ITMI972207A1

ITMI972207A1 - Procedimento continuo per la produzione di piastre piane in materiale in schiuma e dispositivo per l'esecuzione del procedimento

Info

Publication number: ITMI972207A1
Authority: IT
Inventors: Wolfgang Schumacher; Birgit Urbantke
Original assignee: Siempelkamp Handling Sys Gmbh
Priority date: 1996-10-01
Filing date: 1997-09-29
Publication date: 1999-03-29
Also published as: IT1295239B1; NL1007181C2; DE19741523A1; GB2317848B; NL1007181A1; GB9720610D0; GB2317848A

Description

Descrizione dell'invenzione avente per titolo:

"PROCEDIMENTO CONTINUO PER LA PRODUZIONE DI PIASTRE PIANE IN MATERIALE IN SCHIUMA, E DISPOSITIVO PER L’ESECUZIONE DEL PROCEDIMENTO"

DESCRIZIONE

L'invenzione riguarda un procedimento continuo per la produzione di piastre piane in materiale in schiuma, in particolare di piastre in materiale in schiuma rivestite con strati flessibili di copertura o con lamiere, per cui una miscela di creazione di partenza fluida che forma il materiale in schiuma viene depositata sulla superficie piana di un dispositivo di trasporto, e sul dispositivo di trasporto a forma di una guida di reazione con reazione e quindi con formazione di schiuma viene addotta all'estremità del lato di ingresso di un dispositivo a doppio nastro e viene prelevata dall'estremità del lato di uscita del dispositivo a doppio nastro sotto forma di una piastra finita in materiale in schiuma. L'invenzione riguarda inoltre un dispositivo per l'esecuzione del procedimento secondo l'invenzione. Nell'ambito dell'invenzione, si intende con il materiale in schiuma un materiale provvisto di una struttura in schiuma, il quale è caratterizzato da celle aperte e/o chiuse ripartite sull'intera massa del materiale. Un materiale in schiuma significa in particolare un materiale plastico in schiuma che viene prodotto da polimeri organici, di preferenza poliuretani che possono formare la schiuma. Nell'ambito della produzione di questi materiali plastici in schiuma vengono di preferenza impiegati i componenti di partenza, che polimerizzano in modo da formare i polimeri, i quali vengono uniti ad una sostanza che ne favorisce la dilatazione, i quali si liberano durante la formazione delle schiume mediante evaporazione e reazione chimica sotto forma del cosiddetto gas cellulare e quindi producono la struttura in schiuma. Si intende per una miscela di reazione di partenza nell'ambito dell'invenzione il fatto che in questa miscela la formazione della schiuma non è ancora avvenuta oppure non ancora in modo rilevante. Nell'ambito del procedimento secondo l'invenzione, la formazione della schiuma in questa miscela di reazione di partenza avviene solamente nella guida di reazione trasportata sul dispositivo di trasporto. Durante il trasporto della guida di reazione sul dispositivo di trasporto, aumenta quindi di conseguenza della formazione della schiuma lo spessore della guida di reazione e quindi la sua altezza in senso verticale aumenta continuamente. Nel dispositivo a doppio nastro viene raggiunto lo spessore definitivo della ' piastra finita in materiale in schiuma e sulla estremità del dispositivo a doppio nastro posta sul lato di uscita viene prelevata la piastra di materiale in schiuma completamente finita e indurita. Questi tipi di piastre in materiale in schiuma vengono impiegati in pratica per gli scopi più diversi. Le piastre in materiale in schiuma prodotte nell'ambito del procedimento secondo l'invenzione vengono impiegate di preferenza sotto forma di piastre e di isolamento termico .

Nel procedimento noto in pratica del tipo citato all'inizio e dal quale ha origine l'invenzione, la miscela di reazione di partenza viene depositata in una posizione centrale rispetto alla larghezza del dispositivo di trasporto su dì una zona di deposito che nello stesso tempo è di tipo puntiforme. Il cordolo della miscela della reazione di partenza che si forma in questo modo a metà del dispositivo di trasporto deve venire ripartito a entrambi i lati mediante dei getti di aria che fuoriescono da ugelli di soffiatura come pure mediante rulli di taratura o pattini. L'effetto di distribuzione lascia un po' a desiderare con questi noti interventi, poiché è mediamente difficile e delicato regolare lo spessore della pellicola di schiuma. Inoltre con questo procedimento le zone dei bordi non vengono delimitate con precisione in modo regolare in funzione della larghezza dei prodotti a causa di un impuntamento dello strato di copertura inferiore. Le zone dei bordi sono in effetti realizzate in generale in modo non uniforme per cui a seguito di una successiva rifilatura si forma uno sfrido maggiore. Inoltre, è noto un procedimento per distribuire in modo uniforme una miscela di reazione di partenza di tipo fluido su di un supporto trasportato in modo continuo (EPO 374 558 Bl) nel quale la miscela di reazione di partenza deve venire anch'essa depositata su di una posizione anch'essa puntiforme dell'appoggio e per mezzo di un flusso di aria deve venire distribuita sui lati dell'appoggio. A questo scopo vengono impiegati dei rulli ventilati accoppiati sul lato della trasmissione, il cui diametro diminuisce verso i lati a partire dalla zona di deposizione della miscela.

E' inoltre noto un procedimento per la produzione continua di piastre in materiale in schiuma (DE OS 29 24 183), il quale funziona con una piattaforma di deposizione inclinata in modo decrescente secondo la direzione di trasporto della miscela di reazione di partenza depositata, mentre al di sopra di questa piattaforma di deposizione viene ricavato un dispositivo per la distribuzione in senso trasversale della miscela di reazione di partenza, in particolare con una disposizione di rulli. Con il dispositivo per la distribuzione trasversale si ottiene praticamente una distribuzione della miscela di reazione di partenza al di sopra del dispositivo di trasporto. E' inoltre noto un procedimento (DE OS 3241 520), nel quale la miscela di reazione di partenza viene depositata sul dispositivo di trasporto per mezzo di una testa di miscelazione che si può spostare avanti e indietro in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto e'nel quale con un elemento di limitazione avente una superficie deformabile elasticamente si deve ottenere sopra il dispositivo di trasporto una distribuzione uniforme della miscela di reazione di partenza. Inoltre è noto un dispositivo per l'applicazione di una schiuma di poliuretano su di uno strato di copertura spostato in modo continuo (EP 0553 695), il quale funziona con una pluralità di ugelli di estrazione i quali sono collegati ad una testa di miscelazione che si può spostare in senso trasversale rispetto al dispositivo di trasporto.

In relazione a quanto sopra, alla base dell'invenzione sta il problema tecnico di indicare un procedimento del tipo citato all'inizio per mezzo del quale vengono evitate strutture superficiali non volute e difetti di planarità nella superficie della guida di reazione e nella superficie della piastra in materiale in schiuma, e si ottiene una struttura in schiuma omogenea o una struttura cellulare omogenea della piastra del materiale in schiuma completamente finita.

