FI71024C - Foerfarande och framkallningsblandning foer framstaellning av exponerande negativt arbetande diaxoniumsaltskikt - Google Patents
Foerfarande och framkallningsblandning foer framstaellning av exponerande negativt arbetande diaxoniumsaltskikt Download PDFInfo
- Publication number
- FI71024C FI71024C FI820027A FI820027A FI71024C FI 71024 C FI71024 C FI 71024C FI 820027 A FI820027 A FI 820027A FI 820027 A FI820027 A FI 820027A FI 71024 C FI71024 C FI 71024C
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- weight
- salt
- surfactant
- acid
- developer
- Prior art date
Links
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 title claims abstract description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims abstract description 15
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 238000005187 foaming Methods 0.000 claims abstract description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 7
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 19
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 13
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical class [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- -1 sulfonic acid compound Chemical class 0.000 description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 3
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 description 2
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 2
- URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N triacetin Chemical compound CC(=O)OCC(OC(C)=O)COC(C)=O URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZHOJFHSIKHZHA-UHFFFAOYSA-N tridecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(O)=O SZHOJFHSIKHZHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 1-dodecanesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCS(O)(=O)=O LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 2-[n-ethyl-4-[(6-methoxy-3-methyl-1,3-benzothiazol-3-ium-2-yl)diazenyl]anilino]ethanol;methyl sulfate Chemical compound COS([O-])(=O)=O.C1=CC(N(CCO)CC)=CC=C1N=NC1=[N+](C)C2=CC=C(OC)C=C2S1 MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(2,4,6-trimethylphenyl)pent-4-en-2-one Chemical group CC(=C)CC(=O)Cc1c(C)cc(C)cc1C UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005643 Pelargonic acid Substances 0.000 description 1
- RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N Poloxamer Chemical compound C1CO1.CC1CO1 RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000388 Polyphosphate Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004792 Prolene Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- 208000000260 Warts Diseases 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000003254 anti-foaming effect Effects 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-M chloroacetate Chemical compound [O-]C(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940089960 chloroacetate Drugs 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- HABLENUWIZGESP-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCC(O)=O HABLENUWIZGESP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 239000001177 diphosphate Substances 0.000 description 1
- 238000004851 dishwashing Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC([O-])=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 235000013773 glyceryl triacetate Nutrition 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-M octanoate Chemical compound CCCCCCCC([O-])=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940049964 oleate Drugs 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000546 pharmaceutical excipient Substances 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 239000001205 polyphosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011176 polyphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 239000003352 sequestering agent Substances 0.000 description 1
- 201000010153 skin papilloma Diseases 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical class [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229960002622 triacetin Drugs 0.000 description 1
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Description
71024
Menetelmä ja kehiteseos valotettujen, negatiivisesti toimivien diatsoniumsuolakalvojen kehittämiseksi
Keksintö koskee kehiteseosta, joka sopii sellaisten 5 negatiivisesti toimivien valotettujen kopiointimateriaaleil-la olevien jäijennöskalvojen kehittämiseen, jotka sisältävät diatsoniumsuola-polykondensaatiotuotetta.
Mainitunlaisia kopiomateriaaleja käytetään varsinkin valmistettaessa painolevyjä tai valonherkkiä hartseja 10 (fotoresistejä) ja ne käsittävät kalvonkantajän ja negatiivi sesti toimivan valonherkän jäijennöskalvon. Kalvonkantajina näissä kopiointimateriaaleissa käytetään metalleja kuten sinkkiä, kromia, kuparia, messinkiä, terästä, alumiinia tai näiden metallien yhdistelmiä, muovifolioita, paperia tai 15 niiden kaltaisia materiaaleja. Nämä kalvonkantajät voidaan pinnoittaa valonherkällä jäijennöskalvolla ilman modifioivaa esikäsittelyä, mutta edullisesti sen jälkeen, kun on suoritettu pinnan modifiointi esimerkiksi mekaanisesti, kemiallisesti tai sähkökemiallisesti karkeuttamalla oksidoimalla 20 ja/tai käsittelemällä hydrofilisoivilla aineilla (esim.
offset-painolevyjen ollessa kysymyksessä). Keksinnön mukaisesti kehitettävät jäijennöskalvot sisältävät veteen liukenemattomia diatsoniumsuola-polykondensaatiotuotteita. Valonherk-kien aineosien ohella voivat jäijennöskalvot sisältää vielä 25 pehmentimiä, pigmenttejä, väriaineita, kostutusaineita, her-kistimiä, indikaattoreita ja muita tavanomaisia apuaineita. Tällaisia jäijennöskalvoja kuvataan yksityiskohtaisesti esimerkiksi julkaisussa DE-OS 20 65 732 (= US-patenttijulkaisu 3 867 147.
