FR2565701A1 - Procede de fabrication de guides d'ondes optiques integres et guide d'onde optique produit par sa mise en oeuvre - Google Patents

Procede de fabrication de guides d'ondes optiques integres et guide d'onde optique produit par sa mise en oeuvre Download PDF

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Abstract

L'INVENTION CONCERNE LA FABRICATION DE GUIDES D'ONDES OPTIQUES INTEGRES. ELLE SE RAPPORTE A UN PROCEDE DANS LEQUEL UN APPAREIL COMPRENANT UNE ZONE REACTIONNELLE FORMEE A L'INTERIEUR D'UN TUBE 3 RECOIT UN MELANGE CONVENABLE DE GAZ REACTIFS PAR UN TUBE 4 AYANT DES PERFORATIONS 5, EN PRESENCE D'UN PLASMA CREE PAR UNE CAVITE A MICRO-ONDES 6. DE CETTE MANIERE, UNE COUCHE DE VERRE FORMANT UN DESSIN PEUT ETRE DEPOSEE AFIN QU'ELLE CONSTITUE L'AME DES GUIDES D'ONDES OPTIQUES, ET ELLE EST ENSUITE RECOUVERTE D'UN VERRE DE PLUS FAIBLE INDICE DE REFRACTION. APPLICATION A LA REALISATION DE GUIDES D'ONDES OPTIQUES.

Description

La présente invention concerne la fabrication de
guides d'ondes optiques intégrés.
Les guides d'ondes optiques intégrés sont des guides d'ondes solidaires d'un substrat de forme générale plane et dans lesquels ou bien le guide d'onde est uniforme dans tout le plan des guides d'ondes plans et du substrat, ou bien le guide d'onde est formé d'un matériau de guidage placé sur le substrat et formant des guides d'ondes suivant des dessins. Habituellement, ces guides d'ondes sont réalisés par dépôt du matériau de guidage des ondes, habituellement un verre qui a été dopé afin que son indice de réfraction soit réglé, par dépôt de particules de verre à la surface
du substrat puis par chauffage afin que le guide d'onde fonde.
Ce procédé nécessite cependant un réglage très précis de la température car aucune particule de verre ne se dépose sans gradient de température dans la direction d'écoulement du
gaz contenant les réactifs.
L'invention concerne donc un procédé de fabrication de guides d'ondes optiques intégrés qui permet un réglage
simple et facile de la composition du verre déposé.
L'invention concerne plus précisément un procédé de fabrication de guides d'ondes optiques intégrés, dans lequel un guide d'onde est composé d'un verre déposé sous forme d'une première couche, sur un substrat, par dépôt chimique en phase
vapeur dans un plasma.
De préférence, une seconde couche d'un verre ayant un indice de réfraction plus faible est déposée sur la première couche. Dans un mode de réalisation préféré de l'invention, la première couche de verre a la configuration d'un dessin voulu formé sur le substrat, et la seconde couche de verre
- est déposée sur ce dessin voulu.
Le dessin voulu de verre peut être formé par enlève-
ment sélectif d'une partie de la première couche après son
dépôt afin que le dessin voulu reste, l'enlèvement étant avan-
tageusement réalisé par disposition d'un cache sur la première couche, avec le dessin voulu, puis par attaque chimique du
reste de la première couche de verre.
Dans une variante, le dessin voulu peut être réalisé par formation d'une gorge ayant le dessin nécessaire, dans le substrat, puis par dépôt de la première couche afin que le dessin voulu se forme au fond du dessin des gorges. De cette manière, l'enlèvement du reste de la première couche n'est pas nécessaire et la seconde couche de verre peut être
déposée immédiatement sur la première.
La seconde couche de verre est avantageusement déposée par dépôt chimique en phase vapeur dans un plasma. Le substrat
est de préférence formé du verre qui est utilisé pour la se-
conde couche si bien que la première couche, constituant une âme, est enrobée d'un revêtement de verre d'un plus faible
indice de réfraction.
