FR2791808A1 - Dispositif d'affichage a plasma et procede de fabrication d'une couche de dielectrique comportant une partie ou un champ electrique est concentre - Google Patents
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Abstract
Un dispositif d'affichage à plasma comprend un premier substrat (31), une électrode d'adressage (32) formée sur sa surface supérieure, une première couche de diélectrique (33) formée sur sa surface supérieure et incorporant l'électrode d'adressage, un second substrat transparent (41) formant un espace de décharge par couplage au premier substrat, une pluralité d'électrodes d'entretien (42) formée sur une surface inférieure du second substrat sous un angle prédéterminé avec l'électrode d'adressage, chacune des électrodes d'entretien comprenant des première et seconde électrodes, une seconde couche de diélectrique (43) sur le second substrat et incorporant les électrodes d'entretien, au moins une partie (50) où un champ électrique est concentré, entre les première et seconde électrodes d'entretien, et une cloison (45) entre les premier et second substrats, cloisonnant l'espace de décharge.
Description
DISPOSITIF D'AFFICHAGE A PLASMA ET PROCEDE DE FABRICATION
D'UNE COUCHE DE DIELECTRIQUE COMPORTANT UNE PARTIE OU UN
CHAMP ELECTRIQUE EST CONCENTRE.
La présente invention se rapporte à un dispositif d'affichage à plasma, et plus particulièrement, à un dispositif d'affichage à plasma comportant une couche de diélectrique améliorée o est incorporée une électrode
d'entretien? et à un procédé de fabrication de celui-ci.
Un dispositif de décharge général comprend au moins une paire d'électrodes et une décharge est générée lorsqu'une tension est appliquée aux électrodes. En tant qu'exemple du dispositif de décharge, il existe une lampe à décharge telle qu'une lampe fluorescente, un dispositif de génération à laser à gaz, et un dispositif d'affichage
à plasma.
En raison de ses performances d'affichage supérieures telles que la grande capacité d'affichage, la brillance élevée, le fort contraste, et le large angle d'observation, le dispositif d'affichage à plasma est largement reconnu en tant que panneau d'affichage à panneau plat présentant des performances proches de
celles du tube à rayons cathodiques.
Le dispositif d'affichage à plasma est classé selon son principe de fonctionnement en un panneau de dispositif d'affichage à plasma à courant continu et un panneau de dispositif d'affichage à plasma à courant alternatif. De même, le dispositif d'affichage à plasma est divisé conformément à la configuration des électrodes en un type à décharge en opposition et un type à décharge
en surface.
La figure 1 est une vue représentant un exemple d'un dispositif d'affichage à plasma du type à décharge en surface du dispositif d'affichage à plasma du type à
décharge ci-dessus.
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Comme indiqué sur le dessin, un dispositif d'affichage à plasma comprend un substrat 10, une électrode d'adressage 11 formée sur le substrat 10, une couche de diélectrique 12 formée sur le substrat 10 o est formée l'électrode d'adressage 11, une cloison 13 formée sur la couche de diélectrique 12 en vue de maintenir une distance de décharge et d'empêcher une diaphonie électrique et optique entre les cellules, un substrat avant 16 associé au substrat o la cloison 13 est formée et comportant des électrodes d'entretien 14 et selon un motif prédéterminé formé sur la surface inférieure de celui-ci en vue de croiser l'électrode d'adressage 11. Une couche fluorescente 17 est formée sur au moins un côté à l'intérieur d'un espace de décharge séparé par la cloison 13. Une couche de diélectrique 18 et une couche protectrice 19, dans laquelle les électrodes sont incorporées, sont formées sur la surface inférieure du substrat avant 16. Un gaz de décharge mélangé avec du néon (Ne) et du xénon (Xe) est injecté
dans l'espace de décharge.