30 Negatiivisesti toimivien jäijennöskalvojen kehitteen täytyy voida liuottaa valotetun kalvon ne osat, joihin sähkömagneettinen säteily (esim. valo) ei ole osunut (myöhemmät kuvattomat kohdat) ilman että se vaikuttaisi samalla olennaisesti kalvon osiin, joihin säteily on osunut (myöhemmät 35 kuvakohdat). Edellä mainitussa DE-OS-julkaisussa mainitaan tähän yleisesti soveltuviksi: vesi, veden ja orgaanisten 710 2 4 liuottimien seokset, vesipitoiset suolaliuokset, vesipitoiset happoliuokset, vesipitoiset alkaliset liuokset ja laimentamattoraat orgaaniset liuottimet, joihin mahdollisesti voidaan lisätä tensideja ja/tai hydrofilisointiaineita.
5 Esimerkeissä pääasiallisesti käytetyt kehitteet sisältävät vettä, Na-lauryylisulfaattia, Na-sulfaattia, viinihappoa ja mahdollisesti bentsyylialkoholia; muut kehitteet sisältävät tai ovat yksinomaan isopropanolia, n-propanolia, n-propyyliasetaattia, polyakryylihappoa, 1,1,-trikloorietaa-10 nia, asetonia tai etyleeniglykolimonometyylieetteriä.
Tekniikan tasosta tunnetaan vielä lisäksi seuraavat kehitteet tai vastaavasti kehiteseokset:
Julkaisussa DE-AS 10 47 916 kuvataan propyleeni-oksidi-etyleenioksidisegmenttipolymeerien, jotka sisältävät 15 pääteryhminä etyleenioksidiyksikköjä, lisääminen määrinä 3-5 paino-% vesipitoisiin, fosforihappoa sisältäviin kehitteisiin, joita käytetään diatsoniumyhdisteitä sisältäville laakapainolevyjen valonherkille kolloidikalvoille.
Julkaisun DE-AS 11 93 366 (= US-patenttijulkaisu 20 3 201 241) mukaiset vesipitoiset, alkaliset laakapainolevy- jen negatiivikalvojen kehitteet sisältävät 0,3-5 paino-% alkaleita, 0,001 - 0,05 paino-% määrättyjä kationeja kuten 2+ 2+ 2 +
Ca , Sr tai Ba , 0,001- 0,25 paino-% kompleksinmuodostajia kuten viinihappoa, askorbiinihappoa tai etyleenidia-25 miinitetraetikkahappoa ja 0,2 - 0,8 paino-% vesiliukoisia polymeerejä kuten polyetyleeniglykoleja tai selluloosaeet-tereitä. Jos negatiivikalvot, jotka sisältävät p-kinonidi-atsideja valonherkkänä yhdisteenä, sisältävät vielä sideainetta, lisätään kehitteeseen yleensä vielä orgaanisia 30 liuottimia kuten etyleeniglykolimonometyylieetteriä.
Julkaisusta DE-AS 17 72 457 (= US-patenttijulkaisu 3 701 657) tunnetaan laakapainolevyille, joilla on fotopoly-meroituva hartsi, käytettävä vedetön kehite, joka sisältää orgaanista liuotinta, pienimolekyylistä tensidiä ja mahdol-35 lisesti hydrofilisointiaineena pienimolekyylistä happoa kuten sitruunahappoa tai fosforihappoa tai hydrofiilistä 71024 kolloidia kuten karboksimetyyliselluloosaa. Sopivina tensi-deinä mainitaan mm. alkyyliaryylisulfonihapot ja etyleeniok-sidin ja alkoholien, rasva-alkoholien, alkyylifenolien tai rasva-amiinien polykondensaatiotuotteet.
5 Julkaisun DE-OS 21 24 672 ( = US-patenttijulkaisu 3 669 660) mukainen negatiivikerrosten kehite sisältää Vettä ja vesiliukoista sulfonihappoa (varsinkin aromaattisia yhdisteitä) tai sen vesiliukoista suolaa ja mahdollisesti vesiliukoista orgaanista liuotinta, tensidin ja happoa 10 kuten fosforihappoa. Kehitettävien valonherkkien kalvojen tulee olla p-diatsodifenyyliamiiniperustaisia; kehite sisältää sulfonihappoyhdistettä osuuden 5-25 paino-%, orgaanista liuotinta osuuden 0-20 paino-%, tensidiä (esim. Na-lauryyli-sulfaattia) 5 paino-%:tiin saakka ja happoa 5 paino-%:iin 15 saakka.
Julkaisussa DE-OS 23 53 992 (= US-patenttijulkaisu 4 147 545) kuvataan negatiivikalvojen kehite, joka sisältää vähintään yhden happamen vetyatomin sisältävän orgaanisen yhdisteen vesiliukoista litiumsuolaa ja mahdollisesti amfo- 20 teeristä tensidiä.Sopiviin litiumsuoloihin kuuluvat mm.
Li-dodekanoaatti, -lauryylisulfonaatti, -klooriasetaatti, -kaprylaatti, -stearaatti ja -oleaatti, niitä lisätään vesi-liuokseen määrinä 1-25 paino-%; amfoteerista tensidiä voi olla 50 paino-%:iin saakka kehitteessä. Lisäksi voi kehite 25 sisältää vielä 30 paino-%:iin saakka orgaanista liuotinta ja 5jaino-%:iin saakka fosforihappoa tai oksaalihappoa. Kehitettävä valonherkkä kalvo perustuu veteen liukenemattomiin diatsoniumyhdisteisiin tai fotopolymeroituviin yhdisteisiin.
