FI80054B - Under ljusets inverkan polymeriserbara komposition, som innehaoller diketon samt 4-(n,n-dimetylamino)benzoe- syra eller dess estrar innehaollande katalysatorer. - Google Patents
Under ljusets inverkan polymeriserbara komposition, som innehaoller diketon samt 4-(n,n-dimetylamino)benzoe- syra eller dess estrar innehaollande katalysatorer. Download PDFInfo
- Publication number
- FI80054B FI80054B FI842642A FI842642A FI80054B FI 80054 B FI80054 B FI 80054B FI 842642 A FI842642 A FI 842642A FI 842642 A FI842642 A FI 842642A FI 80054 B FI80054 B FI 80054B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- dimethylamino
- photopolymerizable composition
- composition according
- under
- polymeriserbara
- Prior art date
Links
- -1 N, N-DIMETHYLAMINO Chemical class 0.000 title claims description 7
- 101100148710 Clarkia breweri SAMT gene Proteins 0.000 title 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 46
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 10
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzoic acid Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 claims description 9
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 125000002362 bornane-2,3-dione group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 abstract description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 235000019589 hardness Nutrition 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 7
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- RWPZESDFTQDOHT-PMACEKPBSA-N (3s,4s)-7-ethyl-3,4-dihydrobenzo[a]anthracene-3,4-diol Chemical compound C1=C[C@H](O)[C@@H](O)C2=CC=C3C(CC)=C(C=CC=C4)C4=CC3=C21 RWPZESDFTQDOHT-PMACEKPBSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000006072 paste Substances 0.000 description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101710178035 Chorismate synthase 2 Proteins 0.000 description 1
- 101710136377 Cold shock-like protein CspH Proteins 0.000 description 1
- 101710152694 Cysteine synthase 2 Proteins 0.000 description 1
- 241000233866 Fungi Species 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical group NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N Panavia opaque Chemical compound C1=CC(OCC(O)COC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCC(O)COC(=O)C(C)=C)C=C1 AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WREOTYWODABZMH-DTZQCDIJSA-N [[(2r,3s,4r,5r)-3,4-dihydroxy-5-[2-oxo-4-(2-phenylethoxyamino)pyrimidin-1-yl]oxolan-2-yl]methoxy-hydroxyphosphoryl] phosphono hydrogen phosphate Chemical compound O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](COP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(O)=O)O[C@H]1N(C=C\1)C(=O)NC/1=N\OCCC1=CC=CC=C1 WREOTYWODABZMH-DTZQCDIJSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical class C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 229940125758 compound 15 Drugs 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000005337 ground glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000007794 irritation Effects 0.000 description 1
- 230000010198 maturation time Effects 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000606 toothpaste Substances 0.000 description 1
- 229940034610 toothpaste Drugs 0.000 description 1
- 239000011043 treated quartz Substances 0.000 description 1
- 210000000689 upper leg Anatomy 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/884—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising natural or synthetic resins
- A61K6/887—Compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S502/00—Catalyst, solid sorbent, or support therefor: product or process of making
- Y10S502/522—Radiant or wave energy activated
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Plastic & Reconstructive Surgery (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
Description
1 80054 Näkyvän valon vaikutuksesta polymeroituva koostumus Tämä keksintö koskee näkyvän valon vaikutuksesta polymeroituvaa koostumusta.
5 Valon vaikutuksesta polymeroituvien koostumusten käytöllä sellaisiin tarkoituksiin kuin hampaiden paikkaus-koostumuksiin on kaupallista mielenkiintoa, koska tällaiset koostumukset voidaan markkinoida yhdessä pakkauksessa olevina tuotteina, eikä niitä siis tarvitse sekoittaa 10 käyttöhetkellä, kuten on laita tavanomaisen peroksidilla kovettavan koostumuksen ollessa kyseessä, joka täytyy sekoitta aktivaattoriin juurin ennen käyttöä.
Tämän keksinnön päämääränä on valon vaikutuksesta polymeroituva koostumus, joka sisältää katalysaattorisys-15 teemin, joka on hyvin tehokas käytettynä näkyvän valon yhteydessä ja jolla on suuri kovettumisnopeus ja erinomaiset ominaisuudet kovettumisen jälkeen.
Tämän keksinnön mukaiselle, näkyvän valon vaikutuksesta polymeroituvalle koostumukselle on tunnusomaista, 20 että se sisältää vähintään yhtä olefiinisesti tyydyttymä-töntä yhdistettä ja valonherkkää katalysaattoria, joka koostuu pääasiallisesti a) vähintään yhdestä visinaalisesta diketoniyhdis-teestä, ja 25 b) 4-(N,N-dimetyyliamino)bentsoehaposta tai sen (alempi alkyyli)esteristä.
Aineeseen (a) diketoni on edullisesti kamferikino-ni, bentsiili, biasetyyli tai niiden seos.
4-(N,N-dimetyyliamino)bentsoehapon etyyli- ja n-30 butyyliesterien valmistaja suosittelee niiden käyttöä yhdessä tiettyjen monoketoniyhdisteiden kanssa fotoaktivaat-toreina UV-valolla kovettaviin hartsikoostumuksiin.
Bauer et ai. [Polymer Preprints, 19 nro 2 (syyskuu 1978) 585 - 590] käsittelee mahdollisuutta käyttää 4-(N,N-35 dimetyyliamino)bentsoehappoa amiinikiihdyttimenä peroksi- 2 80054 dilla kovettavissa hampaan paikkauskoostumuksissa.
