FR3066497A1 - Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau a l'aide d'un traitement reducteur - Google Patents

Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau a l'aide d'un traitement reducteur Download PDF

Info

Publication number
FR3066497A1
FR3066497A1 FR1754510A FR1754510A FR3066497A1 FR 3066497 A1 FR3066497 A1 FR 3066497A1 FR 1754510 A FR1754510 A FR 1754510A FR 1754510 A FR1754510 A FR 1754510A FR 3066497 A1 FR3066497 A1 FR 3066497A1
Authority
FR
France
Prior art keywords
guide pattern
block copolymer
chemical
epitaxy
grafting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
FR1754510A
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Xavier Chevalier
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Arkema France SA
Original Assignee
Arkema France SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Arkema France SA filed Critical Arkema France SA
Priority to FR1754510A priority Critical patent/FR3066497A1/fr
Priority to TW107115170A priority patent/TW201906950A/zh
Priority to PCT/EP2018/063364 priority patent/WO2018215452A1/fr
Publication of FR3066497A1 publication Critical patent/FR3066497A1/fr
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40Treatment after imagewise removal, e.g. baking
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40Treatment after imagewise removal, e.g. baking
    • G03F7/405Treatment with inorganic or organometallic reagents after imagewise removal

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
FR1754510A 2017-05-22 2017-05-22 Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau a l'aide d'un traitement reducteur Withdrawn FR3066497A1 (fr)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1754510A FR3066497A1 (fr) 2017-05-22 2017-05-22 Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau a l'aide d'un traitement reducteur
TW107115170A TW201906950A (zh) 2017-05-22 2018-05-04 藉由控制材料之表面能而組裝嵌段共聚物之方法
PCT/EP2018/063364 WO2018215452A1 (fr) 2017-05-22 2018-05-22 Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1754510 2017-05-22
FR1754510A FR3066497A1 (fr) 2017-05-22 2017-05-22 Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau a l'aide d'un traitement reducteur

Publications (1)

Publication Number Publication Date
FR3066497A1 true FR3066497A1 (fr) 2018-11-23

Family

ID=59974520

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FR1754510A Withdrawn FR3066497A1 (fr) 2017-05-22 2017-05-22 Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau a l'aide d'un traitement reducteur

Country Status (3)

Country Link
FR (1) FR3066497A1 (zh)
TW (1) TW201906950A (zh)
WO (1) WO2018215452A1 (zh)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2733533A2 (en) * 2012-11-14 2014-05-21 Imec Etching method using block-copolymers
US8853085B1 (en) * 2013-04-23 2014-10-07 International Business Machines Corporation Grapho-epitaxy DSA process with dimension control of template pattern
US20150255271A1 (en) * 2012-09-28 2015-09-10 Tokyo Electron Limited Substrate treatment method, computer storage medium, and substrate treatment system
US9268075B1 (en) * 2015-01-08 2016-02-23 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing wire grid polarizer
US20160077263A1 (en) * 2014-09-12 2016-03-17 Samsung Display Co., Ltd. Wire grid polarizer and method of fabricating the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150255271A1 (en) * 2012-09-28 2015-09-10 Tokyo Electron Limited Substrate treatment method, computer storage medium, and substrate treatment system
EP2733533A2 (en) * 2012-11-14 2014-05-21 Imec Etching method using block-copolymers
US8853085B1 (en) * 2013-04-23 2014-10-07 International Business Machines Corporation Grapho-epitaxy DSA process with dimension control of template pattern
US20160077263A1 (en) * 2014-09-12 2016-03-17 Samsung Display Co., Ltd. Wire grid polarizer and method of fabricating the same
US9268075B1 (en) * 2015-01-08 2016-02-23 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing wire grid polarizer

Also Published As

Publication number Publication date
TW201906950A (zh) 2019-02-16
WO2018215452A1 (fr) 2018-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2715782B1 (fr) Procédé de réalisation de motifs à la surface d'un substrat utilisant des copolymeres à bloc
FR3037071B1 (fr) Procede de reduction de la defectivite d'un film de copolymere a blocs
EP3503165B1 (fr) Procédé de formation d'une structure de guidage chimique sur un substrat et procédé de chémo-épitaxie
FR3010413A1 (fr) Procede de controle de la periode d'un assemblage nano-structure comprenant un melange de copolymeres a blocs
EP3347769B1 (fr) Procédé de gravure sélective d'un copolymère à blocs
FR3010414A1 (fr) Procede d'obtention de films epais nano-structures obtenus a partir d'une composition de copolymeres a blocs
EP3465739B1 (fr) Procédé de formation d'un motif de guidage fonctionnalisé pour un procédé de grapho-épitaxie
EP3529664B1 (fr) Procédé de formation d'un guide d'assemblage fonctionnalisé et procédé de grapho-épitaxie
WO2016193582A1 (fr) Procédé de contrôle de l'énergie de surface a l'interface entre un copolymere a blocs et un autre composé
FR3066497A1 (fr) Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau a l'aide d'un traitement reducteur
FR3066498A1 (fr) Procede pour l'assemblage de copolymeres a blocs par controle de l'energie de surface d'un materiau par traitement reducteur plasma
EP3465741A1 (fr) Procédé d'auto-assemblage dirigé d'un copolymère à blocs par grapho-épitaxie
FR3010411A1 (fr) Procede de controle de la periode d'un assemblage nano-structure comprenant un melange de copolymeres a blocs
FR3075775A1 (fr) Procede de formation d’une structure de guidage chimique sur un substrat et procede de chemo-epitaxie
FR3105755A1 (fr) Procédé de fabrication d’une couche d’arrêt de gravure pour nanolithographie par autoassemblage dirigé
WO2019016487A1 (fr) Procede de controle de l'orientation des nano-domaines d'un copolymere a blocs
FR3051965A1 (fr) Procede de formation d’un motif de guidage fonctionnalise pour un procede de grapho-epitaxie
WO2017068259A1 (fr) Procede permettant la creation de structures nanometriques par l'auto-assemblage de copolymeres di-blocs
FR3069339A1 (fr) Procede de controle de l'orientation des nano-domaines d'un copolymere a blocs
WO2020048954A1 (fr) Procédé d'auto-assemblage dirigé d'un mélange de copolymère à blocs
WO2015121568A1 (fr) Procede de controle de l'energie de surface d'un substrat

Legal Events

Date Code Title Description
PLFP Fee payment

Year of fee payment: 2

PLSC Publication of the preliminary search report

Effective date: 20181123

PLFP Fee payment

Year of fee payment: 3

ST Notification of lapse

Effective date: 20210105