Dans le dispositif d'affichage à plasma présentant la structure cidessus, le procédé d'attaque est divisé en une attaque pour une décharge d'adressage et une attaque pour une décharge d'entretien. La décharge d'adressage est générée en raison de la différence du champ électrique entre l'électrode d'adressage 11 et l'électrode d'entretien 14(80 V-(V)=250 V). A cet instant, des charges de parois sont formées. La décharge d'entretien est générée en raison de la différence de potentiel électrique entre les électrodes d'entretien 14 et 15 disposées au niveau de l'espace de décharge o les charges de parois sont formées. La décharge d'entretien devient une décharge principale pour afficher une image réelle. La décharge d'entretien générée en raison de la différence de potentiel électrique appliquée entre les
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électrodes d'entretien 14 et 15 devient faible à mesure que le temps s'écoule. Ceci est dû au fait que la tension de décharge initiale doit dépasser 160 V en général, car la distance entre les électrodes d'entretien 14 et 15 est d'environ 80 à 100 jm dans une structure d'électrodes d'un panneau d'affichage à plasma à courant alternatif du
type à décharge en surface classique.
Lorsque la tension de décharge initiale devient importante, beaucoup de puissance électrique est consommée et simultanément la capacité nominale d'un circuit d'attaque devient importante. De même, un potentiel induit est généré dans une électrode adjacente, ce qui provoque de la diaphonie. La distance entre les électrodes d'entretien 14 et 15 est rétrécie pour diminuer la tension de décharge initiale, la capacité
électrostatique devient trop importante.
En variante, la quantité de xénon dans le gaz de décharge est augmentée pour accroître l'efficacité de la décharge. Cependant, comme la tension de la décharge initiale devient grande, il existe une limite à
l'augmentation de la quantité de Xe.
Un dispositif d'affichage à plasma du type à
décharge en surface est décrit dans le brevet des Etats-
Unis N 5 742 122 pour résoudre le problème ci-dessus.
Dans le dispositif d'affichage à plasma du type à décharge en surface qui est indiqué sur la figure 2, l'épaisseur Tl d'une couche de diélectrique 23 formée sur une surface supérieure d'une électrode transparente 22 d'un premier substrat 21 est plus mince que l'épaisseur T2 de la couche de diélectrique 23 correspondant à une électrode de bus 24 formée sur l'électrode transparente
22 et parallèle à celle-ci.
Dans le dispositif d'affichage à plasma du type à décharge en surface cidessus, en éliminant la décharge inefficace sur l'électrode de bus 24, le rendement de l'émission lumineuse peut être amélioré tout en réduisant
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la consommation de puissance et en empêchant la diaphonie entre les pixels. Cependant, comme la couche de diélectrique 23 présente une épaisseur uniforme sur une surface supérieure de l'électrode transparente, il existe une limite à la réduction de la tension de décharge initiale. Pour résoudre les problèmes ci-dessus, c'est un but de la présente invention de réaliser un dispositif d'affichage à plasma dans lequel un champ électrique est concentré sur une -position prédéterminée entre des électrodes d'entretien ou au niveau d'une zone correspondant à l'électrode d'entretien de sorte que la tension de décharge initiale est réduite et un procédé de formation d'une couche de diélectrique comportant une
partie o un champ électrique est concentré.
C'est un autre but de la présente invention de réaliser un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à plasma dans lequel la quantité de Xe dans un gaz de décharge est augmentée pour améliorer le rendement de l'émission lumineuse et une couche de diélectrique comportant une partie o un champ électrique
est concentré dans le dispositif d'affichage à plasma.
En conséquence, pour atteindre le but ci-dessus, il est réalisé un dispositif d'affichage à plasma qui comprend un premier substrat, une électrode d'adressage formée sur une surface supérieure du premier substrat, une première couche de diélectrique formée sur la surface supérieure du premier substrat et incorporant l'électrode d'adressage, un second substrat qui est transparent et forme un espace de décharge en étant associé au premier substrat, une pluralité d'électrodes d'entretien formée sur une surface inférieure du second substrat afin de former un angle prédéterminé avec l'électrode d'adressage, chacune des électrodes d'entretien comprenant des première et seconde électrodes, une seconde couche de diélectrique formée sur le second
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substrat o les électrodes d'entretien sont formées et incorporant les électrodes d'entretien, au moins une partie o un champ électrique est concentré, formée entre les première et seconde électrodes constituant les électrodes d'entretien, et une cloison installée entre les premier et second substrats afin de cloisonner
l'espace de décharge.
