FR2660991A1

FR2660991A1 - Dispositif pour traiter une bande formant substrat recouverte d'un revetement.

Info

Publication number: FR2660991A1
Application number: FR9104375A
Authority: FR
Inventors: Hebels Albert
Original assignee: Pagendarm Beschichtungstechnik GmbH
Current assignee: Pagendarm Beschichtungstechnik GmbH
Priority date: 1990-04-14
Filing date: 1991-04-10
Publication date: 1991-10-18
Also published as: CH680949A5; ITMI910892A1; GB2242969A; GB9107366D0; DE4012176A1; IT1245605B; US5179908A; ITMI910892A0; GB2242969B; DE4012176C2; FR2660991B1; DE9007649U1

Abstract

Dans un séchoir à rouleaux servant à sécher un revêtement (2) déposé sur une bande formant substrat (1), un gaz de traitement est projeté sur la face, non pourvue du revêtement, de la bande formant substrat à l'aide de deux buses à venturi (7, 8) situées des deux côtés du rouleau de guidage (3) de sorte que la bande s'applique contre le rouleau de guidage, moyennant un accroissement de l'angle d'enroulement et entraîne ce rouleau. Application notamment au séchage de bandes dans un séchoir à rouleaux.

Description

i L'invention concerne un dispositif pour traiter

une bande formant substrat pourvue d'un revêtement, notam-

ment pour le séchage d'une bande formant substrat guidée

par des rouleaux de guidage.

Les dispositifs du type indiqués plus haut, qui se présentent par exemple sous la forme de séchoirs usuels à rouleaux, travaillent avec un gaz de manière à sécher le

revêtement déposé sur la bande formant substrat, c'est-à-

dire à éliminer l'humidité et par conséquent à consolider le revêtement au moyen de l'application d'un gaz amené à

une température déterminée Habituellement, le gaz est di-

rigé directement sur le revêtement de la bande formant sub-

strat, ce qui peut conduire tout d'abord à un séchage de la surface de la masse du revêtement et empêcher l'évacuation du solvant qui continue à s'évaporer au-dessous de ladite surface Cependant, pour le traitement de la bande formant

substrat, on peut également utiliser un gaz, dont la tempé-

rature est inférieure à celle de la bande formant substrat,

qui est chauffée au moyen de l'opération de séchage du re-

vêtement et qui doit être ensuite refroidie, ce qui est in-

admissible pour sa manipulation ultérieure.

L'invention a pour but d'optimiser l'application du gaz à la bande formant substrat de manière à obtenir des améliorations importantes aussi bien concernant la qualité du procédé de revêtement que l'entraînement de la bande

formant substrat pendant le traitement.

Ce problème est résolu conformément à l'invention grâce au fait qu'un système d'amenée d'un gaz comprimé est associé à la bande formant substrat au niveau de sa face

intérieure non pourvue d'un revêtement, dans les zones la-

téralement voisines du pourtour des rouleaux de guidage.

Selon une proposition supplémentaire, le gaz est mis en température, ce qui signifie, au sens de l'invention, dans le cas de l'utilisation d'un gaz chaud, un chauffage de la bande formant substrat plus froide dans le but de sécher le revêtement par extraction du solvant ou, dans le cas de l'utilisation d'un gaz plus froid, le refroidissement d'une bande formant substrat chauffée,

préalablement munie du revêtement.

Selon une variante de réalisation avantageuse, le système d'alimentation en gaz est pourvu de buses à venturi

qui débouchent des deux côtés du rouleau de guidage, au-

dessous de la bande formant substrat La dépression pro-

duite de cette manière par l'effet venturi entraîne la bande formant substrat tout en augmentant l'angle d'enveloppement sur la surface circonférentielle du rouleau de guidage, qui par conséquent est entraîné directement par la bande formant substrat, tout en évitant un déplacement relatif entre le rouleau de guidage et la bande formant

substrat, ce qui permet de supprimer un entraînement parti-

culier. Conformément à une variante de réalisation, les buses à venturi sont pourvues d'ouvertures de sortie tournées à l'opposé les unes des autres et s'étendant dans des directions opposées, de sorte que le gaz sortant supporte la bande formant substrat, dans les zones voisines. Étant donné que, selon une configuration,

les buses à venturi sont disposées symétriquement par rap-

port au rouleau de guidage, on obtient une dépression

constante dans labutd'appliquer par aspiration la bande for-

mant substrat sur le rouleau de guidage.

En outre, la bande formant substrat peut être pré-

déplacée par un moyen de tirage de la bande, dont la trac-

tion, qu'il applique à la bande, peut être modifiée On peut, de cette manière, accroître plus encore l'angle d'enveloppement de la bande sur le rouleau de guidage, par

réduction de la traction appliquée à la bande.