Per risolvere questo problema tecnico, l'invenzione indica un procedimento continuo per la produzione di piastre piane in materiale in schiuma, per cui una miscela di reazione si partenza di tipo fluido che forma il materiale in schiuma viene depositata in piano su di un dispositivo di trasporto, e viene addotta sul dispositivo di trasporto ed eventualmente sul rivestimento di copertura inferiore quale dispositivo di trasporto sotto forma di una guida di reazione che provoca la reazione e quindi la formazione della schiuma fino all'estremità posta sul lato di ingresso di un dispositivo a doppio nastro e viene prelevata sotto forma di una piastra finita in materiale in schiuma dalla estremità posta sul lato di uscita del dispositivo a doppio nastro, per cui la miscela di reazione di partenza viene depositata in una zona di deposizione del dispositivo di trasporto in modo continuo e praticamente in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto, mentre la guida di reazione che in tal modo si forma presenta delle strutture superficiali che sono funzione dello scopo da ottenere, per cui successivamente la guida di reazione viene sollecitata per la sua intera larghezza e praticamente in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto con dei getti di aria soffiata che incidono sulla superficie della guida di reazione,

con l'indicazione che la superficie della guida di reazione viene deformata a seguito della sollecitazione di aria soffiata e la superficie della guida di reazione ulteriormente spostata nella direzione di trasporto subisce una deformazione di ritorno, per cui la superficie della guida di reazione che presenta una struttura superficiale viene trasformata, in particolare nelle' zone dei bordi, in una superficie liscia della guida di reazione e nello stesso tempo vengono eliminate nella guida di reazione le mancanze di omogeneità che risultano a causa delle inclusioni di aria soffiata,

e nel quale successivamente la guida di reazione viene regolata con precisione in funzione della relativa larghezza del prodotto e viene inserita nel dispositivo a doppio nastro.

Nell'ambito del procedimento secondo l'invenzione, vengono di preferenza prodotte piastre di materiale i schiuma di poliuretano. Quando la miscela di reazione di partenza viene depositata in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto, un dispositivo di applicazione, ad esempio un rastrello di colata, viene spostato avanti e indietro secondo la larghezza del dispositivo di trasporto e quindi avviene nello stesso tempo un movimento oscillante di questo dispositivo di applicazione secondo la larghezza del dispositivo di trasporto. Da ciò risulta una struttura superficiale a forma di striscia della guida di reazione formata la quale presenta delle nervature trasversali nella superficie praticate praticamente in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto. Inoltre nella zona dei punti di inversione del dispositivo di applicazione spostato avanti e indietro si formano in queste zone per effetto del più lungo tempo di permanenza del dispositivo di applicazione degli accumuli della miscela di reazione di partenza sui bordi del dispositivo di trasporto. Di conseguenza si origina una superficie della guida di reazione che presenta una struttura superficiale mediante spessa. Mediante la sollecitazione con aria soffiata secondo l'invenzione della superficie della guida di reazione e per effetto della deformazione che ne risulta e della deformazione di ritorno di questa superficie, si può ottenere in modo sorprendente una spianatura molto buona della superficie della guida di reazione. In tal modo le nervature trasversali e gli addensamenti sui bordi della superficie della guida di reazione, prodotti a seguito della deposizione della miscela di reazione di partenza, possono essere spianati in modo praticamente completo. La deformazione conseguente alla sollecitazione con aria soffiata e la deformazione di ritorno della superficie agisce nello stesso tempo come un effetto di scuotimento a seguito del quale la superficie viene intensamente e completamente mescolata e la miscela di reazione viene distribuita in modo efficace. Secondo l'invenzione è possibile ottenere una spianatura superficiale intensa già senza l'effetto di componenti meccanici aggiuntivi come cilindri, rulli o pattini, e si evitano anche i problemi e le costrizioni legati a questi componenti meccanici, come ad esempio gli arresti non voluti della guida di reazione. Di conseguenza si ottiene una superficie liscia in modo inaspettato della piastra in materiale e schiuma. Questo fatto è vantaggioso soprattutto anche quando la piastra in materiale in schiuma viene rivestita con uno strato di copertura flessibile superiore e con uno strato inferiore, di preferenza ricavato in carta o in un foglio di alluminio, poiché su questi strati di copertura non si possono formare effetti di planarità sulla superficie del prodotto. Grazie all'effetto di scuotimento descritto vengono eliminati o distrutti le inclusioni non volute di bolle d'aria che si verificano durante la deposizione della miscela di reazione di partenza. Questo fatto è in particolar modo sorprendente poiché il tecnico si aspetterebbe che a causa della sollecitazione con aria soffiata si formassero inclusioni aggiuntive non volute di bolle d'aria. I getti di aria soffiata possono però venire regolati in modo tale per cui anche in presenza di una forte sollecitazione con aria soffiata non si verificano sulla superficie della guida di reazione bolle di aria aggiuntive, bensì che viceversa si possono eliminare le inclusioni di aria non volute già formatesi. Per il resto si possono anche ridurre notevolmente, senza l'impiego di un cilindro superiore, i cosiddetti depositi per scorrimento sullo strato limite compreso tra la schiuma e lo strato di copertura superiore. Quando viene impiegato un cilindro superiore è possibile addirittura eliminare del tutto tali depositi di scorrimento per cui sul lato superiore della guida di reazione si forma analogamente un rivestimento morbido. Di conseguenza, per mezzo dell'effetto di scuotimento descritto si ottiene un miglioramento della. struttura in schiuma della struttura cellulare della piastra in materiale in schiuma. A ciò contribuisce inoltre il fatto che mediante l'effetto di scuotimento vengono più o meno intensamente mescolate completamente anche le zone esistenti nella guida di reazione con diverse condizioni di reazione o di formazione della schiuma. Avviene quindi una distribuzione efficace e continua della miscela di reazione sia secondo la direzione del trasporto, sia anche in direzione trasversale alla guida di reazione. Di conseguenza si ottengono con il procedimento secondo l'invenzione delle piastre in materiale in schiuma che presentano una superficie straordinariamente liscia e piana e in particolare presentano anche una struttura in schiuma molto buona in particolare nelle zone dei bordi.

In base ad una forma di esecuzione dell'invenzione, la guida di reazione viene provvista di uno strato di copertura inferiore e di uno strato superiore, e di conseguenza anche la piastra di materiale in schiuma finita presenta uno strato di copertura inferiore ed uno strato di copertura superiore. In questi casi si tratta convenientemente di strati di copertura flessibili in carta o in fogli, di preferenza fogli metallici i quali possono avere'anche una profilatura più o meno accentuata. Di preferenza la miscela di reazione di. partenza in condizioni fluide viene depositata su di uno strato di copertura inferiore che è trascinato insieme sul dispositivo di traspòrto .

Lo strato di copertura inferiore viene convenientemente preriscaldato in modo continuo in un forno di preriscaldamento prima di venire immesso nella zona di distribuzione.

