FI114809B - Alustamateriaali - Google Patents

Alustamateriaali Download PDF

Info

Publication number
FI114809B
FI114809B FI20030507A FI20030507A FI114809B FI 114809 B FI114809 B FI 114809B FI 20030507 A FI20030507 A FI 20030507A FI 20030507 A FI20030507 A FI 20030507A FI 114809 B FI114809 B FI 114809B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
ppm
copper
magnesium
substrate material
alloy
Prior art date
Application number
FI20030507A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI20030507A0 (fi
FI20030507A (fi
Inventor
Tuomas Renfors
Kalle Haerkki
Original Assignee
Outokumpu Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Outokumpu Oy filed Critical Outokumpu Oy
Priority to FI20030507A priority Critical patent/FI114809B/fi
Publication of FI20030507A0 publication Critical patent/FI20030507A0/fi
Priority to TW093108504A priority patent/TW200508404A/zh
Priority to DE112004000528T priority patent/DE112004000528T5/de
Priority to PCT/FI2004/000198 priority patent/WO2004087975A1/en
Publication of FI20030507A publication Critical patent/FI20030507A/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI114809B publication Critical patent/FI114809B/fi

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C9/00Alloys based on copper
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates

Description

, 114809
ALUSTAMATERIAALI
Tekniikan ala 5
Keksintö koskee kupariseosta olevaa alustamateriaalia käytettäväksi korkean lämpötilan pinnoitusprosesseissa. Seos soveltuu käytettäväksi erityisesti valmistettaessa tuotteita, joissa alustamateriaalilta vaaditaan hyvää lämmön- tai sähkönjohtavuutta. Tällaisia tuotteita ovat esimerkiksi aurinkopaneelit.
10
Tekniikan tausta
Kuparia käytetään alustamateriaalina erilaisissa pinnoitetuissa tuotteissa, joissa 15 alustamateriaalilta vaaditaan hyvää lämmön- tai sähkönjohtavuutta. Kuparin sähkönjohtavuus ja lämmönjohtavuus ovat käytännöllisesti katsoen verrannolliset toisiinsa. Usein tällaista tuotetta valmistetaan suhteellisen korkeassa lämpötilassa. Näiden operaatioiden vaatimissa lämpötiloissa, esimerkiksi alueella noin 230 - 350 °C, puhdas kupari saattaa jo olla liian pehmeää. Sen vuoksi materiaalina käyte-20 tään usein ns. DHP-kuparia, jossa on seosaineena fosforia esimerkiksi noin 0,02 %. Fosforiseostus kuitenkin huonontaa sähkön-ja lämmönjohtavuutta.
Eräs kohde, joissa kuparia käytetään alustamateriaalina, ovat aurinkopaneelit. Lämmön tuotantoon käytettävää aurinkopaneelia voidaan valmistaa esimerkiksi si-: 25 ten, että kuparinauhaa kelataan tyhjiökammiossa, jossa höyrystetään titaania ja johon samanaikaisesti johdetaan typpeä ja happea. Höyrystynyt titaani reagoi ty-• .·' pen ja hapen kanssa ja näin syntyneet TiNOx-partikkelit tarttuvat nauhan pintaan.
; Pinnoitushetkellä nauhan lämpötila on yli 250 °C, hetkellisesti jopa 350 °C. Tämän ensimmäisen pinnoitusvaiheen jälkeen seuraa toinen vaihe, jossa nauha kelataan 30 takaisin ja sen pintaan höyrystetään kvartsipinnoite. Kupari on tässä tuotteessa hyvä alustamateriaali hyvän lämmönjohtavuutensa mutta myös heikon emissiivi-’ syytensä vuoksi. Lopputuloksena on lämpösäteilyä tehokkaasti absorboiva levy.
T · 35 Keksinnön yhteenveto
Nyt on keksitty patenttivaatimuksen 1 mukainen hapeton kupariseos. Keksinnön eräitä edullisia sovelluksia esitetään muissa vaatimuksissa.
1 1 4809 2
Keksinnön mukaisesti hapettomaan kupariin on seostettu magnesiumia yli 30 ppm seoksen painosta laskettuna. Näin saadaan lämpötilankestävyyttä parannetuksi. Sähkönjohtavuus ja näin myös lämmönjohtavuus säilyy kuitenkin korkealla tasolla.
5
Seos soveltuu käytettäväksi erityisesti tuotteissa, jotka valmistetaan korkeassa lämpötilassa, kuten alueella 230 - 390 °C. Valmistusoperaatioita voivat olla esimerkiksi sputterointi, tyhjiöhöyrystys, terminen ruiskutus ja kuumatinaus.
10
Keksinnön yksityiskohtainen kuvaus
Keksinnön mukaisen hapettoman kupariseoksen Mg-pitoisuus on yli 30 ppm, parhaiten yli 50 ppm. Mg-pitoisuus on enintään 180 ppm, parhaiten enintään 15 150 ppm. Seoksen happipitoisuus on enintään 10 ppm, parhaiten enintään 5 ppm, kuten 1 - 3 ppm.
Keksinnön mukaisella Mg-seostuksella kuparin lämpötilankestävyys paranee huomattavasti.
20
Kuparin lämpötilankestävyys ilmaistaan tavallisesti niin sanotulla puoliksipehmene-mislämpötilalla (T1/2). Τ1Λ> riippuu kuitenkin huomattavasti muokkausasteesta. Ver- • * · . tailukelpoisten arvojen saamiseksi TVz määritetään tavallisesti 40 %:n ja 94%:n . ; muokkausasteella.