Dart et ai. kuvaavat US-patenttijulkaisussa 4 071 424 valonherkkia katalysaattoreita, jotka sisältävät diketoniyhdisteitä sekä tertiäärisiä amiineja. Dartin et 5 ai. tertiääriset amiinit ovat edullisesti vapaita suoraan aminotyppeen sitoutuneista aromaattisista ryhmistä (katso esimerkiksi sarake 5, rivit 29 - 35 em. Dartin et ai. patenttijulkaisussa ).
Hampaiden paikkausaineisiin käyttökelpoisia valon 10 vaikutuksesta polymeroituvia koostumuksia kuvataan lukuisissa patenttijulkaisuissa, esimerkiksi Schmitt et ai. US-patentti julkaisu 4 189 365. Katso myös EP-hakemusjulkaisu 0 047 097, joka on julkaistu 10.3.1982.
Keksinnön mukainen näkyvän valon vaikutuksesta po-15 lymeroituva koostumus sisältää vähintään yhtä olefiinises-ti tyydyttymätöntä yhditettä. Tällaiset materiaalit ovat alalla hyvin tunnettuja ja niitä on tarpeen valaista vain muutamin esimerkein. Kun keksinnön mukainen koostumus on suunniteltu käytettäväksi hampaiden paikkausaineessa, on 20 edullista, että olefiinisesti tyydyttymätön yhdiste on akryyli- tai metakryyliesteri ja erityisesti yhdiste, jossa on kaksi tai useampia akryyli- tai metakryyliesteriryh-mä, koska polyfunktionaaliset akryyliesterit kutistuvat vähemmän polymeroinnin aikana kuin monofunktionaaliset 25 akryyliesterit ja saavat aikaan myös silloittumisen. Käyttökelpoisiin erityisiin akryyliesterityyppeihin kuuluvat alkaanidioliakrylaatit tai -metakrylaatit, kuten C4.:2 -alkaanidioliakrylaatit tai -metakrylaatit, esimerkiksi 1,10-dekametyleenidiolidmetakrylaatti ja 1,6-heksametylee-30 nidiolidimetakrylaatti; polyalkyleeniglykoliakrylaatit tai -metakrylaatit, kuten trietyleeniglykolidimetakrylaatti ja tetraetyleeniglykolidimetakrylaatti; bisfenoli-A-akry-laatti- tai -metakrylaattiesterit; alkoksyloitu bisfenoli-A-akrylaatti tai -metakrylaatti, esimerkiksi etoksyloitu 35 bisfenoli-A-dimetakrylaatti; bisfenoli-A-diglysidyylidime- 3 80054 takrylaatti ("bis-GMA"), ja niiden kaltaiset. Muihin käyttökelpoisiin monifunktionaalisiin akryyli- tai metakryyli-estereihin kuuluvat metakrylaattipäätteiset polyuretaanit, trimetylolipropaanitrimetakrylaatti tai -triakrylaatti ja 5 niiden kaltaiset.
Keksinnön yhteydessä käytettävä katalysaattorikoos-tumus sisältää vähintään yhtä visinaalista diketonityhdis-tettä, edullisesti kamferikinonia, bentsiiliä tai biase-tyyliä. Tähän diketoniyhdisteeseen on yhdistettynä 4-(N,N-10 dimetyyliamino)bentsoehappo tai sen (alempi alkyyli)esteri (esimerkiksi Cx.4-alkyyliesteri). Etyyliesteri on edullinen. Katalysaattoreita käytetään katalyyttisesti vaikuttavia määriä, kuten noin 0,1-5 paino-% (olefiinisesti tyydyttymättömän yhdisteen määrästä) diketoniyhdistettä 15 sekä noin 0,1-5 paino-% (samoin olefiinisesti tyydyttymättömän yhdisteen määrästä) 4-(N,N-dimetyyliamino)bent-soehappoa tai sen esteriä.
Keksinnön mukainen koostumus voi sisältää täyteaineita, kuten piidioksidia, jauhettua lasia, jauhettua 20 kvartsia tai vastaavia, jotka ovat alalla tavanomaisia.
Katalysaattorisysteemi aktivoidaan valottamalla sitä näkyvällä valolla, jonka aallonpituus on noin 380-550 nm. Näkyvän valon lähteitä, joita tavallisesti käytetään näkyvällä valolla kovetettaville hampaiden paikkaus-25 koostumuksille, voidaan käyttää tälle katalysaattorisys-teemille. Seuraavassa olevat esimerkit valaisevat yhtä tällaista valonlähdettä ja olosuhteita, joissa sellaisia käytetään.
Seuraavat esimerkit valaisevat keksinnön toteutta-30 mistä käytännössä: 4 80054
Esimerkki 1 ja vertailuesimerkki 1
Valon vaikutuksesta polymeroituvien hartsisystee-mien, jotka sisälsivät joko etyyli-4-(N,N-dimetyyliamino)-bentsoaattia ("EDMAB") tai Ν,Ν-dimetyylianiliinia ["DMA"-5 US-patenttijulkaisun 4 071 424 (Dart et ai.) mukainen fo- toaktivaattori], kovettumisnopeuksia ja kovettumisastetta (kovuuden avulla ilmaistuna) verrattiin. Käytetty hartsi-koostumus oli seuraava: 10 Taulukko 1
Aineosa Paino-osa
Etoksyloitu bisfenoli-A-15 dimetakrylaatti ("EBAD") 24,0
Silaanilla käsitelty kvartsi, täyteaine(1> 66,2
Silaanilla käsitelty kolloidinen piidioksidi(2 > 9,8 20 Diketonifotoinitiaattori( 3> 0,069
Amiinifotoaktivaattori vaihteleva (1) Kvartsijauhe, keskimääräinen halkaisija 13 pm, käsitelty 3 paino-%:lla A-174-silaania (gamma-metakryyli- 25 oksipropyylitrimetoksisilaani - Union Carbide Corporation).