Il est préféré dans la présente invention que ladite partie o un champ électrique est concentré comprenne une rainure formée entre lesdites première et seconde électrodes, et que ladite rainure soit formée entre lesdites première et seconde électrodes suivant un motif discontinu. Pour atteindre un autre aspect du but ci-dessus, il est réalisé un dispositif d'affichage à plasma qui comprend un premier substrat, une électrode d'adressage formée sur une surface supérieure du premier substrat, une première couche de diélectrique formée sur une surface supérieure du premier substrat et incorporant l'électrode d'adressage, un second substrat qui est transparent et forme un espace de décharge en étant associé au premier substrat, une pluralité d'électrodes d'entretien formées sur une surface inférieure du second substrat afin de former un angle prédéterminé avec l'électrode d'adressage, chacune des électrodes d'entretien comprenant des première et seconde électrodes, une seconde couche de diélectrique formée sur le second substrat o les électrodes d'entretien sont formées et incorporant les électrodes d'entretien, au moins une partie o un champ électrique est concentré, formée au niveau d'une zone correspondant aux première et seconde électrodes constituant les électrodes d'entretien, et une cloison installée entre les premier et second substrats afin de cloisonner l'espace de
décharge.
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Pour atteindre le second but, il est réalisé un procédé de fabrication d'une couche de diélectrique comportant une partie d'un dispositif d'affichage à plasma o un champ électrique est concentré, ce qui est réalisé en formant une pluralité d'électrodes d'entretien sur une surface supérieure d'un substrat, chacune des électrodes d'entretien étant constituée d'une paire de première et seconde électrodes, en formant une couche de diélectrique inférieure sur une surface supérieure du substrat sont formées mes électrodes d'entretien, en sérigraphiant une couche de diélectrique supérieure afin de former une rainure suivant un motif continu ou discontinu au niveau d'une partie sur une surface supérieure de la couche de diélectrique inférieure et entre les première et seconde électrodes, et en polymérisant les couches de diélectrique supérieure et
inférieure par cuisson de celles-ci.
Les buts et avantages ci-dessus de la présente invention seront mis plus en évidence en décrivant en détail un mode de réalisation préféré de celle-ci en faisant référence aux dessins annexés dans lesquels: La figure 1 est une vue en perspective éclatée illustrant un dispositif d'affichage à plasma classique
comportant une partie partiellement écorchée.
La figure 2 est une vue en perspective éclatée illustrant un autre exemple d'un dispositif d'affichage à
plasma classique.
La figure 3 est une vue en perspective éclatée illustrant un dispositif d'affichage à plasma conforme à
la présente invention.
La figure 4 est une vue en perspective représentant un état dans lequel on forme une partie o est concentré un champ électrique, sur une couche de diélectrique
formée sur un second substrat.
La figure 5 est une vue en perspective représentant un état dans lequel un autre exemple de la partie o est
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concentré un champ électrique est formé sur une couche de
diélectrique formée sur un second substrat.
La figure 6 est une vue en perspective éclatée illustrant un autre mode de réalisation préféré du dispositif d'affichage à plasma conforme à la présente invention. La figure 7 est une vue en perspective représentant un état dans lequel une partie o un champ électrique est concentré, est formée sur la couche de diélectrique
formée sur le second substrat.
La figure 8 est une vue en coupe représentant un état dans lequel une partie o un champ électrique est concentré, est formée sur la couche de diélectrique
formée sur le second substrat.
Les figures 9 à 11 sont des vues en coupe représentant les états fonctionnels d'un dispositif
d'affichage à plasma conforme à la présente invention.
Les figures 12A à 12C sont des vues en coupe destinées à expliquer un procédé de fabrication de la couche de diélectrique comportant une partie o un champ électrique est concentré, d'un dispositif d'affichage à plasma conforme à un mode de réalisation préféré de la présente invention, et Les figures 13A à 13C sont des vues en coupe destinées à expliquer un procédé de fabrication de la couche de diélectrique comportant une partie o un champ électrique est concentré, d'un dispositif d'affichage à plasma conforme à un autre mode de réalisation préféré de
la présente invention.