: / 25 ’ ' Kuparin sähkönjohtavuus ilmaistaan tavallisesti niin sanotulla IACS-arvolla (Inter- : national Anneal Copper Standard). Se ilmaisee sähkönjohtavuuden prosentteina standardin mukaisen seostamattoman kuparin johtavuudesta. Hapettoman kupari-laadun sähkönjohtavuus on vähintään 100 % IACS. Tyypillisen DHP-kuparin, jon-30 ka muokkausaste on 40 %, puoliksipehmenemislämpötila on noin 355 °C ja säh- : könjohtavuus noin 82 %IACS.
: Keksinnön mukaisen kupariseoksen puoliksipehmenemislämpötila T1/2 on vähin- ·’ tään 340 °C, parhaiten vähintään 380 °C. 94 %:n muokkausasteella T1/2 on vähin- 35 tään 300 °C, parhaiten vähintään 335 °C. Seostuksesta huolimatta sähkönjohta- : vuus pysyy kuitenkin korkealla tasolla (yli 100 % IACS). Parhaiten johtavuus on vähintään 101 % IACS.
114809 3
Yli 180 pprrv.n pitoisuuksilla lämpötilankestävyyden paraneminen suhteessa Mg:n määrään heikkenee olennaisesti. Myös sähkönjohtavuus ja valettavuus heikkene-vät. Alle 30 ppm:n Mg-pitoisuuksilla ei käytännössä saavuteta enää olennaista parannusta lämpötilankestävyyteen.
5
Magnesium kohottaa tässä puhtaan kuparin rekristallisaatiolämpötilaa. Mg-atomit ovat suurempia kuin Cu-atomit, ja näin hilarakenne vääristyy ja muodostuu jännityksiä. Näin dislokaatioiden liike vaikeutuu.
10 Keksinnön ansiosta lopputuotteelle saadaan korkeampi sähkön- ja lämmönjohta-vuus, kuin DHP-kuparia käytettäessä.
Mg-seostettua kuparia voidaan valmistaa samoilla valmistusmenetelmillä kuin muitakin hapettomia kuparilaatuja eli laatta- tai pötkyvalulla joko vaaka- tai pystyvalu-15 na. Sulaan lisätään sopivassa vaiheessa, esimerkiksi valu-uuniin, tarvittava määrä magnesiumia. Koska magnesium reagoi herkästi hapen kanssa, on ilmalta suojaukseen kiinnitettävä erityistä huomiota. Myös sulan kanssa kosketukseen joutuvissa laitteissa on edullista käyttää sellaisia oksidittomia materiaaleja, joista magnesium ei voi sitoa happea. Pienen seosaineen määrän vuoksi voidaan seostustek-20 nilkka muuten valita varsin vapaasti.
Valua seuraa yleensä lämpökäsittely ja muokkaus. Tyypillinen valmistusreitti voisi < I · olla laattavalu alaspäin ja muokkaus kuuma- ja kylmävalssauksella.
; : 25 Magnesium voi näissä pitoisuuksissa aiheuttaa sekundaarista raerakennetta, mikä ' ‘ tulee muokkauslämpötilaa valittaessa ottaa huomioon.
Fosfori, pii ja rikki voivat reagoida magnesiumin kanssa heikentäen lämpötilankestävyyden paranemista. Sen vuoksi näiden epäpuhtauksien pitoisuus on enintään * 30 10ppm.
Keksinnön mukaista kuparia voidaan käyttää alustamateriaalina erityisesti pinnoi- * tuskohteisiin, joissa vaaditaan hyvää lämpötilankestävyyttä. Tällaisia ovat esimer- * kiksi sputterointi, tyhjiöhöyrystys, terminen ruiskutus ja kuumatinaus. Vaikkapa 35 kuumatinauksessa lämpötila voi olla esimerkiksi 230 - 320 °C ja tyhjiöhöyrystyk-• _; sessä esimerkiksi noin 350 °C.
114809 4
Magnesiumia on aikaisemmin käytetty mikroseosaineena yleensä hyvin pieninä pitoisuuksina. Tyypillisesti on samalla käytetty muita seosaineita. Esimerkiksi julkaisuissa US-5118470, JP-A-62080241 ja JP-A-03291340 on esitetty tällaisia seoksia, joista on muodostettu puolijohdetekniikassa käytettävää liitäntälankaa. Lan-5 gasta saadaan sulattamalla tarkasti pallon muotoisia pisaroita. Materiaalilla on myös hyvä murtolujuus. Magnesiumia on ehdotettu muiden aineiden ohella seos-aineeksi myös esimerkiksi julkaisussa JP-A-63140052. Tässä magnesium pitoisuudessa 3-10 ppm alentaa kuparin pehnemenislämpötilaa.
10 Keksinnön mukaisessa seoksessa voidaan käyttää myös muita seosaineita. Tällaisia ovat erityisesti Ag ja P. Ag tunnetusti kohottaa puoliksipehmenemislämpöti-laa. Sen pitoisuus on edullisesti enintään 500 ppm. Muita mahdollisia seosaineita ovat esimerkiksi S, Sn, Zn, Ni, Si ja Te. Pitoisuus on edullisesti enintään 50 ppm. Myös Sn kohottaa puoliksipehmenemislämpötilaa, mutta se ei ole yhtä tehokas 15 kuin Mg ja lisäksi se laskee johtavuutta enemmän.
Esimerkki 20 Valmistettiin Mg-seostetut hapettomat kupariseokset, joihin oli seostettu Mg:tä 50, 100 ja 150 ppm seoksen painosta. Seosten lämpötilankestävyys ja sähkönjohtavuus mitattiin.
** Kustakin materiaalista valmistettiin hehkutettu 8 mm.n lanka. Langan sähköjohta- i 25 vuus mitattiin. Sen jälkeen langat vedettiin 6,2 mm:n (muokkausaste 40 %) tai 2 mm:n (muokkausaste 94 %) paksuuteen. Langat hehkutettiin suolakylvyssä (1 h) : alueella 250 - 500 °C. Tulokset esitetään oheisessa taulukossa.
Seos Sähkönjohtavuus 1V2 40 % 1V2 94% : .__f%iAcsi rci rci , . Mg50ppm__101,95__363 310
MglOOppm 101,40__379 335
Mg150ppm__100,84__386 340 I f 30 Kuten nähdään, 50 - 150 ppm:n Mg-pitoisuuksilla saavutetaan erittäin hyvä säh- * < . ". könjohtavuus (ja siten myös lämmönjohtavuus) mutta myös korkea pehmenemis- lämpötila.

