KR100615245B1 - 플라즈마 디스플레이 패널 보호막 및 그 제조방법 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널 보호막 및 그 제조방법 Download PDF

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Abstract

플라즈마 디스플레이 패널의 보호막 및 그 제조방법이 개시된다. 개시된 유지전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 기판에 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널용 보호막에 있어서, 상기 보호막의 조직에는 방향성을 가지는 그레인 칼럼(grain column)이 형성되는 것을 특징으로 한다. 이와 같은 본 발명에 의하면, 보호막 조직의 그레인 칼럼 배열에 방향성을 주어 보이드(void)의 방향을 결정할 수 있으므로 보이드가 적은 방향으로 전기장을 인가하여 방전시키면 플라즈마 이온에 의해 스퍼터링 수율이 작아 보호막의 수명을 증가시킬 수 있으며, 방전 이온이 보이드와 표면 거칠기에 의해 방해 받지 않아 2차 전자 방출이 급속하게 이루어질 수 있으므로 방전 지연 시간이 더 짧아질 수 있으며 방전 개시 전압도 더 개선될 수 있다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널 보호막 및 그 제조방법{A protecting layer for plasma display panel and a process of preparing thereof}
도 1은 일반적인 반사형 플라즈마 디스플레이 패널의 내부 구조를 도시한 수직 단면도이다.
도 2는 가스 이온에 의한 고체로부터의 전자방출을 설명하는 오제 중화이론을 설명하는 설명도이다.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 분리 분해 사시도이다.
도 4는 도 3에서 전방패널을 90도 들어올린 상태를 도시하는 분리 분해 사시도이다.
도 5는 그레인 칼럼이 형성된 보호막의 수직 단면을 확대하여 나타내는 모식도이다.
도 6은 그레인 칼럼이 형성된 보호막의 방향성을 확대하여 나타내는 모식도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
110 : 전방패널 112 : 전면기판
114 : 전방 유전체층 116 : 보호막
118 : 전면기판의 배면 120a, 122a : 투명전극
120b, 122b : 버스전극 120 : X전극
122 : Y전극 124 : 유지전극쌍
130 : 그레인 칼럼 150 : 후방패널
152 : 발광셀 154 : 배면기판
156 : 배면기판의 상면 158 : 어드레스 전극
160 : 후방 유전체층 162 : 격벽
164 : 형광체층
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 (Plasma display Panel : PDP)의 보호막 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 보호막의 조직에 방향성이 있는 그레인 칼럼(grain column)이 형성된 플라즈마 디스플레이 패널용 보호막 및 그 제조방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널 (Plasma Display Pannel: PDP)은 화면을 대형화하기가 용이하고, 자발광형으로 표시품질이 좋고, 응답속도가 빠르다는 특징을 가지고 있다. 박형화가 가능하기 때문에 LCD 등과 함께 벽걸이용 디스플레이로서 주목되고 있다.
도 1은 수십만 개의 PDP 픽셀 중 하나를 보여 주고 있다. 도 1을 참조하여 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 살펴보면, 전면 기판(14) 위에 X 전극과 Y 전 극을 쌍으로 하는 방전 유지전극(15)이 형성되어 있고, 상기 방전 유지전극은 전방 유전체층(16)에 의해 매립되어 있고, 상기 유전체층이 방전 공간에 직접적으로 노출될 경우 방전 특성이 저하되고 수명이 단축되기 때문에 박막 공정을 통해 보호막(17)을 형성하여 상기 유전체층을 보호하도록 하고 있다. 보호막은 플라즈마 방전시 가스 이온의 충격으로부터 상부 유전체층의 후막을 보호함과 아울러 이차전자를 방출하는 역할을 한다. 따라서 보호막은 절연성, 내-스퍼터링성, 낮은 방전 전압, 빠른 방전 응답 특성 및 가시광 투과율 등의 조건을 동시에 만족하는 것이 바람직하다.