30 Amfoteeriset tensidit sisältävät sekä emäksisen typpiatomin sisältävän ryhmän että ryhmän, joka sisältää happamen funktion kuten karboksyyli-, sulfaatti-, sulfonaat-ti- tai fosfaattiryhmän. Muina lisäaineina voi olla myös ionisia tai ionittomia tensidejä määrinä 5-10 paino-%, mm.
35 mainitaan alkoholien tai alkyylifenolien polyetyleeniglykoli-eetterit.
71024
Julkaisu DE-OS 25 30 502 (= GB-patenttijulkaisu 1 515 174) mukainen, diatsoniumsuola-polykondensaatiotuot-teita sisältävien negatiivikalvojen käsittelyyn tarkoitettu kehite sisältää suurehkon osuuden vettä, pienemmän määrän 5 orgaanista liuotinta ja vesiliukoista kolloidia. Lisäksi voi tällainen kehite sisältää vielä 10 paino-%:iin saakka tensidiä ja 20 paino-%:iin saakka suolaa tai happoa (mm. sulfaatteja, fosfaatteja, typpihappoa, fosforihappoa); sopivina tensideinä mainitaan mm. Na-lauryylisulfaatti, 10 alkyylipolyetyleeniglykolieetteri ja alkyylifenolipolyety-leeniglykolieetteri.
Julkaisusta DE-0S 27 44 097 (= US-patenttijulkaisu 4 186 006) tunnetaan veteen liukenematonta diatsohartsia ja hydrofobista hartsia sisältäville valonherkille kal-15 voille tarkoitettu kehite, joka sisältää a) bentsyylialko-holia, etyleeniglykolimonofenyylieetteriä tai -monobent-syylieetteriä, b) anionista tensidiä ja c) vesiliukoista sulfiittia.
Julkaisun DE-0S 28 09 774 mukainen diatsoniumsuola-20 polykondensaatiotuotetta sisältävien valonherkkien negatiivikalvojen kehite perustuu 0,5 - 15 paino-%:iin anionista tensidiä, 0,5 - 6 paino-%:iin poly-N-vinyyli-N-metyyliaset-amidia, 1-5 paino-%:iin polyvinyylialkoholia, 0,5-6 pai-no-%:iin suolaa, 0,5 paino-%:sta kyllästyspitoisuuteen bent-25 syylialkoholia ja 0,5 paino-%:tista kyllästyspitoisuuteen glyserolitriasetaattia.
Kuvatusta tekniikan tasosta tunnetuilla kehitteillä tai vastaavasti kehiteseoksilla on kuitenkin varsinkin seuraavia haittapuolia: 30 - Ne sisältävät usein orgaanisia liuottimia, joita ei ekologisista syistä (alhaalla kiehuvia, tulenarkoja, epämiellyttävän hajuisia, negatiivinen vaikutus jätevesiin ja ilmaan, kustannuksiltaan kalliita toimenpiteitä liuottimien poistamiseksi kehityksen jälkeen) enää pitäisi 35 olla ajanmukaisissa kehitteissä mikäli mahdollista.
5 71024 - Käytännössä tähän asti usein käytetty lauryylisul-faatti tai muut alkaanisulfaatit tai alkaanisulfonaatit ovat tosin sinänsä tehokkaita annettujen valonherkkien jäl-jennöskalvojen kehitekomponentteja, mutta ne vaativat 5 suhteellisen pitkän kehitysajan, ne vaahtoavat työkoneissa liian voimakkaasti, varsinkin vertikaalikehityksessä ja liukoisuus veteen pienenee alhaisissa lämpötiloissa (esim. noin 10°C ja sitä alempiin mentäessä) siinä määrin, että syys- tai talvilämpötiloissa varastoliuoksessa voi esiin-10 tyä höytyläisiä jäännöksiä, jotka usein häiritsevät työskentelyä. Rasvaläikät ja sideainejäännökset joita voi esiintyä offset-painolevyjen käsittelyssä käytännön olosuhteissa, poistuvat näistä kehitekomponenteista vain pitkän kehitys-ajan jälkeen tai mekaanisten lisätoimenpiteiden avulla.
15 - Ne ovat usein ja varsinkin silloin, kun niitä käy tetään niille erityisille jäijennöskalvoille, joita varten ne kehitettiin ja joille niitä on käytetty kulloinkin annetuissa esimerkeissä, hyvin sopivia, mutta kun niitä käytetään kalvoille, jotka eroavat näistä erityisistä jäljennös-20 kalvoista, niihin liittyy enemmän tai vähemmän vaikeuksia, ts. se nimenomainen valonherkkä jäijennöskalvo,joka on kehitettävä esillä olevassa tapauksessa, vaatii yleensä myös erityisen kehitteen tai erityisen kehitejärjestelmän.