L'avantage fourni par l'invention consiste en ce que l'on obtient un guidage rectiligne simple du substrat, et ce avec ménagement, guidage lors duquel la bande formant

substrat est supportée de façon sûre moyennant un enroule-

ment partiel et un entraînement des rouleaux de guidage et par conséquent est chargée d'une manière qui provoque l'extraction du solvant.

D'autres caractéristiques et avantages de la pré-

sente invention ressortiront de la description donnée ci-

après prise en référence aux dessins annexés, sur lesquels: la figure 1 illustre le guidage d'une bande formant substrat, pourvue d'un revêtement, dans un séchoir à rouleaux; et

la figure 2 représente une section II, représen-

tée à plus grande échelle, du séchoir à rouleaux de la fi-

gure 1.

Dans le séchoir à rouleaux représenté sur les fi-

gures 1 et 2 et qui sert à sécher un revêtement 2 déposé sur la face supérieure d'une bande formant substrat 1, cette bande est guidée sur des rouleaux de guidage 3 qui

sont montés fous.

Un gaz chaud et comprimé est dirigé contre la face inférieure, non pourvue du revêtement, de la bande formant substrat 1 A cet effet, il est prévu un système d'alimentation en gaz, qui est constitué par des chambres à gaz 4,6, qui sont raccordées à une source de pression non représentée et débouchent, au-dessous de la bande formant substrat, dans deux buses à venturi 7,8, qui sont disposées symétriquement par rapport au rouleau de guidage 3 et dont les ouvertures de sortie sont dirigées dans des directions opposées l'une de l'autre Le gaz, qui sort des buses 7,8 avec une vitesse d'écoulement accrue, produit, grâce à

l'effet venturi, dans des chambres 9,11 qui jouxtent laté-

ralement le rouleau de guidage 3, une dépression constante qui réalise l'aspiration de la bande formant substrat 1 contre le rouleau de guidage 3 En raison de la disposition

symétrique des buses à venturi 8,9, la bande formant sub-

strat 1 s'applique avec un angle d'enroulement défini a, contre le rouleau de guidage 3 de sorte que ce dernier est entraîné par la bande formant substrat 1, qui, en l'absence de tout déplacement relatif entre le rouleau de guidage et la bande formant substrat, est entraînée avec notamment beaucoup de ménagement et est en outre supportée par le gaz

sortant, au niveau de la zone 12.

Le gaz comprimé dirigé sous la bande formant

substrat 1 est évacué par l'intermédiaire de chambres d'as-

piration 13.

En réduisant la traction appliquée à la bande et symbolisée par la flèche 14, on peut accroître de façon supplémentaire l'angle d'enroulement a sur les rouleaux de

guidage 3.

Dans le cas d'utilisation d'un gaz chaud, la face

inférieure de la bande formant substrat, pourvue du revête-

ment, est chauffée de telle sorte que l'on obtient une ex-

traction parfaite du solvant et par conséquent un séchage

croissant du revêtement 2, de l'intérieur vers l'extérieur.

Si, comme cela est usuel, le dépôt du revêtement 2 s'effectue à partir du bas sur la bande formant substrat

1, on peut faire également fonctionner le séchoir à rou-

leaux agencé conformément à l'invention, en position re-

tournée.

Claims

REVENDICATIONS

1 Dispositif pour traiter une bande formant sub-

strat pourvue d'un revêtement, notamment pour le séchage d'une bande formant substrat -guidée sur des rouleaux de guidage, caractérisé en ce qu'un système ( 4,6,7,8) d'amenée d'un gaz comprimé est associé à la bande formant substrat

( 1) au niveau de sa face non pourvue d'un revê-

tement, dans les zones latéralement voisines du pourtour

des rouleaux de guidage ( 3).

2 Dispositif selon la revendication 1, caracté-

risé en ce que le gaz est amené à une température prédéterminée.

3 Dispositif selon l'une des revendications 1 ou

2, caractérisé en ce que le système d'amenée en gaz comporte des buses à venturi ( 7,8) qui débouchent des deux côtés du rouleau de guidage ( 3), au-dessous de la bande

formant substrat ( 1).

4 Dispositif selon l'une des revendi-

cations 1 à 3, caractérisé en ce que les buses à venturi ( 7,8) comporte des ouvertures de sortie tournées à l'opposé

les unes des autres et s'étendant dans des directions oppo-

sées. Dispositif selon l'une des revendi- cations 1 à 4, caractérisé en ce que les buses à venturi ( 7,8) sont disposées symétriquement par rapport au rouleau

de guidage ( 3).

6 Dispositif selon l'une quelconque des revendi-

cations 1 à 5, caractérisé en ce que la bande formant sub-

strat ( 1) peut être préentrainée par des moyens ( 14) de ti-

rage de bande, dont la traction, qu'ils appliquent à la ban-

de, peut être modifiée.