한편, 전면 기판(14)의 안쪽에는 패턴화된 ITO 등으로 형성된 투명전극(15)이 있으며 그 위에 버스전극을 형성하고 전방 유전체층(16)이 인쇄법으로 인쇄되어 있다. 또한, 배면 기판(10)의 상면에는 어드레스 전극(11)이 위치되며, 배면기판의 상면에는 후방 유전체층(12)이 형성되어 어드레스 전극(11)을 매립한다. 한편, 이러한 전면 기판과 배면 기판은 수십㎛의 간극을 두고 격벽(19)에 의해 마주보고 있고, 격벽(19)에 의해 구획된 발광셀에는 형광체층(13)이 형성된다. 또한 전면기판(14)과 배면기판(10) 사이의 간극에는 자외선(120)을 발생시키는 Ne+Xe 의 혼합가스 또는 He+Ne+Xe의 혼합가스가 일정한 압력 (예를들면, 450 Torr)으로 채워진다.
Xe가스는 진공 자외선 (Xe 이온 147nm 공명 방사광, Xe2 173 nm 공명 반사광)을 만들어 내는 역할을 하고, Ne가스 또는 Ne+He의 혼합가스는 방전 개시 전압을 낮추는 역할을 한다.
한편, 한국 공개특허공보 제2001-48563호에서는 보호막에 미세한 양의 도핑을 통하여 방전기체인 Xe의 이차전자방출계수를 증가시키는 것을 개시하고 있다. 그러나, 보호막의 조직에 대한 구조적 배열을 고려하지 않고, Xe가스만을 사용하게 되면 고밀도 진공 자외선의 방사가 가능하여 가시광 변환을 형광체의 양자효율까지 끌어 올릴 수 있지만, 방전 개시전압이 매우 높아 디스플레이 장치에 적용하기 어렵다. 따라서 고휘도 방전을 위해서 Xe가스 함량 증가에 따라 높아지는 방전 개시 전압을 낮추기 위해서 He가스를 Ne+Xe 혼합가스에 첨가하려고 한다. 이는 He 이온의 운동량이 크기 때문에 방전 개시전압을 낮추는 데는 유리하지만, He의 첨가는 보호막 및 형광체가 스퍼터링 엣칭에 의해 손상되는 문제가 심각해진다는 문제점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로, 본 발명의 목적은, 스퍼터링 수율을 낮추고, 이온에 의한 MgO 에칭을 크게 줄일 수 있으며, 동시에 방전 개시전압을 낮추어 방전 특성을 향상시킬 수 있도록 보호막 조직의 그레인 칼럼이 방향성을 가지는 플라즈마 디스플레이 패널용 보호막, 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 유지전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 기판에 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널용 보호막에 따르면, 상기 보호막의 조직에 방향성을 가지는 그레인 칼 럼이 형성되는 것을 특징으로 한다.
여기서, 그레인 칼럼은, 치밀한 조직을 가지는 제 1 방향과, 상기 제 1 방향에 수직하며 상기 제 1 방향보다 덜 치밀한 조직을 가지는 제 2 방향으로 형성된다.
상기 제 1 방향은 플라즈마 디스플레이 패널의 유지전극의 길이방향에 수직하게 형성된다.
한편, 상기 보호막은 레이저 펄스 또는 플라즈마 이온을 도입하여 전자-빔(E-beam) 증착법으로 형성되는 것이 바람직하다.
선택적으로, 상기 보호막은 레이저 펄스 또는 플라즈마 이온을 도입하여 스퍼터링(sputtering) 증착법으로 형성될 수도 있다.
선택적으로, 기판을 기울여서 그레인 칼럼에 방향성을 줄 수도 있다.
상기 보호막은 MgO 를 포함하여 형성된다.
한편 본 발명의 유지전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 기판에 보호막을 제조하는 플라즈마 디스플레이 패널용 보호막 제조방법에 따르면, 상기 보호막의 조직에는 방향성을 가지는 그레인 칼럼이 형성된다.
이러한 보호막 제조방법에서도, 상기 그레인 칼럼은, 치밀한 조직을 가지는 제 1 방향과, 상기 제 1 방향에 수직하며 상기 제 1 방향보다 덜 치밀한 조직을 가지는 제 2 방향으로 형성된다.
