FR2393418A1 - Procede et appareil pour projeter un faisceau de particules electrisees sur une cible - Google Patents

Procede et appareil pour projeter un faisceau de particules electrisees sur une cible

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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/3002—Details
    • H01J37/3007—Electron or ion-optical systems

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Abstract

Procédé et appareil pour projeter un faisceau de particules électrisées. Procédé pour faire varier et pour projeter un faisceau de particules électrisées qui consiste à préparer, au moins, trois masques; à << éclairer l'ouverture du masque supérieur avec le faisceau; à dévier le faisceau entre certains masques d'amont afin de réduire celui-ci dans la mesure nécessaire pour former l'image voulue sur une cible; et, à dévier le faisceau ainsi réduit entre des masques d'aval afin de découper la section du faisceau pour lui donner exactement la forme de l'image voulue, évitant ainsi le flou de l'image des régions recouvrant les ouvertures des masques d'aval correspondants. L'invention décrit aussi un appareil pour la mise en oeuvre de ce procédé. Application à l'usinage électronique de précision ou le micro-usinage au moyen de faisceaux électroniques, en particulier, pour la fabrication de microcomposants électroniques.
FR7816064A 1977-05-31 1978-05-30 Procede et appareil pour projeter un faisceau de particules electrisees sur une cible Expired FR2393418B1 (fr)

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GB (1) GB1605087A (fr)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2400256A1 (fr) * 1977-08-10 1979-03-09 Ibm Systeme a faisceau d'electrons pouvant projeter des caracteres
FR2472831A1 (fr) * 1979-08-08 1981-07-03 Zeiss Jena Veb Carl Procede et dispositif pour l'inclinaison de sondes de rayonnement superficiel
FR2524198A1 (fr) * 1982-03-04 1983-09-30 Varian Associates Appareil d'exposition par faisceau de particules chargees utilisant un balayage par une ligne variable

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1605087A (en) * 1977-05-31 1981-12-16 Rikagaku Kenkyusho Method for shaping a beam of electrically charged particles
US4263514A (en) * 1979-09-13 1981-04-21 Hughes Aircraft Company Electron beam system
US4282437A (en) * 1979-12-17 1981-08-04 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Charged particle beam lithography
JPS5740927A (en) * 1980-08-26 1982-03-06 Fujitsu Ltd Exposing method of electron beam
US4371774A (en) * 1980-11-26 1983-02-01 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy High power linear pulsed beam annealer
US4354111A (en) * 1981-03-10 1982-10-12 Veeco Instruments Incorporated Screen lens array system
FR2513425A1 (fr) * 1981-09-22 1983-03-25 Thomson Csf Dispositif de limitation angulaire dans un systeme a faisceau de particules chargees
JPH0732108B2 (ja) * 1982-07-28 1995-04-10 株式会社日立製作所 電子線露光装置
JPS5957431A (ja) * 1982-09-27 1984-04-03 Fujitsu Ltd 電子ビ−ム露光装置
US4634871A (en) * 1985-01-14 1987-01-06 Hughes Aircraft Company Method and apparatus for spot shaping and blanking a focused beam
NL8602196A (nl) * 1986-08-29 1988-03-16 Philips Nv Geladen deeltjes bestralingsapparaat met optisch vervormbaar bundel begrenzend diafragma.
GB2197751A (en) * 1986-11-24 1988-05-25 Philips Electronic Associated Variable shaped spot electron beam pattern generator
EP0289885A1 (fr) * 1987-05-08 1988-11-09 Siemens Aktiengesellschaft Système de diaphragme pour la production de plusieurs sondes de particules à section variable
DE3831940A1 (de) * 1988-09-20 1990-04-05 Siemens Ag Elektronenstrahlerzeuger
JPH11186150A (ja) * 1997-12-16 1999-07-09 Nikon Corp 荷電粒子線露光装置並びにそのマスクアライメント方法及び装置較正方法
US6455863B1 (en) * 1999-06-09 2002-09-24 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for forming a charged particle beam of arbitrary shape
US7528391B2 (en) * 2006-12-22 2009-05-05 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Techniques for reducing contamination during ion implantation
JP5597403B2 (ja) * 2010-01-29 2014-10-01 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3801792A (en) * 1973-05-23 1974-04-02 Bell Telephone Labor Inc Electron beam apparatus
FR2329069A1 (fr) * 1975-10-23 1977-05-20 Rikagaku Kenkyusho Procede de projection d'un faisceau de particules chargees
FR2337420A1 (fr) * 1975-12-31 1977-07-29 Fujitsu Ltd Appareil lithographique a faisceau electronique
DE2823829A1 (de) * 1977-05-31 1978-12-07 Rikagaku Kenkyusho Verfahren und vorrichtung zum projizieren eines strahls elektrisch geladener teilchen

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3326176A (en) * 1964-10-27 1967-06-20 Nat Res Corp Work-registration device including ionic beam probe
US3491236A (en) * 1967-09-28 1970-01-20 Gen Electric Electron beam fabrication of microelectronic circuit patterns
FR39852E (fr) * 1972-06-30 1932-03-24 Ig Farbenindustrie Ag Procédé de production de colorants solides pour cuve
JPS52151568A (en) * 1976-06-11 1977-12-16 Jeol Ltd Electron beam exposure apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3801792A (en) * 1973-05-23 1974-04-02 Bell Telephone Labor Inc Electron beam apparatus
FR2329069A1 (fr) * 1975-10-23 1977-05-20 Rikagaku Kenkyusho Procede de projection d'un faisceau de particules chargees
FR2337420A1 (fr) * 1975-12-31 1977-07-29 Fujitsu Ltd Appareil lithographique a faisceau electronique
DE2823829A1 (de) * 1977-05-31 1978-12-07 Rikagaku Kenkyusho Verfahren und vorrichtung zum projizieren eines strahls elektrisch geladener teilchen

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2400256A1 (fr) * 1977-08-10 1979-03-09 Ibm Systeme a faisceau d'electrons pouvant projeter des caracteres
FR2472831A1 (fr) * 1979-08-08 1981-07-03 Zeiss Jena Veb Carl Procede et dispositif pour l'inclinaison de sondes de rayonnement superficiel
FR2524198A1 (fr) * 1982-03-04 1983-09-30 Varian Associates Appareil d'exposition par faisceau de particules chargees utilisant un balayage par une ligne variable

Also Published As

Publication number Publication date
GB1605087A (en) 1981-12-16
US4182958A (en) 1980-01-08
DE2823829C2 (de) 1982-09-09
DE2823829A1 (de) 1978-12-07
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