FI56453C - Anordning foer maetning av ytstraevhet - Google Patents

Anordning foer maetning av ytstraevhet Download PDF

Info

Publication number
FI56453C
FI56453C FI3578/73A FI357873A FI56453C FI 56453 C FI56453 C FI 56453C FI 3578/73 A FI3578/73 A FI 3578/73A FI 357873 A FI357873 A FI 357873A FI 56453 C FI56453 C FI 56453C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
light
determined
intensity
reflected light
value
Prior art date
Application number
FI3578/73A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI56453B (fi
Inventor
Francois M Mottier
Rene Daendliker
Original Assignee
Bbc Brown Boveri & Cie
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bbc Brown Boveri & Cie filed Critical Bbc Brown Boveri & Cie
Application granted granted Critical
Publication of FI56453B publication Critical patent/FI56453B/fi
Publication of FI56453C publication Critical patent/FI56453C/fi

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G01B11/303—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means

Description

d"1 ΓοΊ .... KU ULUTUSJULKAISU c.iC.
VgTj [Bl «"»UTLAOONINOJSKd.fT 56453 C (45) Patentti myönnetty 10 01 1980 ,4firV)2? Patent meddelat V ’ ^ (51) Kv.lk.'/lnt.CI.» G 01 N 21/48 SUOM I —Fl N LAN D (21) P*t*nttlh»lc*mu* — Ptt«nttn«6knlnf 3578/73 (22) Hik*ml*pllvl — AnsBknlngsdif 20.11.73 (23) AlkupUvI — Giltightttdtg 20.11 73 (41) Tullut JulklMksi — Bllvlt offtntllg 2^ q5 7k
Patentti· ja rekisterihallitut (44) NlhtMkllpwon |a kuuL|ulktUun pym._
Patent- och reglsterstyrelsen AimöIum utlagd och utl.$krift*n publlcsrad 28.09.79 „ (32)(33)(31) Pyydetty etuoikeus—Begird priority 21+. n. 72
Sveitsi-Schveiz(CH) 17073/72 „ (71) BBC Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie., CH-5401 Baden,
Sveitsi-Schweiz(CH) (72) Franjois M. Mottier, Oberrohrdorf, Rene Dändliker, Oberrohrdorf, Sveitsi-Schveiz(CH) (74) Berggren Oy Ab (5*0 Pinnan karkeuden mittauslaite - Anordning för mätning av ytsträvhet
Keksintö koskee pinnan karkeuden mittauslaitetta, jota käytettäessä pintaa valaistaan valonsädekimpulla ja takaisin säteilevän valon paikallinen intensiteetin jakauma mitataan valosähköisesti.
Tällaisilla mittauslaitteilla on suuri merkitys paperin valmistuksessa, koska paperin pinnan karkeus tai vastaavasti - käänteisenä käsitteenä - pinnan sileys on ratkaiseva ominaisuus paperin pai-nettavuuden kannalta.
Kojeita varsinkin paperin pinnan karkeuden tai vastaavasti sileyden mittaamiseksi tunnetaankin siksi ennestään jo monia. Katsaus näihin on esitetty esim. julkaisussa "Wochenblatt ftir Papierfabrika-tion", n:o 2, (1970), pp. 45-51·
Mainitun julkaisun sivulla 47 selitetään laite sileyden epäsuoraksi mittaamiseksi kiiltomittarin muodossa. Tässä kiiltomittaris-sa tutkittavaa pintaa valaistaan kollimoidulla valonsädekimpulla ja takaisin säteilleen valon valotiheys mitataan valosähköisesti heijas-tuskulmassa. Tieteellisiä tarkoituksia varten ai myös mitattu paperin pinnasta takaisin säteilleen valon kulmajakauma, jolloin on käytetty laitteita, joiden valaistus- ja havaitsemiskulmia voidaan vaihdella.
2 Näillä tunnetuilla kiiltomittareilla on kuitenkin se varjopuoli, että ne ovat epätarkkoja. Ne ovat myös käytännössä melko hankalat käyttää, koska karkeuden mitaksi saadaan vain analogisignaaleja.
Niinpä tämän keksinnön tarkoituksena on saada aikaan edellä selitettyä tyyppiä oleva laite, jossa yhdistyvät suuri mittaustarkkuus ja yksinkertainen ja monipuolinen käyttökelpoisuus.
Keksinnön mukaan tämä tarkoitus saavutetaan sen kautta, että edellä mainitun tyyppisessä laitteessa määritetään takaisin säteilleen valon maksimaalisen intensiteetin arvo I^^g» ja valaisevan valonsädekimpun tulotason ja spekulaariheijastuksen suuntaan nähden kohtisuoran tason leikkaussuoran x suunnassa mitataan pinnan karkeuden mittana niiden kahden kohdan välimatka s, joissa takaisin säteilleen valon intensiteetti I on alentunut määrättyyn murto-osaan G intensiteetin maksimiarvosta I . . Mainittua kahta kohtaa vastaava määrät- maks ty murto-osa G on esimerkiksi 0,5, niin että mainituissa kahdessa kohdassa esiintyvä valon intensiteetti on = Imakg/2. Maksimi-intensiteetti Imaks spekulaariheijastuksen suunnassa, so. peiliheijastuksen heijastuskulman suunnassa, jota nimitetään myös kiiltokulmaksi.