La figure 3 représente un dispositif d'affichage à plasma conforme à un mode de réalisation préféré de la présente invention. Comme indiqué sur le dessin, le dispositif d'affichage à plasma conforme à la présente invention comprend un premier substrat 31, des électrodes d'adressage 32 formées selon un motif prédéterminé sur une surface supérieure du premier substrat 32, et une
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première couche de diélectrique 33 formée sur le premier substrat 31 et o les électrodes d'adressage 32 sont incorporées. Les électrodes d'adressage 32 présentant chacune une largeur prédéterminée, sont formées en bandes et sont formées parallèlement les unes aux autres. Le premier substrat 31 est associé à un second substrat transparent 41 pour former ainsi un espace de décharge. Une pluralité d'électrodes d'entretien 42 formées de plusieurs paires de première et seconde électrodes 42a et 42b de façon à être perpendiculaires aux électrodes d'adressage 32 sur une surface inférieure du second substrat 41 face au premier substrat 31. Dans ce cas, les électrodes d'entretien 42 ne sont pas nécessairement perpendiculaires aux électrodes d'adressage 32 et la distance entre les première et seconde électrodes 42a et 42b peut être ajustée suivant la tension de décharge initiale ou les pixels. Les première et seconde électrodes 42a et 42b sont formées d'oxyde d'étain-indium (ITO) transparent et des électrodes de bus 42c et 42d sont formées le long des première et seconde électrodes 42a et 42b, respectivement, pour réduire la résistance de ligne. Les électrodes de bus 42c et 42d sont formées d'un métal tel que de l'argent, un alliage d'argent, ou de l'aluminium, et les largeurs de celles-ci sont constituées de façon à être beaucoup plus étroites que celles des première et
seconde électrodes 42a et 42d.
Une seconde couche de diélectrique 43 est formée sur la surface inférieure du second substrat 41 o les électrodes d'entretien 42 sont incorporées. Des cloisons destinées à cloisonner un espace de décharge sont formées entre les premier et second substrats 31 et 41 sur lesquels sont formées respectivement les première et seconde couches de diélectrique 33 et 43. Les cloisons 45 sont formées dans une direction parallèle aux électrodes d'adressage 32. Un film 46 est formé sur une surface
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inférieure d'un espace de décharge cloisonné par les cloisons 45. Les cloisons 45 ne sont pas limitées au mode de réalisation décrit ci-dessus, et toute structure quelconque dans laquelle l'espace de décharge est cloisonné suivant un motif de matrice de pixels est possible. Un gaz de décharge est injecté à l'intérieur d'un espace de décharge cloisonné par la cloison 45. Le gaz de
décharge comprend du Ne et du Xe.
Une partie o un champ électrique est concentré, 50, est formée entre les première et seconde électrodes 42a et 42b pour abaisser la tension de décharge initiale. La partie 50 o le champ électrique est concentré 50, comprend au moins une rainure 51 présentant une profondeur prédéterminée qui est formée dans la seconde couche de diélectrique 43 entre les première et seconde électrodes 42a et 42b. La rainure 51 peut être formée suivant un motif continu ou un motif discontinu, comme indiqué sur la figure 4. Lorsque la rainure 51 est formée suivant un motif discontinu, la rainure 51 est de préférence disposée à l'intérieur de l'espace de décharge cloisonné par la cloison 45. Un film protecteur 44 destiné à protéger la seconde couche de diélectrique 43 vis-à-vis des ions est formé sur une surface supérieure de la seconde couche de disque 43 o la rainure 51 est
formée. Le film protecteur 44 est formé de MgO.
En tant qu'autre mode de réalisation préféré de la partie 50 o un champ électrique est concentré, comme indiqué sur la figure 5, une rainure 52 peut être formée afin d'exposer le second substrat 41 entre les première et seconde électrodes 42a et 42b. Il est préférable dans ce mode de réalisation que le film protecteur 44 formé sur la surface supérieure de la seconde couche de diélectrique 43 soit formé sur la surface de la seconde couche de diélectrique 43, et la surface supérieure du
second substrat 41 est exposée grâce à la rainure 52.
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Dans ce cas, bien que ceci ne soit pas représenté sur le dessin, la rainure 52 peut être formée suivant une
pluralité de rangées.
La figure 6 représente un dispositif d'affichage à plasma adoptant une partie o un champ électrique est concentré, conformément à un autre mode de réalisation préféré de la présente invention. Dans ce cas, les mêmes
références numériques que celles de la description du
mode de réalisation préféré ci-dessus indiquent les mêmes éléments. Comme indiqué sur le dessin, une partie 60 o un champ électrique est concentré, est formée sur les surfaces supérieures des première et seconde électrodes 42a et 42b. Dans la partie 60 o un champ électrique est concentré, une rainure 61 présentant une profondeur prédéterminée est formée au niveau d'au moins un côté de la seconde couche de diélectrique 43 qui correspond aux première et seconde électrodes 42a et 42b. La rainure 61 peut être formée suivant un motif continu ou un motif discontinu. Un film protecteur 44 est formé sur la surface supérieure de la seconde couche de diélectrique
43 o est formée la rainure 61.
