FR2393418A1 - Procede et appareil pour projeter un faisceau de particules electrisees sur une cible - Google Patents
Procede et appareil pour projeter un faisceau de particules electrisees sur une cibleInfo
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Abstract
Procédé et appareil pour projeter un faisceau de particules électrisées. Procédé pour faire varier et pour projeter un faisceau de particules électrisées qui consiste à préparer, au moins, trois masques; à << éclairer l'ouverture du masque supérieur avec le faisceau; à dévier le faisceau entre certains masques d'amont afin de réduire celui-ci dans la mesure nécessaire pour former l'image voulue sur une cible; et, à dévier le faisceau ainsi réduit entre des masques d'aval afin de découper la section du faisceau pour lui donner exactement la forme de l'image voulue, évitant ainsi le flou de l'image des régions recouvrant les ouvertures des masques d'aval correspondants. L'invention décrit aussi un appareil pour la mise en oeuvre de ce procédé. Application à l'usinage électronique de précision ou le micro-usinage au moyen de faisceaux électroniques, en particulier, pour la fabrication de microcomposants électroniques.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2400256A1 (fr) * | 1977-08-10 | 1979-03-09 | Ibm | Systeme a faisceau d'electrons pouvant projeter des caracteres |
FR2472831A1 (fr) * | 1979-08-08 | 1981-07-03 | Zeiss Jena Veb Carl | Procede et dispositif pour l'inclinaison de sondes de rayonnement superficiel |
FR2524198A1 (fr) * | 1982-03-04 | 1983-09-30 | Varian Associates | Appareil d'exposition par faisceau de particules chargees utilisant un balayage par une ligne variable |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1605087A (en) * | 1977-05-31 | 1981-12-16 | Rikagaku Kenkyusho | Method for shaping a beam of electrically charged particles |
US4263514A (en) * | 1979-09-13 | 1981-04-21 | Hughes Aircraft Company | Electron beam system |
US4282437A (en) * | 1979-12-17 | 1981-08-04 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Charged particle beam lithography |
JPS5740927A (en) * | 1980-08-26 | 1982-03-06 | Fujitsu Ltd | Exposing method of electron beam |
US4371774A (en) * | 1980-11-26 | 1983-02-01 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | High power linear pulsed beam annealer |
US4354111A (en) * | 1981-03-10 | 1982-10-12 | Veeco Instruments Incorporated | Screen lens array system |
FR2513425A1 (fr) * | 1981-09-22 | 1983-03-25 | Thomson Csf | Dispositif de limitation angulaire dans un systeme a faisceau de particules chargees |
JPH0732108B2 (ja) * | 1982-07-28 | 1995-04-10 | 株式会社日立製作所 | 電子線露光装置 |
JPS5957431A (ja) * | 1982-09-27 | 1984-04-03 | Fujitsu Ltd | 電子ビ−ム露光装置 |
US4634871A (en) * | 1985-01-14 | 1987-01-06 | Hughes Aircraft Company | Method and apparatus for spot shaping and blanking a focused beam |
NL8602196A (nl) * | 1986-08-29 | 1988-03-16 | Philips Nv | Geladen deeltjes bestralingsapparaat met optisch vervormbaar bundel begrenzend diafragma. |
GB2197751A (en) * | 1986-11-24 | 1988-05-25 | Philips Electronic Associated | Variable shaped spot electron beam pattern generator |
EP0289885A1 (fr) * | 1987-05-08 | 1988-11-09 | Siemens Aktiengesellschaft | Système de diaphragme pour la production de plusieurs sondes de particules à section variable |
DE3831940A1 (de) * | 1988-09-20 | 1990-04-05 | Siemens Ag | Elektronenstrahlerzeuger |
JPH11186150A (ja) * | 1997-12-16 | 1999-07-09 | Nikon Corp | 荷電粒子線露光装置並びにそのマスクアライメント方法及び装置較正方法 |
US6455863B1 (en) * | 1999-06-09 | 2002-09-24 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for forming a charged particle beam of arbitrary shape |
US7528391B2 (en) * | 2006-12-22 | 2009-05-05 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Techniques for reducing contamination during ion implantation |
JP5597403B2 (ja) * | 2010-01-29 | 2014-10-01 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3801792A (en) * | 1973-05-23 | 1974-04-02 | Bell Telephone Labor Inc | Electron beam apparatus |
FR2329069A1 (fr) * | 1975-10-23 | 1977-05-20 | Rikagaku Kenkyusho | Procede de projection d'un faisceau de particules chargees |
FR2337420A1 (fr) * | 1975-12-31 | 1977-07-29 | Fujitsu Ltd | Appareil lithographique a faisceau electronique |
DE2823829A1 (de) * | 1977-05-31 | 1978-12-07 | Rikagaku Kenkyusho | Verfahren und vorrichtung zum projizieren eines strahls elektrisch geladener teilchen |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3326176A (en) * | 1964-10-27 | 1967-06-20 | Nat Res Corp | Work-registration device including ionic beam probe |
US3491236A (en) * | 1967-09-28 | 1970-01-20 | Gen Electric | Electron beam fabrication of microelectronic circuit patterns |
FR39852E (fr) * | 1972-06-30 | 1932-03-24 | Ig Farbenindustrie Ag | Procédé de production de colorants solides pour cuve |
JPS52151568A (en) * | 1976-06-11 | 1977-12-16 | Jeol Ltd | Electron beam exposure apparatus |
-
1978
- 1978-05-25 GB GB22798/78A patent/GB1605087A/en not_active Expired
- 1978-05-25 US US05/909,217 patent/US4182958A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-05-30 FR FR7816064A patent/FR2393418B1/fr not_active Expired
- 1978-05-31 DE DE2823829A patent/DE2823829C2/de not_active Expired
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3801792A (en) * | 1973-05-23 | 1974-04-02 | Bell Telephone Labor Inc | Electron beam apparatus |
FR2329069A1 (fr) * | 1975-10-23 | 1977-05-20 | Rikagaku Kenkyusho | Procede de projection d'un faisceau de particules chargees |
FR2337420A1 (fr) * | 1975-12-31 | 1977-07-29 | Fujitsu Ltd | Appareil lithographique a faisceau electronique |
DE2823829A1 (de) * | 1977-05-31 | 1978-12-07 | Rikagaku Kenkyusho | Verfahren und vorrichtung zum projizieren eines strahls elektrisch geladener teilchen |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2400256A1 (fr) * | 1977-08-10 | 1979-03-09 | Ibm | Systeme a faisceau d'electrons pouvant projeter des caracteres |
FR2472831A1 (fr) * | 1979-08-08 | 1981-07-03 | Zeiss Jena Veb Carl | Procede et dispositif pour l'inclinaison de sondes de rayonnement superficiel |
FR2524198A1 (fr) * | 1982-03-04 | 1983-09-30 | Varian Associates | Appareil d'exposition par faisceau de particules chargees utilisant un balayage par une ligne variable |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2823829A1 (de) | 1978-12-07 |
FR2393418B1 (fr) | 1985-08-23 |
GB1605087A (en) | 1981-12-16 |
US4182958A (en) | 1980-01-08 |
DE2823829C2 (de) | 1982-09-09 |
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