ES2602055T3 - Disposición de análisis para espectrómetro de partículas - Google Patents

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Abstract

Un método para determinar al menos un parámetro relacionado con partículas cargadas emitidas desde una muestra emisora de partículas (11), que comprende las etapas de: formar un haz de partículas de dichas partículas cargadas y transportar las partículas entre dicha muestra emisora de partículas (11) y una entrada (8) de una región de medición (3) por medio de un sistema de lentes (13) que tiene un eje óptico sustancialmente recto (15); desviar el haz de partículas en al menos una primera dirección de coordenadas (x, y) perpendicular al eje óptico del sistema de lentes antes de la entrada del haz de partículas en la región de medición, detectar las posiciones de dichas partículas cargadas en dicha región de medición, siendo las posiciones indicativas de dicho al menos un parámetro, en donde la detección de las posiciones de las partículas cargadas implica la detección de las posiciones en dos dimensiones, una de las cuales es indicativa de las energías de las partículas y una de las cuales es indicativa de las direcciones de partida de las partículas, caracterizado por que el método comprende además la etapa de desviar el haz de partículas en la misma al menos primera dirección de coordenadas (x, y) al menos una segunda vez antes de la entrada del haz de partículas en la región de medición y controlar las desviaciones del haz de partículas de modo que una parte predeterminada (A, B) de la distribución angular (39) de las partículas que forman el haz de partículas atraviese la entrada de la región de medición, en donde se registran sucesivamente una serie de partes predeterminadas diferentes.