Keksinnön tarkoituksena on vainistaa valonherkki-25 en, diatsoniumsuola-polykondensaatiotuoteperustaisten jäl-jennöskalvojen, varsinkin sellaisten, jotka eivät sisällä veteen liukenemattomia sideaineita, kehittämiseen tarkoitettu kehite, jolla saadaan aikaan valottumattomien kalvon osien nopea ja täydellinen liukeneminen ilman että se 30 vaikuttaisi kalvon valotettuihin alueisiin ja joka sopii käytettäväksi automaattisissa kehityslaitteissa.
Keksintö koskee valotettujen, valonherkkien, diatso-niumsuola-polykondensaatiotuotetta sisältävien jäljennös-kalvojen kehittämiseksi käytettävää kehiteseosta, joka ei 35 sisällä orgaanisia liuottimia ja joka perustuu veteen, alkaanikarnoksyylihapon suolaan ja tensidiin. Kehiteseok- 71024 6 selle on tunnusomaista, että se sisältää 0,5-15 paino-% vähintään yhtä 8-13 hiiliatomia sisältävän alkaanikarbok-syylihapon Na-, NH^- tai K-suolaa ja 0,5-20 paino-% vähintään yhtä heikosti vaahtoavaa, ei-ionogeenista tensidiä, 5 joka on etyleeni- ja propyleenioksidin mahdollisesti modifioitu segmenttipolymeeri.
Keksintö koskee myös menetelmää negatiivisesti toimivien, diatsonium-suola-polykondensaatiotuotetta sisältävien jäijennöskalvojen kehittämiseksi, jolloin velotettuua jäljen-10 nöskalvoa käsitellään seoksella, joka ei sisällä orgaanisia liuottimia ja joka perustuu veteen, aikaanikarboksyylihapon suolaan ja tensidiin, kalvon valottumattomien alueiden liuottamiseksi. Mentelmälle on tunnusomaista, että kalvoa käsitellään vesipitoisella kehiteseoksella, joka sisältää 15 0,5-15 paino-% vähintään yhtä 8-13 hiiliatomia sisältävän aikaanikarboksyylihapon Na-, NH4~ tai K-suolaa ja 0,5-20 paino-% vähintään yhtä heikosti vaahtoavaa ei-ionogeenista tensidiä, joka on etyleeni- ja propyleenioksidin mahdollisesti modifioitu segmenttipolymeeri.
20 Jäijennöskalvoja, jotka voidaan kehittää keksinnön m ukaisella kehiteseoksella, on kuvattu esimerkiksi jo aikaisemmin mainitussa julkaisussa DE-OS 2 065 732 (=US-patenttijulkaisu 3 867 147). Nämä kalvot voivat sisältää valoherkän yhdisteen, diatsoniumsuola-polykondensaatio-25 tuotteen, ohella vielä muita aineosia, tämä ei kuitenkaan välttämättä ole tarpeen, erityisesti ne eivät sisällä veteen liukenematonta sideainetta.
Keksinnön mukaisen kehittimen pääaineosa on vesi, sen lisäksi se sisältää edellä mainittuja aineosia.
30 Alkaanikarboksyylihapon suoloissa on kationina Na+-, NH.+-+ ^ tai K -ioni. Näiden suolojen anioni on kulloinkin peräisin alkaanihaposta: oktaanihappo = kapryylihappo (oktano-aattianioni), noaattianioni), nonaanihappo = pelargoni-happo (nonanoaatti), dekaanihappo = kapriinihappo (dekano-35 aatti), udenkaanihappo (undekanoaatti), dodekaanihappo = lauriinihappo (dodekanoaatti) ja tridekaanihappo (tride- 7 71024 kanoaatti). Suoloista ovat edullisia 9-12 hiiliatomia sisältävien alkaanikarboksyylihappojen suolat.
Keksinnön mukainen kehiteseos sisältää lisäksi heikosti vaahtoavaa ei-ionogeenista tensidiä, jolla on hyvä 5 tai käyttökelpoinen kostutusvaikutus ja joka pienentää veden pintajännitystä mutta jolla lisäksi on hyvä vaahdon-estokyky. Tällaisia tensidejä ovat etyleeni- ja propyleeni-oksidin segmenttipolymeerit, jotka mahdollisesti voivat olla modifioituja muilla molekyyleillä. Esimerkkejä 10 sellaisista yhdisteistä ovat segmenttipolymeerit, jotka ovat muodostuneet komponenteista 90 paino-% propyleeni-oksidia ja 10 paino-% etyleenioksidia, 80 paino-% propy-leenioksidia ja 20 paino-% etyleenioksidia, 60 paino-% propyleenioksidia ja 40 paino-% etyleenioksidia, 15 jolloin etyleenioksidiryhmät ovat pääteryhmiä, etyleenidia-miinista, etyleenioksidista ja propyleenioksidista ja komponenteista rasva-alkoholi, etyleenioksidi ja prolyleeni-oksidi, jolloin propyleenloksidi- tai etyleenioksidiryhmät voivat olla pääteryhminä.