Le procédé selon l'invention permet ainsi la fabrica-
tion d'un grand nombre de guides d'ondes plans ou en bande formant des dispositifs optiques intégrés actifs ou passifs, par exemple des répartiteurs-combinateurs de faisceaux, des coupleurs directionnels ou des multiplexeurs-démultiplexeurs
de longueurs d'onde.
D'autres caractéristiques et avantages de deux pro-
cédés de fabrication de guides d'ondes optiques intégrés selon
l'invention ressortiront mieux de la description qui va suivre,
faite à titre illustratif en référence aux dessins annexes sur lesquels la figure 1 est une élévation schématique en coupe partielle d'un appareil utilisé pour la fabrication de guides d'ondes optiques intégrés selon l'invention; les figures 2a à 2d représentent schématiquement les diverses étapes d'un procédé selon l'invention; et les figures 3a à 3d représentent schématiquement
des étapes d'une variante du procédé de l'invention.
On se réfère d'abord aux figures 2a à 2d qui indiquent que le dessin voulu pour le guide d'onde est d'abord écrit dans un substrat 11 par photolithographie Le substrat est formé d'un verre ayant le même indice de réfraction que celui
qui doit être utilisé pour la formation de la couche de revê-
tement. Le reste du substrat est alors couvert d'un cache 12 formé d'un matériau convenable (figure 2a) et le dessin est attaqué par tout procédé connu, par exemple chimiquement ou par pulvérisation ionique. Le cache 12 est alors retiré et laisse le substrat couvert d'un dessin de gorges13 (figure
2b) dans lesquelles les guides d'ondes peuvent être enrobés.
Le verre d'âme 14 est alors déposé sur le substrat par dépôt chimique en phase vapeur dans un plasma comme décrit plus en détail dans la suite en référence à la figure 1. Le verre d'âme 14 constituant le guide d'onde a un indice de réfraction légèrement supérieur à celui de la couche 15 de revêtement et du substrat 11 et il peut avoir tout profil
voulu de variation de l'indice de réfraction dans son épais-
seur, qui est inférieure à la profondeur des gorges 13, afin que le guide d'onde 14 soit totalement enrobé dans les gorges 13 (figure 2c), par réglage convenable de la quantité de matière
de dopage du verre d'âme en cours de dépôt.
La couche 15 de revêtement est alors déposée, à nouveau par dépôt chimique en phase vapeur dans un plasma, sur le verre 14 d'âme afin que le guide d'onde optique intégré complet
soit formé (figure 2d).
Une variante de procédé de fabrication de guides d'ondes optiques intégrés est représentée sur les figures 3a à 3d sur lesquelles le matériau d'âme 14 est d'abord déposé par dépôt chimique en phase vapeur dans un plasma sous forme d'une couche plane ayant le profil nécessaire de variation d'indice de réfraction (figure 3a). Le dessin des guides d'ondes nécessaire est alors écrit par photolithographie sur la couche d'âme déposée et il reçoit ensuite un cache convenable 12 (figure 3b). Le reste de la couche d'âme déposée est totalement attaqué, chimiquement ou par pulvérisation ionique ou de toute autre manière, et le cache 12 est retiré (figure 3c). La couche de revêtement 15 est enfin déposée afin qu'elle forme le guide
d'onde optique intégré terminé (figure 3d).
L'appareil représenté sur la figure 1 peut être utilisé pour le dépôt des verres d'âme et de revêtement. Il comporte un tube de silice 1 qui a une configuration qui délimite un
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épaulement 2 sur lequelest disposé coaxialement un second
tube 3 de silice qui est plus court et a un plus petit dia-
mètre. Le premier tube 1 de silice est fermé à une première extrémité par laquelle passe un troisième tube perforé 4 de silice qui pénètre dans le second tube interne 3, et le premier tube est raccordé, à son autre extrémité, à une pompe à vide
(non représentée). Le tube perforé 4 de silice est placé coa-
xialement dans le tube interne 3 et il est perforé dans la région entourée par le tube 3. Il est fermé à l'extrémité qui se trouve dans le premier tube 1 afin que des gaz qui sont transmis au tube perforé 4 (comme indiqué par la flèche) soient obligés de passer par les perforations avant d'être
aspirés par la pompe.
Lorsque les gaz s'écoulent par les perforations, ils pénètrent dans une zone réactionnelle formée dans le tube interne 3 de silice dans laquelle une réaction chimique est déclenchée par un plasma produit dans la zone réactionnelle par une cavité 6 à microondes placée sous la zone réactionnelle et alimentée en énergie par un générateur de microondes (non représenté). Les gaz contiennent habituellement de l'oxygène avec des vapeurs d'un ou plusieurs halogénures et avec un gaz facilement ionisable tel que l'argon. La réaction chimique
produit un verre dopé par diverses matières, le verre se dépo-
sant sur le substrat 7 monté dans une fenêtre 8 découpée dans le tube interne 3 et ainsi exposé à la zone réactionnelle formée dans le tube 3. La pression dans la zone réactionnelle est maintenue autour de 10 torr et l'énergie des microondes et les débits relatifs des gaz et des vapeurs sont réglés
afin -qu'une colonne de plasma de longueur voulue soit formée.
Un enroulement 9 de chauffage est placé le long de la zone réactionnelle à l'extérieur du tube 1 de silice afin
que les substrats soient maintenus à une température convenable.
La température n'affecte pas directement les réactions chimiques
ou les vitesses de dépôt, mais elle est nécessaire à l'obten-
tion d'une bonne adaptation thermique entre le substrat et les couches déposées. Si une température suffisamment élevée n'est pas maintenue dans la zone réactionnelle, les couches
déposées peuvent se fissurer et/ou ne pas adhérer au substrat.
Une température de l'ordre de 1000 C est souvent nécessaire à l'obtention d'un bon accord thermique entre les couchies déposées et les substrats, mais, lorsque les couches qu. d vent être déposées sont minces, des températures plus faibles
peuvent être utilisées.
Le débit et la composition du mélange gazeux s'écou-
lant dans les tubes 4 et 3 peuvent être modifiés (manuellement
ou sous la commande d'un ordinateur) pendant le temps de dépôt.
Ceci permet la modification de la composition de la couche déposée et en particulier de son indice de réfraction afin
que le profil voulu d'indice de réfraction puisse être obtenu.
Le dépôt chimique en phase vapeur dans un plasma est particulièrement utile pour le dépôt de verre dopé par GeO2 afin que ses propriétés de réfraction de la lumière puissent
être utilisées dans des dispositifs optiques intégrés.
Cette technique de dépôt dans un plasma, lors de la fabrication de guides d'ondes optiques intégrés, présente plusieurs avantages très importants par rapport aux procédés classiques de dépôt. La technique mettant en oeuvre le plasma est bien plus souple, permettant le dépôt d'un plus grand nombre de matières,avec une stoechiométrie mieux réglée dans les couches déposées. Le procédé au plasma donne des guides d'ondes à faible coefficient de dispersion car, à aucun moment au cours des opérations, des matières particulaires ne se forment, et le matériau et le profil d'indice de réfraction peuvent être facilement adaptés à ceux des fibres optiques, permettant ainsi la formation d'épissures par fusion entre les fibres et les composants optiques intégrés, avec de très
faibles pertes.
Bien entendu, bien qu'on ait représenté un seul sub-
strat maintenu dans l'appareil de dépôt, un nombre quelconque peut être monté dans l'appareil, pourvu que la longueur des
tubes soit réglée en conséquence.

Claims (9)

REVENDICATIONS
1. Procédé de fabrication d'un guide d'onde optique intégré, caractérisé en ce que le guide d'onde optique est
composé d'un verre (14) déposé sous forme d'une première c'ck.
sur un substrat (11) par dépôt chimique en phase vapeur.
2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'une seconde couche (15) d'un verre ayant un plus faible indice de réfraction que la première couche est déposée
sur la première couche.
3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la première couche (14) de verre est mise à la forme d'un dessin voulu sur le substrat, et la seconde couche de
verre est déposée sur le dessin formé.
4. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que le dessin voulu est formé par réalisation de gorges représentant le dessin dans le substrat et par dépôt de la
première couche au fond du dessin de gorges.
5. Procédé selon l'une quelconque des revendications
précédentes, caractérisé en ce que la seconde couche de verre
(15) est aussi déposée par dépôt chimique en phase vapeur.
6. Procédé selon l'une quelconque des revendications
précédentes, caractérisé en ce que le substrat (11) est formé
du même verre que la seconde couche (15) si bien que la pre-
- mière couche (14) qui forme une âme est enrobée dans un revê-
tement d'un verre de plus faible indice de réfraction.
7. Procédé selon l'une quelconque des revendications
précédentes, caractérisé en ce que la réaction chimique de
dépôt est déclenchée par un plasma produit dans la zone réac-
tionnelle par une cavité (6) à microondes, recevant de l'énergie
d'un générateur de microondes.
8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que le substrat (7) est monté afin qu'il soit exposé
à l'intérieur d'un tube réactionnel (3) dans-lequel est dis-
posé un tube interne perforé (4), et monté dans un tube externe (1), des vapeurs réactives, dans un véhicule gazeux, et de l'oxygène étant introduits dans le tube réactionnel par les perforations (5) du tube interne perforé alors que la pression dans le tube réactionnel est maintenue autour de 10 torr,
la puissance de microondes et les débits étant réglés de ma-
nière qu'une colonne de plasma soit formée au moins dans la région occupée par le substrat (7), alors que celui-ci est chauffé, la réaction chimique et le dépôt d'une couche de
verre sur le substrat étant ainsi réalisés.
9. Guide d'onde optique intégré, caractérisé en ce qu'il est fabriqué par mise en oeuvre d'un procédé selon l'une
quelconque des revendications précédentes.
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Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3619379A1 (de) * 1986-06-09 1986-12-18 Martin Prof. Dr.-Ing. 4630 Bochum Fiebig Verfahren und vorrichtungen zur herstellung von optischen glasgegenstaenden
GB8620273D0 (en) * 1986-08-20 1986-10-01 Gen Electric Co Plc Deposition of thin films
US6138478A (en) * 1992-09-21 2000-10-31 Ceramoptec Industries, Inc. Method of forming an optical fiber preform using an E020 plasma field configuration
US5613995A (en) * 1993-04-23 1997-03-25 Lucent Technologies Inc. Method for making planar optical waveguides
US6952504B2 (en) * 2001-12-21 2005-10-04 Neophotonics Corporation Three dimensional engineering of planar optical structures
US6377732B1 (en) * 1999-01-22 2002-04-23 The Whitaker Corporation Planar waveguide devices and fiber attachment
CA2427103A1 (fr) * 2000-10-26 2002-06-06 Neophotonics Corporation Structures optiques multicouche
US7087179B2 (en) * 2000-12-11 2006-08-08 Applied Materials, Inc. Optical integrated circuits (ICs)
US7000434B2 (en) * 2000-12-19 2006-02-21 Intel Corporation Method of creating an angled waveguide using lithographic techniques
KR20020073748A (ko) * 2001-03-16 2002-09-28 (주)옵토네스트 수정된 화학기상증착법에 의한 광섬유모재 제조방법 및이를 이용하여 제조된 비선형광섬유
US7469558B2 (en) * 2001-07-10 2008-12-30 Springworks, Llc As-deposited planar optical waveguides with low scattering loss and methods for their manufacture
NL1019076C2 (nl) * 2001-10-01 2003-04-02 Draka Fibre Technology Bv Werkwijze voor het aanbrengen van een of meer glaslagen op het uitwendig oppervlak van een uit glas samengesteld staafvormig vormdeel, alsmede een daarvoor geschikte inrichting.
US7404877B2 (en) 2001-11-09 2008-07-29 Springworks, Llc Low temperature zirconia based thermal barrier layer by PVD
US20030113085A1 (en) * 2001-12-14 2003-06-19 Applied Materials, Inc., A Delaware Corporation HDP-CVD film for uppercladding application in optical waveguides
US20030110808A1 (en) * 2001-12-14 2003-06-19 Applied Materials Inc., A Delaware Corporation Method of manufacturing an optical core
US7290407B1 (en) * 2001-12-19 2007-11-06 Jesse Chienhua Shan Triangle-shaped planar optical waveguide having reduced scattering loss
US7378356B2 (en) 2002-03-16 2008-05-27 Springworks, Llc Biased pulse DC reactive sputtering of oxide films
US6884327B2 (en) 2002-03-16 2005-04-26 Tao Pan Mode size converter for a planar waveguide
US8404376B2 (en) 2002-08-09 2013-03-26 Infinite Power Solutions, Inc. Metal film encapsulation
US8431264B2 (en) 2002-08-09 2013-04-30 Infinite Power Solutions, Inc. Hybrid thin-film battery
US8394522B2 (en) 2002-08-09 2013-03-12 Infinite Power Solutions, Inc. Robust metal film encapsulation
US8535396B2 (en) 2002-08-09 2013-09-17 Infinite Power Solutions, Inc. Electrochemical apparatus with barrier layer protected substrate
US20070264564A1 (en) 2006-03-16 2007-11-15 Infinite Power Solutions, Inc. Thin film battery on an integrated circuit or circuit board and method thereof
US8021778B2 (en) 2002-08-09 2011-09-20 Infinite Power Solutions, Inc. Electrochemical apparatus with barrier layer protected substrate
US8445130B2 (en) 2002-08-09 2013-05-21 Infinite Power Solutions, Inc. Hybrid thin-film battery
US8236443B2 (en) 2002-08-09 2012-08-07 Infinite Power Solutions, Inc. Metal film encapsulation
AU2003261463A1 (en) 2002-08-27 2004-03-19 Symmorphix, Inc. Optically coupling into highly uniform waveguides
US7080528B2 (en) * 2002-10-23 2006-07-25 Applied Materials, Inc. Method of forming a phosphorus doped optical core using a PECVD process
EP1597408B1 (fr) 2003-02-27 2012-12-05 Symmorphix, Inc. Methode de fabrication de films en couches barrieres dielectriques
US8728285B2 (en) 2003-05-23 2014-05-20 Demaray, Llc Transparent conductive oxides
US7238628B2 (en) 2003-05-23 2007-07-03 Symmorphix, Inc. Energy conversion and storage films and devices by physical vapor deposition of titanium and titanium oxides and sub-oxides
US7079740B2 (en) * 2004-03-12 2006-07-18 Applied Materials, Inc. Use of amorphous carbon film as a hardmask in the fabrication of optical waveguides
JP2006119379A (ja) * 2004-10-21 2006-05-11 Sumitomo Electric Ind Ltd 光導波路デバイスの製造方法、および光導波路デバイス
US7959769B2 (en) 2004-12-08 2011-06-14 Infinite Power Solutions, Inc. Deposition of LiCoO2
JP5095412B2 (ja) 2004-12-08 2012-12-12 シモーフィックス，インコーポレーテッド ＬｉＣｏＯ２の堆積
US7838133B2 (en) 2005-09-02 2010-11-23 Springworks, Llc Deposition of perovskite and other compound ceramic films for dielectric applications
JP2010505044A (ja) 2006-09-29 2010-02-18 インフィニット パワー ソリューションズ， インコーポレイテッド フレキシブル基板のマスキングおよびフレキシブル基板上にバッテリ層を堆積させるための材料拘束
US8197781B2 (en) 2006-11-07 2012-06-12 Infinite Power Solutions, Inc. Sputtering target of Li3PO4 and method for producing same
US8268488B2 (en) 2007-12-21 2012-09-18 Infinite Power Solutions, Inc. Thin film electrolyte for thin film batteries
KR20150128817A (ko) 2007-12-21 2015-11-18 사푸라스트 리써치 엘엘씨 전해질 막을 위한 표적을 스퍼터링하는 방법
KR101606183B1 (ko) 2008-01-11 2016-03-25 사푸라스트 리써치 엘엘씨 박막 배터리 및 기타 소자를 위한 박막 캡슐화
US8350519B2 (en) 2008-04-02 2013-01-08 Infinite Power Solutions, Inc Passive over/under voltage control and protection for energy storage devices associated with energy harvesting
EP2319101B1 (fr) 2008-08-11 2015-11-04 Sapurast Research LLC Dispositif à énergie doté d une surface de collecteur solidaire pour la collecte d une énergie électromagnétique et son procédé
JP5650646B2 (ja) 2008-09-12 2015-01-07 インフィニット パワー ソリューションズ， インコーポレイテッド 電磁エネルギーを介したデータ通信のための一体型伝導性表面を有するエネルギーデバイスおよび電磁エネルギーを介したデータ通信のための方法
US8508193B2 (en) 2008-10-08 2013-08-13 Infinite Power Solutions, Inc. Environmentally-powered wireless sensor module
CN102576828B (zh) 2009-09-01 2016-04-20 萨普拉斯特研究有限责任公司 具有集成薄膜电池的印刷电路板
WO2011156392A1 (fr) 2010-06-07 2011-12-15 Infinite Power Solutions, Inc. Dispositif électrochimique à haute densité rechargeable
US9018108B2 (en) 2013-01-25 2015-04-28 Applied Materials, Inc. Low shrinkage dielectric films

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2048230A (en) * 1979-04-26 1980-12-10 Optical Coating Laboratory Inc Method and apparatus for forming films from vapours using a contained plasma source
JPS57104106A (en) * 1980-12-22 1982-06-29 Nippon Sheet Glass Co Ltd Production of optical circuit
JPS592008A (ja) * 1982-06-28 1984-01-07 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 埋め込み型石英光導波路の製造方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3934061A (en) * 1972-03-30 1976-01-20 Corning Glass Works Method of forming planar optical waveguides
DE2444100C3 (de) * 1974-09-14 1979-04-12 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Verfahren zur Herstellung von innenbeschichteten Glasrohren zum Ziehen von Lichtleitfasern
US4196232A (en) * 1975-12-18 1980-04-01 Rca Corporation Method of chemically vapor-depositing a low-stress glass layer
DE2642949C3 (de) * 1976-09-24 1980-11-20 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Verfahren zur Herstellung von innenbeschichteten Glasrohren zum Ziehen von Lichtleitfasern
GB1559978A (en) * 1976-12-01 1980-01-30 Gen Electric Co Ltd Chemical vapour deposition processes
US4328646A (en) * 1978-11-27 1982-05-11 Rca Corporation Method for preparing an abrasive coating
US4341541A (en) * 1979-07-13 1982-07-27 Times Fiber Communications, Inc. Process for the production of optical fiber
US4345928A (en) * 1979-10-09 1982-08-24 Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation Fabrication method of single-mode optical fiber preforms
US4425146A (en) * 1979-12-17 1984-01-10 Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation Method of making glass waveguide for optical circuit
US4367085A (en) * 1980-01-07 1983-01-04 Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation Method of fabricating multi-mode optical fiber preforms
DE3015880A1 (de) * 1980-04-24 1981-10-29 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur herstellung einer lichtwellenleiter verwendenden optischen einrichtung
JPS5781213A (en) * 1980-11-11 1982-05-21 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Production of thin film for optical waveguide
JPS58100801A (ja) * 1981-12-12 1983-06-15 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 石英光導波路の製造方法
GB2134099B (en) * 1983-01-24 1986-10-22 Ass Elect Ind Tube manufacture
US4494968A (en) * 1983-10-03 1985-01-22 Corning Glass Works Method of forming laminated single polarization fiber

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2048230A (en) * 1979-04-26 1980-12-10 Optical Coating Laboratory Inc Method and apparatus for forming films from vapours using a contained plasma source
JPS57104106A (en) * 1980-12-22 1982-06-29 Nippon Sheet Glass Co Ltd Production of optical circuit
JPS592008A (ja) * 1982-06-28 1984-01-07 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 埋め込み型石英光導波路の製造方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, vol. 6, no. 195 (P-146)[1073], 5 octobre 1982; & JP-A-57 104 106 (NIHON ITA GLASS K.K.) 29-06-1982 *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, vol. 8, no. 86 (P-269)[1523], 19 avril 1984; & JP-A-59 2008 (NIPPON DENSHIN DENWA KOSHA) 07-01-1984 *

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Publication number Publication date
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GB8414878D0 (en) 1984-07-18
GB2160226A (en) 1985-12-18
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