En tant qu'autre mode de réalisation préféré de la partie o un champ électrique est concentré, au moins un trou de traversée 62 est formé sur au moins un côté de la première couche de diélectrique 44 pour correspondre aux première et seconde électrodes 42a et 42b, de sorte que les première et seconde électrodes 42a et 42b sont exposées. Le trou de traversée 62 peut être formé suivant une forme circulaire ou ovale. Lorsque la partie 60 o est concentré un champ électrique, est formée dans le trou de traversée 62, le trou de traversée 62 doit être localisé à l'intérieur de l'espace de décharge cloisonné par la cloison. Un film protecteur 44 est formé sur la surface supérieure de la seconde couche de diélectrique 43 et les surfaces supérieures des première et seconde 11i 2791808 électrodes 42a et 42b qui sont exposées grâce au trou de
traversée 62, comme indiqué sur la figure 8.
Le dispositif d'affichage à plasma présentant la structure ci-dessus conforme à la présente invention, fonctionne comme suit. Lorsqu'une impulsion de tension prédéterminée est appliquée à l'une quelconque des électrodes d'adressage 32 et des première et seconde électrodes 42a et 42b constituant l'électrode d'entretien 42, une décharge d'adressage est générée entre celles-ci et des charges de parois sont formées sur la surface intérieure de l'espace de décharge. Les charges de parois générées remplissent la rainure 51 formée dans la seconde couche de diélectrique 43 entre les première et seconde électrodes 42a et 42b ou bien dans la seconde couche de diélectrique 43 sur les première et seconde électrodes. Dans ces conditions, lorsqu'une tension est appliquée aux première et seconde électrodes 42a et 42b, une décharge d'entretien est générée entre celles-ci. La tension de décharge initiale pour la tension d'entretien peut être diminuée grâce à la rainure 51 et aux charges qui la remplissent. En particulier, lorsque la distance entre les première et seconde électrodes 42a et 42b diminue, la capacité électrostatique devient plus grande, alors que, lorsque la distance entre les première et seconde électrodes 42a et 42b augmente, la tension de décharge initiale devient plus élevée. Comme indiqué sur les figures 9 et 10, lorsque la rainure 51 est formée, et qu'en conséquence, la seconde couche de diélectrique 43 entre les première et seconde électrodes 42a et 42b est éliminée ou devient plus mince, le champ électrique entre les première et seconde électrodes 42a et 42b est concentré sur la rainure 51. Alors une décharge est générée depuis la rainure 51 qui est remplie par des particules chargées et du gaz, de sorte que la tension de
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décharge initiale peut être abaissée sans augmenter la capacité électrostatique. Lorsque la rainure 51 est formée sans diminution de la distance entre les première et seconde électrodes 42a et 42b, l'effet obtenu est une diminution de la distance entre les première et seconde électrodes 42a et 42b et donc la tension de décharge initiale est abaissée. En particulier, un gaz de décharge comprenant du Xe de 0,1 à 10 %, qui est injecté dans l'espace de décharge pour obtenir une décharge extrêmement efficace provoque une augmentation de la tension de décharge initiale. Une telle augmentation peut être compensée grâce à la structure de la rainure 51 formée entre les première et seconde électrodes 42a et 42b. Des rayons ultraviolets générés durant la décharge d'entretien excitent un matériau fluorescent pour émettre
de la lumière de sorte qu'une image est formée.
Il est évident que les mêmes opérations et fonctions que celles décrites ci-dessus peuvent être obtenues lorsque les rainures 61 et 62 sont formées au-dessus des première et seconde électrodes 42a et 42b, comme indiqué
sur la figure 11.
Le procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à plasma conforme à la présente invention comprend une étape de formation de la seconde couche de diélectrique 43 o est formée la partie o un champ
électrique est concentré.
