FI122502B - Förfarande och anordning för ytbeläggning av glas - Google Patents

Claims (24)

1. Förfarande för att bilda en ytbeläggning pä en rörelse varande, het glasprodukt, sä-som ett glasband, av ätminstone ett vätskeformigt räämne, i vilket förfarande det vätske- 5 formiga räämnet som innehäller ätminstone en metall, vilket kan vara en lösning, en kolloi-dal lösning, en emulsion, en organometall eller motsvarande atomiseras tili en aerosol och aerosolen leds tili glasproduktens yta i en behällare, som har en atmosfär som med tanke pä den ätminstone en metalls oxideringsreaktioner är huvudsakligen syrefri, medan glasproduktens temperatur är under 650°C, varvid aerosolen reagerar pä glasproduktens yta 10 och bildar en ytbeläggning, kännetecknat av att det vätskeformiga räämnet atomiseras med hjälp av gas tili droppar med en genomsnittlig diameter under 3 mikrometer för att bilda en aerosol.

2. Förfarande enligt patentkrav 1, kännetecknat av att den atomiserade vätskedrop-15 pens genomsnittliga diameter är under 1 mikrometer.

3. Förfarande enligt patentkraven 1 eller 2, kännetecknat av att det vätskeformiga räämnet innehäller ätminstone monobutyltennklorid (MBTC). 20

4. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknat av att det vätskeformiga räämnet innehäller metalloxidpartiklar, vilkas genomsnittliga diameter är under 200 nm.

5. Förfarande enligt patentkrav 4, kännetecknat av att metalloxiden är en oxid av 25 tenn eller en dopad oxid av tenn.

6. Förfarande enligt patentkraven 1 eller 2, kännetecknat av att det vätskeformiga räämnet innehäller ätminstone tenn, fluor, antimon, indium, zink, aluminium, vanadin eller o kisel. cm 30

^ 7. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknat av att det ° vätskeformiga räämnet innehäller ätminstone alkohol eller annan exoterm vätska. X tr CL rv.

8. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknat av att man 35 ästadkommer den huvudsakligen syrefria atmosfären genom att mata in i behällaren ät- oo § minstone kväve, koldioxid, kolmonoxid, väte, metan eller propan. C\l

9. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknat av att ytbe-läggningen är en fluordopad tennoxidytbeläggning; indiumdopad tennoxidytbeläggning, antimondopad tennoxidytbeläggning, aluminiumdopad tennoxidytbeläggning, vanadinoxid-ytbeläggning VOx, väri x är mindre än 2,5; eller en kiseloxidytbeläggning SiOy, väri y är 5 mindre än 2.

10. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknat av att man tili glasets yta leder partiklar med en genomsnittlig diameter under 200 nm antingen innan det atomiserade vätskeformiga räämnet leds tili glasets yta eller efter det att atomiserat 10 vätskeformigt räämne har letts tili glasets yta.

11. Förfarande enligt patentkrav 10, kännetecknat av att partiklarnas material huvud-sakligen är det samma som materialet i den ytbeläggning som det vätskeformiga räämnet bildar pä glasets yta.

12. En anordning (1) för att bilda en ytbeläggning pä en het glasprodukt i rörelse, sä-som ett glasband (2), av ätminstone ett vätskeformigt räämne (3), vilken anordning innefat-tar hjälpmedel (5) för att mata det vätskeformiga räämnet (3) tili en atomisator (6), en ato-misator (6) för att bilda droppar av det vätskeformiga räämnet, en behällare (7) som hu- 20 vudsakligen avskiljer frän den omgivande atmosfären och tili behällaren (7) anslutna hjälpmedel för att mata in gasen (8) i behällaren (7), kännetecknad av att anordningen innefattar gasmatningshjälpmedel (8, 16) för att mata gasen tili atomisatorn (6) för att ato-misera det vätskeformiga räämnet tili droppar med en genomsnittlig diameter under 3 mikroni eter. 25

13. En anordning enligt patentkrav 12, kännetecknad av att anordningen innefattar hjälpmedel för att värma upp glasets yta (9) tili en temperatur av högst 650°C.

14. En anordning enligt patentkrav 12 eller 13, kännetecknad av att anordningen inne- <M ^ 30 fattar hjälpmedel (18) för att producera och leda partiklar med en genomsnittlig diameter ^ under 200 nm tili glasproduktens yta antingen innan den atomiserade vätskan leds tili gla- ° sets yta eller efter det att atomiserad vätska har letts tili glasets yta. X cc CL

15. En anordning enligt patentkrav 14, kännetecknad av att anordningen innefattar o 35 hjälpmedel för att leda (20) en del av det vätskeformiga räämne som skall atomiseras tili en CO § liquid flame spraying -brännare (21), varmed produceras partiklar (19) med en genomsnitt- CM lig diameter under 200 nm, vilka leds tili glasets yta.

16. En anordning enligt patentkrav 14, kännetecknad av att anordningen innefattar hjälpmedel för atomisering (6) av en del av det vätskeformiga räämne som skall atomise-ras och en huvudsakligen mellan atomiseringspunkten och glasproduktens (2) yta belägen 5 termisk reaktor (25), med hjälp av vilken det atomiserade raämnet ändras tili partiklar med en genomsnittlig diameter under 200 nm.

17. En anordning enligt patentkrav 16, kännetecknad av att den termiska reaktorn (25) är en brännare som ästadkommits med hjälp av bränngas och oxiderande gas. 10

18. En glasprodukt, kännetecknad av att den är ytbelagd med nägot förfarande enligt patentkrav 1-11.

19. En glasprodukt enligt patentkrav 18, kännetecknad av att ytbeläggningen är en 15 genomskinlig ledande oxid.

20. En glasprodukt enligt patentkrav 18, kännetecknad av att glasprodukten är läge-missivitetsglas (low-e glas).

21. En glasprodukt enligt patentkrav 18, kännetecknad av att glasproduktens emissivi- tet är mindre än 0,15.

22. En glasprodukt enligt patentkrav 18, kännetecknad av att glasprodukten är glas som absorberar solenergi (solar control glass). 25

23. En glasprodukt enligt patentkrav 18, kännetecknad av att glasprodukten är elek-trokromatiskt glas.

^ 24. En glasprodukt enligt patentkrav 18, kännetecknad av att glasprodukten innehäller ^ en ytbeläggning för anpassning av brytningsindex. i C\l 00 o X tr CL CM O 00 O O CM