Description

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La figura 3 ilustra una hendidura de abertura y una hendidura de entrada de la región de medición del espectrómetro fotoelectrónico mostrado en la figura 1.
La figura 4 ilustra un espectrómetro fotoelectrónico de tipo con deflector hemisférico de acuerdo con una realización a modo de ejemplo de la invención.
Las figuras 5A y 5B son vistas desde el extremo de dos conjuntos deflectores de una disposición de análisis de acuerdo con una realización a modo de ejemplo de la invención.
La figura 6 ilustra partes de una disposición de análisis de acuerdo con una realización a modo de ejemplo de la invención.
La figura 7 ilustra una manera a modo de ejemplo en la que pueden aplicarse tensiones deflectoras a electrodos de los conjuntos deflectores mostrados en las figuras 5A y 5B.
Las figuras 8A y 8B ilustran trayectorias de partículas a través del sistema de lentes de una disposición de análisis de acuerdo con la invención, sin o con potenciales deflectores aplicados.
Las figuras 9A a 9C ilustran cómo partes seleccionadas de la distribución angular de partículas emitidas pueden ser desviadas de acuerdo con los principios de la invención.
Descripción detallada
La figura 4 ilustra un espectrómetro de partículas 30 de acuerdo con una realización a modo de ejemplo de la invención. Además de las diferencias descritas en lo sucesivo, los componentes y la funcionalidad del espectrómetro de partículas 30 son idénticos a los componentes y la funcionalidad del espectrómetro fotoelectrónico 1 de tipo con deflector hemisférico de acuerdo con la técnica anterior, descrito en la sección de antecedentes con referencia a las figuras 1 a 3. Los elementos mostrados en la figura 4 que corresponden a elementos en las figuras 1 a 3 se proporcionan con los mismos números de referencia y se omiten descripciones adicionales de los mismos.
El espectrómetro de partículas 30 es, por lo tanto, un espectrómetro fotoelectrónico de tipo con deflector hemisférico que comprende una disposición de análisis adaptada para análisis de energías y direcciones de partida o posiciones de partida de partículas cargadas emitidas desde una muestra emisora de partículas 11.
Tal como se ve en la figura 4, la disposición de análisis incluye una disposición deflectora 31 que comprende un primer conjunto deflector 29 y un segundo conjunto deflector 29'. Cada uno de los primer y segundo conjuntos deflectores está concebido y configurado de acuerdo con el conjunto deflector individual 29 de la figura 1, descrito en la sección de antecedentes.
Con referencia simultánea a las figuras 5A y 5B que ilustran vistas del extremo del primer conjunto deflector 29 y el segundo conjunto deflector 29', respectivamente, esto significa que cada uno del primer y el segundo conjuntos deflectores comprende cuatro electrodos 33A-33D, 33A'-33D', cada uno de los cuales cubre un ángulo azimutal cercano a 90 grados. Los dos electrodos dispuestos de forma opuesta en cada conjunto deflector forman un par de electrodos 33A/33C, 33B/33D, 33A'/33C', 33B'/33D' accionable para generar un campo eléctrico entre ellos mediante aplicación de una tensión deflectora, Vx, Vy, y accionable de este modo para desviar las partículas cargadas que pasan entre los electrodos del conjunto deflector en una dirección de coordenadas. Cada dicho par de electrodos forma, por lo tanto, un deflector para desviar las partículas cargadas en una dirección de coordenadas.
Dado un sistema de coordenadas cartesianas tridimensional con su eje z a lo largo del eje óptico 15 del sistema de lentes 13, y con los hemisferios 5 simétricos con respecto al plano (y, z), un par de electrodos 33A/33C, 33A'/33C' de cada conjunto deflector 29, 29' está dispuesto para desviar las partículas cargadas en la dirección x, y el otro par de electrodos 33B/33D, 33B'/33D' de cada conjunto deflector 29, 29' está dispuesto para desviar las partículas cargadas en la dirección y. Un par de electrodos dispuestos para desviar las partículas cargadas en la dirección x se denominará en lo sucesivo, algunas veces, como un deflector x, y un par de electrodos dispuestos para desviar las partículas cargadas en la dirección y se denominará en lo sucesivo, algunas veces, como el deflector y.
Tal como se ilustra en la figura 6, que muestra una vista más detallada de partes de la disposición de análisis, las tensiones deflectoras aplicadas a los electrodos 33A-33D, 33A'-33D' de los conjuntos deflectores 29, 29' están controlados por una unidad de control 35. La misma unidad de control 35 también puede estar configurada para controlar las tensiones de las lentes aplicadas a una pluralidad de electrodos concéntricos que constituyen las lentes L1-L3 del sistema de lentes 13.
El signo y la magnitud de la tensión deflectora, Vx, Vy, aplicadas entre cada par de electrodos 33A/33C, 33B/33D, 33A'/33C', 33B'/33D' de la disposición deflectora 31 pueden estar controladas independientemente por la unidad de control 35. Tal como se ilustra en las figuras 5A y 5B, la tensión deflectora del deflector x 33A/33C en el primer conjunto deflector 29 se indica como Vx1, y la tensión deflectora del deflector x 33A'/33C' en el segundo conjunto
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9437408B2 (en) 2012-03-06 2016-09-06 Scienta Omicron Ab Analyser arrangement for particle spectrometer
EP3032563A1 (en) 2014-12-10 2016-06-15 VG Scienta AB Analyser instrument
GB2534892B (en) * 2015-02-03 2020-09-09 Auckland Uniservices Ltd An ion mirror, an ion mirror assembly and an ion trap
JP6405271B2 (ja) * 2015-03-12 2018-10-17 日本電子株式会社 電子分光装置および測定方法
SE540581C2 (en) * 2015-05-08 2018-10-02 Hard X-Ray Photoelectron Spectroscopy Apparatus
JP6173552B1 (ja) * 2016-05-27 2017-08-02 エム・ベー・サイエンティフィック・アクチボラゲットＭｂ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ａｂ 電子分光器
US9997346B1 (en) 2017-06-30 2018-06-12 Mb Scientific Ab Electron spectrometer
DE102017130072B4 (de) 2017-12-15 2021-05-20 Leibniz-Institut Für Festkörper- Und Werkstoffforschung Dresden E.V. Impulsauflösendes Photoelektronenspektrometer und Verfahren zur impulsauflösenden Photoelektronenspektroskopie
US10361064B1 (en) 2018-02-28 2019-07-23 National Electrostatics Corp. Beam combiner
DE102019107327A1 (de) 2019-03-21 2020-09-24 Specs Surface Nano Analysis Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Elektronentransfer von einer Probe zu einem Energieanalysator und Elektronen-Spektrometervorrichtung
WO2020250307A1 (ja) * 2019-06-11 2020-12-17 三菱電機株式会社 試料ホルダー及びｘ線光電子分光装置
GB201910880D0 (en) * 2019-07-30 2019-09-11 Vg Systems Ltd A spectroscopy and imaging system
CN114303229A (zh) * 2019-08-30 2022-04-08 盛达欧米科有限公司 用于控制电子束的静电透镜
SE544658C2 (en) * 2021-02-18 2022-10-11 Scienta Omicron Ab An illumination control device for a charged particle analyser
SE545450C2 (en) * 2021-03-24 2023-09-12 Scienta Omicron Ab Charged particle spectrometer and method for calibration
SE545152C2 (en) * 2021-09-21 2023-04-18 Scienta Omicron Ab Charged particle spectrometer operable in an angular mode

