DE4012176C2 - Vorrichtung zum Behandeln einer beschichteten Substratbahn - Google Patents
Vorrichtung zum Behandeln einer beschichteten SubstratbahnInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Behandeln, insbesondere Trocknen, einer
beschichteten Substratbahn mit wenigstens einer auf der unbeschichteten Seite der
Substratbahn angeordnete Leitwalze und auf dieselbe Seite der Substratbahn gerichte
ten Düsen für ein unter Druck stehendes Gas.
Relativbewegung zwischen einer Leitwalze und der darauf liegenden Bahn kann bei
empfindlichem Bahnmaterial zu Beschädigung, beispielsweise Kratzern führen. Es kann
deshalb erwünscht sein, daß die Bahn über einen gewissen Umschlingungswinkel und
unter der Wirkung eines Differenzdrucks an der Oberfläche der Leitwalze anliegt, damit
Relativbewegung durch Reibhaftung verhindert wird. Es ist bekannt, dies durch ein Paar
von Luftstrahlen zu bewirken, die von der der Leitwalze gegenüberliegenden Seite sym
metrisch in Abstand voneinander auf die Bahn gerichtet werden und diese an die Leit
walze anzudrücken (GB 718 841, Fig. 4). Da die Bahn mit der unbeschichteten Seite
auf der Leitwalze aufliegt, sind dabei die Strahlen auf die beschichtete Seite der Bahn
gerichtet, was dazu führen kann, daß die Oberfläche der Beschichtungsmasse als erstes
abtrocknet und den Austritt des darunter verdampfenden Lösungsmittels behindert. Es
sind daher auch Vorrichtungen bekannt geworden, bei denen der Differenzdruck, der die
Bahn gegen den Umfang der Leitwalze drückt, durch einen von der Seite der Leitwalze
her auf die Bahn einwirkenden Unterdruck erzeugt wird. Bei einer ersten solchen Vor
richtung (US 3 738 018) ist der Raum zwischen einem Leitwalzenpaar mittels einer an
die Walzenoberflächen anschließenden Saugdüse mit Unterdruck beaufschlagt. Diese
Anordnung hat den Nachteil, daß zwischen den Leitwalzen an der Bahn nur eine gerin
ge, den Wärmeübergang nicht wesentlich fördernde Luftbewegung stattfindet. Bei einer
anderen, der Bildung des Gattungsbegriffs des Anspruchs 1 zugrundeliegenden be
kannten Vorrichtung (WO 82/01410 A1), bei der gleichfalls der Zwischenraum eines Wal
zenpaars mit Unterdruck beaufschlagt ist, ist deshalb zusätzlich im Walzenzwischenraum
mit Abstand von den Walzen ein Düsenkasten vorgesehen, aus dem Luft gegen die
Bahn austritt, die dann parallel zur Bahn umgelenkt wird, um durch den Zwischenraum
zwischen dem Kasten und den Leitwalzen abgeführt zu werden. Diese Anordnung ist
aufwendig in Bau und Betrieb. Die Kammer zur Unterdruckhaltung, innerhalb der der
Düsenkasten vorgesehen ist, ist sehr ausgedehnt und kann gegenüber der Bahn nicht
abgedichtet werden. Daher ergeben sich umfangreiche Verlustströme, die zudem den
Nachteil haben, daß sie die Stabilität des Bahnlaufs insbesondere im Randbereich der
Bahn beeinträchtigen. Auch verschlechtern die ausgedehnten Wände der Unterdruck
kammer die Zugänglichkeit und den Überblick.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung der eingangs ge
nannten Art zu schaffen, die weniger aufwendig ist. Die erfindungsgemäße Lösung be
steht in den Merkmalen des Anspruchs 1.
Jeder Leitwalze ist ein Paar von Venturi-Düsen beiderseits vorzugsweise symmetrisch
benachbart, die voneinander und von der Leitwalze weg auf die Substratbahn gerichtet
sind. Der durch den Venturi-Effekt erzeugte Unterdruck wirkt im Bereich der benachbar
ten Leitwalze und zieht die Substratbahn unter Vergrößerung des Umschlingungswinkels
auf die Umfangsfläche der Leitwalze, die damit unter Vermeidung einer Relativbewe
gung zwischen der Leitwalze und der Substratbahn direkt von der Substratbahn ange
trieben wird, so daß ein eigener Antrieb entfallen kann. Der von den Düsen auf die
Substratbahn gerichtete Gasstrom bewirkt gleichzeitig die Behandlung der Substratbahn,
indem das Gas beispielsweise entsprechend temperiert ist. Bei Verwendung eines er
wärmten Gases bewirkt es die Erhitzung einer kühleren Substratbahn zwecks Ab
trocknung der Beschichtung durch Austrieb des Lösungsmittels bzw. bei Verwendung
eines kälteren Gases die Abkühlung einer erhitzten, zuvor beschichteten Substratbahn.