Secondo una forma di esecuzione preferita dell'invenzione, la miscela di reazione di partenza allo stato fluido viene depositata in modo continuo nella zona di deposizione per mezzo di una pluralità di ugelli di deposizione disposti praticamente l'uno dietro l'altro nella direzione di trasporto, per cui la pluralità degli ugelli di distribuzione viene spostata avanti e indietro in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto. Di preferenza è ricavata a questo scopo nell'ambito dell'invenzione un rastrello di colata sotto forma di dispositivo di distribuzione il quale è provvisto di un tubo di distribuzione collegato ad una testa di miscelazione per la miscela di reazione di partenza, ed è disposto praticamente parallelo rispetto alla direzione del trasporto, e sul quale sono ricavati la pluralità degli ugelli di distribuzione rispetti uno di seguito all'altro nella direzione di trasporto. Un rastrello di colata di questo genere costituisce un gruppo di ugelli che funziona in modo affidabile e si può manipolare con semplicità. Fondamentalmente però si possono anche impiegare altri gruppi di ugelli del tipo a ugelli a ventaglio e a spessore sottile. E' determinante il fatto che la miscela in schiuma fluida venga depositata in modo sufficiente sulla superficie. Gli ugelli di distribuzione possono anche essere ricavati sul tubo di distribuzione secondo due o più file parallele l'una rispetto all'altra, ed entrambe le file sono spostate l'una rispetto all'altra secondo un angolo determinato. Come è già stato ricordato in precedenza, il dispositivo di distribuzione all'atto della distribuzione della miscela di reazione di partenza compie un movimento di oscillazione praticamente in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto. Di preferenza è possibile regolare la frequenza di questo movimento di oscillazione.

Secondo una forma di esecuzione preferita del procedimento secondo l'invenzione, alla quale viene assegnata una particolare importanza nell'ambito dell'invenzione, la miscela di reazione di partenza allo stato fluido viene depositata in modo continuo in una zona di deposizione la quale è crescènte secondo la direzione di trasporto. Si comprende che la zona di deposizione è disposta direttamente al di sotto del dispositivo di distribuzione. La zona di deposizione crescente forma nel medesimo tempo un tratto obliquo di scarico per la miscela di reazione di partenza depositata a forma di striscia, per cui le strisce possono contemporaneamente scorrere l'una dentro l'altra lungo il tratto inclinato di scarico e quindi ne risulta una efficace distribuzione preliminare della miscela di reazione e inoltre le zone della miscela che derivano da diverse condizioni di reazione vengono miscelate l'una con l'altra. In questo modo la struttura con nervature trasversali della superficie della guida di reazione, dovuta alla distribuzione viene già in parte spianata nella zona di distribuzione. Per questo motivo viene attribuita una particolare importanza alla combinazione della zona di deposizione crescente da un lato e della sollecitazione con aria soffiata secondo l'invenzione dall'altro. Non ultimo anche per il fatto che lo strato di copertura inferiore viene reso spianato mediante un rullo di rinvio. L'angolo di pendenza del tratto di deposizione crescente rispetto alla direzione di trasporto si può convenientemente regolare ed è compreso ad esempio tra 2 e 5 gradi.

La sollecitazione con aria soffiata della superficie della guida di reazione avviene di preferenza secondo la direzione di trasporto direttamente a valle della zona di deposizione. L'aria soffiata viene in tal caso indirizzata sulla superficie della guida di reazione sotto forma di getti di aria definiti che nello stesso tempo sono fortemente concentrati e focalizzati, e tali getti di aria definiti producono ogni volta singole deformazioni nella superficie della guida di reazione. Nell'ambito del procedimento secondo l'invenzione, si lavora con un dispositivo di soffiatura il quale presenta almeno un tubo per la distribuzione dell'aria soffiata, che è disposto praticamente perpendicolare alla direzione di trasporto e nel senso che l'intera larghezza della guida di reazione, con una pluralità di ugelli per soffiare l'aria. Di preferenza gli ugelli per soffiare l'aria sono disposti nel tubo di distribuzione dell'aria soffiata in modo lineare secondo una fila e con una distanza 3 di ugelli praticamente uguale. La distanza 3 di ugelli di soffiatura dell'aria è convenientemente compresa tra 5 e 40 mm. Il diametro degli ugelli di soffiatura dell'aria è compreso tra 1 mm e 3 mm, in funzione della viscosità della tensione superficiale, della quantità depositata e della velocità di attraversamento dello strato sottile di miscela in schiuma. Rientra anche nell'ambito dell'invenzione il fatto che gli ugelli dell'aria soffiata sono disposti spostati l'uno rispetto all'altro nel tubo di distribuzione dell'aria soffiata secondo una disposizione lineare a due o a tre file. Di preferenza la distanza degli ugelli di soffiatura dell'aria nell'ambito delle zone dei bordi della guida di reazione è inferiore o superiore rispetto ai tratti rimanenti del tubo di distribuzione dell'aria soffiata. Il tubo di distribuzione dell'aria soffiata è convenientemente disposto al di sopra del dispositivo di trasporto, in modo tale per cui la distanza verticale tra gli ugelli di soffiatura dell'aria e la superficie della guida di reazione è compresa tra 8 e 30 mm, e di preferenza è compresa tra 18 e 20 mm. Di preferenza è possibile regolare in modo continuo la distanza verticale tra il tubo di distribuzione dell'aria soffiata e il dispositivo di trasporto. Nell'ambito dell'invenzione, l'aria di soffiatura asciutta viene soffiata alla temperatura ambiente. Rientra però anche nell'ambito dell'invenzione il fatto di preriscaldare o addirittura raffreddare l'aria soffiata in funzione del comportamento di reazione del sistema in schiuma e della temperatura ambiente nella officina di produzione. Mediante il trattamento in temperatura dell'aria soffiata, non si riscontra alcun difetto di funzionamento relativo alla uniformità della struttura in schiuma o della struttura cellulare della piastra in materiale in schiuma. La portata dell'aria soffiata e la pressione dell'aria soffiata vengono regolate in funzione del tipo di miscela di reazione di partenza impiegata e dello spessore della guida di reazione. Di preferenza l'aria soffiata fuoriesce dagli ugelli di soffiatura con una pressione compresa tra 3 e 6 bar.

Secondo una forma di esecuzione preferita dell'invenzione, la guida di reazione viene sollecitata con getti di aria soffiata che incidono praticamente in modo perpendicolare sulla superficie della guida di reazione. Se in questa forma di esecuzione si lavora con un tubo di distribuzione dell'aria soffiata fisso, la portata dell'aria soffiata che fuoriesce dagli ugelli di soffiatura e la pressione dell'aria soffiata vengono regolate in modo tale, per cui nella zona in cui i getti di aria soffiata vengono in contatto con la superficie della guida di reazione si formano delle cavità che si possono anche denominare "punture di aria" e che durante l'ulteriore trasporto della guida di reazione sono soggetti ad una deformazione di ritorno. In questo modo si ottiene una efficace miscelazione completa della miscela di reazione e una spianatura della superficie della guida di reazione. Secondo una forma di esecuzione preferita dell'invenzione, il procedimento viene condotto in modo tale, per cui i getti di aria soffiata vengono prodotti per mezzo di ugelli di soffiatura dell'aria che oscillano in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto. A questo scopo il tubo di distribuzione dell'aria soffiata viene convenientemente realizzato con possibilità di oscillazione in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto. La frequenza di oscillazione è compresa di preferenza in tal caso tra 10 e 50 Hz, in funzione delle caratteristiche fisiche della miscela di schiuma e della velocità di produzione. L'ampiezza dell'oscillazione è compresa convenientemente fra 5 e 15 mm, di preferenza fra 5 e 35 mm. Si intende con ampiezza di oscillazione la massima deviazione del tubo di distribuzione dell'aria soffiata a partire dalla sua posizione di riposo e in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto.