Keksinnön ajatus perustuu siis olennaisesti hajavalokartion puoliarvoleveyden, kiiltokulman läheisyydessä, hyväksikäyttöön tutkittavan pinnan karkeuden mittana. Tämä puoliarvoleveys, vastakohtana intensiteetin mittaukselle kiiltokulmassa edellä selitetyllä, ennestään tunnetulla kiiltomittarilla, voidaan yksinkertaisesti ja automaattisesti määrittää kvantitatiivisesti. Sitä paitsi se on varsin tarkka tutkittavan karkeuden mitta, ainakin siinä tapauksessa, että karkeuden muodostavat pinnan epäsäännöllisyydet ovat jakautuneina tilastollisesti. Mittaus on riippumaton pinnan väristä ja/tai valon absorptiosta.
Keksinnön muut yksityiskohdat selviävät seuraavista oheisen piirustuksen yhteydessä selitetyistä sovellutusesimerkeistä. Piirustuksessa:
Kuvio 1 esittää keksinnön mukaista laitetta fotodetektorilla varustettuna.
Kuvio la esittää yleistä tyyppiä olevaa keksinnön mukaista laitetta mittauspaikkojen havainnollistamiseksi.
Kuvio 2 esittää keksinnön mukaista laitetta varustettuna sarjalla fotodetektoreja.
Kuvio 3 esittää keksinnön mukaista laitetta, jonka foto-detektorina on televisiokamera, ja kuvio 4 esittää kaaviollisesti karkeudeltaan tutkittavan 3 pinnan juovittamista televisiokameralla kuvion 3 mukaisessa laitteessa.
Kuviossa 1 on esitetty valonlähde 21, esim. laseri, jonka valonsäde teleskoopissa 22 laajennetaan yhdensuuntaiseksi vast, kollimoiduksi valonsädekimpuksi, jonka läpimitta on noin 1-20 mm.
Valonsädekimpulla 1 valaistaan sitten tutkittavaa pintaa 8 tulokulmassa a (kuvio la), jonka suuruus on 50-85°· Pintana 8 on ensisijaisesti paperin 28 pinta. Laboratoriotutkimuksia varten paperia pidetään paikallaan sähköstaattisella pidinlaitteella 24,25, joka parhaiten on tunnettu esim. x-y-piirtureista (esim. Hewlett Packard).
Valaisevan valonsädekimpun pinta 8 säteilee takaisin valon 6 muodossa. Kiiltokulmalle a (kuvio la) tunnusmerkillinen on spekulaa-riheijastuksen suunta 7.
Takaisin säteilleeseen valoon 6 on sovitettu fotodetektori 11, jonka toimiva pinta-ala on pieni, esim. yhden tai muutaman millimetrin läpimittainen, vähintään 10 valonsädeläpimitan päähän pinnasta 8. Sitä liikutetaan nuolten A ja B suunnassa, valaisevan valonsäde-kimpun 1 tulotason 4 (kuvio la) ja spekulaariheijastussuuntaan 7 nähden kohtisuoran tason 5 (kuvio la) leikkaussuoraa x myöten kiiltokul-man a läpi ja samalla piirretään valovirta paikan x funktiona.
Näin saadaan kuva 23, johon valovirtaan suhteellinen valon intensiteetti I on piirrettynä paikan x funktiona. Niin kuin näkyy, esitetyssä käyrässä on ensimmäinen piste 2, joka on suunnassa 7 ja jossa intensiteetti on maksimiarvossaan Lisäksi kuvasta näkyy ^ kaksi pistettä 3, joissa intensiteetti on laskenut tiettyyn murto- osaan G, tässä 0,5, eli arvoon ^^g/2· Näiden pisteiden 3 välimatka s on tällöin pinnan 8 karkeuden _ mitta.
Erään edullisen sovellutusmuodon mukaan käytetään valonlähdettä 21, jonka valo on monokromaattista, ja detektorin 11 ja valon 6 välille sovitetaan interferenssisuodin 10. Täten voidaan eliminoida ympäristön valon 9 häiritsevä vaikutus.
Kuviossa 2 pinnan 8 valaistuslaite on samanlainen kuin kuvioissa 1 ja la on esitetty. Lisäksi kuviossa on esitetty kokoava linssi 16, jonka polttotasoon F on sovitettu joukko fotodetektoreja 12a, 12b...12m, 12n, 13a...13m ja 14. Tämä joukko on edellä kuvion la yhteydessä määritellyn leikkaussuoran x suuntainen. Tämän leikkaus-suoran x ja spekulaariheijastussuunnan 7 leikkauspisteessä esiintyy valon 6 maksimaalinen intensiteetti I^^g» joka mitataan fotodetekto- 4 5S4b3 rilla l4, jona on esim. fotodiodi.
Fotodetektoreiden 12a...14 ulostulot on kuvion esittämällä tavalla yhdistetty komparaattorien muodossa oleviin kaksiasentoisiin, elektronisiin keinuelimiin 17a, 17b...17m, 17n...l8. Fotodetektorin 14 ulostulo on lisäksi yhdistetty jännitteen jakajaan R-R, jonka väli-ottopisteessä esiintyy arvo ima^s/2· Komparaattoreiden ulostulot on yhdistetty lamppuihin 19. Näiden sijasta komparaattoriin voi olla yhdistetty ohmiset vastukset 29 > jotka johtavat vahvistimen kautta mittauskojeeseen 30.