20 Eräässä edullisessa sovellutusmuodossa sisältää kek sinnön mukainen kehiteseos 1-10 paino-% alkaanikarboksyyli-hapon suolaa ja 1-12 paino-% tensidiä. Kehiteseos voi sisältää vielä lisäksi muita lisäaineita, esimerkiksi kompleksinmuodostajia (sekvestrointiainetta), jotta voitaisiin 25 estää vedessä mahdollisesti olevien moniarvoisten ionien (esim. Ca )negatiivinen vaikutus ("kalkkisaippuan" muodostuminen) suola-kehiteaineosiin; tämän vuoksi lisätään kehi-teseokseen erityisesti fosfaatteja (esim. polyfosfaatteja), myös muut kompleksinmuodostajat kuten sitruunahappo tai ety-30 leenidiamiini-tetraetikkahappo tai niiden suolat ovat mahdollisia.
Sen ansiosta, että kehiteseoksessa ei ole alhaallta kiehuvia aineosia kuten orgaanisia liuottimia, seos ei käytön aikana käytännöllisesti katsoen muutu koostumuksel-35 taan ja sillä on siten suhteellisen pitkä kestoikä kehitys-laitteistoissa kuten koneissa. Yleensä on keksinnön mukainen 71024 kehiteseos neutraali tai heikosti alkalinen (pH-arvot 6:sta 9:ään). Keksinnön mukaisella kehiteseoksella ei ole häiritsevää hajuhaittaa, sillä ei ole lainkaan tai on vain epäolennaisesti taipumusta vaahdota; jähmettymispisteenkään 5 läheisissä lämpötiloissa ei aineosien keksinnön mukaisia määräsuhteita käytettäessä esiinny saostumia. Liimajäännökset (esim. kopioitaessa käytettyjen filmikaavioiden liimauksesta) ja rasvatahrat (esim. painolevyjen meisteistä) voidaan poistaa vaivattomasti jo piehenköllä kehittimen 10 vaikutusajalla. Kehitysnopeus on voimakkaasti suurentunut tavanomaisiin kehiteisiin verrattuna ilman, että olisi havaittavissa kuva-alueen kehittymisvastuksen vähenemistä. Alkaanikarboksyylihappojen suolat voidaan lyhytketjuisina "saippuoina" hajottaa suhteellisen helposti ja myös käytet-15 tyja heikosti vaahtoavia tensidejä on jo vuosia käytetty käytännön olosuhteissa esimerkiksi suuressa mitassa astianpesuaineina.
Seuraavat esimerkit valaiset keksintöä lähemmin, diat-soniumsuola-polykondensaatiotuotteista edustavana esimerkki-20 nä käytetään esimerkeissä 3-metoksidifenyyliamiini-4-diatso-niumsulfaatin ja 4,4'-bis-metoksimetyylidifenyylieetterin polykondensaatiotuotetta, luonnollisesti voidaan käyttää myös muita tuotteita. Prosenttimäärät on annettu paino-%:na, 3 paino-osat suhtautuvat tilavuusosiin kuten g cm :iin.
25 Esimerkki 1 SähRökemiallisesti karkeutettu ja anodisesti oksi-doitu levyn muotoinen alumiinifolio päällystetään liuoksella, jonka muodostavat 100 paino-osaa etyleeniglykolimono-metyylieetteriä, 50 paino-osaa tetrahydrofuraania, 0,4 pai-30 no-osaa kristalliviolettia, 0,2 paino-osaa 85-%:tista fosforihappoa ja 2 paino-osaa polykondensaatiotuotetta (valmistettu 1 moolista 3-metoksidifenyyliamiini-4-diatso-niumsulfaattia ja 1 moolista 4,4'-bis-metoksimetyylidife-nyylieetteriä 85-%:sessa fosforihapossa, eristetty mesity- 35 leenisulfonaattina), siten että kerroksen paino on kuiva- 2 tuksen jälkeen 0,4 g/m . Valoherkkä offset-painolevy valote- 71024 taan kuvan mukaisesti ja kehitetään kyvetissä kehittimellä, jonka muodostaa 89 paino-osaa vettä, 5 paino-osaa Na- unde-kanoaattia, 3 paino-osaa 80 %:sta propyleeni- ja 20 %:sta etyleenioksidia saatua segmenttipolymerisaattia ja 3 paino-5 osaa tetranatriumdifosfaattia. Jo 5 sekunnin upotusajan jälkeen ovat vaaditut rasteri- ja hienoviivarakenteet kehittyneet moitteettomasti, mutta 15 minuutinkaan upotusajan kuluessa eivät rasterihuiput vaurioidu. Kehitetyllä levyllä voidaan valmistaa offset-paindconeessa moitteettomasti 10 useita tuhansia kopioita.
Jos undekanoaatti korvataan samalla määrällä Na-lau-ryylisulfaattia tai sekundaarista alkyylisulfonaattia, tarvitaan vähintään nelinkertainen vaikutusaika jäljennös-teknisesti vastaaviin tuloksiin pääsemiseksi; tämä ero voi-15 mistuu vielä, jos levystä täytyy poistaa Öljyläiskiä tai liimajäännöksiä.
Vaahtoamiskokeessa, joka suoritetaan vesipitoisen, edellä mainitut aineosat (ilman fosfaattia) sisältävän kehi-teseoksen ja vesipitoisen, saman määrän Na-lauryylisulfaat-20 tia sisältävän kehitteen välillä, saadaan voimakkaan ravistelun jälkeen keksinnön mukaisella seoksella olennaisesti vähemmän vaahtoa, joka on vähentynyt jo 20 sekunnissa 14 mm;iin ja 60 sekunnissa 4 mm:iin, toisella kehittimellä ovat vastaavat arvot 58 ja vastaavasti 50 mm.