Les figures 12A à 12C représentent le procédé de fabrication de la couche de diélectrique o est formée la partie o un champ électrique est concentré. Comme indiqué sur le dessin, le substrat transparent 41 est préparé (étape 1). Une pluralité d'électrodes d'entretien 42, chacune comprenant une paire de première et seconde électrodes, est formée sur la surface supérieure du substrat 41 (étape 2, se reporter à la figure 12A). Une couche de diélectrique inférieure 43a est formée sur une surface supérieure du substrat 41 o sont formées les
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électrodes d'entretien 42 (étape 3, se reporter à la figure 12B). Une couche de diélectrique supérieure 43b est sérigraphiée sur la surface supérieure de la couche de diélectrique inférieure 43a de sorte qu'une rainure puisse être formée entre les première et seconde électrodes ou bien sur les première et seconde électrodes (étape 4, se reporter à la figure 12C). Les couches de diélectrique supérieure et inférieure 43a et 43b sont
durcies après avoir été complètement formées (étape 5).
Le procédé ci-dessus de formation sur la couche de diélectrique de la partie o un champ électrique est concentré, rend possible de former suivant un motif fin la rainure dans la partie o un champ électrique est concentré. Les figures 13A à 13C représentent un autre mode de réalisation préféré du procédé de formation de la couche de diélectrique o est formée la partie o un champ
électrique est concentré.
Comme indiqué sur le dessin, un substrat transparent 41 est préparé (étape 1). Une pluralité d'électrodes d'entretien 42, chacune comprenant une paire des première et seconde électrodes, sont formées sur la surface supérieure du substrat 41 (étape 2, se reporter à la figure 13A). Une couche de diélectrique est formée sur la surface supérieure du substrat 41 o les électrodes d'entretien 42 sont formées (étape 3, se reporter à la figure 13B). La couche de diélectrique 43 est rendue molle en étant chauffée à une température prédéterminée (étape 4). Une rainure est formée dans la couche de diélectrique amollie en pressant un moule 70, dans lequel une protubérance 71 d'un motif correspondant à celui de la rainure désirée est formée, contre la surface supérieure de la couche de diélectrique amollie (étape 5, se reporter à la figure 13C). Le procédé ci-dessus convient pour une fabrication en série du fait que la
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rainure peut être formée par pressage d'un moule contre
la couche de diélectrique amollie.
Comme décrit ci-dessus, dans le procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à plasma conforme à la présente invention, la partie o un champ électrique est concentré, est formée dans la couche de diélectrique entre les première et seconde électrodes. Ainsi, la tension de décharge initiale selon la décharge d'entretien, peut être diminuée. Il en résulte que la consommation de puissance du dispositif d'affichage à
plasma peut être réduite.
On notera que la présente invention n'est pas limitée au mode de réalisation préféré décrit ci-dessus, et il est évident que des variantes et modifications peuvent être apportées par l'homme de l'art en restant dans l'esprit et la portée de la présente invention,
définis par les revendications annexées.
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Claims (13)
1. Dispositif d'affichage à plasma comprenant: un premier substrat (31): une électrode d'adressage (32) formée sur une surface supérieure dudit premier substrat (31), une première couche de diélectrique (33) formée sur la surface supérieure dudit premier substrat (31) et incorporant ladite électrode d'adressage (32); un second substrat (41) qui est transparent et forme un espace de décharge en étant couplé audit premier substrat, une pluralité d'électrodes d'entretien (42) formées sur une surface inférieure dudit second substrat (41) afin de former un angle prédéterminé avec ladite électrode d'adressage, chacune desdites électrodes d'entretien (42) comprenant des première et seconde électrodes (42a, 42b); une seconde couche de diélectrique (43) formée sur ledit second substrat (41) à l'endroit o lesdites électrodes d'entretien (42) sont formées et incorporant lesdites électrodes d'entretien (42), au moins une partie (50) o un champ électrique est concentré, formée entre lesdites première et seconde électrodes constituant lesdites électrodes d'entretien (42); et une cloison (45) installée entre lesdits premier et
second substrats afin de cloisonner l'espace de décharge.
2. Dispositif d'affichage à plasma selon la revendication 1, dans lequel ladite partie o est concentré un champ électrique, comprend une rainure (51) formée entre lesdites première et seconde électrodes
(42a, 42b).
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3. Dispositif d'affichage à plasma selon la revendication 2, dans lequel ladite rainure est formée entre lesdites première et seconde électrodes suivant un
motif discontinu.