Secondo una forma di esecuzione preferita del procedimento secondo l'invenzione, la guida di reazione viene sollecitata con getti di aria soffiata i quali incidono obliquamente sulla superficie della guida di reazione in senso contrario oppure secondo la loro direzione di trasporto oppure con getti di aria soffiata che incidono verticalmente. L'angolo di soffiatura compreso tra gli ugelli di soffiatura dell'aria posizioni obliqui o i getti di aria soffiata che escono con direzioni obliqua e la regolazione verticale degli ugelli di soffiatura dell'aria o dei getti di aria soffiata, è convenientemente compreso fra /- da 10 a 15°. Nell'ambito del procedimento secondo l'invenzione si lavora a questo scopo convenientemente con un tubo di distribuzione dell'aria soffiata per mezzo del quale si possono regolare diversi angoli di soffiatura β. Mediante la sollecitazione obliqua con getti di aria soffiata sulla superficie della guida di.reazione, si forma anche nella superficie della guida di reazione una onda di accumulo la .quale contribuisce a realizzare una miscelazione completa e distribuzione molto efficace della miscela di reazione. D’altra parte si può anche produrre una tale onda di accumulo, in funzione della distanza tra gli ugelli e la portata dell’aria come pure in funzione delle composizioni delle schiume e della velocità di produzione, con i getti di aria indirizzati verticalmente e con rastrelli fissi di immissione dell'aria con un tubo di distribuzione dell'aria soffiata. In ogni caso la guida di reazione è soggetta successivamente ad una deformazione di ritorno. In questo modo viene ottimizzata la spianatura della superficie della guida di reazione. Mediante l'onda di accumulo vengono in particolare anche trattenute ed eliminate le inclusioni di bolle di aria di grandi dimensioni non volute. Ciò vale in particolar modo nel caso venga impiegato un rastrello di soffiatura dell'aria a due oppure a tre file oppure un tubo per la distribuzione dell'aria soffiata. Si comprende che la sollecitazione con aria soffiata viene indirizzata in modo tale, per cui la miscela di reazione non viene trattenuta e accumulata con una intensità tale per cui essa comincia già all'inizio a reagire. Per le diverse condizioni di produzione {sistema di schiume, densità del prodotto e velocità di produzione) vengono impiegati ogni volta i tipi adatti di rastrelli di distribuzione dell'aria. La portata dell'aria/velocità si può quindi regolare senza difficoltà in modo tale per cui le singole cavità o "punture di aria" hanno il più possibile un contatto con il fondo senza che si originino degli spruzzi di schiuma oppure che si formi una onda fissa troppo elevata e quindi il materiale si accumuli in modo troppo intenso.

E' particolarmente importante nell'ambito dell'invenzione una forma di esecuzione nella quale i getti di aria soffiata vengono prodotti da ugelli di soffiatura dell'aria i quali oscillano in senso trasversale rispetto alla direzione del trasporto. A questo scopo, il tubo di distribuzione dell'aria soffiata o il relativo rastrello di distribuzione dell'aria sono realizzati con possibilità di oscillazione in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto. Nel caso di un tubo di distribuzione oscillante per l'aria soffiata si può procedere con portate di aria notevolmente maggiori rispetto al caso di un singolo tubo fisso di distribuzione dell'aria soffiata. La corsa di oscillazione è di preferenza leggermente maggiore alla distanza degli ugelli di soffiatura dell'aria. La frequenza si può regolare in modo tale per cui -indipendentemente dalla distanza tra gli ugelli di soffiatura dell'aria - non si forma alcun accumulo eccessivo di ritorno con una sufficiente compressione laterale del materiale. I diametri degli ugelli di soffiatura dell'aria sono di preferenza dimensionati e adattati reciprocamente in modo tale, per cui nel caso di un tubo di distributore fisso dell'aria soffiata e di un contatto contro il fondo delle "punture di aria" i bordi delle cavità sono pressoché a contatto. La distanza del tubo di distribuzione dell'aria soffiata dalla guida di reazione oppure dal suo strato di copertura inferiore viene convenientemente scelta in modo tale per cui nelle condizioni trattate in precedenza non si formano spruzzi di schiuma. Per il resto un tubo di distribuzione a più file dell'aria soffiata elimina perfettamente delle bollicine di aria eventualmente presenti sulla superficie della schiuma e meglio di un tubo di distribuzione a fila singola per l'aria di soffiatura. Per raggiungere una regolazione ottimale, è possibile regolare in modo continuo la distanza del tubo di distribuzione dell'aria soffiata dallo strato di copertura inferiore o dalla guida di reazione, la portata dell'aria, la corsa di oscillazione e la frequenza.

Rientra anche nell'ambito dell'invenzione il fatto che il tubo di distribuzione dell'aria soffiata è provvisto di ugelli di soffiatura per l'aria distribuiti sulla sua superficie esterna e che questo tubo di distribuzione dell'aria soffiata ruota intorno al suo asse longitudinale. Di preferenza in tal caso gli ugelli di soffiatura dell'aria sono disposti a forma di una spirale sul tubo di distribuzione dell'aria soffiata. Rientra anche nell'ambito dell'invenzione il fatto di disporre una pluralità di tubo di distribuzione dell'aria soffiata distribuiti secondo la larghezza della guida di reazione, i quali ruotano di preferenza intorno al loro asse longitudinale.

Al fine di poter spianare in modo perfetto gli accumuli che si formano nella zona dei bordi della guida di reazione, secondo l'insegnamento dell'invenzione sono ricavati nella zona dei bordi della guida di reazione dei rastrelli o degli ugelli di distribuzione per l'aria separati, verticali, regolabili in senso orizzontale e con possibilità di inclinazione in senso orizzontale. Non è nemmeno incluso l'impiego di tubi di soffiatura e di ugelli i quali producono getti piani. Si ottengono risultati straordinari con dei corti rastrelli di distribuzione dell'aria poiché con tali rastrelli di distribuzione dell'aria non soltanto è possibile spianare completamente gli accumuli sui bordi, bensì si può ottenere nello stesso tempo una precisa larghezza di deposizione con una formazione rettilinea dei bordi. Inoltre è possibile correggere per mezzo del rastrello di colata la formazione eventuale di "bordi dentati".

Il tecnico può determinare nell'ambito di semplici prove in che modo in relazione al tipo, alla quantità e alle caratteristiche della miscela distribuita di reazione di partenza, dello spessore della guida di reazione e della velocità di trasporto, il numero degli ugelli di soffiatura per l'aria, la distanza tra gli ugelli di soffiatura dell’aria e il diametro degli ugelli di soffiatura dell'aria come pure la portata dell'aria soffiata ed eventualmente l'angolo di soffiatura dei getti di soffiatura dell'aria ed eventualmente la frequenza di oscillazione e l'ampiezza di oscillazione del tubo di distribuzione dell'aria soffiata, al fine di ottenere un effetto ottimale di spianatura come pure un'efficace eliminazione delle bolle di aria. A questo scopo però si rimanda anche agli esempi di esecuzione che verranno ulteriormente descritti nel seguito.

