ES2248425T3 - Dispositivo para el tratamiento de material en particulas. - Google Patents

Abstract

Dispositivo para el tratamiento de material en partículas, con un recipiente (12, 92), en el cual va dispuesta una cámara de proceso (20, 98), en que el material a tratar es atravesado y fluidizado por el aire de procesamiento, con un sistema de filtrado (14) dispuesto en el costado de salida de corriente de la cámara de proceso (20, 98), que presenta por lo menos un elemento filtrante (22, 24, 94, 96) para separar las partículas de material arrastradas por el aire de procesamiento y una doble disposición de válvulas (60, 62; 64, 66; 100, 102; 104, 106) para enjuagar el elemento filtrante (22, 24, 94, 96) con un medio de lavado, de modo que cada válvula (60, 62, 64, 66, 100, 102, 104) dispone de un motor de válvula (68, 108, 109), y que en un modo de filtrado una primera válvula (60, 104, 106) se cierra y bloquea un paso a contracorriente del medio de lavado, mientras la segunda válvula (64, 100, 102) es abierta para permitir el paso de aire de procesamiento, y en un modo de lavado se invierte la posición de las válvulas (62, 66, 100, 102, 104), de modo que los motores de válvula (68, 108, 109) se encuentran fuera de los recorridos gaseosos (34, 36, 46) que conduce el gas de procesamiento y de los recorridos gaseosos (52) que conducen el medio de lavado, caracterizado por el hecho de que por lo menos existe un cuerpo de válvula (82, 112) en una válvula (60, 62, 64, 66, 100, 102), cuya posición puede ajustarse mediante un vástago de válvula (80, 110) que no está unido con el cuerpo de válvula (82, 112).

Description

Dispositivo para el tratamiento de material en partículas.

El invento hace referencia a un dispositivo para el tratamiento de material en partículas, con un recipiente, en el cual va dispuesta una cámara de proceso, en que el material a tratar es atravesado y fluidizado por el aire de procesamiento, con un sistema de filtrado dispuesto en el costado de salida de corriente de la cámara de proceso, que presenta por lo menos un elemento filtrante para separar las partículas de material arrastradas por el aire de procesamiento y una doble disposición de válvulas para limpiar el elemento filtrante con un medio de lavado, de modo que cada válvula dispone de un motor de válvula, y en que una primera válvula conectada en un modo de filtrado, bloquea y cierra un paso a contracorriente del medio de lavado, mientras una segunda válvula es abierta para permitir el paso de aire de procesamiento, y en un modo de lavado se invierte la posición de las válvulas, de manera que los motores de válvula se encuentran fuera del recorrido gaseoso que conduce el gas de procesamiento y del recorrido gaseoso que conduce el medio de lavado.

Se conoce un dispositivo de este tipo, por ejemplo, a través de la patente EP-0.080.754 A1.

También se conoce un dispositivo similar a través de la patente DE-4.030.086 C1.

Estos dispositivos encuentran aplicación, por ejemplo, en la industria farmacéutica, para granular polvo con un líquido aglomerante o para recubrir polvo y granulado con una capa de barniz. En general, los dispositivos de este tipo conocidos tiene una cámara de proceso en la cual puede hacerse circular durante largo tiempo un material aportado, por ejemplo formando un lecho de turbulencia o fluencia. Para ello se sopla en la cámara de proceso un gas de procesamiento que fluidiza el material aportado. El gas de procesamiento se hace salir a través de una disposición de filtros situados corriente abajo, en la cual son retenidas las partículas de material arrastradas. El gas de procesamiento abandona el dispositivo a través de una salida de gases y posteriormente vuelve a introducirse en la cámara de proceso una vez purificado y preparado de nuevo.

Normalmente, las conocidas disposiciones de filtros presentan varios cartuchos filtrantes tubulares, que penetran en la zona superior de la cámara de proceso y filtran mecánicamente el gas de procesamiento que los atraviesa. Cada cartucho filtrante tubular consta de un cesto de filtro y un saco de filtro colocado encima. Dado que las partículas de material que son arrastradas por el gas del procesamiento ocupan los costados externos de los sacos de filtro, al cabo de un tiempo relativamente corto, durante el funcionamiento del dispositivo, los cartuchos filtrantes se liberan consecutiva y reiteradamente del polvo pegado en ellos. En este proceso, también denominado barrido, se invierte brevemente el sentido de paso de la corriente a través del cartucho filtrante a limpiar, con lo cual se interrumpe el paso del gas de procesamiento por los cartuchos filtrantes y en su lugar se introduce gas de procesamiento purificado y preparado en sentido contrario a la cámara de proceso, a través del cartucho filtrante. Mediante este brusco cambio de sentido se hincha brevemente el saco de filtro del cartucho filtrante, con lo cual caen las partículas de material pegadas en su costado exterior.