Kuvion 2 mukaisessa laitteessa olkoon nyt valon 6 intensiteetti tasossa F fotodetektoreiden 13a...14...13n paikoissa suurempi vastaavasti yhtä suuri, ja fotodetektoreiden 12a, 12b...12m, 12n paikoissa pienempi kuin ^a^g/2· Tällöin fotodetektoreihin 13a...14...13n kuuluvat lamput 19 syttyvät, mutta fotodetektoreihin 12a, 12b...12m, 12n kuuluvat lamput jäävät pimeiksi. Palavien lamppujen 19 lukumäärä on tällöin pinnan 8 karkeuden mitta.
Jos lamppujen 19 sijasta komparaattoreihin on kytketty vastukset 29 mittauskojeineen 30, niin palavia lamppuja vastaavien vastusten 29 läpi kulkee virta, mutta pimeitä lamppuja vastaavien vastusten kautta ei. Tällöin mittauskojeen 30 lukema, joka on suhteellinen vastusten 29 kautta kulkevien virtojen summaan, on pinnan 8 karkeuden mitta.
Fotodetektorien 12a...14 joukon ei tarvitse koostua vain yhdestä ainoasta rivistä. Pikemminkin on edullista sovittaa vierekkäin useita rivejä jollakin tavalla jota ei ole esitetty. Tällöin laitteeseen ei vaikuta mahdollinen suunnan 7 ja sen mukana intensi-teettimaksimin lmaks paikan siirtyminen.
Kuviossa 3 on esitetty fotodetektorina televisiokamera 15» _ joka on varustettu esim. vidikonilla 32. Pintaa 8, jonka karkeus halutaan tutkia, valaistaan nytkin (kuten kuviossa 1 vast, la) teleskoopissa 22 laajennetulla, kollimoidulla valonsädekimpulla 1. Televisiokameran 15 optiikka 33 on aseteltu äärettömälle, jolloin vidiko-nin 32 valoherkkä kerros 31 sijaitsee mainitun optiikan 33 polttotasossa. Pinnasta 8 takaisin säteilleet yhdensuuntaisvalokimput 6 syttiöi-tyvät näin ollen vidikonille, niin kuin piirustuksesta näkyy.
Televisiokameran 15 ositusjuovat 20 (kuvio 4) asetetaan kohtisuoraan valaisevan valonsädekimpun 1 tulotasoon 4 (kuvio la) nähden.
Mittaustoimitus käy nyt siten, että juovahyppymenetelmän mukaan käytetyn vidikonin 32 ensimmäisessä kuvapuolikkaassa määritetään 5 S64S3 kuviossa esittämättömällä ääriarvodetektorilla maksimaalisen, juovi-tetussa kuvassa esiintyvän valon intensiteetin arvo Tällöin juovitetaan pinta-ala, joka on suurempi kuin kuviossa 4 esitetty hajavaloellipsi 26, joka saadaan kuvaamalla pinnalla 8 hajonnut vast, takaisin säteillyt vaionsädekimppu 1 televisiokameran optiikan 33 läpi. Viitenumero 27 tarkoittaa maksimaalisen valon intensiteetin 1^^ täplää, joka sijaitsee spekulaariheijastuksen suunnassa 7.
Saatu arvo Imaks säilötään muistiin, ja toisen kuvapuolikkaan aikana lasketaan sitten niiden ositusjuovien 20 lukumäärä N, joissa esiintyy valoisuusarvo I, joka on suurempi kuin määrätty murto-osa G, esimerkiksi puolikas muistissa olevasta arvosta Imaks· Näin määritetty lukumäärä N on välittömästi paperin karkeuden mitta.
Televisiokameran 15 ulostulossa käytettävissä olevaa, lukumäärään N suhteellista signaalia voidaan monin tavoin käyttää edelleen.
Sillä voidaan esimerkiksi digitaalisessa muodossa ohjata valomerkkiä. Sillä voidaan kuitenkin myös ohjata jotakin analogi-ilmaisinta, esimerkiksi osoitinkojettä.
Koska niiden ositusjuovien 20 lukumäärää N, joissa valoisuus-arvo on suurempi kuin ^^3^2 > ilmaiseva televisiokameran 15 merkki tavallisesti on ilman muuta käytettävissä binääri-desimaalikoodattuna, tätä signaalia voidaan myös varsin edullisesti käyttää paperinvalmistusprosessin ohjaukseen tai säätöön.
Kuvion 3 mukaista laitetta voidaan erityisen edullisesti käyttää kulkevien paperirainojen tutkimiseen. Paperirainan, jossa on pinta 8, liikettä on kuviossa 4 ilmaistu nuolella M. Selvää on, ^ että tällöin on pidettävä huoli siitä, että paperirainaa valonsäde- kimpun 1 valaisupaikassa ohjataan siten, että liikkeen johdosta ei tapahdu liian suuria sen tason muutoksia, jossa paperiraina kulkee, _ niin että hajavaloellipsi ei siirry ulos televisiokameran ositusken- tästä. Tämä voidaan saavuttaa esimerkiksi valitsemalla valaistava kohta välittömästi jonkin telan päältä tai kahden lähellä toisiaan olevan telan välistä.
Edellä esitetyllä tavalla saadaan ilmaistuksi vain noin 2-4 osituskuvan, so. 8O-I6O m sek:n keskimääräinen läpikulkevan pinnan 8 karkeus. Jos läpikulkevan paperirainan karkeus halutaan saada selville paikka paikalta erikseen, niin valaisevan valonsädekimpun 1 kehittävä laseri voidaan panna sykkimään ja mittausarvot ajallisesti peräkkäin säilöä muistiin ja/tai ilmaista. Tällä tavoin saadaan mukaan ajallisesti lyhyet pinnan karkeuden vaihtelut. Valais-tussykähdyksen kesto voi tällöin olla olennaisesti pienempi kuin