또한, 이러한 보호막 제조방법에서, 상기 제 1 방향은 플라즈마 디스플레이 패널의 유지전극의 길이방향에 수직하게 형성된다.
특히, 상기 보호막은 레이저 펄스 또는 플라즈마 이온을 도입하여 전자-빔 증착법으로 형성되거나, 스퍼터링 증착법으로 형성될 수 있다. 또한, 기판을 기울여서 틸팅(tilting)함으로써 그레인 칼럼에 방향성을 주어 보호막을 형성할 수도 있다.
이어서, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
먼저, 플라즈마 디스플레이 패널 보호막의 역할을 설명하면, 세 가지로 나누어 설명할 수 있다.
첫째는 전극과 유전체를 보호하는 기능이다. 전극 혹은 유전체/전극만 있더라도 방전은 형성된다. 그러나, 전극만 있을 경우 방전 전류 제어가 어렵고 유전체/전극만 있으면 스퍼터링 엣칭이 문제되기 때문에 유전체층은 플라즈마 이온에 강한 보호막으로 코팅되어야 한다.
둘째는 방전 개시전압을 낮추는 역할이다. 방전 개시 전압과 직접 관계되는 물리량은 플라즈마 이온에 대한 물질의 이차 전자 방출계수이며 방전 개시 전압과 서로 반비례하기 때문에 보호막으로부터 방출되는 이차전자의 양이 많을수록 방전 개시 전압은 낮게 된다. 유전체의 경우 이차 전자 방출 계수가 매우 낮기 때문에 보호막의 이차 전자 방출 계수는 높아야 한다.
마지막으로 방전 지연 시간을 짧게 한다. 방전 지연시간은 인가 전압에 대해 어떤 시간 뒤에 방전이 일어나는 현상을 기술하는 물리량이며 형성 지연시간(Tf)과 통계 지연시간(Ts)의 합으로 표시된다. 형성 지연시간은 인가 전압과 방전 전류 사 이의 시간차이며 통계 지연 시간은 형성 지연시간의 통계적 산포이다. 방전 지연시간이 짧을수록 고속 어드레싱이 가능해지게 되고 이로 인하여 싱글스캔이 가능하여 스캔 드라이브 비용을 절감할 수 있고 서브 필드수를 증가시켜 휘도 및 화질을 높일 수 있다.
일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 수직 단면도인 도 1을 참조하면, 유지전극(15)과 어드레스 전극(11) 사이에 전압을 인가하면 우주선 또는 자외선에 의해 생성된 씨드 전자 (Seed Electrons)가 가스와 충돌하여 가스 이온이 생성되고, 가스 이온은 보호막(17)과 충돌하여 다량의 이차 전자를 방출하여 방전셀에 충분한 양의 전자가 생성되어 방전이 일어난다.
한편, 보호막의 이차전자 방출은 오제 중화이론(Auger Neutralization)에 의해 설명될 수 있는데, 이러한 오제 중화이론에 따르면, 가스 이온이 고체 (Solid)와 충돌하면 고체로부터 전자가 가스 이온으로 이동하여 중성 가스를 만들고 고체에서 전자가 진공으로 빠져나가며 고체에는 정공(Hole)이 형성된다. 물질의 이차전자계수는 하기 식과 같이 나타낼 수 있다:
Ek = EI - 2(Eg + χ) (식 1)
여기서, Ek는 고체에서 전자가 진공으로 튀어나올 때의 에너지를 의미하며, EI 는 가스의 이온화 에너지이며, Eg는 고체의 밴드 갭 에너지이며, χ는 전자 친화도를 나타낸다.
한편, 표 1은 각각의 불활성 기체의 공명 발광 파장과 전리 전압을 보여 주고 있다.