(2) "AEROSIL” R972 (Degussa Corporation), silaanilla päällystetty piidioksidi.
(3) Kamferikinoni/bentsiiliseos painosuhteessa 70:30.
30 -
Hartsikoostumukset sijoitettiin messinkimuottiin 3 mm paksuksi kerrokseksi. Ne aktivoitiin valottamalla 20 s kaupallisella, hammaslääketieteellisiin sovellutuksiin 35 suunnitellulla näkyvän valon lähteellä ("Prisma-Lite", 5 80054 L.D. Caulk Company). Varsinainen valonlähde oli kvartsi-projektori lamppu, jonka säteilemä spektri alkaa 400 nm:stä ja jatkuu näkyvän valon alueen yli. Säteilyhuippu on 480 nm:n kohdalla. Valo tulee kuituoptisen sauvan läpi. 5 Kuituoptisen sauvan päätä pidettiin noin 1 mm:n etäisyydellä paikkausseoksen pinnasta.
Kovetettuja seoksia kypsytettiin 1 h 37 °C:ssa vedessä, minkä jälkeen kunkin näytteen alapinnan kovuus mitattiin (Rockwell T15-asteikko). Eksotermisen huipun muo-10 dostumiseen kulunut aika mitattiin differentiaalisella scanning-kalorimetrialla ("DSC"). Tulokset annetaan taulukossa II:
Taulukko II
15 - Näyte Amiini Kovettu- Rockwell- paino- misaika kovuus, T-15 osia (4) (s) 20 Esimerkki 1 EDMAB; 0,6 --- 63,0 EDMAB; 1,2 29,4 61,0
Vertailuesi- DMA; 0,5 27,6 47,5 merkki 1 DMA; 1,2 35,4 25 DMA; 3,0 52,8 45,2 (4) Ilmoitettu prosentteina monomeerien kokonaismäärästä.
30 Kuten näistä tuloksista ilmenee, saadaan EDMAB:illa aikaan kovempi kovettunut koostumus kuin DMA:11a, otaksuttavasti tehokkaamman ja täydellisemmän polymeroitumisen ansiosta.
6 80054
Esimerkki 2 ja vertailuesimerkit 2-4 On havaittu, että valon vaikutuksesta polymeroitu-villa hartsisysteemeillä on taipumus asteettain menettää aktiivisuuttaan säilytyksen aikana. Tämän keksinnön mukai-5 set koostumukset ovat vähemmän alttiita tälle ongelmalle, kuten ilmenee kiihdytetyn vanhenemisen kokeista. Edellä esitetyn, esimerkin 1 mukaisen hartsikoostumuksen, samanlaisen koostumuksen, jossa N,N-dimetyyliaminoetyylimetak-rylaattia ("DMAEM") käytettiin amiinifotoaktivaattorina, 10 sekä kahden kaupallisen, valon vaikutuksesta polymeroitu-van hampaanpaikkauskoostumuksen kovettumisajat ja kovuudet mitattiin (esimerkissä 1 kuvatulla tavalla) sekä juuri valmistettuina (ostettuina) että sen jälkeen, kun kovetta-mattomia koostumuksia oli vanhetettu kiihdytetysti pitä-15 mällä niitä 80 °C:ssa 1, 2, 3 ja 4 viikkoa. Tulokset annetaan taulukossa III: 7 80054 o in • · I I o x o m
H X
•H CO <0
>(0 3 CO
03 0> O H N CO m S ID CO
-<*.*> in in vo vo vo in in in a) *y d) *r-> p C , 3
So - ® “
0! (0 *H
5 0 6 fO
g 3 μ> CO
*2 -h +j o 3 -π ο) ίο o
B ^ ^ jg CO
R O-H Oi o> O' O' co ts O in
jj CO X <0 «H r-i »H rH rH (N CO CN C
> H
2 g CD -H
* S 3 5 3 3 * ^ s R 2 00 s co vo i vo s· o co a) "dr X X vo vo vo I vo in vo vo J3 s 8 3 «
« t , I
M > R > -μ ra C
H C W CS (D -H <0 -H
H g 2 > 6 Ai C
O m 3 O 3 ·Η O
Η R ji+J(0 oo σν o oo is σι s in c
l iH CS Ή ·—I CS CN CS -H
3 «5 -μ - % 3 3 0“ h 3 C O t Λ)
ä ä js o! I
§ g 3 s I
? R i-i CD m c m > > * 2 bj3 O-H CO > > > VO IS 00 vo (0
jjqj H JC <0 HHHrHrH CN 00 (S CO
a) > ? μ ο Λ
£ * co C
2 3 -H
5 3 2 ‘3 -μ -P O N co N co η σ> cs cs -* ¢) ¢) ,¾ Ό vD vo vo vo m vo vo vo ,-. CD Ό § -H 3 o ω *3 3 2 In C0 I Ή
•3 CD -H CO CO
p Οι 10 Ή H
§ 3 C 6 *2 R X -H 3 to
m Η ε 4-> -H
ο < ο -P CO
n a) (0
S > Ai CO
Λ O-H S S Ό S CS CS O in 3 JC 10 iHiHrHiHr-l CS CO CS 6 3
— -P
m co
I S< ^ O
cs cDOQmmco -η sc c o H 2e! ϋ ϋ 2§ 2§ W I W 0) c *
X QQQQQ 3 CS 2 -Η < -H CQ ICO