Secondo una forma di esecuzione preferita, e nell'ambito del procedimento secondo l'invenzione viene depositato secondo la direzione del trasporto a monte del dispositivo a doppio nastro uno strato di copertura superiore sulla guida di reazione per mezzo di un rullo di rinvio che può venire regolato in altezza ed è disposto a monte del dispositivo a doppio nastro. Si intende con la possibilità di regolazione in altezza il fatto che è possibile regolare la distanza verticale di questo rullo di rinvio rispetto alla guida di reazione o al dispositivo di trasporto, e precisamente in funzione del comportamento della miscela di reazione nella formazione delle schiume e quindi in funzione dello spessore della guida di reazione. Il procedimento viene condotto di preferenza in modo tale per cui la guida di reazione raggiunge lo strato di copertura superiore guidato sul rullo di rinvio con dal 50% al 75% della sua altezza di salita definitiva. Lo strato flessibile superiore di copertura viene allora poi guidato anch'esso successivamente sulla guida di reazione in modo da appoggiare sulla schiuma che sale e in modo da seguire l'angolo di inclinazione della schiuma. La guida di reazione raggiunge convenientemente all'atto dell'ingresso nel dispositivo a doppio nastro la sua altezza di salita definitiva. Questa forma di esecuzione ha il vantaggio che non sono necessari interventi aggiuntivi per stabilizzare lo strato di copertura superiore, ad esempio mediante dispositivi di abbassamento che agiscono sullo strato di copertura. E' determinante l'abbassamento del rullo superiore o del rullo di rinvio superiore con lo strato di copertura superiore tra il 50% e il 75% dell'altezza di salita. La distanza tra il rullo superiore o il rullo di rinvio e l'ingresso del doppio nastro si ricava allora in modo automatico, e precisamente in funzione dei tempi di relazione della miscela di schiuma e della velocità di produzione. In relazione alla distanza del dispositivo a doppio nastro sono allora eventualmente necessari interventi di stabilizzazione dello strato di copertura superiore. Secondo l'invenzione, il rullo di rinvio produce, per lo strato di copertura superiore e in combinazione con gli interventi di spianatura descritti in precedenza, un ulteriore efficace effetto di spianatura per quanto riguarda la superficie della guida di reazione. In particolare i residui ancora esistenti di inclusioni di bolle d'aria nella guida di reazione e le inclusioni di aria che si originano a causa della normale onda di ritorno della schiuma in salita sullo strato di copertura superiore - per effetto della formazione delle piegature trasversali - vengono eliminati in modo di sicuro funzionamento.

Per risolvere il problema tecnico secondo l'invenzione, l'invenzione indica inoltre un dispositivo secondo la rivendicazione 5 in vigore. Forme di esecuzione preferite di questo dispositivo secondo l'invenzione sono rivendicate nelle rivendicazioni 6 e 7.

Il procedimento secondo l'invenzione verrà descritto nel seguito sulla base di un dispositivo per l'esecuzione del procedimento. In una rappresentazione schematica si ha:

la figura 1 mostra una vista laterale di un dispositivo per l'esecuzione del procedimento secondo l'invenzione,

la figura 2 mostra l'oggetto secondo la figura 1 in una diversa forma di esecuzione,

la figura 3 mostra il particolare A della figura 1 in scala ingrandita,

la figura 4 mostra l'oggetto della figura 3 in una vista in pianta secondo la freccia B,

la figura 5 mostra il particolare C della figura 3 in scala ingrandita,

la figura 6 mostra una vista in pianta dell'oggetto secondo la figura 5 nella direzione della freccia D,

la figura 7 mostra l’oggetto secondo la figura 6 in una diversa forma di esecuzione,

la figura 8 mostra l'oggetto secondo la figura 7 a partire dalla direzione della freccia E,

la figura 9 mostra l’oggetto secondo la figura 5 in una diversa forma di esecuzione,

la figura 10 mostra l'oggetto secondo la figura 9 in una vista in pianta.

Nelle figure 1 e 2 è illustrato un dispositivo per l'esecuzione del procedimento secondo l'invenzione per la produzione di piastre di materiale in schiuma. Il dispositivo comprende un dispositivo di distribuzione 1 per depositare superficialmente una miscela 2 fluida di reazione di partenza che forma il materiale in schiuma su di un dispositivo di trasporto 3 e in una zona di deposizione 4 di questo dispositivo di trasporto 3. Il dispositivo di deposizione 1 presenta un tubo di distribuzione 6 collegato ad una testa di miscelazione 5 per la miscela 2 di reazione di partenza, sul quale tubo di distribuzione 6 sono ricavati una pluralità di ugelli di distribuzione 7 (figura 3) disposti l'uno dietro l'altro secondo la direzione di trasporto. Il dispositivo di distribuzione 1 è realizzato con possibilità di spostamento avanti e indietro insieme alla pluralità degli ugelli di distribuzione 7, in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto f, per cui la miscela di reazione di partenza 1 viene depositata in modo continuo nella zona di distribuzione 4 praticamente in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto f. Questo movimento di oscillazione del dispositivo di distribuzione 1 è evidenziato nella figura 4 per mezzo di una doppia freccia. In tal caso si forma sul dispositivo di trasporto 3 una guida di reazione 8 che reagisce in modo completo e forma la schiuma, e che presenta nella zona di distribuzione 4 inizialmente delle strutture superficiali legate al suo scopo di impiego, in particolare è provvista di nervature trasversali nella superficie della guida di reazione, le quali sono messe in evidenza nella parte superiore della figura 4. La guida di reazione 4 viene addotta alla estremità di un dispositivo a doppio nastro posto sul lato di ingresso e viene prelevata sotto forma di una piastra di materiale in schiuma completamente finita dalla estremità del dispositivo a doppio nastro 10 posto sul lato di uscita .

Il dispositivo secondo l'invenzione è provvisto di un dispositivo di soffiatura 11 per sollecitare con getti di aria soffiata 12 il nastro di reazione trasportato sul dispositivo di trasporto. Secondo una forma di esecuzione preferita nell'invenzione e nell'esempio di esecuzione, il dispositivo di soffiatura 11 presenta un tubo 13 di distribuzione per l'aria soffiata, disposto praticamente perpendicolarmente rispetto alla direzione del trasporto f e secondo l'intera larghezza della guida di reazione 8, con una pluralità di ugelli 14 di soffiatura dell'aria. Gli ugelli 14 di soffiatura .dell'aria sono in tal caso disposti di preferenza in senso lineare secondo una fila e con una distanza praticamente uguale sul tubo 13 di distribuzione dell'aria soffiata. Gli ugelli 14 dell'aria di soffiatura sono indirizzati in modo tale, per cui è possibile sollecitare con questi getti 12 di aria soffiata la superficie 9 della guida di reazione per l'intera larghezza della guida di reazione. La sollecitazione della superficie 9 della guida di reazione eseguita in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto con i getti di aria soffiata avviene secondo l'indicazione che la superficie 9 della guida di reazione viene deformata a seguito della sollecitazione con aria soffiata e la superficie 9 della guida di reazione ulteriormente spostata secondo la direzione di trasporto f subisce successivamente una deformazione di ritorno. In tal modo, la superficie 9 della guida di reazione provvista di una struttura superficiale e provvista delle nervature trasversali viene convertita in una superficie liscia 9 della guida di reazione e nello stesso tempo vengono eliminati i difetti di omogeneità nella guida di reazione f che risultano a causa delle inclusioni di bolle d'aria. Le forme di esecuzione secondo l'invenzione della sollecitazione con aria soffiata verranno descritte con maggior dettaglio nel seguito in relazione alle figure da 5 a 10.