불활성 가스와 이온화 에너지
가스 공명 준위 여기 준 안정 준위 여기 전리전압(V)
전압(V) 파장(mm) 수명(ns) 전압(V) 수명(ns)
He 21.2 58.4 0.555 19.8 7.9 24.59
Ne 16.54 74.4 20.7 16.62 20 21.57
Ar 11.61 107 10.2 11.53 60 15.76
Kr 9.98 124 4.38 9.82 85 14.0
Xe 8.45 147 3.79 8.23 150 12.13
형광체의 광 변환 효율을 높이기 위해서는 긴 파장의 진공 자외선을 내는 Xe 기체가 적합하다. 그러나 전리 전압이 낮아서 상기 식 1에서 상기 고체의 밴드 갭 에너지인 Eg = 7.7 eV이고, 전자 친화도인 χ= 0.5 일때, Ek < 0 이므로 방전 전압이 매우 높다. 그러므로 방전 전압을 낮추기 위해서는 전리 전압이 높은 가스를 사용해야 한다.
상기 식 1에 의하면, He의 경우에는 Ek는 8.19 eV이며, Ne의 경우 Ek는 5.17 eV이므로 He의 Ek가 더 크기 때문에 더 낮은 전압에서 방전이 가능하다. 그러나 He 가스가 PDP 방전에 사용되었을 경우, He의 운동량이 크기 때문에 보호막의 플라즈마 엣칭이 심각하게 발생되어 보호막이 손상된다. 그러므로 현재의 PDP에는 Ne+Xe 혼합가스가 쓰이며 Xe 함량은 5%에서 증가하는 추세이다. 그렇지만, 휘도를 올리기 위해서는 Xe 함량을 증가시킬 수 있으나, 방전 전압도 같이 상승한다는 문제점이 있다.
한편, 도 2는 MgO 밴드 갭 사이에 변화를 주는 가스 이온에 의한 고체로부터의 전자 방출을 설명하고 있다. 플라즈마 디스플레이 패널의 보호막에 사용되고 있 는 MgO는 다이아몬드처럼 와이드 밴드 갭 재료 (Wide Band-gap Material)이며 전자 친화도 (Electron Affinity)는 매우 작거나 음의 부호를 가진다. 보호막은 밸런스 밴드 (Valence Band, Ev)와 전도성 밴드 (Conduction Band, Ec) 사이에 불순물 도핑에 의한 도너 레벨 (Donor Level, Ed), 엑셉터 레벨 (Acceptor Level, Ea) 및 깊은 레벨 (Deep Level, Et)를 동시에 형성하여 밴드 갭 수축 (Band Gap Shrinkage) 효과를 만들 수 있다. 이는 상기 식 1에 의해 효과적인 밴드 갭 에너지 (Effective Eg)는 7.7eV보다 더 작을 수 있으므로 Xe에 대한 Ek 값이 0보다 큰 것을 얻을 수 있다. 상기 MgO는 마그네슘 산화물 또는 마그네슘 염 중에서 선택된 하나 이상에서 얻어질 수 있으며, 상기 마그네슘 산화물은 MgO이고, 마그네슘 염은 MgCO3 또는 Mg(OH)2을 포함할 수 있다.
이와같이, 높은 Xe 함량에 따른 방전 전압 상승분을 낮추고 싱글 스캔에 요구되는 방전 지연시간을 만족시키는 보호막 및 그 재료가 요구되고 있으나, 현재까지는 MgO 가 이에 가장 적합한 재료인 것으로 인정되고 있다. 본 발명은 이러한 보호막의 재료의 선택에서 더 나아가 보호막의 조식의 구조를 개선함으로써 방전 개시전압을 낮추고 동시에 플라즈마 에칭을 감소시킬 수 있는 보호막 구조의 배열에 초점을 둔다.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 보호막을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널의 분리 분해 사시도이며, 도 4는 도 3의 플라즈마 디스플레이 패널의 전방패널을 90도 들어올려 보호막의 표면이 나타나도록 도시한 분리 분해 사 시도이다.
도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 보호막을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널은, 서로 대향되게 배치되는 전방패널(110)과 후방패널(150)을 구비한다. 상기 전방패널(110)과 후방패널(150)은 소정 간격으로 이격되어 그들 사이에 발광셀(152)을 형성한다.