El antes mencionado dispositivo según la patente DE-4.030.086 C1 tiene un recipiente en que se encuentra una cámara distribuidora de gas debajo de una tapa del recipiente. De la cámara distribuidora de gas, que está provista de una entrada de gas para alimentar el gas de procesamiento, parte un tubo central que se extiende hacia abajo a lo largo del eje longitudinal del recipiente. Durante el funcionamiento, a través de este tubo central se introduce desde abajo gas de procesamiento en una cámara de proceso. Debajo de la cámara distribuidora de gas se encuentra una cámara de acumulación de gas que se extiende en forma de anillo alrededor del tubo central y queda separada por un suelo intermedio, estando dicha cámara unida a una salida de gas. En la parte inferior de la cámara de acumulación de gas hay varios cartuchos filtrantes tubulares fijados de manera desmontable, en cada uno de los cuales existe un sistema de doble válvula para invertir el sentido de paso de la corriente gaseosa que atraviesa el respectivo cartucho filtrante.

Cada sistema de doble válvula presenta una primera válvula que va colocada, entre la cámara distribuidora de gas y la cámara de acumulación de gas, en el fondo intermedio. A partir del asiento de válvula de esta primera válvula se extiende hacia abajo un casquillo que puede ajustarse longitudinalmente con ayuda de un fuelle, el extremo libre de cuyo casquillo presenta un cuerpo de válvula de forma anular, de manera que el correspondiente motor de la válvula está montado sólidamente dentro del casquillo. El cuerpo de válvula de forma anular puede montarse sobre un segundo asiento de válvula, que une la cámara de acumulación de gas, corriente abajo, con los cartuchos filtrantes tubulares. Si este segundo asiento de válvula está abierto y la primera válvula cerrada, entonces el gas de procesamiento puede llegar a la cámara de acumulación de gas pasando a través de los cartuchos filtrantes tubulares y luego salir por la salida de gas. Por contra, si el cuerpo de válvula de forma anular está colocado sobre el segundo asiento de válvula y al mismo tiempo se abre la válvula superior, entonces el gas de procesamiento de la cámara de acumulación de gas puede pasar a través del casquillo y llegar a los cartuchos filtrantes tubulares para producir el deseado hinchado del saco del filtro.

En todo caso, el inconveniente de este conocido dispositivo es que la limpieza de la cámara distribuidora de gas y de la cámara de acumulación de gas, así como el sistema de doble válvula, resulta relativamente difícil. Por consiguiente es necesario proceder a una limpieza, puesto que en esta clase de dispositivos se elaboran diferentes materiales, entre ellos también algunos con componentes químicos muy activos o incluso venenosos, en procesos consecutivos e independientes entre sí. Así pues, entre dos procesos hay que limpiar cuidadosamente todas las partes del dispositivo que entran en contacto con los materiales, para que los productos del proceso no queden contaminados con los restos procedentes del proceso anterior que hayan quedado en el dispositivo.

En el dispositivo antes descrito, los cartuchos filtrantes tubulares a limpiar pueden descolgarse y además existe un segundo fondo intermedio, en el que hay formados los segundos asientos de válvula, que puede desplazarse hacia abajo, de manera que los casquillos son accesibles inferiormente junto con las válvulas montadas en los mismos. No obstante, la limpieza de dichos componentes requiere tiempo dado que la cámara de acumulación de gas es muy frágil debido a los casquillos colgantes con los fuelles allí formados. Ciertamente, la cámara de acumulación de gas también es accesible desde arriba una vez retirada la tapa del recipiente, que para ello puede estar conformada como tapa roscada; sin embargo, también en tal caso para realizar una limpieza se requiere mucho tiempo, puesto que la cámara de acumulación de gas es muy frágil debido a las primeras válvulas que cuelgan de la misma.

De la antes citada patente EP-0.080.754 A1 se conoce ahora un dispositivo en que los motores de las válvulas están colocados fuera de los recorridos de gas que conducen el gas de procesamiento y de los recorridos de gas que conducen los medios de lavado. Esto simplifica algo el proceso de limpieza, puesto que así los motores de las válvulas ya no entran en contacto con el material a tratar.

