ITMI951836A1 - Componente ottico e procedimento per il suo rivestimento - Google Patents
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Abstract
E' descritto un componente ottico con un substrato portante e su di esso un rivestimento, ove la superficie del substrato è costituita da un materiale con indice di rifrazione dato e, non rivestita, presenta prime caratteristiche meccaniche e/o chimiche, la superficie non rivolta verso il substrato del rivestimento presenta seconde caratteristiche meccaniche e/o chimiche, devianti dalle prime, caratterizzato dal fatto che l'indice di rifrazione, a partire da quello dato del materiale della superficie del substrato, varia senza discontinuità fino al valore dell'indice di rifrazione finale della superficie del rivestimento. E' pure descritto un procedimento per l'applicazione del rivestimento.
Description
DESCRIZIONE dell'invenzione industriale dal titolo:
"COMPONENTE OTTICO E PROCEDIMENTO PER IL SUO RIVESTIMENTO"
TESTO DELLA DESCRIZIONE
La presente invenzione riguarda un componente ottico secondo il preambolo della rivendicazione 1 e un procedimento per il rivestimento di un substrato ottico secondo il preambolo della rivendicazione 9.
Definizioni :
- Come atmosfera di processo viene intesa di seguito la composizione dell'atmosfera in cui ha luogo la polimerizzazione al plasma.
- Come parametri di processo vengono intese grandezze come pressione totale nell'ambiente di processo, intensità di campo magnetico, potenza ad A.F. ecc.
I componenti rivestiti, nei quali vengono modificate caratteristiche meccaniche e/o chimiche della superficie del substrato mediante l'applicazione del rivestimento, sono da tempo noti. Come caratteristiche meccaniche e chimiche vengono intese caratteristiche come le caratteristiche di usura meccanica, caratteristiche di usura o di corrosione chimica, caratteristiche di adesione, comportamento in merito alla diffusione, bagnabilità, ecc.
Sono inoltre anche noti componenti ottici, nei quali un rivestimento varia le caratteristiche meccaniche e/o chimiche della superficie di appoggio, su cui viene deposto il rivestimento, sia che il rivestimento considerato venga deposto direttamente sul substrato o su un ulteriore rivestimento posto al di sotto; il corpo di appoggio per il rivestimento viene chiamato di seguito genericamente "substrato".
Un rivestimento di protezione dall'usura meccanica di vetri ottici di materiale plastico con vernici viene applicato oggi in larga misura nella generazione di substrati di materiale plastico piani nonché nella tecnica oftalmica. Vengono impiegate vernici con indici di rifrazione differenti.
Procedimenti per la generazione di strati resistenti all'usura meccanica e chimica su substrati differenti per mezzo di polimerizzazione al plasma sono anche noti già da lungo tempo. Con polimerizzazione al plasma, viene intesa in generale la formazione di strati dal vapore di monomeri organici o metallorganici in una scarica al plasma. Riguardo a tali procedimenti di rivestimento si può rimandare a R.D. Agostino, "Plasma deposition treatment and etching of polymers"; Academic Press, 1989, ISBN 0-12-200430-2, e a H. v. Bohning, "Plasma Science and technology", Cornell University Press, 1982, ISBN 0-8014-1356-7.
Dal brevetto EP-0177517 e dalla relazione finale IKV "Plasmapolymerisation" di K. Telgenbuscher, J. Leiber, 19.5.1993, Institut fiir Kunststoffverarbeitung, Aachen, sono noti procedimenti che mediante variazione di singoli parametri del rivestimento, come la potenza, o l'atmosfera di processo, come mediante aggiunta ritardata di ossigeno, raggiungono una buona adesione degli strati con contemporanea elevata resistenza all'usura. In questo caso come monomeri contenenti metallo vengono impiegati esclusivamente organili contenenti silicio, e mediante le variazioni menzionate si tende ad una variazione delle caratteristiche meccaniche.
Per esempio la formazione di strati viene comandata in modo tale che essa cominci con uno strato adesivizzante morbido, adattato ad un substrato anch'esso morbido, il che viene ottenuto in una atmosfera di processo che contiene un composto metal lorganico contenente silicio senza aggiunta di ossigeno.
Successivamente il flusso di ossigeno viene aumentato a scalini o continuamente, per cui il quoziente Si/02 nello strato aumenta, cosa che provoca un aumento della durezza dello strato e quindi della resistenza all'usura meccanica.