x ωωωωω h qh h 6 μ -Η -P Η -Η Η -H *0 a) a) *><*><*><*><*> co ή dp co co co co 6· με -p j* ο. -μ a -μ >i -h vo oo o cs μ μ in 3 H 3 μ ^ ίο id ».«.*.«.* a) a) < co to co co m 2 ω OOOr-ir-1 > E N JC £ JC £ ~ 8 80054
Esimerkki 3 .ja vertailueslmerkit 5 .ja 6 1. Monomeeriseosformula
Valmistettiin kolme monomeerisysteemiä, joiden fo-toinitiaattorin tyyppi ja pitoisuus oli erilainen, seuraa-5 vasti: 50 g EBAD:ia laitettiin 100 ml:n dekantterilasiin, jossa oli sekoitusmagneetti, ja hartsi lämmitettiin 40-50 °C:een viskositeetin alentamiseksi ja fotoinitiaatto-reiden liukenemisen helpottamiseksi. Punnitut määrät (kat-10 so taulukko IV) erilaisia initiaattoreita lisättiin suoraan monomeeriin ja sekoitusta jatkettiin pimeässä, kunnes kiinteät aineet olivat liuenneet (noin 20 min). Kun liukeneminen oli täydellistä, seos sijoitettiin vakuumiuuniin ja kaasut poistettiin imemällä uuniin alipaine. Kun näyt-15 teet lakkasivat kuplimasta, niiden oletettiin olevan il-mattomia ja ne pakattiin ruskeisiin lasipulloihin.
Taulukko IV
20 Näyte Monomeeri Fotoinitiaattori Pitoisuus(g/gxl00)
Vertailu- EBAD Kamferikinoni 0,25 esim. 5 DMAEM 2,50 25 Vertailu- EBAD Kamferikinoni 0,30 esim. 6 Bentsiili 0,30 DMAEM 2,40
Esim. 3 EBAD Kamferikinoni 0,28 30 Bentsiili 0,12 EDMAB 1,20 9 80054 2. Kovettumisalka, konversioaste
Kovettumisalka Ja polymeroitumislämpö määritettiin käyttäen DuPont 910-DSC-laitetta (differentiaalinen scan-ning-kalorimetri), joka oli liitetty DuPont 990-lämpöti-5 lansäätölaitteeseen/nauhapiirturiin. Fotoaktivoitu mono-meeri kaadettiin alumiiniseen näytekuppiin (1,5 x 6 mm) ja kuppi laitettiin termoparin päälle, referenssinä oli tyhjä näytekuppi. Näyte ja referenssi lämmitettiin 37 “C :een (Tc eli kovettumislämpötila) ja pidettiin isotermi-10 sesti tässä lämpötilassa, kunnes pohjaviiva oli tasoittunut. DSC-laitteen näytekammion yläosa varustettiin läpinäkyvällä, 1 mm paksulla borosilikaattilasikannella, joka läpäisi valon mutta esti liiallisen lämpöhukan kammiosta sekä ilman kierron. Näytettä valotettiin 45 s PRISNU^) Va-15 lonlähteellä (L.D. Caulk), joka oli 8 mm:n korkeudella näytekupista ja 2 mm ikkunan yläpuolella. Kovettumisekso-termit rekisteröitiin käyränä, joka osoitti lämpömäärää ajan funktiona. Kovettumisaika mitattiin etäisyytenä (cm) valotuksen alusta eksotermiseen piikkiin kerrottuna piir-20 turin nopeuden käänteisluvulla (min/cm).
Kovettumisentalpia (ΔΗ( ) määritettiin laskemalla eksotermisen piikin integroitu pinta-ala, joka jaettiin näytteen massalla ja kerrottiin laitevakioilla. Valolla tapahtuneen alkukovetuksen jälkeen näytettä pidettiin 37 25 °C:ssa 30 min ja jäähdytettiin sitten noin 30 °C:een, missä lämpötilassa sitä pidettiin 5 min. Sitten näytettä kuumennettiin lämmitysnopeudella 10 eC/min, kunnes havaittiin toinen eksoterminen piikki. Tämän jäännöskovettumisen en-talpia määritettiin (AHreeld ) ja lisättiin alkukovettumi-30 sentalpiaan, jolloin saatiin hartsisysteemin reaktiolämpö (ΔΗΓχη) valotusajan ollessa 45 s. Konversioaste (a) laskettiin seuraavasti: AHt a45 s = - x 100 35 ΔΗ r x n 10 80054 jossa a osoittaa, missä määrin tietty hartsisysteemi reagoisi tietyssä kovetuslämpötilassa (Tc) valotettaessa tietty aika. Kaikissa tapauksissa koemuuttujat pidettiin vakioina (so. Tc , valotusaika, kypsytysaika) ja vain hart-5 sien koostumukset vaihtelivat. Kullakin hartsisysteemillä tehtiin kolme rinnakkaismääritystä ja laskettiin keskiarvot ja standardipoikkeamat. Kovettumisajat, AHt-, ^Hreeld-ja α-arvot annetaan taulukossa V.
