ES2393511A1

ES2393511A1 - Placa de campo de cocción con un recubrimiento aplicado junto al lado inferior

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Publication number: ES2393511A1
Application number: ES201130484A
Authority: ES
Inventors: Rafael Alonso Esteban; Miguel Ángel Buñuel Magdalena; Enrique CARRETERO CHAMARRO; Francisco Javier Ester Sola; Francisco Javier Pelayo Zueco; Pilar Pérez Cabeza; Fernando Planas Layunta; Francisco Villuendas Yuste; Jesús Mario Subías Domingo
Original assignee: BSH Electrodomesticos Espana SA
Current assignee: BSH Electrodomesticos Espana SA
Priority date: 2011-03-30
Filing date: 2011-03-30
Publication date: 2012-12-21
Anticipated expiration: 2031-03-30
Also published as: EP2692200A1; US20140197152A1; ES2393511B1; EP2692200B1; WO2012131511A1

Abstract

La invención se refiere a una placa de campo de cocción (2), con una placa base (3), junto a cuyo lado inferior (9) está configurado un recubrimiento (10) con capas metálicas (12, 14) y capas dieléctricas (11, 13, 15), donde el recubrimiento (10) está configurado con, al menos, dos capas metálicas (12, 14) y, al menos, dos capas dieléctricas (11, 13, 15), de tal modo que un primer parámetro de color a* o un segundo parámetro de color b* de la placa de campo de cocción (2) presenta un valor superior a +10 o inferior a -10.

Description

Placa de campo de cocción con un recubrimiento aplicado junto al lado inferior.

La invención se refiere a una placa de campo de cocción, junto a cuyo lado inferior está conformado un recubrimiento con capas metálicas y capas dieléctricas.

Tales realizaciones de placas de campo de cocción son conocidas en las más diversas configuraciones. A partir de la US 37, 718, 929 B2 es conocida una realización de tal tipo. Sin embargo, el recubrimiento está ahí limitado a que el número de capas, comprendiendo una capa protectora antioxidante y una capa de pantalla lumínica, ascienda a entre 2 y 4. En tales realizaciones, la generación de efectos ópticos en lo que a la impresión óptica global de la placa de campo de cocción se refiere está restringida.

Es tarea de la presente invención crear una placa de campo de cocción, junto a cuyo lado inferior esté conformado un recubrimiento con una pluralidad de capas y, de este modo, que se haga posible una posibilidad más diversa de efectos ópticos en cuanto a la presentación cromática de la placa de campo de cocción.

Esta tarea se resuelve mediante una placa de campo de cocción que presente las características según la reivindicación 1.

Una placa de campo de cocción según la invención presenta una placa base, la cual presenta junto a su lado inferior un recubrimiento. El recubrimiento comprende capas metálicas y capas dieléctricas. El recubrimiento está configurado con, al menos, dos capas metálicas y, al menos, dos capas dieléctricas. Asimismo, el recubrimiento está configurado mediante este número y las capas específicas, de tal modo que un primer parámetro de color a* o un segundo parámetro de color b* junto a la placa de campo de cocción presente un valor superior a +10 o inferior a

10.

Los dos parámetros de color a* y b* forman junto con el tercer parámetro de color L* el sistema CIE conocido estandarizado. En este sistema de coordenadas ortogonales, tendido mediante los tres parámetros de color, el parámetro de color L* indica en valores la posición sobre el eje claro-oscuro. El parámetro de color a* indica en valores la posición sobre el eje rojo/verde. El otro parámetro de color b* indica en valores la posición sobre el eje azul/amarillo.

Mediante una realización de tal tipo del recubrimiento, en lo que al número y tipo de las capas se refiere, así como en relación con los valores resultantes de ello para dos parámetros de color específicos, se hace posible una variabilidad notablemente mayor en referencia a la generación de una impresión óptica global de la placa de campo de cocción.

De manera preferida, el recubrimiento está configurado de tal modo que un grado de transmisión de la placa de campo de cocción sea inferior al 12%, en especial, sea de entre el 0’5% y el 10%, en el rango de longitudes de onda entre 380 nm y 780 nm.

De manera preferida, el recubrimiento está configurado de tal modo que el tercer parámetro de color L* presenta un valor superior a 40, en especial, entre 40 y 70. De este modo, se puede ampliar considerablemente la variabilidad en relación con las apariencias ópticas más diversas de la placa de campo de cocción. Precisamente en relación con el mayor número de capas del recubrimiento, todavía se puede, por tanto, ampliar esta posibilidad mencionada.