Claims (9)

1. Kupariseosta oleva alustamateriaali käytettäväksi korkean lämpötilan pinnoi-tusprosesseissa, tunnettu siitä, että seos sisältää happea enintään 10 ppm, magnesiumia yli 30 ppm ja enintään 180 ppm sekä fosforia, piitä ja rikkiä yhteensä 5 enintään 10 ppm.
1 1 4809
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen seos, tunnettu siitä, että se sisältää magnesiumia yli 50 ppm.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen seos, tunnettu siitä, että se sisältää magnesiumia enintään 150 ppm.
4. Jonkin edeltävän patenttivaatimuksen mukainen seos, tunnettu siitä, että se sisältää happea enintään 5 ppm, edullisesti 1 - 3 ppm.
5. Jonkin edeltävän patenttivaatimuksen mukainen seos, tunnettu siitä, että sen puoliksipehmenemislämpötila 40 %:n muokkausasteella on vähintään 340 °C, parhaiten vähintään 380 °C.
6. Jonkin edeltävän patenttivaatimuksen mukainen seos, tunnettu siitä, että sen puoliksipehmenemislämpötila 94 %:n muokkausasteella on vähintään 300 °C, parhaiten vähintään 335 °C.
: 7. Jonkin edeltävän patenttivaatimuksen mukainen seos, tunnettu siitä, että sen sähkönjohtavuus on vähintään 100 % IACS, parhaiten vähintään 101 % IACS. * 20
8. Jonkin edeltävän patenttivaatimuksen mukainen seos, tunnettu siitä, että se on tarkoitettu käytettäväksi alustamateriaalina aurinkopaneelissa, joka valmiste-:· taan siten, että alustamateriaalille muodostetaan yksi tai useampi ainekerros. •
9. Jonkin edeltävän patenttivaatimuksen mukaisen seoksen käyttö alustamate-/ riaalina korkean lämpötilan pinnoitusprosessissa, jossa alustamateriaalille muo- ·' 25 dostetaan yksi tai useampi ainekerros. ^« * • I • · • · 1 1 4809
FI20030507A 2003-04-03 2003-04-03 Alustamateriaali FI114809B (fi)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20030507A FI114809B (fi) 2003-04-03 2003-04-03 Alustamateriaali
TW093108504A TW200508404A (en) 2003-04-03 2004-03-29 Substrate material
DE112004000528T DE112004000528T5 (de) 2003-04-03 2004-04-01 Substrat-Material einer Kupfer-Magnesium-Legierung
PCT/FI2004/000198 WO2004087975A1 (en) 2003-04-03 2004-04-01 Substrate material of a copper-magnesium alloy