li 8 0 0 54 © μ ο w ο <ο η οο in ιη ο - -H X Ο Ο Ο η μ ιι n n
φ C
·> Μ θ' · θ'. . Ο· C*j t, « Ό «Ό »Ό 0 S X νο οο · Ο · χ <] <| οο a cow cnw μ φ
> [— LO LO
O «... V
x o o o W C Ό
O Φ -H II II H
cc « ~ _
G Ή II O) ^ (S
a0Ei.\ - Ό -Ό -Ό »0 3 X i"5 vo · h · m · p <j cow cow cn w W VO VO vo •H *V *v ^ ε ίο o o o d -h +j a h n n P I—I Ν' O' C" fl)(0 Oi «.· ·.· vt
>+J«'v. <N Ό "v* Ό vOO
μ O C X Ό -f . N* · CN ·
Φ X φ w (NW CNW CNW W X 0 H
> d p o
x C I
x -h d ~ d w p (0 h >i c -μ e d >i φ d m (0 ton wc m m « Φ
Eh φ Ed «. - ax C h h o o Ji
(0 h d ^ II H
I X W II H O
o g — · a
CO H C O'· vO· C^O -H
Q )C Φ IQ * Ό ·> Ό - · Ό HWÄ CN· VO· C^W μ •H H H H W W (0 a e «ο ·σ c (0
P
I I W
d d
h in H vo 00 II
rl -H
φ 10 · (0 P P E P E E Ό >ι μ ·η μ -h -h · KO Φ W Φ w w w 2 > Φ > Φ w w 12 80054 Nämä tulokset osoittavat hieman, mutta merkittävästi korkeampaa kovettumisastetta käytettäessä esimerkin 3 mukaisia fotoinitiaattoreita kuin vertailuesimerkkien 5 ja 6 mukaisia initiaattoreita.
5 3. Jännitys/muodonmuutos -testaus, kovuus
Taivutusmoduuli ja -lujuus määritettiin kolmelle hartsisysteemille, joissa oli täyteaineena 67,5 % kvartsia (hiukkaskoko alle 5 pm), joka oli käsitelty 3,0 %:lla A-174-silaania. Koostumukset valmistettiin seuraavasti: 10 10 g:aan hartsia lisättiin 21,0 g täyteainetta tasaisesti sekoittaen. Kun kaikki täyteaine oli lisätty, tahnoista poistettiin kaasut vakuumiuunissa, kunnes kupliminen lakkasi kokonaan. Tahnat poistettiin uunista ja niitä sekoitettiin perinpohjin täyteaineen jakauttamiseksi tasaisesti 15 ja sileän tahnan aikaansaamiseksi (5,0 min). Sekoituksen jälkeen tahnat laitettiin takaisin vakuumiuuniin ja niistä poistettiin uudelleen kaasut, kunnes ne eivät enää sisältäneet onkalolta mikroskoopilla tarkasteltuna. Taivutuskokeeseen käytettävät sauvat valmistettiin kovettamalla tah-20 nat Teflon-muoteissa lasilevyjen välissä valottamalla var-jostamattomalla F0T0CII@-valolla (aallonpituusalue 400 nm-:stä lähtien yli näkyvän alueen, säteilyhuippu 600 nm:ssä) 60 s kummaltakin puolelta. Näytteitä kypsytettiin 24 h deionisoidussa vedessä 37 °C:ssa ja mitattiin Instron HP-25 11-jännitys/muodonmuutosmittauslaitteella niiden taivutus- lujuus ja -moduuli. Murtuneille taivutuskoenäytteille, jotka oli säästetty tähän tarkoitukseen, mitattiin Rock-well-kovuus (F-asteikko). Instron- ja Rockwellkokeiden tulokset ovat talulukossa VI: i3 80054
Taulukko VI
Taivutuskokeiden tulokset: 5 Materiaali Taivutus- Taivutus- Kovuus (Rf- lujuus (MPa) moduuli (MPa) asteikko)
Koostumus A x * 117,0 x - 11036 x * 80,9 (vertailu- n * 8 n = 8 n = 8 10 esim. 5 + s.d. = 9,5 s.d. * 1086 s.d. = 1,67 67.5 % kvartsia)
Koostumus B x = 127,4 x = 10658 x = 82,3 (vertailu- n = 8 n = 8 n=8 15 esim. 6 + s.d. = 11,6 s.d. = 1116 s.d. = 0,96 67.5 % kvartsia)
Koostumus C x = 153,5 x * 14008 x * 87,6 (esim. 3+ n = 8 n * 8 n = 8 20 67,5 % kvartsia) s.d. = 5,6 s.d. » 870 s.d. * 1,16 (x = n:n näytteen aritmeettinen keskiarvo) 25 Kuten tuloksista ilmenee, oli koostumuksella, joka sisälsi esimerkin 3 mukaisia fotoinitiaattoreita, oleellisesti suurempi taivutuslujuus, taivutusmoduuli ja kovuus kuin koostumuksilla, jotka sisälsivät vertailuesimerkkien 5 ja 6 mukaisia fotoinitiaattoreita. Tämä osoittaa merkit-30 tävää kovettumistehon parantumista käyettäessä keksinnön kohteena olevia fotoinitiaattoreita.
Claims (9)
1. Näkyvän valon vaikutuksesta polymeroituva koostumus, tunnettu siitä, että se sisältää vähintään 5 yhtä olefiinisesti tyydyttymätöntä yhdistettä ja valon-herkkää katalysaattoria, joka koostuu pääasiallisesti: a) vähintään yhdestä visinaalisesta diketoniyhdis-teestä; ja b) 4-(N,N-dimetyyliamino)bentsoehaposta tai sen 10 (alempi alkyyli)esteristä.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen valon vaikutuksesta polymeroituva koostumus, tunnettu siitä, että se on hampaiden paikkauskoostumus, jossa olefiinisesti tyydyttymätön yhdiste on vähintään kaksi akrylaatti- 15 tai metakrylaattiryhmää sisältävä yhdiste.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen valon vaikutuksesta polymeroituva koostumus, tunnettu siitä, että diketoni on kamferikinoni, bentsiili, biasetyyli tai niiden seos.