Secondo una forma di esecuzione preferita dell'invenzione e nell'esempio di esecuzione, il dispositivo di trasporto 3 presenta una zona di distribuzione 4 la quale è crescente secondo la direzione del trasporto f, nella quale viene continuamente depositata la miscela 2 di reazione di partenza (figura 3). In questa zona di deposizione 4 crescente, può correre anche all 'indietro la miscela 2 di reazione di partenza la quale viene depositata a forma di una striscia, il che è stato evidenziato nella figura 3, per cui la struttura mediante nervature trasversali dovute al tipo di impiego può essere già preventivamente spianata almeno in parte. Di preferenza e nell'esempio di esecuzione è possibile regolare l'angolo di salita a della zona di distribuzione 4. Convenientemente e nell'esempio di esecuzione si può anche disporre con possibilità di regolazione la distanza verticale del tubo di distribuzione 6 rispetto alla zona di distribuzione 4, il che è stato evidenziato in figura 3 mediante una doppia freccia. Di preferenza e nell'esempio di esecuzione anche la posizione angolare del tubo di distribuzione 6 è stata effettuata in modo regolabile secondo la direzione verticale rispetto al dispositivo di trasporto, il che è stato anche evidenziato mediante una doppia freccia nella figura 3.

Secondo una forma di esecuzione preferita dell'invenzione e nell'esempio di esecuzione, la guida di reazione 8 e quindi anche la piastra finita in materiale in schiuma vengono unite ad uno strato di copertura inferiore 15 ed uno strato superiore di copertura 16. A questo proposito si tratta di strati flessibili di copertura a forma di un foglio metallico. Fondamentalmente, la guida di reazione 8 può formare anche da sola lo strato di copertura inferiore. I due strati di copertura 15 e 16 vengono preriscaldati in un forno di preriscaldamento 17, prima di venire in contatto con la guida di reazione 8. Di preferenza e nell'esempio di esecuzione, la miscela 2 di reazione di partenza viene distribuita sullo strato inferiore di copertura 15 e viene trascinato sul dispositivo di trasporto 3 oppure sotto forma di un dispositivo di trasporto. Nell'esempio di esecuzione secondo le figure 1 e 2, la miscela 2 di reazione di partenza e la guida di reazione 8 vengono trasportati dallo strato di copertura inferiore, che viene guidato per mezzo di adatti rulli o cilindri. Lo strato di copertura inferiore 15 costituisce inoltre in questo caso una componente del dispositivo di trasporto 3. Di preferenza e nell'esempio di esecuzione, lo strato di copertura superiore 16 viene depositato sulla guida di reazione secondo la direzione di trasporto f a monte del dispositivo 10 a doppio nastro per mezzo di un rullo di rinvio 18 che può venire regolato in altezza ed è disposto a monte del dispositivo 10 a doppio nastro. Convenientemente e nell'esempio di esecuzione secondo le figure 1 e 2, il procedimento viene condotto in modo tale per cui la guida di reazione 8 raggiunge con un'altezza compresa tra circa il 50% e il 75% della sua altezza di salita definitiva lo strato di copertura superiore 16 guidato sul rullo di rinvio 18. Secondo una forma di esecuzione preferita dell'invenzione e secondo la figura 1, il rullo di rinvio 18 è disposto con riferimento ad una altezza di salita compresa fra il 50% e il 75% ad una distanza dal dispositivo a doppio nastro che si ricava in base al comportamento di reazione del sistema in schiuma e della velocità di produzione. Gli elementi di stabilizzazione eventualmente necessari sono stati evidenziati nella figura 2 con il numero di riferimento 19. Convenientemente e negli esempi di esecuzione 1 e 2, la guida di reazione ha raggiunto la sua altezza definitiva di salita al lato dell'ingresso nel dispositivo a doppio nastro. Di preferenza in questo caso lo strato di copertura superiore viene spinto a pressione in modo completamente piano contro il nastro superiore del dispositivo a doppio nastro.

Nella figura 4 è stato evidenziato il fatto che la superficie 9a della guida di reazione strutturata in funzione delle condizioni di impiego e provvisto di un profilo con nervature trasversali, viene convertita per mezzo del dispositivo di soffiatura 11 e tramite la sollecitazione con aria soffiata in una superficie liscia 9b della guida di reazione. Inoltre, vengono spianati gli accumuli sui bordi 20 della miscela 2 di reazione di partenza, provocati dalla destinazione di impiego per mezzo della sollecitazione con aria soffiata, il che è stato anche evidenziato in figura 4. Nella zona degli accumuli sui bordi 20 si possono però disporre anche, come è illustrato in figura 4, di distributori aggiuntivi 21 dell'aria soffiata. Rientra anche nell'ambito dell'invenzione il fatto che il tubo 13 di distribuzione dell'aria soffiata presenti nella zona degli accumuli sui bordi 20 e parallelamente alla direzione di trasporto, dei tratti 22 di tubi di distribuzione dell'aria soffiata piegati di preferenza ad angolo secondo la direzione di trasporto, i quali sono stati evidenziati a tratteggio nella figura 4. Mediante questi interventi aggiuntivi è possibile spianare in modo molto efficace e con sicuro funzionamento gli accumuli dei bordi 20. Secondo una forma di esecuzione preferita dell'invenzione e nell'esempio di esecuzione delle figure 5 e 6, la guida di reazione 8 viene sollecitata con getti 12 di aria soffiata i quali incidono praticamente perpendicolarmente sulla superficie 9 della guida di reazione. Si formano in questo modo delle cavità 23 conseguenza della deformazione della superficie 9 della guida di reazione, per cui la miscela di reazióne della superficie 9 della guida di reazione viene distribuita n modo particolarmente efficace, il che è stato evidenziato mediante frecce nelle figure 5 e 6. La figura 5 mostra anche la superficie 9b della guida di reazione la quale ha subito una deformazione di ritorno ed è stata spianata, dopo essere stata ulteriormente trasportata nella direzione di trasporto a valle delle cavità. Si ottiene di conseguenza una miscelazione completa e una distribuzione della miscela di reazione e quindi si ottiene una spianatura efficace della superficie 9 della guida di reazione come anche una eliminazione delle inclusioni 29 non volute di bolle d'aria, il che è stato evidenziato in figura 5. Questo effetto può venire ulteriormente rinforzato quando i getti di aria soffiata che agiscono perpendicolarmente sulla superficie 9 della guida di reazione vengono prodotti per mezzo di ugelli 14 dell'aria soffiata che oscillano in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto. A questo scopo, il tubo 13 di distribuzione dell'aria soffiata viene realizzato con possibilità di spostarsi avanti e indietro o di oscillare praticamente in senso perpendicolare alla direzione di trasporto f, il che è stato evidenziato in figura 4 per mezzo di una doppia freccia. Il dispositivo di soffiatura può in tal caso però essere spostato periodicamente al di sopra della guida di reazione 8 su di un percorso di forma ovale o di forma circolare. Il risultato di questa forma di esecuzione della sollecitazione con aria soffiata è illustrata nelle figure 7 e 8. Nei punti di immersione del movimento avanti e indietro o della oscillazione dei singoli ugelli 14 di soffiatura dell'aria si formano le cavità 23 nella superficie 9 della guida di reazione, e tali cavità 23 sono collegate per mezzo di canali di collegamento 24 a seguito dell'oscillazione del tubo 13 di distribuzione dell'aria soffiata. Mediante questa oscillazione viene rinforzato efficacemente l'effetto descritto della miscelazione completa, della distribuzione e della agitazione.