Sin embargo, en esta forma de realización, los cuerpos de válvula todavía están unidos al motor a través de un vástago de válvula. Por consiguiente, también en esta disposición existen todavía ángulos y rincones que dificultan la limpieza.

Por tanto, es objeto del presente invento desarrollar un dispositivo de la clase inicialmente mencionada, que permita limpiar fácilmente el dispositivo y de modo especial sus filtros y sistema de dobles válvulas.

De acuerdo con el invento dicho objeto se consigue mediante un dispositivo de la clase antes citada, en que por lo menos existe un cuerpo de válvula en una válvula, cuya posición puede ajustarse mediante un vástago de válvula que no está unido al cuerpo de válvula.

Esta separación del cuerpo de válvula y el vástago de válvula permite fijar el cuerpo de válvula en un componente, tal como un suelo intermedio, que puede ser desmontado del interior del recipiente antes de llevar a cabo una limpieza de las cámaras. Entonces, dentro del recipiente únicamente penetra el vástago de válvula que ocupa poco espacio y es fácil de limpiar. Además, es posible usar un motor de válvula, en el que puede introducirse completamente el vástago de válvula. Puesto que el propio motor de válvula va montado fuera de la carcasa, entonces al realizar una limpieza el vástago de válvula ya no penetra más dentro de la correspondiente cámara, lo cual todavía facilita más la limpieza.

Dado que los vástagos de válvula no están unidos de manera fija con los cuerpos de válvula, naturalmente dichos cuerpos de válvula tan solo pueden moverse en un sentido de los vástagos de válvula. Por tanto, en el sentido opuesto deben actuar fuerzas adicionales. En este caso hay que considerar por ejemplo la presión de apriete, ejercida por un gas que pasa a través del asiento de válvula, sobre el cuerpo de válvula y que mantiene abierta la válvula, mientras el vástago de válvula no apriete el cuerpo de válvula en el asiento de válvula.

Sin embargo, en un desarrollo preferido de esta forma de realización, el cuerpo de válvula va fijado elásticamente en un asiento de válvula.

Dada la fijación elástica, el cuerpo de válvula también adopta una posición definida incluso sin un gas que pase a través del asiento de válvula, cuando el vástago de válvula se encuentra sobre el cuerpo de válvula y lo mueve contra la fijación elástica. En general será de tal manera que, gracias a la fijación elástica, la posición normal del cuerpo de válvula es la posición abierta, de modo que se alcanza la posición de cierre de la válvula cuando el vástago de válvula aprieta el cuerpo de válvula en el asiento de válvula.

Según otro aspecto del invento, que también puede realizarse independientemente de que los motores de válvula estén dispuestos fuera del recipiente, en el recipiente hay una cámara de derivación de gas, unida por el costado de salida de fluido con el elemento filtrante, de modo que con la primera válvula se consigue una unión entre la cámara de derivación de gas y una entrada de gas de limpieza, mientras que con la segunda válvula se obtiene una unión entre la cámara de derivación de gas y una salida de gas.

De este modo, la cámara de derivación de gas forma, junto al elemento filtrante, la única zona de paso de gas, que va cambiando periódicamente el paso tanto del gas de procesamiento filtrado como también del gas de limpieza. Este principio constructivo sorprendentemente fácil hace innecesaria la construcción de una unión directa entre el elemento filtrante y una entrada para el gas de limpieza mediante piezas móviles tales como fuelles u otros.

En otro desarrollo de esta forma de realización, la cámara de derivación de gas presenta respectivamente un asiento de válvula para la primera y para la segunda válvula, encontrándose por lo menos una de ellas en el costado de la cámara de derivación de gas.

Un asiento de válvula colocado lateralmente tiene la ventaja que, de este modo, puede colocarse cerca de la pared del recipiente, de manera que para accionarlo mediante un motor de válvula situado fuera del recipiente tan solo se requiere un corto vástago de válvula. Este corto vástago de válvula, que en ciertos casos todavía tiene fijado un cuerpo de válvula, estorba muy poco cuando se efectúa una limpieza.

En otro desarrollo alternativo de esta forma de realización, la cámara de derivación de gas tiene un asiento de válvula para la primera y para la segunda válvulas, respectivamente, ambos dispuestos sobre la cámara de derivación de gas.

De acuerdo con toda la geometría del interior del recipiente puede ser más conveniente una disposición de válvulas de este tipo que una disposición en que un motor de válvula se encuentre sobre la cámara de derivación de gas y otro esté colocado al costado de la misma. Por cierto, así se perjudica algo la accesibilidad del espacio situado directamente bajo la tapa del recipiente, pero no obstante mejora, por contra, la accesibilidad del resto de zonas del interior del recipiente una vez sacada la cámara de derivación de gas y otras posibles piezas.

En otro desarrollo de esta forma de realización la entrada de gas de limpieza desemboca en una cámara distribuidora de gas, que puede unirse con la cámara de derivación de gas a través de la primera válvula, mientras la salida de gas parte de una cámara de acumulación de gas que puede unirse con la cámara de derivación de gas a través de la segunda válvula.

Esto tiene la ventaja de que pueden conectarse varias cámaras de derivación de gas a la cámara distribuidora de gas central y a la cámara de acumulación de gas central por medio de válvulas, con lo cual se simplifica claramente la construcción general de la disposición de filtros y dobles válvulas.

En un desarrollo de esta forma de realización, la cámara de distribución de gas y la cámara de acumulación de gas están conformadas como dos partes separadas por la inclusión de un espacio intermedio, formado por una tapa del recipiente y un fondo intermedio dispuesto a distancia de la misma.

Esto tiene la ventaja de que puede reducirse toda la altura constructiva del recipiente, puesto que la cámara de distribución de gas y la cámara de acumulación de gas no están dispuestas una sobre otra sino en un plano.

En otra forma de realización preferida del invento, la primera válvula también está dispuesta fuera de los conductos que llevan el gas de procesamiento, y la primera y segunda válvulas están conectadas en serie.

Esta medida tiene la notable ventaja de que no solo los correspondientes motores de las válvulas, de acuerdo con el invento, van dispuestos fuera de los recorridos del gas de procesamiento, sino también la válvula que sirve para la alimentación del medio de limpieza. Para ello se conecta la primera y segunda válvula una tras otra, de modo que finalmente tan solo quede un solo cuerpo de válvula, a saber el cuerpo de válvula y su órgano de control de la segunda válvula, en los recorridos que conducen el gas de procesamiento. De este modo se simplifica notablemente la limpieza y también la manipulación.

En otra forma de realización del invento, un vástago de válvula para cambiar la posición de la segunda válvula está conformado como un vástago que conduce un medio de limpieza, de manera que en el modo de limpieza puede hacerse pasar un medio de limpieza a través del cuerpo de válvula de la segunda válvula, y la primera válvula está en comunicación con dicho vástago.

Esta medida tiene la ventaja de que el medio de limpieza, se trate de un gas de limpieza o también de un líquido de limpieza, puede hacerse pasar a través del cuerpo de válvula de la segunda válvula, y por cierto mediante el órgano que controla el cuerpo de válvula.

En este cuerpo de válvula, el módulo de filtrado se encuentra en posición abierta, permitiendo también el paso del gas de procesamiento. En el modo de limpieza dicho cuerpo de válvula está cerrado, sirviendo el órgano de control, que también es el vástago para cerrar dicho cuerpo de válvula, al mismo tiempo como conducto de alimentación para el medio de limpieza a través del cuerpo de válvula, a cuyo efecto el vástago está unido con la primera válvula.

En otra forma de realización del invento la posición de la segunda válvula puede variarse a través de un vástago de válvula que no está unido con el cuerpo de válvula, y dicho vástago de válvula está conformado con un vástago conductor del medio de limpieza, mediante el cual puede hacerse pasar el medio de limpieza a través del cuerpo de válvula, estando en el modo de limpieza, la primera válvula unida con dicho vástago.

En esta forma de realización se consigue una notable ventaja, puesto que no solo existe la posibilidad de disponer la primera válvula, tal como se ha indicado antes, fuera de los recorridos que llevan el gas de procesamiento, sino que también gracias a la solución del cuerpo de válvula y vástago de válvula se conforma el asiento de válvula separado de este componente, de modo que aún aumenta más la capacidad de maniobra y de limpieza.

En otra forma de realización del invento el vástago que conduce el medio de limpieza está conformado como vástago hueco.