후방패널(150)의 배면기판(154)의 상면에는 어드레스 전극(158)이 형성되며, 상기 어드레스 전극은 배면기판의 상면(156)에 형성되는 후방 유전체층(160)에 의해 매립된다.
상기 전방패널(110)은 가시광이 투과될 수 있는 투명기판으로서 주로 유리로 만들어지는 전면기판(112)을 포함하며, 전면기판의 배면(118)에는 배면기판에 형성된 상기 어드레스 전극(158)과 직교하도록 배치되어진 스트라이프 형태의 다수의 유지전극쌍(124)이 형성된다. 상기 유지전극쌍은 X 전극(120)과 Y 전극(122)으로 형성되며, X 전극(120)은 ITO 등의 투명한 재질로 형성된 투명전극(120a)과 도전성이 좋은 금속으로 형성된 버스전극(120b)으로 이루어지며, Y 전극(122) 역시 ITO등으로 형성된 투명전극(122a)과 도전성이 좋은 버스전극(122b)으로 이루어진다.
상기 유지전극쌍(124)이 형성된 전면기판의 배면(118)에는 유지전극쌍(124)을 매립하는 전방 유전체층(114)이 형성되고, 전방 유전체층에는 다시 보호막(116)이 형성된다. 상기 전방패널과 후방패널 사이에는 발광셀(152)을 구획하는 격벽(162)이 형성되며, 구획된 발광셀(152)에는 형광체층(164)이 도포된다.
도 4를 참조하면, 이러한 구조를 가진 플라즈마 디스플레이 패널에서 본 발 명의 핵심은 보호막 조직인 그레인 칼럼(grain column : 130)의 배열에 방향성을 주는 것이다. 보호막의 그레인 칼럼(130)은 소정의 방향을 가진 상태로 배열되어 유지전극쌍(124)과 전방 유전체층(114)을 보호하게 된다.
도 5는 그레인 칼럼이 형성된 보호막의 수직 단면을 나타내는 모식도로서, 도 4의 전방 패널의 일부만을 절개하여 보호막이 상부를 향하도록 배열한 상태를 도시한다. 특히 도 5에서는 설명을 위하여 플라즈마 디스플레이 패널의 내부 구조중에서 일부의 구성요소만을 도시하고 있다.
유지전극쌍의 투명전극(120a, 122a)은 전방 유전체층(114)에 의해 매립되어 있고, 상기 전방 유전체층(114)의 상부에 보호막이 형성되어, 결국 보호막의 그레인 칼럼(130)이 전방 유전체층(114) 상에 배열된다.
도 6은 도 5의 평면도에 해당하는 도면으로서, 그레인 칼럼(130)의 방향성에 대한 추이를 나타낸다.
도 6을 참고하면, 그레인 칼럼(130)의 배열에 방향성이 부가되어, 두가지 방향이 형성된다. 그중 한 방향은 그레인 칼럼(130)이 매우 치밀하게 형성된 방향으로서 이하 제 1 방향이라 한다. 치밀하게 형성된 그레인 칼럼의 제 1 방향은 도 6에서 화살표 B로 표시된다. 한편, 나머지 다른 방향은 그레인 칼럼(130)이 제 1 방향에 대하여 수직하게 배향되며 덜 치밀하게 형성된 방향으로서 이하 제 2 방향이라 한다. 제 2 방향은 도 6에서 화살표 A로 표시된다.
도 4 및 도 6을 참고하면, 보호막의 그레인 칼럼(130)의 조직이 치밀한 방향인 제 1 방향(B)은 플라즈마 디스플레이 패널의 유지전극쌍(124)의 길이 방향, 즉 투명전극(120a, 122a)의 길이방향에 수직한 방향이 되도록 형성된다. 따라서 전방패널에 보호막(116)을 형성할 때 보호막 조직의 그레인 칼럼(130)은 유지전극쌍에 수직한 방향으로 치밀하게 형성되며, 유지전극쌍에 나란한 방향으로는 덜 치밀하게 형성되어 진다.