Secondo un'altra forma di esecuzione preferita dell'invenzione, la quale viene ad avere una particolare importanza nell'ambito dell'invenzione, la guida di reazione 8 viene sollecitata con getti 12 di aria soffiata i quali incidono con direzione obliqua sulla superficie 9 della guida di reazione, in senso contrario alla direzione di trasporto f. In tal caso si forma in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto una onda di accumulo 25 della miscela 2 di reazione di partenza, per cui picchi abbinati delle onde 26 sono formati dai getti incidenti 12 dell'aria soffiata (figura 9, figura 10). Per mezzo di questa onda di accumulo si ottiene una distribuzione molto efficace e una miscelazione della miscela di reazione di partenza, il che è stato evidenziato in figura 9 mediante le frecce nella guida di reazione 8. Le inclusioni 28 non volute di bolle d'aria si frantumano di solito in corrispondenza del passaggio tra le onde, in particolar modo quando viene impiegato un rastrello per la distribuzione dell'aria oppure un tubo .13 di distribuzione dell'aria soffiata provvisto di due o tre pile di ugelli 14 di soffiatura dell'aria. Si può riconoscere nella figura 9 posteriormente all'onda di accumulo 25 secondo la direzione del trasporto f la superficie 9b della guida di reazione spianata e con la deformazione di ritorno. Secondo una forma di esecuzione preferita e nell'esempio di esecuzione secondo la figura 9, gli ugelli 14 per l'aria soffiata sono inoltre provvisti di tubi di prolungamento 27 i quali conducono i getti di aria soffiata direttamente sulla superficie 9 della guida .di reazione. Si evitano in questo modo turbolenze di aria sulla superficie 9 della guida di reazione. Anche nel caso della sollecitazione obliqua dell'aria soffiata sulla superficie 9 della guida di reazione, secondo una forma di esecuzione preferita dell'invenzione i getti 12 di aria soffiata vengono prodotti per mezzo di ugelli 14 di soffiatura dell'aria i quali oscillano in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto, per cui il tubo 13 di distribuzione dell'aria soffiata oscilla con una frequenza di oscillazione prestabilita in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto f. In questa forma di esecuzione, i picchi 26 dell'onda di accumulo 25 si formano nei punti di inversione del movimento di oscillazione dei singoli ugelli 14 di soffiatura dell'aria. Questa forma di esecuzione, che viene ad avere un'importanza del tutto particolare nell'ambito dell'invenzione, è caratterizzata da risultati ottimali sia per quanto riguarda la spianatura della superficie della guida di reazione sia anche con riferimento alla eliminazione delle inclusioni disturbanti 28 delle bolle d'aria.

Nel seguito il procedimento secondo l'invenzione verrà descritto con maggior dettaglio sulla base di esempi di esecuzione:

Esempio di esecuzione 1:

Con il procedimento continuo secondo l'invenzione è stata prodotta una piastra finita di materiale in schiuma con uno spessore di 30 miti, e tale piastra di materiale in schiuma è stata rivestita con uno strato di copertura inferiore e con uno strato di copertura superiore formati da un nastro di carta. IL procedimento secondo l'invenzione è stato eseguito con un dispositivo secondo la figura 1. Lo strato di copertura inferiore è stato addotto al dispositivo a doppio nastro. In una zona di deposizione in salita secondo 5°, la miscela di reazione di partenza è stata distribuita con un dispositivo di distribuzione formato da una testa di miscelazione e da un tubo di distribuzione collegato ad essa e orientato parallelamente al dispositivo di trasporto. La miscela di reazione di partenza era formata da normali componenti di partenza noti al tecnico per la produzione di un materiale in schiuma di poliuretano. Il tempo di solidificazione della miscela di reazione di partenza è stato pari a 29 secondi. Sul tubo di distribuzione erano disposti ugelli di distribuzione con un diametro degli ugelli pari ad 1,4 mm e alla distanza di 5 mm. Il tubo di distribuzione è stato spostato avanti e indietro in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto e nella zona di distribuzione si è formata una guida di reazione avente una larghezza di 1250 mm. La velocità di trasporto della guida di reazione era pari a 7 m/min, e la guida di reazione presentava nella zona di distribuzione e direttamente a valle della zona di distribuzione una superficie strutturata in modo relativamente intenso, per cui in particolare si formavano nella superficie della guida di reazione delle nervature trasversali dovute alla distribuzione. Ad una distanza di circa 350 mm a valle del tubo di distribuzione secondo la direzione di trasporto, era disposto al di sopra del dispositivo di trasporto un tubo di distribuzione di aria soffiata con una lunghezza di 1250 mm perpendicolarmente alla direzione di trasporto. Lo spessore della guida di reazione in coincidenza del tubo di distribuzione dell'aria soffiata era pari all'incirca a 1,5 mm. Il tubo di distribuzione dell'aria soffiata era provvisto di 128 ugelli con la soffiatura dell'aria ad una distanza di 10 mm i quali erano disposti linearmente secondo una singola fila nel tubo di distribuzione dell'aria soffiata e presentavano un diametro dei fori degli ugelli di soffiatura dell'aria pari a 1,2 mm. Gli ugelli di soffiatura dell'aria e il tubo di distribuzione dell'aria soffiata erano posizionati in senso verticale. L'intera portata dell'aria soffiata era pari a circa 850 l/min. Gli ugelli di soffiatura dell'aria erano disposti ad una distanza di 15 mm sulla superficie della guida di reazione. Inoltre, nelle zone dei bordi della guida di reazione era disposti dei rastrelli aggiuntivi di distribuzione dell'aria o distributori dell'aria soffiata i quali si potevano regolare in senso verticale e orizzontale e inclinare in senso orizzontale. Il tubo per la distribuzione dell'aria soffiata è stato spostato avanti e indietro in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto con una frequenza di oscillazione di 23 Hz e con una deviazione massima (ampiezza di oscillazione) di 20 rum. Nella zona di sollecitazione con aria soffiata si poteva rilevare nella superficie della guida di reazione e in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto una ronda di accumulo della miscela di reazione, per cui i picchi di questa onda di accumulo si formavano direttamente a monte dei punti di incidenza dei singoli getti di aria soffiata nella superficie della guida di reazione. A monte del dispositivo a doppio nastro era disposto un rullo di rinvio per applicare lo strato di copertura superiore alla guida di reazione, il quale rullo di rinvio presentava una distanza di 1450 mm rispetto al tubo di distribuzione del dispositivo ed era disposto ad un'altezza di circa 25 mm al di sopra dello strato di copertura inferiore. La guida di reazione aveva raggiunto il rullo di rinvio a circa il 75% della sua altezza di salita, ossia a circa il 75% dello spessore della guida di reazione dopo l'avvenuta reazione e circa 5 secondi prima che venisse raggiunto il tempo di solidificazione.

Esempio di esecuzione 2:

Con il procedimento secondo l'invenzione, è stata prodotta una piastra di un materiale in schiuma con uno spessore di 60 mm e con uno strato di copertura superiore e inferiore in un foglio di alluminio. Il procedimento è stato condotto praticamente come nell'esempio di esecuzione 1. Per il resto, la velocità di trasporto della guida di reazione sul dispositivo di trasporto era pari a 5,5 metri/min. Inoltre gli ugelli di soffiatura per l'aria avevano nel tubo di distribuzione dell'aria soffiata una distanza 3 di ugelli di 5 mm, e l'aria soffiata è stata indirizzata sulla superficie della guida di reazione con una portata di 1150 l/min.