25 Esimerkki 2
Valmistetaan offset-painolevy esimerkissä 1 annettujen tietojen mukaan, mutta käyttäen kerrospaksuutena 2 0,2 g/m ja värjätään se 0,4 paino-osalla Rhodamin 6 GDN:ää (C.I. 45 160). Kun on valotettu kuvan mukaisesti, kehite-30 tään käsin altaassa seuraavalla kehiteseoksella: 83,5 paino-osaa vettä, 7 paino-osaa Na-dodekanoaattia, 6 paino-osaa möhkälepolymeeriä, joka on saatu 90 %:sta propyleeni-ja 10 %:sta etyleenioksidia, ja 3,5 paino-osaa Na-metoksi-fosfaattia (Graham-suola). Hyvin vähäisellä kehitemääräl-35 lä ja löyttämättä painetta levy kehittyy moitteettomasti vä&emmässä kuin 5 sekunnissa ja sitä voidaan käyttää pai-noteknisesti esimerkisä 1 annettuja tietoja vastaavasti.
10 71 024
Esimerkki 3
Valmistetaan offset-painolevy esimerkissä 1 annettujen tietojen mukaisesti, mutta käyttäen kerrospaksuutena 2 0,3 g/m ja värjätään se 0,4 paino-osalla Viktoriablau 5 FGA:ta (C.I. Basic Blue 81). Kuvan mukaisesti valotettu kerros kehittyy moitteettomasti kehityskoneessa lämpötilassa 20°C ja levyn läpikulkunopeuden ollessa 1,6 m/min ilman nukkavalssien, harjojen tai niiden kaltaisten vaikutusta, jolloin käytetään kehiteseosta, jonka muodostavat 87 paino-10 osaa vettä, 6,5 paino-osaa Na-nonanoaattia, 2,5 paino-osaa esimerkissä 2 annettua tensidiä ja 4 paino-osaa Na-tetrapoly-fosfaattia. Kehitettyä painolevyä voidaankäyttää painotekni-sesti esimerkissä 1 annettuja tietoja vastaavasti.
Jos nonanoaatti korvataan tavanomaislla tensideillä 15 kuten alkaanisulfaateilla tai -sulfonaateilla, niin täytyy -saman kaltaisten tulosten saavuttamiseksi - joko pienentää olennaisesti levyn läpikulkunopeutta, korottaa voimakkaasti lämpötilaa ja/tai käyttää lisäksi apuna pyörivien tai värähtelevien nukkavalssien tai harjojen mekaanista vaiku-20 tusta; sen lisäksi täytyy vaahdon muodostus tällöin vaimentaa käyttökelpoiselle tasolle vaahdonestoaineilla.
Esimerkki 4
Menetellään esimerkissä 2 annettujen tietojen mukaisesti, mutta käytetään heikosti vaahtoavana tensidinä ety-25 leenidiamiinista (lähtömolekyylinä) ja etyleeni- ja propy- leenioksidista saatua möhkälepolymerisaattia (jolloin propy-leenioksidiyksiköt ovat pääteryhminä).
Claims (4)
1. Valotettujen, valonherkkien, diatsoniumsuola-poly-kondensaatiotuotetta sisältävien jäijennöskalvojen kehittä- 5 miseksi käytettävä kehiteseos, joka ei sisällä orgaanisia liuottimia ja joka perustuu veteen, alkaanikarboksyylihapon suolaan ja tensidiin, tunnettu siitä, että se sisältää 0,5 - 15 paino-% vähintään yhtä 8-13 hiiliatomia sisältävän alkaanikarboksyylihapon Na-, NH^- tai K-suolaa ja 0,5 -10 20 paino-% vähintään yhtä heikosti vaahtoavaa, ei-ionogee- nista tensidiä, joka on etyleeni- ja propyleenioksidin mahdollisesti modifioitu segmenttipolymeeri.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen kehiteseos, tunnettu siitä, että se sisältää 1-10 paino-% alkaanikar- 15 boksyylihapon suolaa ja 1 - 12 paino-% tensidiä.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen kehiteseos, tunnettu siitä, että se sisältää sellaisen alkaanikarboksyylihapon suolaa, jonka alkyyliosassa on 10 - 12 hiiliatomia .
4. Menetelmä negatiivisesti toimivien, diatsonium-suo- la-polykondensaatiotuotetta sisältävien jäijennöskalvojen kehittämiseksi, jolloin valotettua jäijennöskalvoa käsitellään seoksella, joka ei sisällä orgaanisia liuottimia ja joka perustuu veteen, alkaanikarboksyylihapon suolaan ja 25 tensidiin, kalvon valottumattomien alueiden liuottamiseksi, tunnettu siitä, että kalvoa käsitellään vesipitoisella kehiteseoksella, joka sisältää 0,5 - 15 paino-% vähintään yhtä 8-13 hiiliatomia sisältävän alkaanikarboksyylihapon Na-, NH4~ tai K-suolaa ja 0,5 - 20 paino-% vähintään 30 yhtä heikosti vaahtoavaa ei-ionogeenista tensidiä, joka on etyleeni- ja propyleenioksidin mahdollisesti modifioitu segmenttipolymeeri .