그레인 칼럼의 배열에 방향성이 없을 때는 보이드(void)가 랜덤하게 분포되고, 그레인 칼럼의 배열에 방향성이 있을 때는 보이드가 그레인 칼럼의 치밀한 방향(제 1 방향)에 나란하게 형성된다. 그러므로 그레인 칼럼이 치밀한 제 1 방향으로는 보이드가 적고, 그레인 칼럼이 덜 치밀한 제 2 방향으로는 보이드가 상대적으로 많게 된다.
보호막 조직의 그레인 칼럼(130)이 매우 치밀한 방향인 제 1 방향(B)을 패널에 형성된 유지전극쌍의 길이방향(도 6의 화살표 A 방향), 즉 투명전극(120a, 122a)이 길이방향과 수직하게 되도록 형성하면 아래와 같은 두가지 개선점을 도출할 수 있다.
그 첫째는 스퍼터링 수율을 낮출 수 있다. 유지전극쌍에 전압을 인가하면 플라즈마 이온이 치밀한 방향으로 움직이므로 방전시 발생하는 이온에 의한 보호막 조직의 성분인 MgO 가 플라즈마 에칭되어 손상을 받게 되는 현상을 크게 줄일 수 있게 된다.
그 둘째는 방전특성을 향상시킬 수 있다. 종전의 기술로 성막된 보호막의 그레인 칼럼 배열은 일정한 배향성 없이 매우 랜덤하여 이에 따라 보이드도 랜덤하게 분포되어 있고 표면거칠기 또한 일정하지 않고 각 영역에 따라 랜덤하게 형성되 었다. 그러므로 방전지연시간(형성지연시간 + 통계지연시간)과 그 산포를 줄이는 것이 쉽지 않다. 그러나, 그레인 칼럼의 배열에 방향성이 있을 때 치밀한 방향인 제 1 방향(B)으로 전기장이 가해지므로 플라즈마 이온이 보호막 표면을 따라서 또는 그 위로 이동할 때 보이드나 표면거칠기에 의해 방해를 덜 받을 수 있으므로 빠른 2차 전자 방출이 가능하여 더 짧은 방전지연시간과 더 낮은 방전개시전압을 얻을 수 있다.
유전체 상에 보호막을 성막할 때 종래의 증착방법, 즉 전자-빔 증착(E-beam Deposition)이나 스퍼터링 증착(Sputtering Deposition) 방법을 사용하면, 보호막 조직은 특정한 결정 배향을 가진 그레인 칼럼의 랜덤한 배열을 가진다. 종래의 다른 증착방법, 즉 스크린 프린팅(Screen Printing), 졸-겔 코팅(Sol-gel Coating), 스핀코팅(Spin Coating), 디핑(Dipping)의 방법은 그레인 칼럼의 배열을 형성하지 않는다.
PDP 상판 유전체 상의 그레인 칼럼의 축방향은 보통 보호막 재료의 결정 방향과 관계되며 증착조건(기판 온도, 분위기 가스, 압력)에 따라 주요 결정면이 나타난다. 증착 조건에 따라 그레인 칼럼의 직경과 모양은 변할 수 있으나 랜덤한 배열을 가진다. 방향성 있는 그레인 칼럼의 배열은 기존의 증착법에 두가지 다른 방법을 도입하면 가능하다. 그 하나는 전자-빔 증착 또는 스퍼터링 증착에 레이저 펄스 또는 플라즈마 이온을 도입하는 것이고 다른 하나는 기판을 특정한 각도로 경사지게 틸팅(tilting)하는 것이다.
전자-빔 증착 또는 스퍼터링 증착으로 성막할 경우, 레이저 펄스 또는 플라 즈마 이온을 적용하면, 레이저 빔 또는 플라즈마 이온은 유지전극쌍의 축방향과 수직이고 기판에 대하여 특정한 각도로 그레인 칼럼을 빔 또는 이온의 방향으로 배열하게 된다. 한편, 기판을 경사지게 틸팅하여 배열성을 주는 방법은 기판의 크기가 작은 경우에 적용할 수 있다.