De manera preferida, está previsto que el número de capas metálicas ascienda a 2 ó 3.

En especial, está previsto que el número de capas dieléctricas ascienda a entre 2 y 4.

Está previsto que el recubrimiento presente como cierre inferior una capa protectora, en especial, una capa protectora antioxidante.

La secuencia de capas está configurada, en especial, partiendo desde el lado inferior, visto hacia abajo, empezando en primer lugar con una capa dieléctrica, a continuación, con una capa metálica, a continuación, de nuevo con una capa dieléctrica y, a continuación, de nuevo con una capa metálica. Pueden seguir otras capas dieléctricas y metálicas. El cierre inferior del recubrimiento hacia abajo se forma entonces mediante la capa protectora.

De manera preferida, está previsto que las capas metálicas y las capas dieléctricas presenten cada una grosores de capa iguales o inferiores a 300 nm, preferiblemente inferiores a 100 nm.

En especial, está previsto que, al menos, dos capas metálicas del recubrimiento presenten diferentes grosores de capa y/o, al menos, dos capas dieléctricas del recubrimiento presenten diferentes grosores de capa. A través de ello, se puede hacer posible un abanico de diferentes configuraciones cromáticas excepcionalmente extenso, también de manera muy individual, así como con matices.

De manera preferida, las capas del recubrimiento están conformadas sobre el lado inferior mediante pulverización catódica, en especial, están conformadas mediante una pulverización catódica con magnetrón. De manera preferida, está previsto que el material de una capa metálica presente SSt (“Stainless Steel”, o acero inoxidable), Mo, Ni, Cr, Nd, V, Ti, Ta, Si, Al, Cu, W, o un compuesto de, al menos, dos de los elementos mencionados.

En cuanto al material de una capa dieléctrica, de manera preferida, está previsto que éste presente SnOX, ZnOX, TiOX, AlOX, SiOX, NbOX, TaOX, SiNX, AlNX, TiNX, CrNx, o un compuesto de, al menos, dos de los compuestos mencionados.

Ha de mencionarse que la placa de campo de cocción está configurada con su placa base de vidrio o vitrocerámica, junto a la cual está conformado entonces el recubrimiento.

En un ejemplo de realización preferido, está previsto que el recubrimiento presente una primera capa dieléctrica con SnOX, con un grosor de capa de 76 nm. El recubrimiento presenta una primera capa metálica, siguiente a esta primera capa dieléctrica, con SSt, con un grosor de capa de 18 nm. Sobre esta primera capa metálica se conforma entonces, de nuevo a continuación, una segunda capa dieléctrica con SnOX, con un grosor de capa de 68 nm. Sobre ésta, entonces se conforma a continuación una segunda capa metálica con SSt, con un grosor de capa de 26 nm. Sobre esta segunda capa metálica, está conformada una tercera capa dieléctrica con SnOX, con un grosor de capa de 50 nm. En este recubrimiento, en especial, el primer parámetro de color a* está provisto de un valor 4, el segundo parámetro de color b*, de un valor -35 y, el tercer parámetro de color L*, de un valor 46. Tal configuración de un recubrimiento transmite un efecto óptico dirigente a que la placa de campo de cocción resulte de apariencia azul metálico.

En otra realización, está previsto que el recubrimiento presente tres capas dieléctricas con SnOX, el cual, visto hacia abajo, partiendo del lado inferior de la placa base, presente grosores de capa de 100 nm, una vez más, 100 nm, y 50 nm. Cada vez, entre dos de tales capas dieléctricas, está conformada una capa metálica, la cual presenta SSt. La primera capa metálica presenta un grosor de capa de 15 nm y, la segunda capa metálica, un grosor de capa de 35 nm. En esta realización, los parámetros de color son de tal modo que el primer parámetro de color a* presenta el valor -31, el segundo parámetro de color b*, el valor 0 y, el tercer parámetro de color L*, el valor 67. En una realización de tal tipo de un recubrimiento, se genera un efecto óptico en el sentido de que la placa de campo de cocción aparezca en verde metálico.

En otro ejemplo de realización, está previsto que el recubrimiento presente de nuevo tres capas dieléctricas con SnOX, donde la primera capa dieléctrica presente un grosor de capa de 17 nm, la segunda capa dieléctrica, un grosor de capa de 66 nm y, la tercera capa dieléctrica, un grosor de capa de 50 nm. También aquí, entre las capas dieléctricas está conformada cada vez, al menos, una capa metálica, donde la primera capa metálica presenta Cu, y presenta un grosor de capa de 33 nm. La segunda capa metálica presenta SSt, y tiene un grosor de capa de 25 nm. Asimismo, los parámetros de color son de tal modo que el primer parámetro de color a* presenta el valor -35, el segundo parámetro de color b*, el valor 5 y, el tercer parámetro de color L*, el valor 60. En una realización de tal tipo del recubrimiento, se genera un efecto óptico en el sentido de que la placa de campo de cocción aparezca en rojo metálico.

En otro ejemplo de realización, el recubrimiento comprende de nuevo tres capas dieléctricas con SnOX. La primera capa dieléctrica presenta un grosor de capa de 29 nm, la segunda capa dieléctrica, un grosor de capa de 41 nm y, la tercera capa dieléctrica, un grosor de capa de 50 nm. También aquí, entre las capas dieléctricas está conformada cada vez, al menos, una capa metálica, donde la primera capa metálica presenta SiAl, y comprende un grosor de capa de 45 nm. La segunda capa metálica comprende SSt, y tiene un grosor de capa de 22 nm. En esta realización, los parámetros de color son de tal modo que el primer parámetro de color a* presenta el valor 9, el segundo parámetro de color b*, el valor -40 y, el tercer parámetro de color L*, el valor 64. Una realización de tal tipo hace posible un efecto óptico que haga a la placa de campo de cocción aparecer en amarillo metálico.

En todas las realizaciones, está previsto que, como capa inferior de cierre, esté conformada una capa protectora antioxidante, la cual esté igualmente asociada al recubrimiento.

Asimismo, puede estar previsto que, de manera adicional, la placa base de la placa de campo de cocción esté impresa. En ello, pueden estar conformadas impresiones junto al lado frontal delantero, o junto a la superficie de laplaca base. Asimismo, también pueden estar conformadas incluso marcaciones en la placa base. Éstas pueden estar producidas, a modo de ejemplo, mediante luz láser. Mediante tales impresiones, se pueden señalar áreas de interfaz, o bien, paneles de mando. Asimismo, también se pueden señalar zonas de cocción de manera correspondiente en sus delimitaciones perimetrales. Las impresiones pueden realizarse, a modo de ejemplo, mediante un procedimiento de serigrafía, o mediante marcación por láser. Mediante láser, se pueden conformar marcaciones correspondientes en el interior de la placa base, también en diferentes alturas. Otras posibilidades para ello vienen señaladas en la DE 10 2006 017 250 A1.

Una capa protectora del recubrimiento, configurada hacia abajo, también puede ser producida mediante un revestimiento protector, el cual esté realizado, por ejemplo, mediante una pintura, material polimérico, o un material cerámico. También aquí, la aplicación puede realizarse mediante una impresión o una pulverización. Tales impresiones son conformadas, preferiblemente, con un grosor de varios cientos de µm.

Especialmente a través de la aplicación de las capas del recubrimiento mediante técnicas de PVD (deposición física de vapor), se hace posible que los grosores de capa de las capas particulares puedan producirse de manera muy exacta y que, a través de ello, mediante el recubrimiento también se pueda reconocer el efecto óptico visual en relación con la representación de elementos visualizadores, medios luminosos, como, a modo de ejemplo, diodos luminosos, e imágenes. Sin embargo, por otra parte, se puede conseguir que mecánica y otros componentes concretos situados debajo no puedan ser reconocidos en caso de observación desde arriba sobre la placa de campo de cocción, si esta placa de campo de cocción está dispuesta en un campo de cocción.

Mediante una realización de tal tipo de un recubrimiento de la placa de campo de cocción con, en su caso, impresión adicional, se puede conseguir que también un área superficial, a través de la cual el dispositivo de mando esté señalado sobre la placa de campo de cocción, esté representada con una apariencia óptica uniforme.

De manera preferida, el grosor total de capa del recubrimiento debajo del lado inferior es de entre 10 nm y 500 nm.

A través de la configuración propuesta de un recubrimiento debajo de la placa de campo de cocción, se puede producir un rango muy extenso de impresiones cromáticas metálicas de una placa de campo de cocción, en lo que las coloraciones más diversas de la modificación del número de las capas, de los materiales, y de los grosores de capa pueden ser configurados con los parámetros de color respectivos.

Otras características de la invención se extraen de las reivindicaciones, las figuras y la descripción de las figuras. Las características y combinaciones de características mencionadas anteriormente en la descripción, así como las características y combinaciones de características mencionadas a continuación en la descripción de las figuras y/o mostradas solas en las figuras son utilizables no sólo en la combinación indicada en cada caso, sino también en otras combinaciones o de manera individual, sin abandonar el ámbito de la invención.

A continuación, se explican con mayor detalle ejemplos de realización de la invención por medio de dibujos esquemáticos. Muestran:

Fig. 1 una realización esquemática en perspectiva de un ejemplo de realización de un campo de cocción según la invención;

Fig. 2 una representación de sección a través de la placa de campo de cocción del campo de cocción según la figura 1;

Fig. 3 una gráfica en la que el grado de transmisión y el grado de reflexión están representados

en dependencia de la longitud de onda, para un primer ejemplo de realización de una placa de

campo de cocción según la invención;

Fig. 4 una gráfica en la que el grado de transmisión y el grado de reflexión están representados

en dependencia de la longitud de onda de un segundo ejemplo de realización de una placa de

campo de cocción según la invención;

Fig. 5 una gráfica en la que el grado de transmisión y el grado de reflexión están representados

en dependencia de la longitud de onda, para un tercer ejemplo de realización de una placa de

campo de cocción según la invención; y

Fig. 6 una gráfica en la que el grado de transmisión y el grado de reflexión están representados

en dependencia de la longitud de onda, para un cuarto ejemplo de realización de una placa de

campo de cocción según la invención.

En las figuras, los elementos iguales o de igual función son provistos de los mismos símbolos de referencia.

En la figura 1, se muestra en una vista esquemática y en perspectiva un campo de cocción 1, el cual presenta una placa de campo de cocción 2, que presenta una placa base 3 que está realizada de vidrio o vitrocerámica. Sobre un lado superior 4 de la placa base 3, están señaladas cuatro zonas de cocción 5, 6, 7 y 8 a modo de ejemplo en número y posición. Sobre un lado inferior 9 de la placa base 3, está conformado un recubrimiento 10, no mostrado más detalladamente en la figura 1, el cual presenta, al menos, dos capas metálicas y, al menos, dos capas dieléctricas, así como una capa protectora antioxidante.

En la figura 2, se muestra una representación de sección a través de la placa de campo de cocción 2 según la representación de la figura 1. En ella, la proporción entre los grosores no es a escala y, en especial, la placa base 3 es notablemente más gruesa que el grosor total de capa del recubrimiento 10. En la realización mostrada, está previsto que el recubrimiento 10 presente una primera capa dieléctrica 11 directamente a continuación del lado inferior 9. Sobre aquella, a continuación hacia abajo, está conformada una primera capa metálica 12. Sobre ésta, de nuevo a continuación hacia abajo, está conformada una segunda capa dieléctrica 13. De nuevo a continuación, sobre ésta está conformada una segunda capa metálica 14. Hacia abajo, luego está conformada una tercera capa dieléctrica 15. Este compuesto de capas es cerrado hacia abajo a través de una capa protectora, la cual es una capa protectora antioxidante 16.

También puede estar previsto que, además, estén previstas otras capas metálicas y otras capas dieléctricas.

En un primer ejemplo de realización, está previsto que la primera capa dieléctrica 11 presente un grosor de capa de 76 nm, y que presente un material SnOX. En este ejemplo de realización, está previsto que, luego, la primera capa metálica 12 presente un grosor de capa de 18 nm, y el material sea SSt. La segunda capa dieléctrica 13 está configurada con un grosor de capa de 78 nm y, como material, presenta SnOX.

La segunda capa metálica 14 está configurada con un grosor de capa de 26 nm, y presenta el material SSt. A continuación de ésta, está conformada entonces la capa dieléctrica 15 con un grosor de capa de 50 nm, donde el material es, de nuevo, SnOX. En cuanto al factor x, está previsto, en especial, el número 2, lo cual también es aplicable para los otros ejemplos de realización ya mencionados arriba.

El primer parámetro de color a* presenta un valor 4, el segundo parámetro de color b*, un valor -35 y, el tercer parámetro de color L*, un valor 46. Tal y como se observa a partir de la gráfica según la figura 3 relativa a este ejemplo de realización, el grado de transmisión de la placa de campo de cocción 2 es inferior al 10% en el rango de longitudes de onda entre 380 nm y 780 nm. Por el contrario, en el rango de longitudes de onda entre 380 nm y, aproximadamente, 430 nm, el grado de reflexión es ascendente de, aproximadamente el 15% a apenas por debajo del 40%, para, después, descender de nuevo de manera continua y, a partir de una longitud de onda de, aproximadamente, 580 nm, ser inferior al 10%.

En ello, el grado de reflexión R está caracterizado por la curva K2 y, el grado de transmisión T, por la curva K1.

En otro ejemplo de realización, está previsto que las capas dieléctricas 11, 13 y 15 sean del material SnOX. El grosor de capa de la primera capa dieléctrica 11 asciende a 100 nm. El grosor de capa de la segunda capa dieléctrica 13 asciende igualmente a 100 nm. El grosor de capa de la tercera capa dieléctrica 15 asciende a 50 nm. En este ejemplo de realización, las dos capas metálicas 12 y 14 son del material SSt, donde la primera capa metálica 12 presenta un grosor de capa de 14 nm y, la segunda capa metálica 14, un grosor de capa de 35 nm. En relación con los parámetros de color, en esta realización está previsto que el primer parámetro de color a* presente el valor -31, el segundo parámetro de color b*, el valor 0 y, el tercer parámetro de color L*, el valor 67. En relación con esta realización, está representada la gráfica según la figura 4. También aquí, el grado de transmisión T según la curva K1 es inferior al 10%, en especial, inferior al 7%, a través de todo el rango de longitudes de onda entre 380 nm y 780 nm. También aquí, el grado de reflexión R según la curva K2 asciende de nuevo, desde la longitud de onda 380 nm hasta, aproximadamente, 500 nm, de, aproximadamente, el 7%, a apenas por debajo del 50%, para también descender entonces de nuevo de manera continua. Especialmente a partir de una longitud de onda de, aproximadamente, 660 nm, el grado de transmisión T es inferior al 10%.

En un siguiente tercer ejemplo de realización, está previsto que las capas dieléctricas 11, 13, y 15 sean, de nuevo, del material SnOX. La primera capa dieléctrica 11 presenta un grosor de capa de 17 nm, la segunda capa dialéctica 13, un grosor de capa de 66 nm y, la tercera capa dieléctrica 15, un grosor de capa de 50 nm.

Las dos capas metálicas 12 y 14 conformadas en medio están realizadas de manera que la primera capa metálica 12 sea de Cu y, la segunda capa metálica 14, de SSt. La primera capa metálica 12 presenta un grosor de capa de 33 nm, mientras que la segunda capa metálica 14 presenta un grosor de capa de 25 nm. En esta realización, el primer parámetro de color a* presenta un valor de -35, el segundo parámetro de color b*, el valor 5 y, el tercer parámetro de color L*, el valor 60.

En relación con esta realización, se muestra la gráfica según la figura 5, donde, también aquí, de nuevo el grado de transmisión T según la curva K1 asciende a menos del 10%, en especial, a menos del 8%, a través de todo el rango de longitudes de onda. En cuanto al grado de reflexión R, la curva K2 muestra un ascenso desde la longitud de onda 380 nm hasta, aproximadamente, 410 nm, para, después, descender de nuevo y, partir de una longitud de onda de, aproximadamente 560 nm, volver a ascender.

En otro ejemplo de realización concreto, está previsto que las tres capas dieléctricas 11, 13 y 15 sean de nuevo, del material SnOX. Los grosores de capa ascienden en este caso, para la primera capa dieléctrica 11, a 29 nm, para la segunda capa dieléctrica 13, a 41 nm y, para la tercera capa dieléctrica 15, a 50 nm. Las dos capas metálicas 12 y 14 están concebidas de tal modo que la primera capa metálica 12 está realizada de SiAl, y presenta un grosor de capa de 45 nm. La segunda capa metálica 14 está realizada de SSt, y presenta un grosor de capa de 22 nm. En esta realización, el primer parámetro de color a* presenta el valor 9, el segundo parámetro de color b*, el valor -40 y, el tercer parámetro de color L*, el valor 64. En la figura 6, se muestra la gráfica correspondiente, donde, también aquí, el grado de transmisión T está representado mediante la curva K1 y, el grado de reflexión R, mediante la curva K2, en la evolución a través de la longitud de onda. También aquí, el grado de transmisión T es inferior al 10% por todo el rango de longitudes de onda entre 380 nm y 780 nm.

Lista de símbolos de referencia

1: Campo de cocción

2: Placa de campo de cocción

3: Placa base

4: Lado superior

5, 6, 7, 8: Zonas de cocción

9: Lado inferior

10: Recubrimiento

11: Primera capa dieléctrica

12: Primera capa metálica

13: Segunda capa dieléctrica

14: Segunda capa metálica

15: Tercera capa dieléctrica

16: Capa protectora antioxidante

K1, K2: Curvas

T: Grado de transmisión

R: Grado de reflexión

Claims

REIVINDICACIONES

1.

Placa de campo de cocción (2), con una placa base (3), junto a cuyo lado inferior (9) está configurado un recubrimiento (10) con capas metálicas (12, 14) y capas dieléctricas (11, 13, 15), caracterizada porque el recubrimiento (10) está configurado con, al menos, dos capas metálicas (12, 14) y, al menos, dos capas dieléctricas (11, 13, 15), de tal modo que un primer parámetro de color a* o un segundo parámetro de color b* de la placa de campo de cocción (2) presenta un valor superior a +10 o inferior a -10.
2.

Placa de campo de cocción (2) según la reivindicación 1, caracterizada porque el recubrimiento (10) está configurado de tal modo que un grado de transmisión (T) de la placa de campo de cocción (2) es inferior al 12%, en especial, es de entre el 0’5% y el 10%, en el rango de longitudes de onda entre 380 nm y 780 nm.
3.

Placa de campo de cocción (2) según la reivindicación 1 ó 2, caracterizada porque el recubrimiento (10) está configurado de tal modo que un tercer parámetro de color L* presenta un valor superior a 40, en especial, entre 40 y 70.
4.

Placa de campo de cocción (2) según una de las reivindicaciones enunciadas anteriormente, caracterizada porque el número de capas metálicas (12, 14) asciende a 2 ó 3.
5.

Placa de campo de cocción (2) según una de las reivindicaciones enunciadas anteriormente, caracterizada porque el número de capas dieléctricas (11, 13, 15) asciende a entre 2 y 4.
6.

Placa de campo de cocción (2) según una de las reivindicaciones enunciadas anteriormente, caracterizada porque el recubrimiento (10) está configurado como cierre inferior con una capa protectora, en especial, una capa protectora antioxidante (16).
7.

Placa de campo de cocción (2) según una de las reivindicaciones enunciadas anteriormente, caracterizada porque las capas metálicas (12, 14) y las capas dieléctricas (11, 13, 15) presentan cada una grosores de capa inferiores o iguales a 300 nm, preferiblemente inferiores a 100 nm.
8.

Placa de campo de cocción (2) según la reivindicación 7, caracterizada porque, al menos, dos capas metálicas (12, 14) del recubrimiento (10) presentan diferentes grosores de capa y/o, al menos, dos capas dieléctricas (11, 13, 15) del recubrimiento (10) presentan diferentes grosores de capa.
9.

Placa de campo de cocción (2) según una de las reivindicaciones enunciadas anteriormente, caracterizada porque las capas del recubrimiento (10) están conformadas sobre el lado inferior (9) mediante pulverización catódica, en especial, están conformadas mediante una pulverización catódica con magnetrón.
10.

Placa de campo de cocción (2) según una de las reivindicaciones enunciadas anteriormente, caracterizada porque el material de una capa metálica (12, 14) presenta SSt, Mo, Ni, Cr, Nb, V, Ti, Ta, Si, Al, Cu, o un compuesto de, al menos, dos de los elementos mencionados.
11.

Placa de campo de cocción (2) según una de las reivindicaciones enunciadas anteriormente, caracterizada porque el material de una capa dieléctrica (11, 13, 15) presenta SnOX, ZnOX, TiOX, AlOX, SiOX, NbOX, TaOX, SiNX, AlNX, TiNX, CrNx, o un compuesto de, al menos, dos de los compuestos mencionados.
12.

Placa de campo de cocción (2) según una de las reivindicaciones enunciadas anteriormente, caracterizada porque el recubrimiento (10) presenta una primera capa dieléctrica (11) con SnOX, con un grosor de capa de 76 nm, sobre la cual está conformada a continuación, al menos, una primera capa metálica (12) con SSt, con un grosor de capa de 18 nm, sobre la cual está conformada a continuación una segunda capa dieléctrica (13) con SnOX, con un grosor de capa de 78 nm, sobre la cual está conformada a continuación, al menos, una segunda capa metálica (14) con SSt, con un grosor de capa de 26 nm, sobre la cual está conformada una tercera capa dieléctrica (15) con SnOX, con un grosor de capa de 50 nm, donde el primer parámetro de color a* presenta el valor 4, el segundo parámetro de color b*, el valor -35 y, el tercer parámetro de color L*, el valor 46.
13.