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19813100259 DE3100259A1 (de) | 1981-01-08 | 1981-01-08 | Verfahren und entwicklergemisch zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten |
| DE3100259 | 1981-01-08 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI820027L FI820027L (fi) | 1982-07-09 |
| FI71024B FI71024B (fi) | 1986-07-18 |
| FI71024C true FI71024C (fi) | 1986-10-27 |
Family
ID=6122275
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI820027A FI71024C (fi) | 1981-01-08 | 1982-01-06 | Foerfarande och framkallningsblandning foer framstaellning av exponerande negativt arbetande diaxoniumsaltskikt |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4395480A (fi) |
| EP (1) | EP0056138B1 (fi) |
| JP (1) | JPS57136647A (fi) |
| AT (1) | ATE12322T1 (fi) |
| AU (1) | AU546819B2 (fi) |
| BR (1) | BR8200054A (fi) |
| CA (1) | CA1165164A (fi) |
| DE (2) | DE3100259A1 (fi) |
| FI (1) | FI71024C (fi) |
| ZA (1) | ZA819020B (fi) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3439597A1 (de) * | 1984-10-30 | 1986-04-30 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers |
| US4786582A (en) * | 1985-08-02 | 1988-11-22 | Hoechst Celanese Corporation | Organic solvent free developer for photosensitive coatings |
| GB8628613D0 (en) * | 1986-11-29 | 1987-01-07 | Horsell Graphic Ind Ltd | Developing fluid for lithographic plates |
| US5081003A (en) * | 1987-07-27 | 1992-01-14 | Hoechst Celanese Corporation | Developer compositions for newspaper plates |
| US5278030A (en) * | 1988-10-24 | 1994-01-11 | Du Pont-Howson Limited | Developer solution comprising ethyl hexyl sulphate, a surfactant, an alkaline material and having a pH of not less than 12 |
| US5122438A (en) * | 1989-11-02 | 1992-06-16 | Konica Corporation | Method for developing a waterless light-sensitive lithographic plate |
| US6007970A (en) * | 1992-02-07 | 1999-12-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Lithographic developer containing surfactant |
| EP0555098B1 (en) * | 1992-02-07 | 1999-05-26 | Tadahiro Ohmi | Lithographic developer and lithographic process |
| EP0556014B1 (en) * | 1992-02-10 | 1998-10-21 | Tadahiro Ohmi | Lithography process |
| US5279927A (en) * | 1992-07-23 | 1994-01-18 | Eastman Kodak Company | Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability |
| US5316892A (en) * | 1992-07-23 | 1994-05-31 | Eastman Kodak Company | Method for developing lithographic printing plates |
| EP0602736B1 (en) * | 1992-12-17 | 1997-11-05 | Eastman Kodak Company | Aqueous developer for lithographic printing plates which exhibits reduced sludge formation |
| US5380623A (en) * | 1992-12-17 | 1995-01-10 | Eastman Kodak Company | Aqueous developer for lithographic printing plates which provides improved oleophilicity |
| DE10028586C2 (de) * | 2000-06-14 | 2002-04-11 | Weforma Gmbh | Stoßdämpfer |
| DE602005009617D1 (de) * | 2004-07-29 | 2008-10-23 | Fujifilm Corp | Verfahren zur Herstellung lithographischer Druckplatten |
| US8846299B2 (en) | 2010-03-26 | 2014-09-30 | Eastman Kodak Company | Methods for preparing lithograhic printing plates |
| US20110236832A1 (en) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Celin Savariar-Hauck | Lithographic processing solutions and methods of use |
| CN114981155A (zh) | 2020-01-14 | 2022-08-30 | 株式会社小泉制作所 | 自行车用铃 |
| US20210364924A1 (en) * | 2020-05-21 | 2021-11-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist developer and method of manufacturing a semiconductor device |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1047016B (de) | 1956-06-26 | 1958-12-18 | Aufa G M B H Fabrikation Von O | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen |
| BE606642A (fi) * | 1960-07-29 | |||
| BE624160A (fi) * | 1961-10-30 | |||
| GB1220808A (en) * | 1967-05-18 | 1971-01-27 | Howson Algraphy Ltd | Processing of presensitized photolithographic printing plate |
| US3669660A (en) * | 1970-05-21 | 1972-06-13 | Polychrome Corp | Lithographic plate developing composition and process of use thereof |
| GB1383679A (en) * | 1971-07-31 | 1974-02-12 | Mita Industrial Co Ltd | Process for development of two-component diazotype photosensitive materials |
| US4147545A (en) * | 1972-11-02 | 1979-04-03 | Polychrome Corporation | Photolithographic developing composition with organic lithium compound |