Se lo strato conclusivo con un elevato contenuto di ossigeno dell'atmosfera di processo viene applicato sufficientemente spesso, si può ottenere una buona protezione dall'usura meccanica di un substrato di materiale plastico.
Per quanto riguarda la deposizione di Ti02 o strati contenenti Ti02 per mezzo di polimerizzazione al plasma si rimanda inoltre a diverse ricerche di base, come H.J. Frenck, W. Kulisch u.a., Thin Solid Films, 201 (1991) 327-335; J.P. Barker, P.J. Radcliff u.a., Proceedings of llth International Symposium of Plasma Chemistry, 22-27 Agosto (1993) 1154-1159, ISBN 0952214938.
In linea di principio è inoltre noto munire substrati di materiale plastico per scopi oftalmici, come per lenti, di uno strato di protezione dall'usura. Un materiale plastico impiegato spesso nella pratica per scopi oftalmici è la plastica relativamente leggera CR-39 con buone caratteristiche ottiche. Il suo indice di rifrazione ammonta a 1,5.
In questo caso si riveste solitamente con uno strato di protezione dall'usura di materiali organici al silicio, con un indice di rifrazione di circa 1,5.
Sul componente così rivestito non si ottengono così brusche variazioni dell'indice di rifrazione, quindi nessun fenomeno di interferenza di disturbo e ripercussioni sulla trasmissione, attribuibili ad un problema di brusca variazione dell'indice.
Si rimanda alle seguenti ulteriori pubblicazioni:
- EP, A, 00451618 (HONEYWELL), 16 Ottobre 1991 confrontare colonna 8, righe 55-58 e colonna 9, righe 1-20 confrontare figure 15-16B
- SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY, Bd. 59, No. 1-3 Ottobre 1993; pagg. 365-370
POLL ET AL "Optical Properties of Plasma Polymer Films" confrontare l'intero documento
- US,A, 5.217.749 (DENTON ET AL) 8 Giugno 1993
confrontare l'intero documento
- US,A, 4.176.208 (MORAVEC ET AL) 27 Novembre 1979 confrontare 1'intero documento
- US,A, 4.934.788 (SOUTHWELL) 19 Giugno 1990
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- APPLIED PHYSICS LETTERS, Bd. 60, Nr. 21, 25 Maggio 1992, NEW YORK US, pagg. 2595-2597
TOBIN ET AL "Effects of Deposition Parameters on thè Refractive Index in Plasma Polymerized Methyl Methacrylate Film" confrontare l'intero documento
- US,A, 5.154.978 (NAKAYAMA ET AL) 13 Ottobre 1992 confrontare l'intero documento
- PROCEEDINGS OF THE SPIE, Bd. 50, 19 Agosto 1974,
San Diego, California, USA; pagg. 229-237
HOLLAHAN ET AL, "Moisture resistant and Anti-Reflection Optical Coatings Produced by Plasma Polymerization of Organic Compounds"
confrontare l'intero documento
- WO,A, 85/04601 (ROBERT BOSCH) 24 Ottobre 1985 confrontare l'intero documento
In effetti l'impiego di substrati con rifrazione più elevata sarebbe estremamente desiderato grazie allo spessore di substrato minore, però a causa della discontinuità dell'indice sugli strati di protezione dall'usura menzionati si manifestano disturbi di interferenza aumentati e ripercussioni sulla trasmissione.
Uno svantaggio sostanziale degli elementi costruttivi ottici rivestiti in modo simile è il fatto che a causa dell'applicazione del rivestimento, come uno strato di protezione dall'usura, avvengono variazioni brusche dell'indice di rifrazione. Perciò vengono modificate anche caratteristiche ottiche dell'elemento risultante a causa di un rivestimento che avrebbe in realtà soltanto come scopo di modificare altre caratteristiche, come le caratteristiche meccaniche e/o chimiche menzionate.
E<1 >compito della presente invenzione realizzare un componente ottico e un procedimento per la sua produzione del tipo menzionato all'inizio, in cui il rivestimento modifichi miratamente ed esclusivamente quelle caratteristiche per cui esso è anche previsto, quindi per esempio le caratteristiche di usura meccaniche o chimiche, il comportamento all'adesione, il comportamento alla corrosione, e il comportamento alla diffusione ecc .