Esta medida tiene la ventaja de que un sólo componente, a saber el vástago hueco, sirve cono órgano de control para la segunda válvula y al mismo tiempo se emplea como conducto de alimentación para el medio de limpieza. De este modo tampoco se requiere ninguna tubería adicional, sino que en su lugar se emplea el espacio hueco interior de dicho vástago de control para el accionamiento de la segunda válvula. Por ejemplo si se adopta una construcción en que todos los motores de válvula están colocados en una tapa, la misma puede ser levantada del cuerpo del recipiente y dentro de los volúmenes que conducen el gas de procesamiento tan solo queda un sólo cuerpo de válvula por cartucho filtrante, de modo que la limpieza aún resulta más simplificada.

Se entiende que las características antes citadas y las que se expondrán a continuación pueden aplicarse no solo en la combinación indicada sino también en otras combinaciones o en solitario, sin apartarse por ello el ámbito del presente invento.

A continuación se describen y explican otras características y ventajas del invento, con ayuda de ejemplos de formas de realización y del dibujo. En el mismo:

La figura 1a es un primer dispositivo visto en una sección longitudinal;

La figura 1b muestra el dispositivo de la figura 1a en una sección a lo largo de la línea Ib-Ib;

La figura 2 muestra el dispositivo de las figuras 1a y 1b con platinas de filtro, elementos de derivación de gas y cartuchos filtrantes retirados;

La figura 3a muestra un segundo dispositivo en una sección longitudinal;

La figura 3b muestra el dispositivo de la figura 3a en un corte a lo largo de la línea IIIb-IIIb;

La figura 4 muestra el dispositivo de las figuras 3a y 3b con platinas de filtro, elementos de derivación de gas y cartuchos filtrantes retirados;

La figura 5a muestra un tercer dispositivo en una sección longitudinal;

La figura 5b muestra el dispositivo de la figura 5a en un corte a lo largo de la línea Vb-Vb;

La figura 6 muestra el dispositivo de las figuras 5a y 5b con platinas de filtro, elementos de derivación de gas y cartuchos filtrantes retirados; y

La figura 7 muestra un cuarto dispositivo en sección longitudinal, en el cual la primera válvula también va montada fuera del recorrido del gas de procesamiento.

Los dispositivos, representados en las figuras 1a-2 y 5a-6, no forman parte de las reivindicaciones.

En las figuras 1a y 1b puede verse una parte superior de un dispositivo, en una sección longitudinal o corte a lo largo de la línea Ib-Ib, habiendo sido indicado globalmente con la referencia 10. En la sección Ib-Ib tan solo se muestran las piezas a indicar, que podrían no ser reconocibles de trazarlas de manera rigurosa.

El dispositivo 10 presenta un recipiente 12 de forma esencialmente cilíndrica, en el que va dispuesto un sistema de filtros indicado globalmente con la referencia 14. El sistema de filtros 14 presenta una primera platina de filtros 16 con un elemento de junta circundante 18, que va fijado de manera desmontable en el recipiente 12 a modo de un fondo intermedio.

Debajo de la primera platina de filtros 16 se encuentra una cámara de proceso 20, limitada lateralmente por la pared cilíndrica del recipiente 12 y por la parte inferior mediante un fondo cóncavo - no representado en la figura 1a. En esta cámara de proceso 20 se trata, de manera conocida, un material introducido en la misma, por ejemplo, para recubrirlo, granularlo, formar comprimidos o grageas. Para ello se sopla un gas de procesamiento por la parte inferior de la cámara de proceso 20, que fluidiza el material aportado, y luego se hace salir por la parte superior, representada en la figura 1a, de la cámara de proceso a través del sistema de filtros 14, fuera del dispositivo 10.

Asimismo, el sistema de filtros 14 presenta dos cartuchos filtrantes 22 y 24, cada uno de los cuales consta de un cesto de filtro 26 y un saco de filtro 28 colocado encima. Ambos cartuchos filtrantes 22, 24 cuelgan de la parte inferior de la primera platina de filtros 16 y llegan a penetrar en la parte superior de la cámara de proceso 20. A través de aberturas 30 y 32 en la primera platina de filtros 16, el interior de los cartuchos filtrantes 22, 24 está respectivamente unido con las cámaras de derivación de gas 34 y 36. Las cámaras de derivación de gas 34, 36 tienen una forma esencialmente cilíndrica y presentan un asiento de válvula superior 38 y 40, respectivamente. Además, las cámaras de derivación de gas 34, 36 disponen en su costado de un corto tubo que desemboca en otros dos asientos de válvula 42 y 44, respectivamente.