Family Cites Families (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US619809A (en) 1899-02-21 John unser
US1773980A (en) 1927-01-07 1930-08-26 Television Lab Inc Television system
GB1303136A (es) * 1970-02-27 1973-01-17
DE2043749C3 (de) * 1970-08-31 1975-08-21 Max-Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V., 3400 Goettingen Raster-Korpuskularstrahlmikroskop
US3749926A (en) 1971-08-03 1973-07-31 Du Pont Charged particle energy analysis
JPS532755B2 (es) * 1973-08-22 1978-01-31
US4358680A (en) 1979-11-30 1982-11-09 Kratos Limited Charged particle spectrometers
GB2064213B (en) 1979-11-30 1983-10-05 Kratos Ltd Electron spectrometers
JPS56107463A (en) 1979-11-30 1981-08-26 Kratos Ltd Electron spectrometer
US4427885A (en) * 1981-11-27 1984-01-24 Shimadzu Seisakusho Ltd. Double focussing mass spectrometer
JPS58200144A (ja) * 1982-05-17 1983-11-21 Shimadzu Corp Ｘ線光電子分光装置
DE3478261D1 (en) 1984-02-18 1989-06-22 Leybold Ag Device for the examination of crystal surfaces according to the leed-technique
JP2580114B2 (ja) 1985-12-17 1997-02-12 株式会社日立製作所 偏向回路
JPH0723878B2 (ja) 1985-12-26 1995-03-15 株式会社島津製作所 Ｘ線光電子分光装置
GB8612099D0 (en) * 1986-05-19 1986-06-25 Vg Instr Group Spectrometer
JPH0797092B2 (ja) 1988-04-26 1995-10-18 株式会社島津製作所 Ｘ線光電子分析装置
GB2244369A (en) * 1990-05-22 1991-11-27 Kratos Analytical Ltd Charged particle energy analysers
US5097126A (en) * 1990-09-25 1992-03-17 Gatan, Inc. High resolution electron energy loss spectrometer
JPH0510897A (ja) * 1991-07-02 1993-01-19 Jeol Ltd Ｘ線光電子分光イメージング装置
GB9122161D0 (en) * 1991-10-18 1991-11-27 Kratos Analytical Ltd Charged particle energy analysers
US5506414A (en) * 1993-03-26 1996-04-09 Fisons Plc Charged-particle analyzer
JP2629594B2 (ja) 1994-03-30 1997-07-09 日本電気株式会社 Ｘ線光電子分光装置
US5650628A (en) * 1994-12-15 1997-07-22 International Business Machines Corporation Simultaneous deflections in charged-particle beams
DE19701192C2 (de) * 1997-01-15 2000-10-05 Staib Instr Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Betrieb eines Spektrometers mit Energie- und Winkelauflösung
US6064071A (en) 1997-04-23 2000-05-16 Nikon Corporation Charged-particle-beam optical systems
GB9718012D0 (en) * 1997-08-26 1997-10-29 Vg Systems Ltd A spectrometer and method of spectroscopy
US6198005B1 (en) * 1998-04-23 2001-03-06 Lehigh University Treating methanol containing waste gas streams
DE19820427A1 (de) * 1998-05-07 1999-11-11 Siemens Ag Röntgenstrahlersystem
JP2000164166A (ja) 1998-11-24 2000-06-16 Jeol Ltd 電子分光装置
JP3360115B2 (ja) 2000-03-17 2002-12-24 東京大学長 回折面アパチャー透過エネルギー制御方式の角度分解型電子分光器及びこの分光器を用いた分析方法
JP2002299207A (ja) * 2001-03-29 2002-10-11 Toshiba Corp 荷電粒子ビーム描画装置
JP2003207470A (ja) * 2002-01-16 2003-07-25 Jeol Ltd 電子分光装置
DE10235456B4 (de) * 2002-08-02 2008-07-10 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Elektronenmikroskopiesystem
GB0225791D0 (en) * 2002-11-05 2002-12-11 Kratos Analytical Ltd Charged particle spectrometer and detector therefor
US7411188B2 (en) * 2005-07-11 2008-08-12 Revera Incorporated Method and system for non-destructive distribution profiling of an element in a film
GB0620963D0 (en) * 2006-10-20 2006-11-29 Thermo Finnigan Llc Multi-channel detection
EP2051278B1 (en) * 2007-10-17 2011-09-07 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Energy filter for cold field emission electron beam apparatus
WO2011019457A1 (en) * 2009-08-11 2011-02-17 Regents Of The University Of California Time-of-flight electron energy analyzer
JP5948083B2 (ja) * 2012-02-28 2016-07-06 株式会社日立ハイテクノロジーズ 走査電子顕微鏡
US9437408B2 (en) 2012-03-06 2016-09-06 Scienta Omicron Ab Analyser arrangement for particle spectrometer
JP6013261B2 (ja) * 2013-04-11 2016-10-25 Nok株式会社 プレート一体ガスケットの製造方法
JP5815826B2 (ja) 2014-10-07 2015-11-17 ヴィゲー・シエンタ・アーベー 粒子分光計のための分析装置
JP6268111B2 (ja) * 2015-02-06 2018-01-24 信越化学工業株式会社 フッ素含有ケイ素化合物、その製造方法、及びフッ素含有ケイ素樹脂の製造方法
JP2016197124A (ja) 2016-07-25 2016-11-24 シエンタ・オミクロン・アーベー 粒子分光計のための分析装置

Also Published As

Publication number Publication date
SE1450816A3 (en) 2015-01-20
SE1450816A1 (sv) 2014-07-01
EP2823504A1 (en) 2015-01-14
US9978579B2 (en) 2018-05-22
CN104040681A (zh) 2014-09-10
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DE14185601T1 (de) 2015-05-21
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