이상에서 설명된 바와 같이 본 발명에 의하면, Xe 함량과 싱글 스캔에 대응하는데 유리하게 된다.
또한, 보호막 조직의 그레인 칼럼 배열에 방향성을 주면 보이드(void)의 방향을 결정할 수 있으므로 보이드가 적은 방향으로 전기장을 인가하여 방전시키면 플라즈마 이온에 의해 스퍼터링 수율이 작아 보호막의 수명을 증가시킬 수 있으며 방전 이온이 보이드와 표면 거칠기에 의해 방해 받지 않아 2차 전자 방출이 급속하게 이루어질 수 있으므로 방전 지연 시간이 더 짧아질 수 있으며 방전 개시 전압도 더 개선될 수 있다.
현재 사용되고 있는 보호막에 비해 스퍼터링 수율, 방전개시전압, 방전지연시간을 더욱 향상시킬 수 있다. 보호막 조직의 그레인 칼럼에 방향성을 주어 스퍼터링 수율을 낮추어 패널 수명을 더욱 연장시킬 수 있으며, 방전 개시 전압을 더 낮추어 고휘도를 위한 Xe 함량 증가에도 방전전압상승을 억제할 수 있으며, 또한 방전지연시간을 더 짧게 하며 고속 어드레싱을 가능하게 하여 HD급 패널의 싱글스캔을 현실화할 수 있다. 더불어 서스테인(Sustain)수 증가로 휘도 증가와 티브이-필드(TV-field)를 구성하는 서브-필드(Sub-field)증가로 의사윤곽저감 등의 효과도 가져올 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.

Claims (13)

  1. 유지전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 기판에 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널용 보호막에 있어서,
    상기 보호막의 조직에는 방향성을 가지는 그레인 칼럼(grain column)이 형성되며,
    상기 그레인 칼럼은, 치밀한 조직을 가지는 제 1 방향과, 상기 제 1 방향에 수직하며 상기 제 1 방향보다 덜 치밀한 조직을 가지는 제 2 방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 보호막.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 방향은 플라즈마 디스플레이 패널의 유지전극의 길이방향에 수직 한 것을 특징으로 하는 보호막.
  4. 제 1 항에 있어서,
    레이저 펄스 또는 플라즈마 이온을 도입하여 전자-빔(E-beam) 증착법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 보호막.
  5. 제 1 항에 있어서,
    레이저 펄스 또는 플라즈마 이온을 도입하여 스퍼터링(sputtering) 증착법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 보호막.
  6. 제 1 항에 있어서,
    기판을 기울여서 상기 그레인 칼럼에 방향성을 주는 것을 특징으로 하는 보호막.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 보호막이 MgO 를 포함하는 것을 특징으로 하는 보호막.
  8. 유지전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 기판에 보호막을 제조하는 플라즈마 디스플레이 패널용 보호막 제조방법에 있어서,
    상기 보호막의 조직에는 방향성을 가지는 그레인 칼럼이 형성되며,
    상기 그레인 칼럼은, 치밀한 조직을 가지는 제 1 방향과, 상기 제 1 방향에 수직하며 상기 제 1 방향보다 덜 치밀한 조직을 가지는 제 2 방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 보호막 제조방법.
  9. 삭제
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 1 방향은 플라즈마 디스플레이 패널의 유지전극의 길이방향에 수직한 것을 특징으로 하는 보호막 제조방법.
  11. 제 8 항에 있어서,
    상기 보호막은 레이저 펄스 또는 플라즈마 이온을 도입하여 전자-빔 증착법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 보호막 제조방법.
  12. 제 8 항에 있어서,
    상기 보호막은 레이저 펄스 또는 플라즈마 이온을 도입하여 스퍼터링 증착법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 보호막 제조방법.
  13. 제 8 항에 있어서,
    기판을 기울여서 상기 그레인 칼럼에 방향성을 주는 것을 특징으로 하는 보호막 제조방법.
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