Las cámaras de derivación de gas 34, 36 son circundadas por una cámara de acumulación de gas 46, limitada por abajo mediante la primera platina de filtros 16 y por arriba mediante una segunda platina de filtros 48, siendo sólo atravesada por las cámaras de derivación de gas 34 y 36. Entre la segunda platina de filtros 48 y una tapa 50 del recipiente 12 se forma asimismo una cámara de distribución de gas 52, provista con un elemento de conexión 54 para alimentar un gas de limpieza. A fin de estabilizar la segunda platina de filtros 48, la misma dispone de una barra 56 en la parte superior, la cual cuelga de un elemento de fijación 58 montado en la tapa 50 o bien está fijado de manera desmontable de alguna forma.

Ambos asientos de válvula 38, 40 son componentes de dos primeras válvulas 60 y 62, con cuya ayuda pueden unirse con la cámara de distribución de gas 52 independientemente una de otra. Por contra, ambos asientos de válvula 42 y 44 son componentes de dos segundas válvulas 64 y 66, por medio de las cuales las cámaras de derivación de gas 34, 36 pueden conectarse con la cámara de acumulación de gas 46 independientemente una de otra. Tanto ambas primeras válvulas 60, 62 como también ambas segundas válvulas 64, 66 disponen de un motor de válvula 68, que acciona un vástago de válvula 70. Gracias a los cuerpos de válvula 72 fijados a los vástagos de válvula 70 pueden cerrarse los asientos de válvula 38, 40, 42 y 44.

Además, la cámara de acumulación de gas 46 está provista de una salida de gas 74 en forma de otro elemento de conexión dispuesto debajo del elemento de conexión 54 para la entrada de gas de limpieza. Los motores de válvula 68 de las primeras válvulas 60, 62 y de las segundas válvulas 64, 66 van montados fuera del recipiente 12, unidos por medio de conductores de gobierno, no representados con detalle, con un controlador del proceso.

Las primeras y segunda válvulas 60 y 64, respectivamente, representadas en el costado izquierdo de la figura 1a, se encuentran en una posición de válvula-filtro, en que se interrumpe la unión de la cámara de derivación de gas 34 a la cámara de distribución de gas 52 a través del cuerpo de válvula 72, mientras que queda abierta la conexión a la cámara de acumulación de gas 46. En esta posición de la válvula-filtro puede penetrar gas de procesamiento de la cámara de proceso 20 a través del saco de filtro 28 del cartucho filtrante 22, de modo que las partículas de material arrastradas por el gas de procesamiento quedan pegadas en el costado exterior del saco de filtro 28. Esto viene indicado mediante la flecha 76. Desde el interior de los cartuchos filtrantes 22 el gas de procesamiento llega a la cámara de derivación de gas 34 y prosigue a través del asiento de válvula abierto 42 en la cámara de acumulación de gas 46. Desde allí el gas de procesamiento, ahora filtrado, se hace pasar por la salida de gas 74 (flecha 77). Para facilitar el paso del gas de procesamiento a través del saco de filtro 28 del cartucho filtrante 22, entre la salida de gas 74 y la cámara de proceso 20 se produce una caída de presión que aspira el gas de procesamiento en el cartucho filtrante 22.

Dado que el costado exterior del saco de filtro 28 se llena cada vez más con partículas de material, a intervalos regulares se invierte el sentido de la corriente a través del saco de filtro. La posición de válvula-limpieza, necesaria para ello, se indica en el costado derecho de la figura 1a para la primera válvula 62 y para la segunda válvula 66. En esta posición de válvula-limpieza la primera válvula 62 está abierta y la segunda válvula 66 cerrada. Por tanto, el gas de procesamiento, desde el interior del cartucho de filtro 24 ya no puede llegar a la cámara de acumulación de gas 46 y desde allí ser aspirado a través de la salida de gas 74. En su lugar se alimenta gas de limpieza a través de los elementos d conexión 54, el cual puede tratarse de gas de procesamiento purificado y preparado, siendo conducido desde la cámara de distribución de 52 a la cámara de derivación de gas 36 (flecha 78) desde donde llega al interior del cartucho filtrante 24. El gas de limpieza sometido a presión pasa al interior del cartucho filtrante 24 de manera que hincha de golpe el saco de filtro 28, con lo cual cae el polvo pegado en su costado exterior. En la figura 1a se indica tal estado mediante un contorno de líneas de trazos. Entonces, el gas de limpieza pasa a través de los poros, de nuevo completamente abiertos, del saco de filtro 28 en la cámara de proceso 20. Preferiblemente, el sistema de filtros 14 funciona de tal modo que en cada momento se limpia por lo menos uno de ambos cartuchos filtrantes 22, 24 a través de colocar las correspondientes válvulas en la posición de válvula-limpieza.