4. Patenttivaatimuksen 2 mukainen valon vaikutuk sesta polymeroituva koostumus, tunnettu siitä, että diketoni on kamferikinoni, bentsiili, biasetyyli tai niiden seos.
5. Patenttivaatimuksen 1 mukainen valon vaikutuk- 25 sesta polymeroituva koostumus, tunnettu siitä, että mainittu aineosa (b) on etyyli-4-(N,N-dimetyyliami-no)bentsoaatti.
6. Patenttivaatimuksen 2 mukainen valon vaikutuksesta polymeroituva koostumus, tunnettu siitä, 30 että mainittu aineosa (b) on etyyli-4-(N,N-dimetyyliami-no)bentsoaatti.
7. Patenttivaatimuksen 3 mukainen valon vaikutuksesta polymeroituva koostumus, tunnettu siitä, että mainittu aineosa (b) on etyyli-4-(N,N-dimetyyliami- 35 no)bentsoaatti. is 80054
8. Patenttivaatimuksen 4 mukainen valon vaikutuksesta polymeroituva koostumus, tunnettu siitä, että mainittu aineosa (b) on etyyli-4-(N,N-dimetyyliami-no)bentsoaatti.
9. Patenttivaatimuksen 2 mukainen valon vaikutuk sesta polymeroituva koostumus, tunnettu siitä, että katalysaattori on bentsiilin, kamferikinonin ja etyy-li-4-(N,N-dimetyyliamino)bentsoaatin seos. ie 80054
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/510,134 US4525256A (en) | 1983-07-01 | 1983-07-01 | Photopolymerizable composition including catalyst comprising diketone plus 4-(N,N-dimethylamino)benzoic acid or ester thereof |
US51013483 | 1983-07-01 |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI842642A0 FI842642A0 (fi) | 1984-06-29 |
FI842642A FI842642A (fi) | 1985-01-02 |
FI80054B true FI80054B (fi) | 1989-12-29 |
FI80054C FI80054C (fi) | 1990-04-10 |
Family
ID=24029509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI842642A FI80054C (fi) | 1983-07-01 | 1984-06-29 | Under synliga ljusets inverkan fotopolymeriserbar komposition. |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4525256A (fi) |
EP (1) | EP0132959B1 (fi) |
JP (1) | JPH0714964B2 (fi) |
AT (1) | ATE31420T1 (fi) |
AU (1) | AU559329B2 (fi) |
BR (1) | BR8403208A (fi) |
CA (1) | CA1214678A (fi) |
DE (1) | DE3468109D1 (fi) |
DK (1) | DK319284A (fi) |
FI (1) | FI80054C (fi) |
GR (1) | GR79968B (fi) |
MX (1) | MX163519B (fi) |
NO (1) | NO162286C (fi) |
NZ (1) | NZ208677A (fi) |
PT (1) | PT78818B (fi) |
TR (1) | TR22525A (fi) |
Families Citing this family (51)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4674980A (en) * | 1982-05-03 | 1987-06-23 | Den-Mat, Inc. | Dental composite and porcelain repair |
USRE35135E (en) * | 1983-09-28 | 1995-12-26 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Photocurable resin composition |
JPS6071602A (ja) * | 1983-09-28 | 1985-04-23 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 光硬化性組成物 |
JPH0662687B2 (ja) * | 1985-04-19 | 1994-08-17 | 三井石油化学工業株式会社 | 光硬化性組成物 |
US4940645A (en) * | 1985-07-16 | 1990-07-10 | The Mead Corporation | Imaging material employing photosensitive microcapsules containing tertiary amines as coinitiators |
JPS62210385A (ja) * | 1986-03-07 | 1987-09-16 | 三洋電機株式会社 | 断熱扉 |
IL84254A (en) * | 1986-11-12 | 1991-08-16 | Thiokol Morton Inc | Photoinitiator composition for photopolymerization |
US5369916A (en) * | 1988-08-01 | 1994-12-06 | Dentsply Research & Development Corp. | Polishing element |
US5078754A (en) * | 1988-08-01 | 1992-01-07 | Dentsply Research & Development Corp. | Finishing/polishing system |
US6093084A (en) * | 1988-08-01 | 2000-07-25 | Dentsply Research & Development Corp. | Device and method for dispensing polymerizable compositions |
JPH0283307A (ja) * | 1988-09-16 | 1990-03-23 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 動揺歯固定用材料 |
US5354199A (en) * | 1991-08-02 | 1994-10-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Adhesive for packaged orthodontic appliance |
US5756559A (en) * | 1992-02-06 | 1998-05-26 | Dentsply Research & Development | Method and composition for adhering to tooth structure |
US5367002A (en) * | 1992-02-06 | 1994-11-22 | Dentsply Research & Development Corp. | Dental composition and method |
US6500879B1 (en) | 1993-04-19 | 2002-12-31 | Dentsply Research & Development Corp. | Dental composition and method |
US5338773A (en) * | 1993-04-19 | 1994-08-16 | Dentsply Research & Development Corp. | Dental composition and method |
US6391940B1 (en) | 1993-04-19 | 2002-05-21 | Dentsply Research & Development Corp. | Method and composition for adhering to metal dental structure |
US6191190B1 (en) | 1993-04-19 | 2001-02-20 | Dentsply Research & Development Corp. | Method and composition for adhering to tooth structure |
US5710194A (en) * | 1993-04-19 | 1998-01-20 | Dentsply Research & Development Corp. | Dental compounds, compositions, products and methods |
US5906490A (en) * | 1994-06-09 | 1999-05-25 | Ceramco Inc. | Dental product, shading kit and method |
US6313191B1 (en) | 1994-08-22 | 2001-11-06 | Dentsply Gmbh | Method and composition for priming and adhering to tooth structure |
US5645429A (en) * | 1994-08-22 | 1997-07-08 | Dentsply Research & Development Corp. | Method for adhering to tooth structure |
US5658963A (en) * | 1995-02-02 | 1997-08-19 | Bisco, Inc. | One-component primer/bonding-resin systems |
US5929194A (en) * | 1996-02-23 | 1999-07-27 | The Dow Chemical Company | Crosslinkable or chain extendable polyarylpolyamines and films thereof |
US6030606A (en) * | 1998-06-22 | 2000-02-29 | 3M Innovative Properties Company | Dental restoratives comprising Bis-EMA6 |
US6204302B1 (en) | 1998-11-20 | 2001-03-20 | Bisco, Inc. | Photosensitizers for free radical polymerization initiation resins and method of making the same |
US20030225182A1 (en) * | 2001-01-04 | 2003-12-04 | Dentsply Detrey Gmbh | Dental composition with improved light stability |
US20040225029A1 (en) * | 2000-02-17 | 2004-11-11 | Uwe Walz | Dental composition with improved light stability |
US8026295B2 (en) * | 2000-02-17 | 2011-09-27 | Dentsply International, Inc. | Dental composition with improved light stability |
US20030069327A1 (en) * | 2001-08-09 | 2003-04-10 | Uwe Walz | Dental compostions comprising bisacrylamides and use thereof |
JP4989011B2 (ja) * | 2000-08-11 | 2012-08-01 | デンツプライ インターナショナル インコーポレーテッド | ポリアミノエステルおよびその歯科治療用組成物への応用 |
US20040171716A1 (en) * | 2002-12-03 | 2004-09-02 | Uwe Walz | Dental compositions comprising bisacrylamides and use thereof |
US20050255425A1 (en) * | 2000-09-21 | 2005-11-17 | Pierson Paul R | Mixing tip for dental materials |
DE10124029B4 (de) | 2001-05-16 | 2004-08-26 | 3M Espe Ag | Initiatorsystem für saure Dentalformulierungen |
DE60206933T2 (de) * | 2001-08-13 | 2006-07-27 | Dentsply International Inc. | Konus zur Füllung von Zahnwurzelkanälen |
US20050009946A1 (en) * | 2001-09-21 | 2005-01-13 | Makoto Oguri | Radical polymerization catalyst and adhesive kit for dental use |
US20040209990A1 (en) * | 2003-04-15 | 2004-10-21 | Uwe Walz | Low shrinking polymerizable dental material |
WO2005030080A1 (en) * | 2003-09-23 | 2005-04-07 | Dentsply International Inc. | Packaged dental composition |
DE502005006753D1 (de) | 2005-08-01 | 2009-04-16 | Ivoclar Vivadent Ag | Photopolymerisierbare Dentalmaterialien mit Bisacylphosphinoxiden als Initiator |
ITVA20050049A1 (it) * | 2005-08-05 | 2007-02-06 | Lamberti Spa | Sistemi fotopolimerizzabili contenenti coiniziatori a bassa estraibilita' e volatilita' |
US20070284400A1 (en) * | 2006-06-09 | 2007-12-13 | Paul Richard Pierson | Package for a dental material |
EP1905415B1 (de) * | 2006-09-27 | 2009-07-01 | Ivoclar Vivadent AG | Polymerisierbare Zusammensetzungen mit Acylgermanium-Verbindungen als Initiatoren |
EP1905413A1 (de) * | 2006-09-27 | 2008-04-02 | Ivoclar Vivadent AG | Polymerisierbare Zusammensetzungen mit Acylgermanen als Initiatoren |
DE102006050153A1 (de) | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Ivoclar Vivadent Ag | Mikroverkapselte Photoinitiatoren und deren Verwendung für Dentalmaterialien |
EP2103297B1 (de) | 2008-03-20 | 2012-05-16 | Ivoclar Vivadent AG | Polymerisierbare Zusammensetzung mit mehrere Germanium-Atome enthaltenden Initiatoren |
DE102008047006A1 (de) | 2008-09-12 | 2010-03-25 | Heinrich-Heine-Universität Düsseldorf | Lichthärtende Zusammensetzungen |
US9527931B2 (en) | 2012-02-16 | 2016-12-27 | Bisco, Inc. | Hydrophobic self-etch dental adhesive compositions |
EP3150641B1 (de) | 2015-09-29 | 2018-08-29 | Ivoclar Vivadent AG | Acylgermanium-photoinitiatoren und verfahren zu deren herstellung |
ES2841406T3 (es) | 2016-09-07 | 2021-07-08 | Ivoclar Vivadent Ag | Composiciones polimerizables con fotoiniciadores de acilestaño |
EP3868767B1 (de) | 2020-02-21 | 2022-01-05 | Ivoclar Vivadent AG | Langwellig absorbierende photoinitiatoren |
EP4257592A1 (en) | 2022-04-08 | 2023-10-11 | Evonik Operations GmbH | Bisacyl digermanium compounds, their preparation and their use as photoinitiator for radical polymerization |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1408265A (en) * | 1971-10-18 | 1975-10-01 | Ici Ltd | Photopolymerisable composition |