Dadurch, daß gemäß einer Ausgestaltung der Erfindung die Venturi-Düsen symmetrisch
zur Leitwalze angeordnet sind, ergibt sich ein konstanter Unterdruck zwecks Ansaugung
der Substratbahn an die Leitwalze. Die Substratbahn ist von einem Bahnabzugmittel
vorbewegbar, dessen Bahnzug variierbar ist. Auf diese Weise läßt sich durch Verkleine
rung des Bahnzugs der Umschlingungswinkel an der Leitwalze nochmals vergrößern.
Der mit der Erfindung erzielte Vorteil besteht darin, daß eine einfache, geradlinige und
schonende Substratführung erzielt wird, bei der die Substratbahn unter teilweiser Um
schlingung und Mitnahme der Leitwalzen sicher getragen und dabei auf eine den Aus
trieb des Lösungsmittels fördernde Weise beaufschlagt wird.
Die Erfindung wird nachstehend anhand des in den beigefügten
Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert.
Hierbei zeigen:
Fig. 1 die Führung einer beschichteten Substratbahn inner
halb eines Walzentrockners und
Fig. 2 einen vergrößerten Ausschnitt II des Walzentrockners
gemäß Fig. 1.
Bei dem in den Fig. 1 und 2 gezeigten Walzentrockner zum
Trocknen einer auf der Oberseite einer Substratbahn 1 aufge
brachten Beschichtung 2 ist die Substratbahn über leer mitlau
fende Leitwalzen 3 geführt.
Gegen die unbeschichtete Unterseite der Substratbahn 1 wird
ein beheiztes, unter Druck stehendes Gas geleitet. Hierzu ist
ein Gaszuführsystem vorgesehen, bestehend aus mit einer nicht
gezeigten Druckquelle verbundenen Gaskammern 4, 6, welche
unterhalb der Substratbahn in zwei symmetrisch zur Leitwalze 3
angeordnete Venturi-Düsen 7, 8 ausmünden, deren Austrittsöff
nungen in voneinander abgewandte, entgegengesetzte Richtungen
weisen. Das mit erhöhter Strömungsgeschwindigkeit aus den
Düsen 7, 8 strömende Gas erzeugt nach dem Venturi-Effekt in
seitlich der Leitwalze 3 angrenzenden Kammern 9, 11 einen
konstanten Unterdruck, welcher die Ansaugung der Substratbahn 1
auf die Leitwalze 3 bewirkt. Durch die symmetrische Anordnung
der Venturi-Düsen 7, 8 legt sich die Substratbahn 1 dabei mit
einem definierten Umschlingungswinkel α an die Leitwalze 3
an, so daß diese von der Substratbahn 1 angetrieben wird, wobei
letztere wegen Fehlens jeglicher Relativbewegung zwischen
Leitwalze und Substratbahn besonders schonend transportiert
und darüber hinaus durch das ausströmende Gas im Bereich der
Zone 12 getragen wird.
Über Abzugskammern 13 wird das unter die Substratbahn 1 gelei
tete Druckgas abgeleitet.
Durch Verkleinerung des durch den Pfeil 14 symbolisierten Bahn
zugs läßt sich der Umschlingungswinkel α an den Leitwalzen 3
noch vergrößern.
Bei Verwendung von erwärmten Gas wird die Unterseite der
beschichteten Substratbahn derart beheizt, daß ein ungehinder
ter Austrieb des Lösungsmittels und damit eine zunehmende
Abtrocknung der Beschichtung 2 von innen nach außen erfolgt.
Wenn, wie üblich, der Auftrag der Beschichtung 2 auf die
Substratbahn 1 von unten erfolgt, kann der in erfindungsge
mäßer Weise ausgebildete Walzentrockner auch über Kopf be
trieben werden.
Claims (3)
1. Vorrichtung zum Behandeln, insbesondere Trocknen, einer
beschichteten Substratbahn (1, 2) mit wenigstens einer auf
der unbeschichteten Seite der Substratbahn (1) angeordne
ten Leitwalze (3) und auf dieselbe Seite der Substratbahn
(1) gerichteten Düsen (7, 8) für ein unter Druck stehen
des Gas, dadurch gekennzeichnet, daß die beiderseits be
nachbart der Leitwalze (3) angeordneten Düsen (7, 8) von
einander und von der Leitwalze (3) weg gerichtete Ventu
ri-Düsen sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Venturi-Düsen (7, 8) symmetrisch zur Leitwalze (3)
angeordnet sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich
net, daß die Substratbahn (1) von einem Bahnabzugmittel
(14) vorbewegbar ist, dessen Bahnzug variierbar ist.
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| D2 | Grant after examination | ||
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