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20030507A FI114809B (fi) 2003-04-03 2003-04-03 Alustamateriaali
FI20030507 2003-04-03

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI20030507A0 FI20030507A0 (fi) 2003-04-03
FI20030507A FI20030507A (fi) 2004-10-04
FI114809B true FI114809B (fi) 2004-12-31

Family

ID=8565919

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI20030507A FI114809B (fi) 2003-04-03 2003-04-03 Alustamateriaali

Country Status (4)

Country Link
DE (1) DE112004000528T5 (fi)
FI (1) FI114809B (fi)
TW (1) TW200508404A (fi)
WO (1) WO2004087975A1 (fi)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020128598A (ja) * 2020-05-26 2020-08-27 三菱マテリアル株式会社 銅圧延板及び電子・電気機器用部品

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03291340A (ja) * 1990-04-10 1991-12-20 Mitsubishi Materials Corp 半導体装置用銅合金極細線及び半導体装置
JP2662209B2 (ja) * 1995-10-05 1997-10-08 古河電気工業株式会社 メッキ密着性及びハンダ接合性に優れた電子機器用銅合金とその製造法
JP2898627B2 (ja) * 1997-03-27 1999-06-02 日鉱金属株式会社 銅合金箔
JP3957391B2 (ja) * 1998-03-06 2007-08-15 株式会社神戸製鋼所 剪断加工性に優れる高強度、高導電性銅合金

Also Published As

Publication number Publication date
FI20030507A0 (fi) 2003-04-03
TW200508404A (en) 2005-03-01
FI20030507A (fi) 2004-10-04
WO2004087975A1 (en) 2004-10-14
DE112004000528T5 (de) 2006-01-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9103000B2 (en) Low melting point sputter targets for chalcogenide photovoltaic applications and methods of manufacturing the same
JP2010103331A (ja) 薄膜トランジスター用配線膜形成用スパッタリングターゲット
KR20180088751A (ko) 플랫 패널 디스플레이용 배선막 형성용 스퍼터링 타깃
ES2427155T3 (es) Baño de galvanización de cinc por inmersión en caliente y producto de hierro chapado en cinc
FI114809B (fi) Alustamateriaali
JP6974467B2 (ja) 多層構造のめっき鋼板及びその製造方法
CN106661720A (zh) 基于银合金的溅射靶
GB2355990A (en) A silver/copper/germanium alloy composition
KR101988794B1 (ko) 내식성이 우수한 마그네슘 합금 판재 및 그 제조방법
US20060198757A1 (en) Oxygen-free copper alloy and method for its manufacture and use of copper alloy
FI119646B (fi) Hapeton kupariseos ja menetelmä sen valmistamiseksi sekä kupariseoksen käyttö
JP2019531413A (ja) 低い液相線温度を有する改変された溶融亜鉛めっき被膜、その製造方法及び使用方法
JPS6241303B2 (fi)
KR101560933B1 (ko) 내식성 및 표면외관이 우수한 용융아연합금 도금강판 및 그 제조방법
WO2015053265A1 (ja) In膜、In膜を成膜するためのInスパッタリングターゲット及びその製造方法
JP2008057031A (ja) 熱欠陥発生のない液晶表示装置用配線および電極並びにそれらを形成するためのスパッタリングターゲット
JPS61288039A (ja) 有結晶溶融亜鉛メツキ用亜鉛合金
Roy et al. The study of diffusion of copper in thin films of silver and Ag Al alloys as a function of increasing aluminium concentration
Rapp et al. Superconducting melt-spun ZrCo alloys
KR960003730B1 (ko) 도금층 가공성이 우수한 용융아연 합금화 도금강판의 제조방법
KR100402126B1 (ko) 착색용융아연도금강판제조용아연-티타늄모합금제조방법
JP2022019429A (ja) 溶融Zn-Al-Mg系めっき鋼板及びその製造方法
Everts et al. Physical and Electrical Properties of Calcium
JP2001071174A (ja) 錫−銀系ハンダ合金
JPH0432529A (ja) 電気抵抗の定質量温度係数が小さい銅合金