Le piastre in materiale in schiuma terminate, prelevate in relazione agli esempi di esecuzione 1 e 2 dalla estremità del dispositivo a doppio nastro posta sul lato di scarico presentavano una superficie straordinariamente liscia e nello strato superiore di copertura in carta non è stato possibile riscontrare alcun tipo di difetti di planarità disturbanti. Tagliando le piastre in materiale in schiuma in diverse posizioni si è potuto riscontrare una struttura in schiuma molto omogenea e in essa non potevano rilevare inclusioni non volute di bolle d'aria.

Di conseguenza si ottiene con il tubo di distribuzione dell'aria soffiata e con il rastrello di distruzione per l'aria una migliore distribuzione, una migliore spianatura delle superfici e una riduzione delle bolle quando la miscela di schiuma liquida viene distribuita a monte dell'ingresso del doppio nastro. Con l'impiego ulteriore di brevi rastrelli regolabili d distribuzione dell'aria nella zona dei bordi della guida di reazione è possibile spianare, in particolare nel caso di piastre sottili in materiale in schiuma, l'addensamento sui bordi prodotto dalla deposizione della schiuma. Inoltre i bordi esterni della guida di reazione o della guida in schiuma possono venire tirati in modo da essere rettilinei e possono essere regolati con precisione in funzione della limitazione laterale. Si ottiene in questo modo anche una migliore struttura cellulare nella zona dei bordi, è necessaria una minore larghezza per la rifilatura e si produce una quantità minore di sfridi. E' possibile anche ridurre per mezzo del tubo di distribuzione dell'aria soffiata persino i depositi di scorrimento sullo strato superiore di copertura e si possono addirittura eliminare completamente per mezzo del rullo superiore o del rullo di rinvio impiegati in aggiunta.

Claims

RIVENDICAZIONI 1. - Procedimento continuo per la produzione di piastre piane in materiale in schiuma, in particolare di piastre in materiale in schiuma rivestite con strati di copertura, nel quale una miscela di reazione di partenza che può essere resa liquida e che forma il materiale in schiuma viene depositata in superficie su di un dispositivo di trasporto e sul dispositivo di trasporto viene addotta sotto forma di una guida di reazione la quale reagisce completamente e quindi forma la schiuma fino all'estremità di un dispositivo a nastro doppio posta sul lato di ingresso, e viene prelevata sotto forma di una piastra in materiale in schiuma terminata dall'estremità del dispositivo a doppio nastro posta sul lato dello scarico, per cui la miscela di reazione di partenza viene depositata in modo continuo in una zona di distribuzione del dispositivo di trasporto praticamente in direzione trasversale rispetto alla direzione di trasporto, per cui la guida di reazione che si forma in tal modo presenta delle strutture superficiali dovute al tipo di distribuzione, mentre successivamente la guida di reazione viene sollecitata per l'intera sua larghezza e praticamente in senso trasversale rispetto alla direzione del trasporto, con getti di aria soffiata i quali incidono sulla superficie della guida di reazione, con l'indicazione che la superficie della guida di reazione viene deformata a seguito della sollecitazione con l’aria soffiata, e la superficie della guida di reazione che viene ulteriormente spostata nella direzione di trasporto subisce una deformazione di ritorno, per cui la superficie della guida di reazione che presenta una struttura superficiale viene trasformata in una superficie liscia della guida di reazione e nel medesimo tempo vengono eliminati nella guida di reazione i difetti di omogeneità che risultano a causa delle inclusioni di bolle d'aria, e nel quale successivamente la guida di reazione viene inserita nel dispositivo a doppio nastro . 2. - Procedimento secondo la rivendicazione 1, nel quale la miscela di reazione di partenza resa liquida viene distribuita in modo oscillante e continuo in una zona di distribuzione la quale è crescente secondo la direzione del trasporto e in base alla larghezza della guida di reazione. 3. - Procedimento secondo una delle rivendicazioni 1 o 2, nel quale i getti di aria soffiata vengono prodotti attraverso ugelli di soffiatura i quali oscillano in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto. 4. - Procedimento secondo una delle rivendicazioni da 1 a 3, nel quale nella direzione di trasporto a monte del dispositivo a nastro doppio viene applicato sul nastro sulla guida di reazione uno strato di copertura superiore per mezzo di un rullo di rinvio, che può venire regolato in altezza ed è disposto a monte del dispositivo a nastro doppio, per un tratto compreso tra il 50% e il 75% della altezza di salita. 5. - Dispositivo del procedimento secondo una delle rivendicazioni da 1 a 4, con un dispositivo di distribuzione (1) per distribuire la miscela (2) di reazione di partenza è resa liquida, un dispositivo di trasporto (3) con una zona di distribuzione (4) per la miscela (2) di reazione di partenza, un dispositivo di soffiatura (11) per sollecitare con getti di aria soffiata (12) la guida di reazione (8) trasportata sul dispositivo di trasporto (3), un dispositivo a doppio nastro (10) per comprimere la piastra in materiale e schiuma appena terminata, per cui il dispositivo di distribuzione (1) presenta una pluralità di ugelli di distribuzione (7) disposti praticamente l'uno di seguito all'altro secondo la direzione di trasporto, mentre il dispositivo di distribuzione (1) viene realizzato in modo da potersi spostare avanti e indietro insieme alla pluralità degli ugelli di distribuzione (7) e in sensi trasversale rispetto alla direzione di trasporto, mentre il dispositivo di soffiatura (11) presenta una pluralità di ugelli (14) di soffiatura per l'aria disposti in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto, mentre gli ugelli (14) di soffiatura per l'aria sono posizionati in modo tale, per cui la superficie (9) della guida di reazione può venire sollecitata con i getti (12) di aria soffiata nel senso della larghezza della guida di reazione (8). 6. - Dispositivo secondo la rivendicazione 5, nel quale il dispositivo di trasporto (3) presenta una zona di distribuzione (4) la quale è di altezza crescente secondo la direzione di trasporto . 7. - Dispositivo secondo una delle rivendicazioni 5 o 6, nel quale il dispositivo di soffiatura (11) viene realizzato con possibilità di oscillazione in senso trasversale rispetto alla direzione di trasporto. 8. - Dispositivo secondo una delle rivendicazioni da 5 a 7, caratterizzato dal fatto, che la portata dell'aria, la corsa di oscillazione, la frequenza e la distanza del dispositivo di soffiatura (11) dalla guida di reazione (8) possono venire regolati in modo continuo. 9. - Dispositivo secondo una delle rivendicazioni da 5 a 8, caratterizzato dal fatto, che il tubo (13) di distribuzione dell'aria soffiata presenta una o più file di ugelli per la soffiatura dell'aria e di ugelli (14) di soffiatura dell'aria sono disposti in senso verticale oppure secondo un angolo prestabilito fino a 30° secondo la direzione o in senso contrario alla direzione di trasporto o di produzione. 10. - Dispositivo secondo una delle rivendicazioni da 5 a 9, caratterizzato dal fatto, che nelle zone dei bordi della guida di reazione (8) sono disposti distributori (21) di aria soffiata, ad esempio rastrelli di distribuzione dell'aria, ugelli di distribuzione dell'aria o simili, i quali si possono regolare in senso orizzontale e verticale e si possono orientare in un piano orizzontale.