Placa de campo de cocción (2) según una de las reivindicaciones 1 a 11 enunciadas anteriormente, caracterizada porque el recubrimiento (10) presenta una primera capa dieléctrica (11) con SnOX, con un grosor de capa de 100 nm, sobre la cual está conformada a continuación, al menos, una primera capa metálica (12) con SSt, con un grosor de capa de 14 nm, sobre la cual está conformada a continuación una segunda capa dieléctrica (13) con SnOX, con un grosor de capa de 100 nm, sobre la cual está conformada a continuación, al menos, una segunda capa metálica (14) con SSt, con un grosor de capa de 35 nm, sobre la cual está conformada una tercera capa dieléctrica (15) con SnOX, con un grosor de capa de 50 nm, donde el primer parámetro de color a* presenta el valor -31, el segundo parámetro de color b*, el valor 0 y, el tercer parámetro de color L*, el valor 67.
14.

Placa de campo de cocción (2) según una de las reivindicaciones 1 a 11 enunciadas anteriormente, caracterizada porque el recubrimiento (10) presenta una primera capa dieléctrica (11) con SnOX, con un grosor de capa de 17 nm, sobre la cual está conformada a continuación, al menos, una primera capa metálica (12) con Cu, con un grosor de capa de 33 nm, sobre la cual está conformada a continuación una

5 segunda capa dieléctrica (13) con SnOX, con un grosor de capa de 66 nm, sobre la cual está conformada a continuación, al menos, una segunda capa metálica (14) con SSt, con un grosor de capa de 25 nm, sobre la cual está conformada una tercera capa dieléctrica (15) con SnOX, con un grosor de capa de 50 nm, donde el primer parámetro de color a* presenta el valor -35, el segundo parámetro de color b*, el valor 5 y, el tercer parámetro de color L*, el valor 60.

10 15. Placa de campo de cocción (2) según una de las reivindicaciones 1 a 11 enunciadas anteriormente, caracterizada porque el recubrimiento (10) presenta una primera capa dieléctrica (11) con SnOX, con un grosor de capa de 29 nm, sobre la cual está conformada a continuación, al menos, una primera capa metálica (12) con SiAl, con un grosor de capa de 45 nm, sobre la cual está conformada a continuación una segunda capa dieléctrica (13) con SnOX, con un grosor de capa de 41 nm, sobre la cual está conformada a

15 continuación, al menos, una segunda capa metálica (14) con SSt, con un grosor de capa de 22 nm, sobre la cual está conformada una tercera capa dieléctrica (15) con SnOX, con un grosor de capa de 50 nm, donde el primer parámetro de color a* presenta el valor 9, el segundo parámetro de color b*, el valor -40 y, el tercer parámetro de color L*, el valor 64.

OFICINA ESPAÑOLA DE PATENTES Y MARCAS

N.º solicitud: 201130484

ESPAÑA

Fecha de presentación de la solicitud: 30.03.2011

Fecha de prioridad:

INFORME SOBRE EL ESTADO DE LA TECNICA

51 Int. Cl. : H05B3/74 (2006.01) C03C17/36 (2006.01)

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EP 1505354 A1 (NIPPON ELECTRIC GLASS CO) 09.02.2005, párrafos [0018],[0020],[0028],[0031],[0032],[0045]; ejemplo 28; figura 4. 1-15

A

US 2003087106 A1 (DE WITZMANN MONICA COTLEAR et al.) 08.05.2003, todo el documento. 1-15

A

US 2005252503 A1 (SIEBERS FRIEDRICH et al.) 17.11.2005, párrafo [0057]; reivindicación 1; ejemplos 9-11. 1-15

Categoría de los documentos citados X: de particular relevancia Y: de particular relevancia combinado con otro/s de la misma categoría A: refleja el estado de la técnica O: referido a divulgación no escrita P: publicado entre la fecha de prioridad y la de presentación de la solicitud E: documento anterior, pero publicado después de la fecha de presentación de la solicitud

El presente informe ha sido realizado • para todas las reivindicaciones • para las reivindicaciones nº:

Fecha de realización del informe 27.11.2012

Examinador R. E. Reyes Lizcano Página 1/4

INFORME DEL ESTADO DE LA TÉCNICA

Nº de solicitud: 201130484

Documentación mínima buscada (sistema de clasificación seguido de los símbolos de clasificación) H05B, C03C Bases de datos electrónicas consultadas durante la búsqueda (nombre de la base de datos y, si es posible, términos de

búsqueda utilizados) INVENES, EPODOC, WPI

Informe del Estado de la Técnica Página 2/4

OPINIÓN ESCRITA

Nº de solicitud: 201130484

Fecha de Realización de la Opinión Escrita: 27.11.2012

Declaración

Novedad (Art. 6.1 LP 11/1986)

Reivindicaciones Reivindicaciones 1-15 SI NO

Actividad inventiva (Art. 8.1 LP11/1986)

Reivindicaciones Reivindicaciones 1-15 SI NO

Se considera que la solicitud cumple con el requisito de aplicación industrial. Este requisito fue evaluado durante la fase de examen formal y técnico de la solicitud (Artículo 31.2 Ley 11/1986).

Base de la Opinión.-

La presente opinión se ha realizado sobre la base de la solicitud de patente tal y como se publica.

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OPINIÓN ESCRITA

Nº de solicitud: 201130484

1. Documentos considerados.-

A continuación se relacionan los documentos pertenecientes al estado de la técnica tomados en consideración para la realización de esta opinión.

Documento

Número Publicación o Identificación Fecha Publicación

D01

EP 1505354 A1 (NIPPON ELECTRIC GLASS CO) 09.02.2005
2. Declaración motivada según los artículos 29.6 y 29.7 del Reglamento de ejecución de la Ley 11/1986, de 20 de marzo, de Patentes sobre la novedad y la actividad inventiva; citas y explicaciones en apoyo de esta declaración

En relación a la reivindicación independiente 1, que hace referencia a la placa de campo de cocción, el documento D01 (párrafos [0018], [0020], [0028], [0031], [0032] y [0045]; ejemplo 28; figura 4) divulga una placa de campo de cocción (10), con una placa base (11), junto a cuyo lado inferior (11b) está configurado un recubrimiento (12) con capas metálicas (12a) y capas dieléctricas (12b) donde el recubrimiento (12) está configurado con dos capas metálicas (12a) y dos capas dieléctricas (12b).

La diferencia entre la reivindicación 1 y el documento D01 es que D01 no divulga que el recubrimiento esté configurado de tal modo que un primer parámetro de color a* o un segundo parámetro de color b* de la placa de campo de cocción presente un valor superior a +10 o inferior a -10.

Sin embargo, se considera que los valores de los parámetros de color a* o b* de la placa de campo de cocción definida en la reivindicación 1 serían comúnmente conocidos por un experto en la materia (ver documentos D02 y D03).

Por tanto, la reivindicación independiente 1 no implica actividad inventiva según el art. 8.1 LP.

En relación a las reivindicaciones 2 a 11, dependientes de la reivindicación 1, tampoco implican actividad inventiva según el art. 8.1 LP ya que el documento D01 (párrafos [0018], [0020], [0028], [0031], [0032] y [0045]; ejemplo 28; figura 4) divulga que: -El grado de transmisión de la placa de campo de cocción es inferior al 10%, en el rango de longitudes de onda entre 400 nm y 800 nm. -El número de capas metálicas es 1 o más. -El número de capas dieléctricas es 1 o más. -El recubrimiento está configurado como cierre inferior con una capa protectora antioxidante. -El grosor de las capas metálicas es de entre 15 y 700 nm. -El grosor de las capas dieléctricas es de entre 20 y 700 nm. -Las capas del recubrimiento están conformadas sobre el lado inferior de la placa base mediante pulverización catódica. -El material de una capa metálica presenta Mo, Cr, Nb, Ti, Si o Al. -El material de una capa dieléctrica presenta TiOx, AlOx, SiOx, TiNx, AlNx o SiNx. Se considera que los valores del parámetro de color L* de la placa de campo de cocción definida en la reivindicación 3 serían comúnmente conocidos por un experto en la materia (ver documentos D02 y D03).

En relación a las reivindicaciones 12 a 15, dependientes de la reivindicación 1, se considera que las características técnicas definidas en ellas constituirían una opción normal de diseño para un experto en la materia. Por tanto, las reivindicaciones 12 a 15 no implican actividad inventiva según el art. 8.1 LP.

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