Questo viene risolto nel componente ottico menzionato mediante la sua esecuzione secondo la parte caratterizzante della rivendicazione 1.
Un procedimento di rivestimento secondo l'invenzione per substrati ottici del tipo menzionato precedentemente è contraddistinto inoltre dalla parte caratterizzante della rivendicazione 9.
Varianti di esecuzione preferite del componente secondo l'invenzione nonché del procedimento secondo l'invenzione sono specificate nelle rivendicazioni rispettivamente da 2 a 8 e da 10 a 17.
L'invenzione viene illustrata qui di seguito esemplificativamente con l'aiuto di figure ed esempi.
La figura 1 mostra una rappresentazione schematica di un impianto di polimerizzazione al plasma noto, secondo il brevetto EP-0550003 (US-A-5 .310.607), e fatto funzionare secondo il brevetto DE-A-3931713 (US-A-5 .227.202 ). Questi testi vengono spiegati, da un lato dal punto di vista della struttura di un impianto di polimerizzazione al plasma preferibilmente impiegato, e dall'altro lato dal punto di vista del suo funzionamento, come parte integrante della presente invenzione;
la figura 2 mostra qualitativamente sull'asse dei tempi la conduzione dell'atmosfera di processo per un rivestimento di protezione dall'usura noto di lenti di materiale plastico con l'indice di rifrazione
la figura 3 mostra in una rappresentazione analoga alla figura 2 un ciclo di processo secondo l'invenzione per substrati con
la figura 4 mostra nel senso dello spessore di strato in un componente ottico secondo l'invenzione, realizzato secondo il procedimento secondo l'invenzione, l'andamento dell'indice di rifrazione nonché della rispettiva durezza, realizzato mediante conduzione del processo secondo l'esempio 2 oppure 3.
La figura 1 mostra schematicamente il concetto dell'impianto di polimerizzazione al plasma noto, oggi preferibilmente impiegato per l'esecuzione del procedimento secondo l'invenzione, del tipo PPV 100, PPV 500 o PPV 1000 della Balzers AG.
Il vano di processo 1 è eseguito a forma di anello, la sua parete interna viene formata dalla prima disposizione di elettrodo 3, la sua parete esterna dalla seconda, 4. Nel vano di processo 1 viene eseguita una scarica al plasma a RF preferibilmente a 13,56 MHz. La scarica è distribuita ottimalmente uniformemente nell'intero vano di processo 1 di forma anulare. Al centro del vano di processo 1 è previsto un supporto di substrato 5 di forma anulare, sul quale vengono supportati substrati 7 sul bordo e il quale ruota lentamente nel vano di processo 1. Perciò, come è illustrato nei brevetti EP-0550003 (US-A-5.310. 607) e DE-3931713 ( US-A-5 . 227 . 202 ) , senza considerare zone di ritenuta del supporto di substrato sui substrati, viene assicurato un rivestimento di polimerizzazione al plasma da tutti i lati contemporaneo e uguale.
L'atmosfera di processo nel vano di processo 1 viene data mediante immissione di gas opportuni o miscele di gas attraverso una disposizione di immissione di gas 9. Bobine 11 generano nel vano di processo 1 un campo magnetico B sostanzialmente parallelo all'asse centrale A dell'impianto.
Con G è rappresentato schematicamente, con uscita comandabile, un serbatoio di gas, con M un serbatoio di monomero, per comandare o regolare nello spazio di processo la composizione dell'atmosfera di processo di volta in volta desiderata. Preferibilmente, in modo noto, viene sorvegliata e regolata la conduzione del processo.
Nella seguente tabella I sono riassunti i dati caratteristici dei due impianti secondo la figura 1, impiegati negli esempi seguenti.
TABELLA I
Nella tabella II sono riassunte sette atmosfere di processo regolabili nell'impianto PPV 100, con rispettivi parametri di funzionamento dell'impianto, e gli indici di rifrazione in questo caso risultanti degli strati generati mediante la polimerizzazione al plasma. Questo "ricettario" mostra, fondamentalmente, cosa e come vengono ottenute variazioni finemente scalate dell'indice di rifrazione dello strato deposto mediante variazione dell'atmosfera di processo e/o dei parametri di processo.
TABELLA II
Potenza e flusso riferiti alla rispettiva superficie di elettrodo.
In questo caso:
- M1: Dimetildietossisilano,
- M2 : Toluolo,
- M3: Isopropilato di titanio (IV),
RG : O2
Queste indicazioni vengono mantenute anche negli ulteriori esempi. Però, come è riportato di seguito, possono venire impiegati anche altri gas e/o monomeri.
In linea di principio vengono impiegati preferibilmente monomeri che presentano una sufficiente stabilità e una pressione di vapore relativamente elevata, hanno inoltre una ridotta tossicità, sono generalmente disponibili e sono relativamente economici. In linea di principio, per l'esecuzione del procedimento secondo l'invenzione, come monomeri si considerano:
- sostanze di partenza puramente organiche: alcani, alcheni, alchini, alcoli, animine, chetoni, composti ciclici o aciclici nonché composti ciclici aromatici, nonché
- composti metallorganici, in questo caso specialmente composti di silicio e di titanio con le seguenti strutture:
come per esempio
ove R è un radicale organico qualsiasi. Singoli o più radicali organici possono venire sostituiti mediante atomi di idrogeno, ad un atomo di metallo possono essere legati radicali organici qualsiasi differenti e/o atomi di idrogeno.
Le regolazioni di conduzione di processo rappresentate esemplificativamente con i numeri da 1 a 7 nella tabella II danno come risultato gli indici di rifrazione nD corrispondentemente elencati, cosicché a scelta ed eventualmente interpolati a seconda del profilo da impostare dell'indice di rifrazione, viene effettuata la regolazione del processo durante la formazione dello strato.
Come è stato menzionato, il procedimento secondo l'invenzione non è limitato all'impiego dei monomeri da
riportati nella tabella II, o dell'ivi riportato gas reagente RG, bensì possono venire impiegate altre sostanze di partenza, con cui qualsiasi indice di rifrazione possa venire regolato fra 1,4 e 2,2, ma in particolare fra 1,45 e 2. Se necessario, oltre ai monomeri in fase gassosa, possono venire aggiunti uno o più gas, come in particolare ossigeno o azoto, all'atmosfera di processo. Prove sui corpi di materiale plastico rivestiti descritti nel seguito
1. Caratteristiche ottiche
1.1. Trasmissione
E' stata misurata la trasmissione per luce di prova con la lunghezza d'onda =550 nm.
In questo caso si deve tenere conto di quanto segue: la riflessione di un corpo omogeneo con incidenza di luce di 90° in aria è data dalla brusca variazione dell'indice di rifrazione nD alla superficie del corpo.
Se un corpo è rivestito e presenta inoltre per effetto delle brusche variazioni dell'indice di rifrazione su superfici di transizione di riferimento una trasmissione ridotta, allora la riflessione risultante è maggiore di quanto è dovuto soltanto alle condizioni alla superficie limite rivestimento/aria.
Ciò significa, per la presente invenzione, che:
Tanto minori sono le brusche variazioni dell'indice di rifrazione lungo l ' ingresso del raggio di luce di prova attraverso rivestimento e substrato , tanto più vicina è la trasmissione misurata a quella che è data soltanto dall ' indice di rifrazione sulla superficie del rivestimento.
1.2 Anelli di Newton
Quando sul corpo rivestito su superfici di transizione del rivestimento si manifestano discontinuità dell'indice di rifrazione, allora risultano, osservando il corpo visualmente, disegni di anelli colorati, cosiddetti anelli di Newton, sulla base di fenomeni di interferenza.
2. Prova di resistenza meccanica
E' stata impiegata la prova della gomma da cancellare corrispondentemente rispettivamente a DIN 58196-4- e ISO 92311-4, MIL 657.
Esempio 1: (Stato della tecnica)
Con un impianto PPV 1000 è stato applicato su un substrato di materiale plastico CR 39 uno strato di protezione dall'usura. L'indice di rifrazione di CR 39 ammonta a 1,5. Nella tabella III sono rappresentati i parametri di rivestimento e la loro sequenza temporale.
TABELLA III
In questo caso sono impiegate le seguenti dimensioni come anche nei successivi esempi:
Durata temporale sec
Pressione: 10<-2>mbar
Campo magnetico: mT
Potenza HF P: mW/cm<2 >di superficie di elettrodo Flussi: 10<-3>sccm/cm<2 >di superficie di elettrodo Tempo dì salita della rampa: sec
Le prove ottiche sui substrati CR 39 rivestiti hanno dato come risultato un'elevata trasmissione del 92%, e nessun anello di Newton. Nella prova della gomma per cancellare non è risultato alcun danneggiamento dei substrati rivestiti, invece un evidente danneggiamento del substrato CR 39 non rivestito a causa di tracce di cancellazione.
Notoriamente l'indice di rifrazione di strati di protezione dall'usura organici al silicio è circa 1,5, quindi uguale a quello di CR 39.
Perciò alla transizione strato/aria risulta una riflessione dell' 8%, e la trasmissione misurata del 92% mostra l'andamento dell'indice 1,5 continuamente costante attraverso substrato e strato di protezione dall'usura. Questo corrisponde a quanto esposto introduttivamente riguardo ai substrati di CR 39 con protezione di rivestimento dall'usura organiche al silicio. In effetti vengono impiegati anche substrati con indice di rifrazione più elevato del tipo successivamente descritto, con per esempio nD > 1,6, poiché tali substrati di lente sono più sottili e più leggeri, ma per questi vanno messi in conto una trasmissione minore e disturbi di interferenza a causa della discontinuità dell'indice substrato/rivestimento. Poiché infatti i substrati con indici di rifrazione più elevati sono più morbidi, è praticamente obbligatorio un rivestimento di protezione dall'usura per substrati con indice di rifrazione più elevato, come qui di seguito per substrati HI.
L'andamento temporale del processo di rivestimento è rappresentato in figura 2, corrispondentemente alla tabella III. Esempio 2: (Esempio dell'invenzione)
Sono stati quindi rivestiti, nuovamente con un impianto di polimerizzazione al plasma PPV 1000, substrati di materiale plastico HI con un indice di rifrazione più elevato, cioè con nD = 1,6, con lo strato di protezione dall'usura secondo l'esempio 1. I parametri di rivestimento a tal scopo sono riassunti nella tabella IV.
TABELLA IV
In figura 4, sullo spessore del rivestimento indicato qualitativamente, è rappresentato l’andamento dell'indice di rifrazione degli esempi 1 e 2 e la rispettiva durezza. Per ragioni di visibilità lo strato di aderenza e di adattamento, a confronto con lo strato di protezione duro o di protezione dall'usura, è rappresentato notevolmente più spesso.
Come è riconoscibile dalla figura 2 e dalla tabella III, in questo caso l'esempio 1 non presenta alcuno strato di adattamento. L’indice di rifrazione dell'esempio 1, rappresentato tratteggiato, è, a partire dal substrato, costantemente 1,5 attraverso il rivestimento di protezione dall'usura.
Grazie allo strato di adattamento nell'esempio 2 l'indice del substrato HI di 1,6 viene adattato continuamente all’indice di rifrazione 1,5 dello strato di protezione dall'usura. La trasmissione misurata è nuovamente il 92%, cosa che mostra che nonostante le differenze di indice substrato/strato di protezione dall'usura, non si manifesta alcuna riflessione rivolta verso l'aria attraverso lo strato di protezione dall'usura con nD=l,5. Osservando i substrati rivestiti non sono inoltre riconoscibili anelli di Newton.
A loro volta i substrati rivestiti sono stati sottoposti alle prove meccaniche menzionate: non sono stati determinati danneggiamenti dello strato a causa di tracce di cancellazione, a differenza di significativi danneggiamenti della superficie di substrato HI alla prova della gomma per cancellare.
Esempio 3 :
Corpi di lente di materiale plastico HI con un indice di rifrazione sono stati rivestiti come nell'esempio 2; al posto di è stato impiegato nell'adattamento dell'indice.
A loro volta le lenti rivestite a protezione dall'usura erano altamente trasparenti, cioè la trasmissione era nuovamente il 92%, con un indice finale del rivestimento di protezione dall'usura Per quanto riguarda gli anelli di Newton e le prove meccaniche, i risultati erano come nell'esempio 2.
In linea di principio è sostanziale per l'adattamento dell'indice di substrati con indici di rifrazione più elevato, realizzare su strati con indice di rifrazione minore l'adattamento di indice nel modulo di strato di adattamento mediante contemporanea riduzione della parte di quel monomero, che dà come risultato materiali di strato con indice di rifrazione più elevato nella polimerizzazione al plasma e aumento di quello che dà come risultato un indice di rifrazione minore.
Esempio 4:
I substrati rivestiti secondo gli esempi 2 e 3, sono stati muniti quindi di un ulteriore modulo di strato.
E' stato ulteriormente innalzato il rapporto ossigeno/dimetildietossisilano (M1) e infine il processo è stato condotto all'infinito con un rapporto ossigeno/dimetildietossilano di almeno 5. Con ciò è stato applicato sul rivestimento di protezione dall'usura secondo gli esempi rispettivamente 2 e 3 uno strato adesivizzante, quindi è stato applicato per evaporazione un rivestimento antiriflesso sotto forma di un sistema di strati antiriflesso a banda larga a quattro strati di Si02, T1O2. Esso non ha mostrato in alcun caso distacchi sia nella nota prova di quadrettatura del nastro sia anche nella prova di cottura in acqua salata.
Mediante il procedimento secondo l'invenzione viene ottenuto un vantaggio sostanziale anche per il fatto che substrati differenti possono venire rivestiti mediante conduzioni del processo di rivestimento differenti in modo tale che la superficie del rivestimento presenti infine le stesse caratteristiche. Queste possono essere caratteristiche meccaniche, chimiche oppure ottiche.
Per il fatto che substrati differenti grazie al rivestimento ottengono uguali caratteristiche superficiali, diviene possibile ritrattarli ulteriormente tutti in modo uguale.
Il procedimento proposto è adatto in particolare per il rivestimento di lenti di materiale plastico ottiche. In questo caso corpi di lente o substrati di lente possono venire dotati di indici di rifrazione differenti con uno strato di protezione dall'usura, ove l'indice di rifrazione viene portato senza discontinuità dal rispettivo indice del substrato ad un indice finale uniforme. Cosi, in un procedimento di rivestimento antiriflesso successivo, lenti con materiali di substrati atticamente differenti possono venire rese congiuntamente antiriflesso, per cui può venire realizzata una migliore distribuzione del carico di lavoro dell'impianto o addirittura una capacità di impianto necessaria minore, per esempio nel caso di rivestimento a cottimo.
A differenza dei processi di polimerizzazione al plasma oggi noti, mediante l'impiego di diversi monomeri e gas e mediante variazione nel tempo delle atmosfere di processo così generate, possono venire modificate moratamente più caratteristiche, sia meccaniche, sia chimiche oppure ottiche, lungo la dimensione dello spessore di strato, contemporaneamente. In particolare grazie all'impiego di monomeri di titanio si riesce a realizzare strati resistenti all'usura, altamente trasparenti (a basso assorbimento) con adattamento dell'indice su materiali plastici oftalmici ad alto indice di rifrazione.
Claims (17)
- RIVENDICAZIONI 1. Componente ottico con un substrato portante e su di esso un rivestimento, ove la superficie del substrato è costituita da un materiale con indice di rifrazione dato e, non rivestita, presenta prime caratteristiche meccaniche e/o chimiche, la superficie non rivolta verso il substrato del rivestimento presenta seconde caratteristiche meccaniche e/o chimiche, devienti dalle prime, caratterizzato dal fatto che l'indice di rifrazione, a partire da quello dato del materiale della superficie del substrato, varia senza discontinuità fino al valore dell'indice di rifrazione finale della superficie del rivestimento.
- 2. Componente ottico secondo la riv. 1, caratterizzato dal fatto che il substrato è un substrato di materiale plastico, con un indice di rifrazione > 1,5, preferibilmente > 1,6, e il rivestimento comprende un rivestimento di protezione dall'usura.
- 3. Componente ottico secondo la riv. 2, caratterizzato dal fatto che la trasmissione del substrato rivestito devia al massimo dello 0,5% dal valore di trasmissione dato dall'indice di rifrazione finale del rivestimento rispetto all'aria, con luce della lunghezza d'onda
- 4. Componente ottico secondo una delle riv. 2 o 3, caratterizzato dal fatto che il substrato è un corpo di lente.
- 5. Componente ottico secondo una delle riv. da 2 a 4, caratterizzato dal fatto che sul rivestimento di protezione dall'usura è applicato un rivestimento antiriflesso, preferibilmente con rivestimento adesivo interposto.
- 6. Componente ottico secondo una delle riv. da 2 a 5, caratterizzato dal fatto che il rivestimento di protezione dall'usura almeno in una zona in cui l'indice di rifrazione passa dal valore del substrato al valore finale dello strato di protezione dall'usura, presenta almeno un composto di Ti-O.
- 7. Componente ottico secondo una delle riv. da 1 a 6, caratterizzato dal fatto che il substrato, fino a parti di fissaggio per il supporto, durante un processo di rivestimento è rivestito ugualmente da tutti i lati.
- 8. Componente ottico secondo una delle riv. da 2 a 7, caratterizzato dal fatto che l'indice di rifrazione del substrato di materiale plastico è > 1,5, preferibilmente ≥ 1,6, e l'indice finale dello strato di protezione dall'usura è sostanzialmente 1,5.
- 9. Procedimento per il rivestimento di un substrato ottico per mezzo di polimerizzazione al plasma, caratterizzato dal fatto che mediante conduzione dell'atmosfera del processo di rivestimento e/o dei parametri del processo di rivestimento, si avvicina l'indice di rifrazione del rivestimento, almeno in una zona del rivestimento, senza salti rispetto a quello del substrato, al valore finale del rivestimento.
- 10. Procedimento secondo la riv.9, caratterizzato dal fatto che nella zona di rivestimento menzionata la variazione dell'indice di rifrazione viene controllata mediante contemporanea variazione opposta delle parti di atmosfera di processo almeno di due monomeri, che danno come risultato rispettivamente un materiale di rivestimento con indice di rifrazione differente.
- 11. Procedimento secondo la riv.9, caratterizzato dal fatto che, a partire da un substato di materiale plastico con indice di rifrazione che è maggiore dell'indice finale del rivestimento, nella zona di rivestimento menzionata, si abbassa continuamente la parte di atmosfera di processo di almeno un monomero, che dà come risultato un materiale di rivestimento con indice di rifrazione più elevato, si aumenta continuamente quella di almeno un monomero che dà come risultato un materiale di rivestimento con un indice di rifrazione minore, e successivamente nella zona si prevede un rivestimento che presenta l'indice di rifrazione minore rispetto a quello del substrato.
- 12. Procedimento secondo la riv. 10, caratterizzato dal fatto che come l'almeno un monomero, che dà come risultato un materiale con indici di rifrazione più elevato, si impiega un legame di titanio, preferibilmente isopropilato di titanio (IV), in particolare quando l'indice di rifrazione del substrato è > 1,6.
- 13. Procedimento secondo una delle riv. da 9 a 12, caratterizzato dal fatto che sul rivestimento si applica un ulteriore rivestimento, e mediante conduzione dell'atmosfera di processo e/o dei parametri di processo, si avvicina l'indice di rifrazione del rivestimento senza discontinuità a quello dell'ulteriore rivestimento.
- 14. Procedimento secondo una delle riv. da 9 a 13, caratterizzato dal fatto che all'atmosfera di processo almeno a intervalli si aggiunge uno o più di un monomero in fase gassosa e/o almeno un ulteriore gas, preferibilmente 02 e/o N2.
- 15. Procedimento secondo una delle riv. da 9 a 14, caratterizzato dal fatto che all'atmosfera di processo si aggiunge uno o più di un monomero dal seguente gruppo: alcani, alcheni, alchini, alcoli, animine, chetoni, composti ciclici o aciclici nonché composti ciclici aromatici, composti metallorganici, in questo caso in particolare composti di silicio o di titanio con le seguenti strutture: come per esempio ove R significa un radicale organico qualsiasi e ove singoli o più R possono essere sostituiti mediante atomi di idrogeno, e ad un atomo di metallo possono essere legati qualsiasi differenti atomi R e/o H.
- 16. Procedimento secondo una delle riv. da 10 a 15, caratterizzato dal fatto che almeno nella zona di rivestimento l'atmosfera di processo contiene dimetildietossilano e toluolo e/o isopropilato di titanio (IV).
- 17. Procedimento secondo una delle riv. da 1 a 16, caratterizzato dal fatto che substrati con indice di rifrazione differente vengono portati mediante rivestimento allo stesso indice finale dopodiché vengono ulteriormente rivestiti ugualmente.
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