FR3066497A1 - Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau a l'aide d'un traitement reducteur - Google Patents
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Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1754510A FR3066497A1 (fr) | 2017-05-22 | 2017-05-22 | Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau a l'aide d'un traitement reducteur |
TW107115170A TW201906950A (zh) | 2017-05-22 | 2018-05-04 | 藉由控制材料之表面能而組裝嵌段共聚物之方法 |
PCT/EP2018/063364 WO2018215452A1 (fr) | 2017-05-22 | 2018-05-22 | Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1754510 | 2017-05-22 | ||
FR1754510A FR3066497A1 (fr) | 2017-05-22 | 2017-05-22 | Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau a l'aide d'un traitement reducteur |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR3066497A1 true FR3066497A1 (fr) | 2018-11-23 |
Family
ID=59974520
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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FR1754510A Withdrawn FR3066497A1 (fr) | 2017-05-22 | 2017-05-22 | Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau a l'aide d'un traitement reducteur |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
FR (1) | FR3066497A1 (zh) |
TW (1) | TW201906950A (zh) |
WO (1) | WO2018215452A1 (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2017
- 2017-05-22 FR FR1754510A patent/FR3066497A1/fr not_active Withdrawn
-
2018
- 2018-05-04 TW TW107115170A patent/TW201906950A/zh unknown
- 2018-05-22 WO PCT/EP2018/063364 patent/WO2018215452A1/fr active Application Filing
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Publication number | Publication date |
---|---|
TW201906950A (zh) | 2019-02-16 |
WO2018215452A1 (fr) | 2018-11-29 |
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