Claims (21)

  1. 6 $645i kahden kuvapuolikkaan kesto, koska vidikonin valoherkkä kerros säilyttää informaation elektronisäteillä lukemiseen saakka. Keksinnön mukaisilla laitteilla on tekniikan tasoon nähden yleisesti sanottuna seuraavat edut: karkeus saadaan keskiarvona suuremmalta pinta-alalta, 2 tämän pinta-alan suuruus voidaan valita esim. väliltä 1-300 mm , kehittyy oikea-aikainen signaali, joka niin ollen sopii käytettäväksi prosessisäätimessä, ja mittaus on kosketukseton. Nimenomaan kuvioiden 3,4 mukaisilla laitteilla on mm. seuraavat edut: vidikonin valosähköisesti johtavan kerroksen integraatiokyvyn johdosta detektorin valonherkkyys on suuri, tilastolliset karkeuden vaihtelut, jotka eivät kiinnosta, tasoittuvat tämän integraatiokyvyn ansiosta, digitaalinen tarkkuus on laitteelle luontainen, laite ei ole herkkä hajavaloellipsin siirtymiselle, kunhan tämä saadaan vangituksi vidikonille, ja järjestelmä on hinnaltaan varsin edullinen,koska teolliseen käyttöön tarkoitettuja televisiokameroita on suurin määrin saatavissa edulliseen hintaan. Paitsi paperin valmistuksessa ja/tai käsittelyssä vast, painamisessa keksintöä voidaan edullisesti käyttää myös muovi- ja metalli-folioiden valmistuksessa ja/tai käsittelyssä. Pat entt ivaat imukset
  2. 1. Laite pinnan karkeuden mittaamiseksi, jossa pintaa valaistaan valonsädekimpulla ja takaisin säteilleen valon paikallinen intensiteetin jakauma mitataan valosähköisesti, tunnettu siitä, että takaisin säteilleestä valosta (6) määritetään maksimaalisen intensiteetin arvo I^g, ja valaisevan valonsädekimpun (1) tulotason (4) ja spekulaariheijastuksen suuntaan (7) nähden kohtisuoran tason (5) leikkaussuoran suunnassa mitataan pinnan (8) karkeuden mittana niiden kahden paikan (3) välimatka (x), joissa takaisin säteilleen valon (6) intensiteetti I on alentunut määrätyksi murto-osaksi (G) määritetystä maksimaalisesta intensiteetistä Imaks·
  3. 2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen laite, tunnettu siitä, että mainittu määrätty murto-osa G = 0,5·
  4. 3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen laite, tunnettu siitä, että karkeuteensa nähden tutkittavaa pintaa (8) valaise- 56453 7 va valonsädekimppu (1) on kollimoitu. Patenttivaatimuksen 1 mukainen laite, tunnettu siitä, että karkeuteensa nähden tutkittavaa pintaa (8) valaiseva valonsädekimppu on monokromaattinen ja että laite on varustettu ympäristön valon (9) fotodetektorista (11, 12, 13, 14, 15) poissulkevalla suotimellä (10).
  5. 5. Patenttivaatimuksen 1 mukainen laite, tunnettu siitä, että karkeuteensa nähden tutkittavaa pintaa (8) valaistaan kollimoidulla valonsädekimpulla (1), jonka läpimitta on noin „ 1-2 mm, ja jonka tulokulma a on 50-85°·
  6. 6. Patenttivaatimuksen 1 mukainen laite, tunnettu siitä, että fotodetektoria (11) siirretään mainittua leikkaus-suoraa (x) myöten takaisin säteilleen valon (6) läpi, intensiteetin arvo mitataan kohta kohdalta I (x) ja mainittujen kahden kohdan (3) välimatka (x) ilmaistaan.
  7. 7. Patenttivaatimuksen 1 mukainen laite, tunnettu siitä, että pitkin mainittua leikkaussuoraa (x) on sovitettu joukko fotodetektoreja (12a...14), ja että määritetään toisaalta takaisin säteilleen valon intensiteetti sen detektorin (14) koh dalla, joka sijaitsee spekulaariheijastuksen suunnassa, ja toisaalta niiden detektorien (13a.. .13n) lukumäärä, joiden kohdalla takaisin säteilleen valon intensiteetin arvo on suurempi kuin mainittu määrätty murto-osa G spekulaariheijastuksen suunnassa (7) olevan detektorin (14) ilmaisemasta arvosta Imaks·
  8. 8. Patenttivaatimuksen 6 tai 7 mukainen laite, tunnettu s i i tä, että fotodetektori tai fotodetektorit (11...14) on sovitettu takaisin säteilleeseen valoon (6) sovitetun kokoojalinssin (16) polttotasoon (f).
  9. 9. Patenttivaatimuksen 7 mukainen laite, tunnettu siitä, että fotodetektoreihin (12...1¾) on elektronisten keinu-elinten (17, 18) välityksellä kytketty lamput (19) sillä tavoin, että nämä kytkeytyvät toimintaan, kun takaisin säteilleen valon (6) intensiteetti asianomaisen fotodetektorin (12...1¾) kohdalla on suurempi kuin mainittu määrätty murto-osa G arvosta Imaks sen detektorin (14) kohdalla, joka sijaitsee spekulaariheijastuksen suunnassa (7)·
  10. 10. Patenttivaatimuksen 7 mukainen laite, tunnettu siitä, että fotodetektoreista (12...1¾) johdetaan elektronisten keinuelinten (17...18) kautta sähkövirta, joka on suhteellinen niiden detektoreiden (12...1¾) lukumäärään, joiden kohdalla takaisin säteilleen valon (6) intensiteetti on suurempi kuin mainittu määrätty 8 b 6 4 S 3 murto-osa G arvosta Imaks sen detektorin (14) kohdalla, joka sijaitsee spekulaariheijastuksen suunnassa (7), ja että tämä sähkövirta ohjaa osoittavaa kojetta (30).
  11. 11. Patenttivaatimuksen 5 ja 6 tai 5 ja 7 mukainen laite, tunnettu siitä, että fotodetektorin (11) toimintapinta-alan läpimitta on 0,2-4 mm.
  12. 12. Patenttivaatimuksen 1 mukainen laite, tunnettu siitä, että takaisin säteilleeseen valoon (6) spekulaariheijastuksen suuntaan (7) on sillä tavoin sovitettu äärettömyyteen aseteltu televisiokamera (15)» että ositusjuovien suunta on kohtisuorassa valaisevan valonsädekimpun (1) tulotasoon (4) nähden ja että ensimmäisessä kuvanpuolikkaassa havaitaan ja säilötään muistiin maksimaalisen intensiteetin arvo I ^ ja toisessa kuvanpuolikkaassa määritetään niiden ositusjuovien (20) lukumäärä N, joiden kohdalla ositetun kuvan valointensiteetti on suurempi kuin mainittu määrätty murto-osa G maksimaalisen intensiteetin arvosta Imaks·
  13. 13. Patenttivaatimuksen 12 mukainen laite, tunnettu siitä, että ensimmäisessä kuvanpuolikkaassa havaittava maksimaalisen intensiteetin arvo Imaks määritetään ääriarvodetektorilla.
  14. 14. Patenttivaatimuksen 12 mukainen laite, tunnettu siitä, että televisiokamerasta (15) johdetaan ulos mainittuun ositusjuovien (20) lukumäärään N suhteellinen digitaalisignaali valo-ilmaisimen ohjaamista varten.
  15. 15. Patenttivaatimuksen 12 mukainen laite, tunnettu siitä, että televisiokamerasta (15) johdetaan ulos mainittuun ositusjuovien (20) lukumäärään N suhteellinen analogisignaali osoittavan mittauskojeen ohjaamista varten.
  16. 16. Patenttivaatimuksen 12 mukainen laite, tunne t tu siitä, että televisiokamerasta (15) johdetaan ulos mainittuun ositusjuovien (20) lukumäärään N suhteellinen BCD-signaali sen aineen, jonka pinnan karkeus on tarkoitus mitata, valmistusprosessin ohjaamiseksi.
  17. 17. Patenttivaatimuksen 12 mukainen laite, tunnettu siitä, että karkeuteensa nähden tutkittavaa pintaa (8) valaiseva valonsädekimppu (1) saatetaan sykkimään, jolloin valaisuimpulssin kesto on lyhempi kuin osittavan televisiokameran (15) kahden kuvan-puolikkaan läpikulun kesto.
  18. 18. Jonkin patenttivaatimuksen 6, 7 tai 12 mukainen laite, tunnettu siitä, että valaistuksen lähteenä (21) on laseri.
  19. 19. Patenttivaatimuksen 1 mukaisen laitteen käyttö paperin vai- 9 56453 mistuksessa ja/tai käsittelyssä.
  20. 20. Patenttivaatimuksen 1 mukaisen laitteen käsittely muovifolioi-den valmistuksessa ja/tai käsittelyssä.
  21. 21. Patenttivaatimuksen 1 mukaisen laitteen käyttö metallifolioiden valmistuksessa ja/tai käsittelyssä.
FI3578/73A 1972-11-24 1973-11-20 Anordning foer maetning av ytstraevhet FI56453C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1707372 1972-11-24
CH1707372A CH552197A (de) 1972-11-24 1972-11-24 Einrichtung zum messen der rauhigkeit einer oberflaeche.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
FI56453B FI56453B (fi) 1979-09-28
FI56453C true FI56453C (fi) 1980-01-10

Family

ID=4422545

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI3578/73A FI56453C (fi) 1972-11-24 1973-11-20 Anordning foer maetning av ytstraevhet

Country Status (11)

Country Link
US (1) US3922093A (fi)
JP (1) JPS4984462A (fi)
CA (1) CA999136A (fi)
CH (1) CH552197A (fi)
CS (1) CS258452B2 (fi)
DE (1) DE2260090C3 (fi)
FI (1) FI56453C (fi)
FR (1) FR2208107B1 (fi)
GB (1) GB1444780A (fi)
IT (1) IT999470B (fi)
SE (1) SE391238B (fi)

Families Citing this family (105)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4184082A (en) * 1975-12-08 1980-01-15 Howell Laboratories, Incorporated Linear flaw detector
GB1580196A (en) * 1976-05-27 1980-11-26 Ferranti Ltd Gloss measuring surface inspection systems
GB1576639A (en) * 1976-07-06 1980-10-08 Fairfax & Sons Ltd John Printing plate inspection apparatus
US4072425A (en) * 1976-08-09 1978-02-07 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Method of indicating the relative roughness of a surface
GB1592449A (en) * 1976-12-01 1981-07-08 Ferranti Ltd Optical inspection apparatus
US4142107A (en) * 1977-06-30 1979-02-27 International Business Machines Corporation Resist development control system
JPS5483854A (en) * 1977-12-16 1979-07-04 Canon Inc Measuring device
US4373817A (en) * 1978-05-22 1983-02-15 Nanometrics Incorporated Computerized micromeasuring system and method therefor
FR2428238A1 (fr) * 1978-06-07 1980-01-04 Cilas Dispositif pour determiner la qualite du poli des surfaces optiques
US4286293A (en) * 1979-05-30 1981-08-25 Western Electric Company, Inc. Laser scanning and multiple detection for video image processing
SE428250B (sv) * 1979-05-31 1983-06-13 Bert Jonsson Fotoelektrisk anordning for avkenning av foremal
US4334780A (en) * 1979-06-29 1982-06-15 Grumman Aerospace Corporation Optical surface roughness detection method and apparatus
US4465371A (en) * 1979-08-06 1984-08-14 Grumman Aerospace Corporation Optical flaw detection method and apparatus
LU81728A1 (fr) * 1979-09-26 1981-04-17 Centre Rech Metallurgique Procede pour controler la qualite des surfaces revetues ou non
US4329049A (en) * 1980-03-06 1982-05-11 Rodenstock Instruments Corporation Median point detecting apparatus for a lensmeter
US4277803A (en) * 1980-05-12 1981-07-07 Fuji Electric Co., Ltd. Automatic product checking system
US4390277A (en) * 1980-07-31 1983-06-28 Mcdonnell Douglas Corporation Flat sheet scatterometer
DE3037622A1 (de) * 1980-10-04 1982-04-22 Theodor Prof. Dr.-Ing. 1000 Berlin Gast Optoelektronisches messverfahren und einrichtungen zum bestimmen der oberflaechenguete streuend reflektierender oberflaechen
US4376583A (en) * 1981-05-12 1983-03-15 Aeronca Electronics, Inc. Surface inspection scanning system
US4583861A (en) * 1981-08-12 1986-04-22 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Surface condition judging apparatus
DD208670A1 (de) * 1982-06-29 1984-04-04 Pentacon Dresden Veb Vorrichtung zur schnellen messung des glanzes beliebiger oberflaechen
FR2531776A1 (fr) * 1982-08-13 1984-02-17 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif de determination sans contact de la rugosite d'une surface
DE8303856U1 (de) * 1983-02-11 1985-11-14 Optische Werke G. Rodenstock, 8000 Muenchen Vorrichtung zur Ermittlung einer Oberflächenstruktur, insbesondere der Rauheit
JPS6052021A (ja) * 1983-08-31 1985-03-23 Canon Inc 位置検出方法
DE3337468A1 (de) * 1983-10-14 1985-04-25 Optische Werke G. Rodenstock, 8000 München Verfahren und vorrichtung zur pruefung der oberflaeche von bauteilen
DE3426332A1 (de) * 1984-07-17 1986-01-30 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Optische rauheitssonde mit abtastung der indikatrix
DE3427838C2 (de) * 1984-07-27 1988-09-29 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Rauheitssonde
DE3428435A1 (de) * 1984-08-01 1986-02-06 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Rauheitssonde
US4721389A (en) * 1985-04-18 1988-01-26 Potters Industries, Inc. Method and apparatus for measuring retroreflectivity of a reflective layer on a surface
US4710642A (en) * 1985-08-20 1987-12-01 Mcneil John R Optical scatterometer having improved sensitivity and bandwidth
US4746805A (en) * 1986-11-18 1988-05-24 General Motors Corporation Combined distinctness of image and gloss meter
FR2620823B1 (fr) * 1987-09-17 1990-08-17 Centre Tech Ind Papier Dispositif pour determiner en continu un indice d'etat de surface d'un materiau en feuille en mouvement
DE3805785A1 (de) * 1988-02-24 1989-09-07 Sick Optik Elektronik Erwin Verfahren und vorrichtung zur optischen erfassung des rauheitsprofils einer materialoberflaeche
DE3814606A1 (de) * 1988-04-29 1989-11-09 Interpane Entw & Beratungsges Verfahren und vorrichtung zur erfassung von strukturen einer oberflaeche eines flaechigen guts
US4925298A (en) * 1988-08-05 1990-05-15 Paolo Dobrilla Etch pit density measuring method
JPH02138805A (ja) * 1988-08-31 1990-05-28 Canon Inc 平滑度測定装置およびこれを備えた記録装置
US4929846A (en) * 1988-10-05 1990-05-29 Ford Motor Company Surface quality analyzer apparatus and method
US5122672A (en) * 1990-09-07 1992-06-16 Ford Motor Company Surface quality analyzer apparatus and method
US5252836A (en) * 1991-03-07 1993-10-12 U.S. Natural Resources, Inc. Reflective grain defect scanning
DE4114671A1 (de) * 1991-05-06 1992-11-12 Hoechst Ag Verfahren und messanordnung zur beruehrungslosen on-line messung
DE4127215C2 (de) * 1991-08-16 2003-07-17 Byk Gardner Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur quantifizierten Bewertung des physiologischen Eindruckes von reflektionsfähigen Oberflächen
US5225890A (en) * 1991-10-28 1993-07-06 Gencorp Inc. Surface inspection apparatus and method
WO1993012615A1 (en) * 1991-12-19 1993-06-24 The United States Of America, Represented By The Secretary, United States Department Of Commerce Method and apparatus for assessment of surface smoothness using reflected energy
US5444265A (en) * 1993-02-23 1995-08-22 Lsi Logic Corporation Method and apparatus for detecting defective semiconductor wafers during fabrication thereof
US5474381A (en) * 1993-11-30 1995-12-12 Texas Instruments Incorporated Method for real-time semiconductor wafer temperature measurement based on a surface roughness characteristic of the wafer
WO1995018952A1 (de) * 1994-01-07 1995-07-13 Honeywell Ag Verfahren zur messung der rauhigkeit einer materialoberfläche
DE4408226C2 (de) * 1994-03-11 1997-08-28 Peter Dr Ing Lehmann Meßeinrichtung zur prozeßgekoppelten Bestimmung der Rauheit technischer Oberflächen durch Auswertung di- oder polychromatischer Specklemuster
NZ270892A (en) * 1994-08-24 1997-01-29 Us Natural Resources Detecting lumber defects utilizing optical pattern recognition algorithm
US5608527A (en) * 1995-03-08 1997-03-04 Optical Dimensions, Llc Apparatus and method for dynamic measurement of surface roughness
US5838445A (en) * 1995-06-07 1998-11-17 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for determining surface roughness
US5644392A (en) * 1995-09-12 1997-07-01 U.S. Natural Resources, Inc. Scanning system for lumber
DE19725337C1 (de) * 1997-06-16 1998-10-01 Abb Research Ltd Verfahren zur Bestimmung der Oberflächenstruktur einer Körperoberfläche
DE19733775A1 (de) * 1997-08-05 1999-02-18 Honeywell Ag Verfahren zur Messung von Eigenschaften einer Materialoberfläche
DE19817664A1 (de) * 1998-04-21 1999-11-04 Peter Lehmann Verfahren und Vorrichtung zur Rauheitsmessung an technischen Oberflächen bei Beleuchtung mit einem Specklemuster
JP2000090233A (ja) * 1998-09-08 2000-03-31 Olympus Optical Co Ltd 画像処理装置
FI111757B (fi) 1999-05-10 2003-09-15 Metso Automation Oy Menetelmä ja mittausjärjestely mitata paperin pintaa
EP1303866B1 (en) * 2000-07-10 2009-12-09 TEL Epion Inc. System and method for improving thin films by gas cluster ion be am processing
NZ519475A (en) * 2002-06-11 2004-10-29 Ind Res Ltd Measuring wood properties by optical investigation of tracheid orientations
WO2004097383A1 (en) * 2003-04-29 2004-11-11 Surfoptic Limited Measuring a surface characteristic
US20050012939A1 (en) * 2003-07-15 2005-01-20 Snyder Donald M. Method and apparatus for quantifying the degree of fusion of a layer
DE602004030697D1 (de) * 2003-09-16 2011-02-03 Paper Australia Pty Ltd Blattoberflächen-analysator und verfahren zum analysieren einer blattoberfläche
US7038779B2 (en) * 2003-10-10 2006-05-02 Ethicon Inc. System and method for sensing variations in a strand
US7042575B2 (en) * 2004-05-21 2006-05-09 Silicon Light Machines Corporation Speckle sizing and sensor dimensions in optical positioning device
US7773070B2 (en) 2004-05-21 2010-08-10 Cypress Semiconductor Corporation Optical positioning device using telecentric imaging
US7285766B2 (en) * 2004-05-21 2007-10-23 Silicon Light Machines Corporation Optical positioning device having shaped illumination
US20050258346A1 (en) * 2004-05-21 2005-11-24 Silicon Light Machines Corporation Optical positioning device resistant to speckle fading
US20050259078A1 (en) * 2004-05-21 2005-11-24 Silicon Light Machines Corporation Optical positioning device with multi-row detector array
US20050259097A1 (en) * 2004-05-21 2005-11-24 Silicon Light Machines Corporation Optical positioning device using different combinations of interlaced photosensitive elements
US7268341B2 (en) * 2004-05-21 2007-09-11 Silicon Light Machines Corporation Optical position sensing device including interlaced groups of photosensitive elements
US7138620B2 (en) * 2004-10-29 2006-11-21 Silicon Light Machines Corporation Two-dimensional motion sensor
US7248345B2 (en) * 2004-11-12 2007-07-24 Silicon Light Machines Corporation Signal processing method for use with an optical navigation system
WO2006068746A2 (en) 2004-11-19 2006-06-29 Silicon Light Machines Corporation Dense multi-axis array for motion sensing
WO2006060798A2 (en) * 2004-12-02 2006-06-08 Silicon Light Machines Corporation Signal processing method for optical sensors
CA2594010C (en) * 2004-12-27 2017-01-17 Bc Cancer Agency Surface roughness measurement methods and apparatus
JP3938184B2 (ja) * 2005-03-22 2007-06-27 キヤノン株式会社 情報処理方法及びその装置
CA2628090C (en) * 2005-11-07 2014-10-21 Cardinal Cg Company Method and apparatus for identifying photocatalytic coatings
US7567235B2 (en) 2005-12-12 2009-07-28 Cypress Semiconductor Corporation Self-aligning optical sensor package
US7765251B2 (en) * 2005-12-16 2010-07-27 Cypress Semiconductor Corporation Signal averaging circuit and method for sample averaging
US8471191B2 (en) 2005-12-16 2013-06-25 Cypress Semiconductor Corporation Optical navigation system having a filter-window to seal an enclosure thereof
US7737948B2 (en) * 2005-12-20 2010-06-15 Cypress Semiconductor Corporation Speckle navigation system
US7298460B2 (en) * 2006-01-03 2007-11-20 Silicon Light Machines Corporation Method for determining motion using a velocity predictor
US7884801B1 (en) 2006-02-16 2011-02-08 Cypress Semiconductor Corporation Circuit and method for determining motion with redundant comb-arrays
US7297912B1 (en) 2006-03-27 2007-11-20 Silicon Light Machines Corporation Circuit and method for reducing power consumption in an optical navigation system having redundant arrays
US7721609B2 (en) 2006-03-31 2010-05-25 Cypress Semiconductor Corporation Method and apparatus for sensing the force with which a button is pressed
US7809035B2 (en) * 2006-03-31 2010-10-05 Cypress Semiconductor Corporation Eye-safe laser navigation sensor
US7492445B1 (en) 2006-06-05 2009-02-17 Cypress Semiconductor Corporation Method and apparatus for robust velocity prediction
US7755604B2 (en) 2006-06-19 2010-07-13 Cypress Semiconductor Corporation Optical navigation sensor with tracking and lift detection for optically transparent contact surfaces
US7728816B2 (en) * 2006-07-10 2010-06-01 Cypress Semiconductor Corporation Optical navigation sensor with variable tracking resolution
US7742514B1 (en) 2006-10-31 2010-06-22 Cypress Semiconductor Corporation Laser navigation sensor
US8072429B2 (en) * 2006-12-22 2011-12-06 Cypress Semiconductor Corporation Multi-axial touch-sensor device with multi-touch resolution
US8314774B1 (en) 2007-07-09 2012-11-20 Cypress Semiconductor Corporation Method and apparatus for quasi-3D tracking using 2D optical motion sensors
US8263921B2 (en) 2007-08-06 2012-09-11 Cypress Semiconductor Corporation Processing methods for speckle-based motion sensing
FI20075975L (fi) * 2007-12-31 2009-07-01 Metso Automation Oy Rainan mittaus
US8259069B1 (en) 2008-01-11 2012-09-04 Cypress Semiconductor Corporation Speckle-based optical navigation on curved tracking surface
US8031176B1 (en) 2008-01-22 2011-10-04 Cypress Semiconductor Corporation Optical navigation system using a single-package motion sensor
FI123335B (fi) * 2008-05-20 2013-02-28 Metso Automation Oy Pulssitusvälinein varustettu LED- valaisinmatriisi
US8541727B1 (en) 2008-09-30 2013-09-24 Cypress Semiconductor Corporation Signal monitoring and control system for an optical navigation sensor
US7723659B1 (en) 2008-10-10 2010-05-25 Cypress Semiconductor Corporation System and method for screening semiconductor lasers
US8217334B1 (en) 2008-12-24 2012-07-10 Cypress Semiconductor Corporation Optical navigation sensor including a spatial frequency filter
US8711096B1 (en) 2009-03-27 2014-04-29 Cypress Semiconductor Corporation Dual protocol input device
WO2012173640A1 (en) 2011-06-16 2012-12-20 Cypress Semiconductor Corporaton An optical navigation module with capacitive sensor
US8896553B1 (en) 2011-11-30 2014-11-25 Cypress Semiconductor Corporation Hybrid sensor module
JP6324114B2 (ja) * 2014-02-28 2018-05-16 キヤノン株式会社 光学系および光沢計
JP6324113B2 (ja) 2014-02-28 2018-05-16 キヤノン株式会社 光学系および光沢計
FR3037177B1 (fr) * 2015-06-08 2018-06-01 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Procede de traitement d'images avec specularites

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2246501A (en) * 1939-03-01 1941-06-24 Champion Paper & Fibre Co Glossmeter
US2446628A (en) * 1947-03-06 1948-08-10 Eastman Kodak Co Flatness testing apparatus
US2947212A (en) * 1956-04-30 1960-08-02 American Brass Co Method of detecting surface conditions of sheet metal
NL282725A (fi) * 1961-09-05
GB1072551A (en) * 1963-05-21 1967-06-21 Pilkington Brothers Ltd Improvements in or relating to the manufacture of flat material
SE347105B (fi) * 1968-02-12 1972-07-24 Skf Svenska Kullagerfab Ab
US3591291A (en) * 1969-05-26 1971-07-06 Conductron Corp Method and apparatus for sensing reflected light and diffused light from a surface to indicate the roughness of said surface
US3782827A (en) * 1971-08-04 1974-01-01 Itek Corp Optical device for characterizing the surface or other properties of a sample
US3771880A (en) * 1971-09-29 1973-11-13 Us Navy Roughness analyzer
US3804521A (en) * 1972-02-22 1974-04-16 Itek Corp Optical device for measuring surface roughness
US3790287A (en) * 1972-03-31 1974-02-05 Western Electric Co Surface inspection with scanned focused light beams

Also Published As

Publication number Publication date
US3922093A (en) 1975-11-25
GB1444780A (en) 1976-08-04
JPS4984462A (fi) 1974-08-14
SE391238B (sv) 1977-02-07
CS258452B2 (en) 1988-08-16
FR2208107A1 (fi) 1974-06-21
DE2260090A1 (de) 1974-05-30
CH552197A (de) 1974-07-31
CS804173A2 (en) 1988-01-15
DE2260090C3 (de) 1985-04-04
CA999136A (en) 1976-11-02
FI56453B (fi) 1979-09-28
DE2260090B2 (de) 1978-12-21
IT999470B (it) 1976-02-20
FR2208107B1 (fi) 1977-03-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI56453C (fi) Anordning foer maetning av ytstraevhet
US5072128A (en) Defect inspecting apparatus using multiple color light to detect defects
US7092105B2 (en) Method and apparatus for measuring the three-dimensional surface shape of an object using color informations of light reflected by the object
US10228551B1 (en) Device and method for optically measuring a measurement object
KR20080056086A (ko) 웨이퍼 검사장치
US9523771B2 (en) Sub-resolution optical detection
CN107430263B (zh) 具有平均照明路径和平均收集路径的共焦检查系统
US20160069808A1 (en) Fluorescence imaging autofocus systems and methods
US4381152A (en) Dimension measuring apparatus
JP6053506B2 (ja) 反射特性の測定装置
JPH0515428B2 (fi)
US4938601A (en) Optical web monitoring device with row cameras with directed illumination
US20130286191A1 (en) Inspection apparatus
EP0892929A1 (de) Anordnung zur vermessung der koordinaten eines oder mehrerer, an einem objekt angebrachten, retroreflektor(en)
US6043882A (en) Emission microscope and method for continuous wavelength spectroscopy
JP2000027067A (ja) ストランド形状の繊維製品の無接触測定方法およびこの方法を実施するための装置
CA2334225C (en) Method and device for opto-electrical acquisition of shapes by axial illumination
WO2002039076A1 (fr) Procede de correction de sortie de capteur
US20070024846A1 (en) Device for Dark Field Illumination and Method for Optically Scanning of Object
JPH038686B2 (fi)
JP2006162601A (ja) 表面特性を特定する装置
US10663393B2 (en) Spectrum inspecting apparatus
US20090079972A1 (en) Method and device for the detection of surface defects of a component
JP2822243B2 (ja) 欠陥検査装置
CN216816499U (zh) 检测系统