4. Dispositif d'affichage à plasma selon la revendication 2, dans lequel ladite rainure est formée entre lesdites première et seconde électrodes suivant une
pluralité de rangées.
5. Dispositif d'affichage à plasma selon la revendication 3, dans lequel ladite rainure formée suivant un motif discontinu est disposée à l'intérieur de
l'espace de décharge cloisonné par ladite cloison.
6. Dispositif d'affichage à plasma comprenant: un premier substrat; une électrode d'adressage formée sur une surface supérieure dudit premier substrat; une première couche de diélectrique formée sur la surface supérieure dudit premier substrat et incorporant ladite électrode d'adressage; un second substrat qui est transparent et forme un espace de décharge en étant couplé audit premier substrat; une pluralité d'électrodes d'entretien formées sur une surface inférieure dudit second substrat afin de former un angle prédéterminé avec ladite électrode d'adressage, chacune desdites électrodes d'entretien comprenant des première et seconde électrodes; une seconde couche de diélectrique formée sur ledit second substrat o lesdites électrodes d'entretien sont formées et incorporant lesdites électrodes d'entretien; au moins une partie o un champ électrique est concentré, formée au niveau d'une zone correspondant
17 2791808
auxdites première et seconde électrodes constituant ladite électrode d'entretien; et une cloison installée entre lesdits premier et
second substrats afin de cloisonner l'espace de décharge.
7. Dispositif d'affichage à plasma selon la revendication 6, dans lequel ladite partie o un champ électrique est concentré, comprend une rainure formée sur au moins un c8té de ladite couche de diélectrique correspondant auxdites première et seconde électrodes dans le sens de la longueur desdites première et seconde électrodes.
8. Dispositif d'affichage à plasma selon la revendication 6, dans lequel ladite rainure est formée
suivant un motif discontinu.
9. Dispositif d'affichage à plasma selon la revendication 7, dans lequel un film protecteur est formé
sur ladite première couche de diélectrique.
10. Dispositif d'affichage à plasma selon la revendication 6, dans lequel ladite partie o est concentré un champ électrique, est formée en formant un trou de traversée dans ladite première couche de diélectrique formée sur la surface supérieure desdites
première et seconde électrodes.
11. Dispositif d'affichage à plasma selon la revendication 10, dans lequel un film protecteur est formé sur des surfaces intérieures de ladite première couche de diélectrique et ledit trou de traversée, et sur la surface supérieure desdites première et seconde
électrodes exposées par ledit trou de traversée.
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12. Procédé de fabrication d'une couche de diélectrique d'un dispositif d'affichage à plasma comportant une partie o un champ électrique est concentré, ledit procédé comprenant les étapes consistant à: former une pluralité d'électrodes d'entretien sur une surface supérieure d'un substrat, chacune desdites électrodes d'entretien étant constituées d'une paire de première et seconde électrodes; former une couche de diélectrique inférieure sur une surface supérieure dudit substrat à l'endroit o lesdites électrodes d'entretien sont formées; sérigraphier une couche de diélectrique supérieure afin de former une rainure suivant un motif continu ou discontinu au niveau d'une partie sur une surface supérieure de ladite couche de diélectrique inférieure et entre lesdites première et seconde électrodes; et durcir lesdites couches de diélectrique supérieure
et inférieure en cuisant celles-ci.
13. Procédé de fabrication d'une couche de diélectrique d'un dispositif d'affichage à plasma comportant une partie o un champ électrique est concentré, ledit procédé comprenant les étapes consistant à: préparer un substrat transparent; former une pluralité d'électrodes d'entretien sur une surface supérieure dudit substrat, chacune desdites électrodes d'entretien étant constituée d'une paire de première et seconde électrodes; former une couche de diélectrique sur la surface supérieure dudit substrat à l'endroit o lesdites électrodes d'entretien sont formées; amollir ladite couche de diélectrique en chauffant celle-ci à une température prédéterminée; et
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former une rainure dans ladite couche de diélectrique amollie en pressant un moule possédant une
protubérance selon un motif correspondant à celui qui est désiré pour ladite rainure, contre une surface supérieure5 de ladite couche de diélectrique amollie.
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| ST | Notification of lapse |
Effective date: 20141128 |