| DE2353992C2 (de) * | 1972-11-02 | 1982-12-02 | Polychrome Corp., 10702 Yonkers, N.Y. | Wäßriger Eintwickler für Flachdruckplatten und dessen Verwendung |
| DE2530502C2 (de) * | 1974-07-22 | 1985-07-18 | American Hoechst Corp., Bridgewater, N.J. | Verfahren zum gleichzeitigen Entwickeln und Konservieren von Druckplatten sowie dafür geeignete Behandlungslösung |
| JPS5344202A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Developer composition and developing method |
| DE2809774A1 (de) | 1978-03-07 | 1979-09-13 | Hoechst Ag | Verfahren und entwicklerloesung zum entwickeln von belichteten lichtempfindlichen kopierschichten |
| DE3162627D1 (en) * | 1980-01-29 | 1984-07-12 | Vickers Ltd | Developers and methods of processing radiation sensitive plates using the same |
-
1981
- 1981-01-08 DE DE19813100259 patent/DE3100259A1/de not_active Withdrawn
- 1981-12-18 AT AT81110581T patent/ATE12322T1/de not_active IP Right Cessation
- 1981-12-18 DE DE8181110581T patent/DE3169477D1/de not_active Expired
- 1981-12-18 EP EP81110581A patent/EP0056138B1/de not_active Expired
- 1981-12-29 CA CA000393309A patent/CA1165164A/en not_active Expired
- 1981-12-30 ZA ZA819020A patent/ZA819020B/xx unknown
-
1982
- 1982-01-05 AU AU79178/82A patent/AU546819B2/en not_active Ceased
- 1982-01-06 FI FI820027A patent/FI71024C/fi not_active IP Right Cessation
- 1982-01-06 US US06/337,396 patent/US4395480A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-01-07 BR BR8200054A patent/BR8200054A/pt not_active IP Right Cessation
- 1982-01-08 JP JP57001093A patent/JPS57136647A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ATE12322T1 (de) | 1985-04-15 |
| CA1165164A (en) | 1984-04-10 |
| EP0056138B1 (de) | 1985-03-20 |
| DE3100259A1 (de) | 1982-08-05 |
| US4395480A (en) | 1983-07-26 |
| JPH0141974B2 (fi) | 1989-09-08 |
| DE3169477D1 (en) | 1985-04-25 |
| FI71024B (fi) | 1986-07-18 |
| FI820027L (fi) | 1982-07-09 |
| EP0056138A1 (de) | 1982-07-21 |
| AU7917882A (en) | 1982-07-15 |
| ZA819020B (en) | 1982-11-24 |
| BR8200054A (pt) | 1982-10-26 |
| AU546819B2 (en) | 1985-09-19 |
| JPS57136647A (en) | 1982-08-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FI71024C (fi) | Foerfarande och framkallningsblandning foer framstaellning av exponerande negativt arbetande diaxoniumsaltskikt | |
| US4716098A (en) | Developer for preparing printing forms and process therefor | |
| DE69527494T2 (de) | Entwickler für ein lichtempfindliches lithographisches Druckmaterial | |
| US3669660A (en) | Lithographic plate developing composition and process of use thereof | |
| FI66697B (fi) | Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt | |
| US4579811A (en) | Process for developing exposed diazo negative-working reproduction layers using aqueous developer having salt of aromatic carboxylic acid with adjacent group substituent | |
| US4851324A (en) | Phenoxy propanol containing developer compositions for lithographic plates having neutral pH | |
| JPS6070449A (ja) | 水−アルカリ性現像剤 | |
| EP0099003A2 (de) | Entwickler und Verfahren zum Entwickeln für bestrahlte negativ-arbeitende Reproduktionsschichten | |
| US10248025B2 (en) | Concentrated and working strength aqueous flexographic developers | |
| US4592992A (en) | Developer compositions for lithographic plates | |
| US4780396A (en) | Organic solvent free developer compositions for lithographic plates having neutral pH comprising a lithium and potassium salt and an anionic surfactant | |
| DE3913183C2 (de) | Verwendung einer Entwicklerzusammensetzung zum Entwickeln von vorsensibilisierten Druckplatten | |
| JPH067264B2 (ja) | 支持体上に配置されたネガチブ型の露光した複写層を現像するための現像剤 | |
| KR950000237B1 (ko) | 네가티브-작용성 복사층용 현상액 혼합물 | |
| JPS6113218B2 (fi) | ||
| JP2007529030A (ja) | 安定的な高ｐＨ現像剤 | |
| US10216089B2 (en) | Methods of forming flexographic printing members | |
| JPS6289060A (ja) | ネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版共用現像液組成物、及び現像方法 | |
| JPH0364058B2 (fi) | ||
| KR100462167B1 (ko) | 인쇄판용 네가티브형 포토레지스트 현상액 | |
| US7094523B1 (en) | Developer solution and process for use | |
| EP0104537A2 (de) | Entwickler und Verfahren zum Entwickeln für bestrahlte negativ-arbeitende Reproduktionsschichten | |
| JPS6238470A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| JPS63175858A (ja) | 現像の安定性等が改良される感光性平版印刷版の現像処理方法および現像液 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM | Patent lapsed | ||
| MM | Patent lapsed |
Owner name: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT |