FI111939B - Förfarande och anordning för tillverkning av en glasbeläggning - Google Patents

Förfarande och anordning för tillverkning av en glasbeläggning Download PDF

Info

Publication number
FI111939B
FI111939B FI20002668A FI20002668A FI111939B FI 111939 B FI111939 B FI 111939B FI 20002668 A FI20002668 A FI 20002668A FI 20002668 A FI20002668 A FI 20002668A FI 111939 B FI111939 B FI 111939B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
substrate
nozzle part
aerosol particles
flame
thermal reactor
Prior art date
Application number
FI20002668A
Other languages
English (en)
Finnish (fi)
Other versions
FI20002668A (sv
FI20002668A0 (sv
Inventor
Jorma Keskinen
Juha Tikkanen
Markku Rajala
Original Assignee
Liekki Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Liekki Oy filed Critical Liekki Oy
Priority to FI20002668A priority Critical patent/FI111939B/sv
Publication of FI20002668A0 publication Critical patent/FI20002668A0/sv
Priority to PCT/FI2001/001057 priority patent/WO2002046112A1/en
Priority to AU2002216139A priority patent/AU2002216139A1/en
Publication of FI20002668A publication Critical patent/FI20002668A/sv
Application granted granted Critical
Publication of FI111939B publication Critical patent/FI111939B/sv

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00—Other methods of shaping glass
    • C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
    • C03B19/1407—Deposition reactors therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00—Other methods of shaping glass
    • C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
    • C03B19/1415—Reactant delivery systems
    • C03B19/1423—Reactant deposition burners
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
    • G02B6/132—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by deposition of thin films
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/30—For glass precursor of non-standard type, e.g. solid SiH3F
    • C03B2207/32—Non-halide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/30—For glass precursor of non-standard type, e.g. solid SiH3F
    • C03B2207/34—Liquid, e.g. mist or aerosol

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Claims (21)

1. Förfarande för tillverkning av en plan glasbeläggning som är särskilt tillämplig för att användas i planvägledare, i vilket förfarande används 5 en termisk reaktor (10), säsom en läga eller plasma, för att generera frän utgängsämnen (15) aerosolpartiklar (16), vilka sagda aerosol-partiklar (16) leds pä ytan av ett substrat (17) för att bilda en glasbeläggning, kännetecknat av att de i den termiska reaktoren (10) frän utgängsämnen (15) bildade aerosolpartiklarna (16) leds med en genom 10 en munstycksdel (12) gäende gasströmning (18) att impaktera som en partikelsträle pä substratet (17), vilken sagda gasströmning (18) ästad-koms genom att anordna en tryckskillnad över munstycksdelen (12).
2. Förfarande enligt patentkrav 1, kännetecknat av att genom mun-15 stycksdelens (12) formgivning och/eller placering relativ substratet (17) gasströmningen (18) och de i denna innehällna aerosolpartiklarna (16) leds att impaktera pä ett önskat ställe och/eller pä en önskad yta av substratet (17). 20
3. Förfarande enligt patentkrav 1 eller 2, kännetecknat av att genom munstycksdelens (12) formgivning och/eller placering relativt substratet (17) samt genom att inverka pä hastigheten av den genom munstycksdelen (12) gäende gasströmningen med hjälp av en tryckskillnad gas-:Y: strömningen (18) och de i denna innehällna aerosolpartiklarna (16) : 25 leds att stöta pä substratet (17) pä ett begärt sätt för att klassificera de . ·. pä substratet (17) impakterande partiklarna pä basen av deras aero- , ‘: dynamiska storlek säsom i ett högpasspartikelfilter.
4. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven 1-3, känne-30 tecknat av att före gasströmningen (18) och de i denna innehällna aerosolpartiklarna (16) leds genom munstycksdelen (12) tili substratet (17), gasströmningen (18) och de i denna innehällna aerosolpartiklarna : (16) leds genom en eller flera som ett lägpasspartikelfilter fungerande försepareringssteg (41, 42), vilka varje försepareringssteg omfattar en 35 strömningsledare (41) och ett denna i gasströmningens riktning föl-jande uppsamlingsunderlag (42). 111939
5. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven 1-4, kanne-tecknat av att som den termiska reaktoren (10) används en flam-pistol, i vilken flampistol en del av utgängsämnen (15) som behövs för bildning av glasmaterialet leds i flytande tillständ tili lägan (10) sä, att 5 sagda utgängsämne/n (10) bringas till form av aerosoldroppar först i den omedelbara närheten av lägan (10) just före de leds tili lägan (10).
6. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven 1-5, känne-tecknat av att som utgängsämnet (15) eller en beständsdel av det 10 används kiseltetraklorid, germaniumtetraklorid, TEOS (eng. Tetraethyl-ortosilicate) eller GEOS (eng. tetraethoxygermanium).
7. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven 1-6, känne-tecknat av att för att bilda flerkomponentglas utgängsämnet (15) eller 15 en beständsdel av detta innehäller erbium, neodynium, nägon annan lantanid, aluminium, fosfor, bor och/eller fluor.
8. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven 1-7, känne-tecknat av att munstycksdelen (12) och substratet (17) rörs relativt 20 varandra väsentligen i ett pian parallellt med substratets (17) yta sä, att den termiska reaktoren (10) hälls i ett konstant läge relativt munstycksdelen (12).
': ; 9. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven 1 -8, känne- , . 25 tecknat av att munstycksdelen (12) och substratet (17) rörs relativt varandra i en riktning som är väsentligen vinkelrät mot planet av sub-. stratets (17) yta för att förändra avständet mellan munstycksdelen (12) : och substratet (17).
10. Anordning för tillverkning av en pian glasbeläggning som är särskilt tillämplig för att användas i planvägledare, vilken anordning omfattar en termisk reaktor (10), säsom en läga eller plasma, för att generera aero-: solpartiklar (16) frän utgängsämnen (15), och medel för att leda aerosolpartiklarna (16) pä ytan av ett substrat (17) för att bilda en glas-35 beläggning, kännetecknad av att sagda anordning omfattar ätmin-stone 111939 — en första kammare (11) och — en andra kammare (13), samt — en munstycksdel (12) som sammankopplar den första (11) och den andra (13) kammaren sä, att den första (11) och den andra 5 (13) kammaren är anordnade att bilda ett väsentligen gastät, frän den omgivande atmosfären skilt system, samt — en i den första kammaren (11) placerad termisk reaktor (10), och — ett i den andra kammaren (13) pä ett underlag (21) placerat sub-strat (17), samt 10. medel (19) för att anordna en tryckskillnad över munstycksdelen (12), varvid de i den termiska reaktorn (10) frän utgängsämnen (15) genere-rade aerosolpartiklarna (16) leds med en av tryckskillnaden bildad och 15 genom munstycksdelen (12) gäende gasströmning (18) att impaktera som en partikelsträle pä substratet (17).
11. Förfarande enligt patentkrav 10, kännetecknat av att munstycksdelen (12) är anordnad i sin formgivning och/eller placering relativ sub- 20 stratet (17) att leda gasströmningen (18) och de i denna innehällna aerosolpartiklarna (16) att impaktera pä ett önskat ställe och/eller pä en önskad yta av substratet (17).
12. Anordning enligt patentkrav 10 eller 11, kännetecknad av att ,·. 25 munstycksdelen (12) är anordnad i sin formgivning och/eller placering ·. relativt substratet (17) att leda gasströmningen (18) och de i denna . innehällna aerosolpartiklarna (16) att stöta pä substratet (17) pä ett begärt sätt för att klassificera de pä substratet (17) impakterande par-f tiklarna pä basen av deras aerodynamiska storlek säsom i ett högpass- 30 partikelfilter.
’·’ 13. Anordning enligt nägot av de föregäende patentkraven 10-12, kännetecknad av att sagda anordning omfattar vidare ett eller flera som lägpasspartikelfilter fungerande försepareringssteg (41, 42), vilka »· 35 varje försepareringssteg omfattar en strömningsledare (41) och denna i riktningen av gasströmningen följande uppsamlingsunderlag (42), och • vilket/vilka försepareringssteg (41, 42) är placerat/placerade i gas- « · · 111939 strömningens (18) strömningsriktning före munstycksdelen (12), och vilken/vilka försepareringssteg är anordnat/anordnade att fungera som (ett) lägpasspartikelfilter.
14. Anordning enligt nägot av de föregäende patentkraven 10-13, kän- netecknad av att den termiska reaktoren (10) är en flampistol, i vilken flampistol en del av utgängsämnen (15) som behövs för bildning av glasmaterialet leds till lägan (10) i flytande tillständ sä, att sagda ut-gängsämne/n (10) bringas till form av aerosoldroppar först i den 10 omedelbara närheten av lägan (10) just före de leds tili lägan (10).
15. Anordning enligt nägot av de föregäende patentkraven 10-14, kän-netecknad av att sagda anordning omfattar vidare medel för att röra munstycksdelen (12) och substratet (17) relativt varandra väsentligen i 15 ett pian parallellt med substratets (17) yta sä, att den termiska reaktoren (10) hälls i ett konstant läge relativt munstycksdelen (12).
16. Anordning enligt nägot av de föregäende patentkraven 10-14, kän-netecknad av att sagda anordning omfattar vidare medel för att röra 20 munstycksdelen (12) och substratet (17) relativt varandra väsentligen i ett pian vinkelrät mot substratets (17) yta för att förändra avständet mellan munstycksdelen (12) och substratet (17).
: 17. Anordning enligt nägot av de föregäende patentkraven 10-16, . 25 kännetecknad av att sagda anordning omfattar vidare medel för att /. uppvärma väggarna av den första kammaren (11) och/eller den andra kammaren (13).
18. Anordning enligt nägot av de föregäende patentkraven 10-17, kän- • 30 netecknad av att sagda anordning omfattar vidare medel för att upp värma munstycksdelen (12) och/eller komponenter av sagda försepareringssteg (41, 42). •
19. Anordning enligt nägot av de föregäende patentkraven 10-18, kän-35 netecknad av att sagda anordning omfattar vidare medel för att uppvärma och/eller kylä substratets (17) underlag (21). » 111939
20. Anordning enligt nägot av de föregäende patentkraven 10-19, kännetecknad av att munstycksdelen (12) omfattar en eller flera öppningar med ett runt och/eller rektangulärt tvärsnitt.
21. Anordning enligt nagot av de föregäende patentkraven 10-20, kännetecknad av att munstycksdelen (12) omfattar en slitsformig öppning (20) för att bilda pä substratets (17) yta en glasskikt vars tjocklek varierar pä ett kontrollerat sätt i en riktning (z) tvärs över sagda öppning (20). 10 • · t »
FI20002668A 2000-12-05 2000-12-05 Förfarande och anordning för tillverkning av en glasbeläggning FI111939B (sv)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20002668A FI111939B (sv) 2000-12-05 2000-12-05 Förfarande och anordning för tillverkning av en glasbeläggning
PCT/FI2001/001057 WO2002046112A1 (en) 2000-12-05 2001-12-05 A method and a device for manufacturing a glass coating
AU2002216139A AU2002216139A1 (en) 2000-12-05 2001-12-05 A method and a device for manufacturing a glass coating

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20002668A FI111939B (sv) 2000-12-05 2000-12-05 Förfarande och anordning för tillverkning av en glasbeläggning
FI20002668 2000-12-05

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI20002668A0 FI20002668A0 (sv) 2000-12-05
FI20002668A FI20002668A (sv) 2002-06-06
FI111939B true FI111939B (sv) 2003-10-15

Family

ID=8559650

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI20002668A FI111939B (sv) 2000-12-05 2000-12-05 Förfarande och anordning för tillverkning av en glasbeläggning

Country Status (3)

Country Link
AU (1) AU2002216139A1 (sv)
FI (1) FI111939B (sv)
WO (1) WO2002046112A1 (sv)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8679580B2 (en) 2003-07-18 2014-03-25 Ppg Industries Ohio, Inc. Nanostructured coatings and related methods
WO2004035496A2 (en) 2002-07-19 2004-04-29 Ppg Industries Ohio, Inc. Article having nano-scaled structures and a process for making such article
FI116619B (sv) * 2004-07-02 2006-01-13 Liekki Oy Förfarande och anordning för att tillverka optiskt material, samt optisk vågledare
FI122502B (sv) * 2007-12-20 2012-02-29 Beneq Oy Förfarande och anordning för ytbeläggning av glas

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6074626A (ja) * 1983-09-30 1985-04-26 Fujitsu Ltd ウエハー処理方法及び装置
JPH06247736A (ja) * 1993-02-24 1994-09-06 Furukawa Electric Co Ltd:The 光ファイバ用スートプリフォーム合成装置
US5622750A (en) * 1994-10-31 1997-04-22 Lucent Technologies Inc. Aerosol process for the manufacture of planar waveguides
US6328807B1 (en) * 1999-12-14 2001-12-11 Corning Incorporated Chuck heater for improved planar deposition process

Also Published As

Publication number Publication date
FI20002668A (sv) 2002-06-06
FI20002668A0 (sv) 2000-12-05
WO2002046112A1 (en) 2002-06-13
AU2002216139A1 (en) 2002-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20210358714A1 (en) Modular print head assembly for plasma jet printing
US20030020768A1 (en) Direct write TM system
WO2002004698A2 (en) Particle guidance system
TW531771B (en) Coating formation by reactive deposition
US7437047B2 (en) Optical materials with selected index-of-refraction
KR101276391B1 (ko) 고품질 광학 코팅의 형성을 위한 고속 증착 방법
EP2473651B1 (en) Process and apparatus for controlling coating deposition
EP1335829B1 (en) Multilayered optical structures
KR20040027896A (ko) 광학 물질 및 광학 소자
EP1278009A2 (en) Flame stablizer for burner for flame hydrolysis deposition
KR20150022858A (ko) 저-미립자 결함 박형 유리 시트를 형성하기 위한 정전기 방법 및 장치
FI111939B (sv) Förfarande och anordning för tillverkning av en glasbeläggning
US6788866B2 (en) Layer materials and planar optical devices
KR101626839B1 (ko) 박막 증착에서 여과 및 가스/증기 혼합 장치
SE466520B (sv) Anordning och foerfarande foer kontinuerlig provtagning och analys av en vaetska
KR100525227B1 (ko) 발수성 부재의 제조방법 및 잉크젯헤드의 제조방법
Jiang et al. Laser-treated glass platform for rapid wicking-driven transport and particle separation in bio microfluidics
EP1186917A2 (en) Co-flow diffusion flame burner device for fabricating of optical waveguide
FI112648B (sv) Mätmetod och mätanordning vid tillverkningsprocessen av en plan glasytbeläggning
US11938414B1 (en) Microfluidic film evaporation with femtosecond laser-patterned surface
JP2003313656A (ja) 超微粒子膜形成装置及び超微粒子膜形成方法
Bi et al. High-throughput planer glass coating using Laser Reactive Deposition (LRD)
JP4042644B2 (ja) 高デルタ低損失導波路の製造方法
Lopez et al. Laser reactive deposition (LRD) processing for planar lightwave circuit (PLC) manufacturing
JPH10324532A (ja) 多孔質酸化物ガラス膜製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
MA Patent expired