JPS5415053B2 (fi) * | 1973-09-04 | 1979-06-12 | ||
CH611633A5 (fi) * | 1977-03-16 | 1979-06-15 | Espe Pharm Praep | |
GB1547919A (en) * | 1977-12-01 | 1979-06-27 | Ward Blenkinsop & Co Ltd | Photocurable compositions |
JPS5682802A (en) * | 1979-12-10 | 1981-07-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | Ultraviolet-curing coating composition |
DE3174624D1 (en) * | 1980-08-29 | 1986-06-19 | Dentsply Int Inc | Visible light curable dental compositions |
-
1983
- 1983-07-01 US US06/510,134 patent/US4525256A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-06-26 GR GR75129A patent/GR79968B/el unknown
- 1984-06-26 NZ NZ208677A patent/NZ208677A/en unknown
- 1984-06-28 TR TR4492A patent/TR22525A/xx unknown
- 1984-06-29 NO NO842654A patent/NO162286C/no unknown
- 1984-06-29 DE DE8484304464T patent/DE3468109D1/de not_active Expired
- 1984-06-29 DK DK319284A patent/DK319284A/da not_active Application Discontinuation
- 1984-06-29 PT PT78818A patent/PT78818B/pt not_active IP Right Cessation
- 1984-06-29 AT AT84304464T patent/ATE31420T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-06-29 AU AU30052/84A patent/AU559329B2/en not_active Ceased
- 1984-06-29 BR BR8403208A patent/BR8403208A/pt not_active IP Right Cessation
- 1984-06-29 EP EP84304464A patent/EP0132959B1/en not_active Expired
- 1984-06-29 FI FI842642A patent/FI80054C/fi not_active IP Right Cessation
- 1984-06-29 MX MX201840A patent/MX163519B/es unknown
- 1984-06-29 JP JP59133471A patent/JPH0714964B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1984-07-03 CA CA000458009A patent/CA1214678A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NO162286C (no) | 1989-12-06 |
ATE31420T1 (de) | 1988-01-15 |
NO162286B (no) | 1989-08-28 |
DE3468109D1 (en) | 1988-01-28 |
BR8403208A (pt) | 1985-06-11 |
MX163519B (es) | 1992-05-25 |
US4525256A (en) | 1985-06-25 |
TR22525A (tr) | 1987-10-01 |
CA1214678A (en) | 1986-12-02 |
GR79968B (fi) | 1984-10-31 |
EP0132959B1 (en) | 1987-12-16 |
NO842654L (no) | 1985-01-02 |
DK319284A (da) | 1985-01-02 |
FI80054C (fi) | 1990-04-10 |
FI842642A0 (fi) | 1984-06-29 |
JPS6026002A (ja) | 1985-02-08 |
DK319284D0 (da) | 1984-06-29 |
JPH0714964B2 (ja) | 1995-02-22 |
PT78818B (en) | 1986-10-21 |
PT78818A (en) | 1984-07-01 |
EP0132959A3 (en) | 1985-08-21 |
NZ208677A (en) | 1986-07-11 |
AU3005284A (en) | 1985-01-03 |
EP0132959A2 (en) | 1985-02-13 |
AU559329B2 (en) | 1987-03-05 |
FI842642A (fi) | 1985-01-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI80054B (fi) | Under ljusets inverkan polymeriserbara komposition, som innehaoller diketon samt 4-(n,n-dimetylamino)benzoe- syra eller dess estrar innehaollande katalysatorer. | |
FI71482B (fi) | Flytande sammanstaenningar foer taetning av sprickor i taenderna och foerfarande foer framstaellning av dessa sammansaettningar | |
US4459193A (en) | Dental compositions containing camphorquinone and organic peroxide as catalyst | |
US4387240A (en) | Oligomeric methacryl substituted alkylsiloxanes | |
US5100929A (en) | (polyene-polythiol) dental compositions curable with visible light | |
US4097994A (en) | Dental restorative composition containing oligomeric BIS-GMA resin and Michler's ketone | |
US4746685A (en) | Light curable dental composition | |
EP0173567A2 (en) | Method of treating teeth with certain photopolymerizable compositions including catalyst comprising an acylphosphine oxide | |
JPS631281B2 (fi) | ||
US5846075A (en) | One package, shelf-stable photo-curable band cement | |
US4534839A (en) | Process for the photopolymerization of vinyl compounds and photopolymerizable materials | |
CA1117685A (en) | One paste polymeric dental restorative composition | |
JPS6261908A (ja) | 歯科修復用光重合性組成物 | |
EP0058514A1 (en) | Radiation curable silaneous adhesives | |
JP3419488B2 (ja) | 光重合性歯科用組成物 | |
JPH0351722B2 (fi) | ||
EP0070634A2 (en) | Visible light curable sealants | |
JP3409291B2 (ja) | アミン系不飽和化合物及びそれを含む光硬化性組成物 | |
AU642780B2 (en) | A bonding cement | |
JP3435857B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
JPS62132904A (ja) | 光重合用触媒組成物 | |
JPH02252775A (ja) | 光重合型接着剤組成物 | |
JPH0533681B2 (fi) | ||
JPH02245003A (ja) | 光重合変色性組成物 | |
JPS63107954A (ja) | アクリル/メタクリル酸混成エステル |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM | Patent lapsed | ||
MM | Patent lapsed |
Owner name: JOHNSON & JOHNSON DENTAL PRODUCTS |