基板。 - 【請求項５】 ピッチが２．０μｍ以下のトラックを有
していることを特徴とする請求項３又は４記載の光学記
録媒体用基板。 - 【請求項６】 請求項３ないし５のいずれかに記載の光
学記録媒体用基板を用いた光学記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10166688A JP2000001608A (ja) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | ポリカーボネート樹脂組成物、並びにこれで形成された光学記録媒体用基板及び光学記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10166688A JP2000001608A (ja) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | ポリカーボネート樹脂組成物、並びにこれで形成された光学記録媒体用基板及び光学記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000001608A true JP2000001608A (ja) | 2000-01-07 |
Family
ID=15835902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10166688A Pending JP2000001608A (ja) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | ポリカーボネート樹脂組成物、並びにこれで形成された光学記録媒体用基板及び光学記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000001608A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002167501A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-06-11 | Teijin Chem Ltd | ポリカーボネート樹脂組成物 |
| US6716510B2 (en) * | 2000-04-27 | 2004-04-06 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Polycarbonate resin for optical disk substrate and optical disk substrate |
| US7122614B2 (en) * | 2002-02-18 | 2006-10-17 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Aromatic polycarbonate resins for optical disk substrates |
| WO2007086226A1 (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-02 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 高品質粒状ビスフェノールａの製造方法 |
| JP2014084428A (ja) * | 2012-10-25 | 2014-05-12 | Kao Corp | ポリカーボネート樹脂用滑剤 |
-
1998
- 1998-06-15 JP JP10166688A patent/JP2000001608A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6716510B2 (en) * | 2000-04-27 | 2004-04-06 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Polycarbonate resin for optical disk substrate and optical disk substrate |
| US7067609B2 (en) | 2000-04-27 | 2006-06-27 | Idemitsu Kosan Co., Ltd | Polycarbonate resin for optical disk substrate and optical disk substrate |
| KR100743340B1 (ko) * | 2000-04-27 | 2007-07-26 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 광학 디스크 기판용 폴리카보네이트 수지 및 광학 디스크기판 |
| JP2002167501A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-06-11 | Teijin Chem Ltd | ポリカーボネート樹脂組成物 |
| JP4685234B2 (ja) * | 2000-12-01 | 2011-05-18 | 帝人化成株式会社 | ポリカーボネート樹脂組成物 |
| US7122614B2 (en) * | 2002-02-18 | 2006-10-17 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Aromatic polycarbonate resins for optical disk substrates |
| WO2007086226A1 (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-02 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 高品質粒状ビスフェノールａの製造方法 |
| JP5421535B2 (ja) * | 2006-01-27 | 2014-02-19 | 出光興産株式会社 | 高品質粒状ビスフェノールａの製造方法 |
| JP2014084428A (ja) * | 2012-10-25 | 2014-05-12 | Kao Corp | ポリカーボネート樹脂用滑剤 |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050111 |