Para limpiar el dispositivo 10 se saca el sistema de filtros 14 del interior del recipiente 12. Para ello, primero se cuelgan los cartuchos filtrantes 22, 24 y se desmonta la primera platina de filtros 16. Al aflojar el elemento de fijación 58 se suelta la barra 56, con la cual está fijada la segunda platina de filtros 48 a la tapa 50 del recipiente 12. Ahora pueden desplazarse tanto, hacia abajo, ambas platinas de filtros 16 y 48 que el espacio que queda libre en el recipiente 12 resulta accesible por medio de una (tapa) puerta u otro.

En la figura 2 el dispositivo 10 de la figura 1a se halla en dicho estado, es decir, con las platinas de filtro 16 y 48 bajadas. Tal como puede verse, ahora el espacio libre en el interior del recipiente 12 es perfectamente accesible, puesto que únicamente las barras de válvula 70 con los cuerpos de válvula 72 fijados a las mismas sobresalen en el interior del espacio. Por contra, los motores de válvula 68 se encuentran fuera del recipiente 12, de modo que ni el propio motor de válvula 68 ni tampoco las estructuras de soporte necesarias para la fijación dentro del recipiente 12 dificultan la limpieza.

Las figuras 3a y 3b muestran un segundo dispositivo en una sección longitudinal o una sección a lo largo de la línea IIIb-IIIb. El dispositivo, allí indicado globalmente con la referencia 10b, se parece ampliamente al dispositivo 10 de las figuras 1a y 1b, por lo que las partes iguales han sido indicadas con los mismo números de referencia. A diferencia del dispositivo 10, el dispositivo 10b tiene vástagos de válvula 80 que no están unidos a los cuerpos de válvula 82. Los cuerpos de válvula 82 están fijados más bien con ayuda de elementos de resorte elásticos 83 a los asientos de válvula 38, 40, 42 y 44 conformados en las cámaras de derivación de gas 34, 36. Los elementos elásticos 83 actúan de manera que las válvulas 60, 62, 64 y 66 estén abiertas, mientras que los cuerpos de válvula 82 son apretados, desde arriba, sobre los vástagos de válvula 80 en el correspondiente asiento de válvula, tal como sucede en la figura 3a con las válvulas 60 y 66.

Además, el dispositivo 10b tiene una cámara de acumulación de gas 46b, dispuesta entre la tapa 50 del recipiente 12 y una cámara distribuidora de gas 52b, y que presenta un elemento de conexión 74b. Con respecto al dispositivo 10 de las figuras 1a y 1b, en el dispositivo 10b han cambiado espacialmente la cámara de acumulación de gas y la cámara de distribución de gas. Desde la cámara de distribución de gas 52b, que está provista de un elemento de conexión 54b, parte un tubo central 84 que se extiende hacia abajo a lo largo de un eje longitudinal del recipiente 12. A través del elemento de conexión 54b se introduce gas de procesamiento en la cámara de distribución de gas 52b, que baja a través del tubo 84 y desde abajo es soplado en la cámara de proceso 20. En el dispositivo 10b se utiliza gas de procesamiento como gas de limpieza, el cual puede introducirse en las cámaras de derivación de gas 34 y 36, respectivamente, abriendo las válvulas 64 y 66. Debido a la disposición cambiada de la cámara de acumulación de gas 46b y la cámara de distribución de gas 54b, las válvulas 60, 64 y 62, 66 adoptan un papel invertido en la posición de válvula-limpieza y en la posición de válvula-filtro indicadas en la figura 1a.

El tubo 84 puede desplazarse hacia abajo conjuntamente con las platinas de filtro 16 y 48 antes de limpiar el interior del recipiente. Los cuerpos de válvula 82 fijados a la cámara de derivación de gas 34, 36 se desplazan conjuntamente hacia abajo dentro del recipiente 12. Este estado puede verse en la figura 4, en la que observamos que ahora únicamente los vástagos de válvula 80 penetran dentro del recipiente 12, con lo cual aún mejora más la accesibilidad. Las toberas de limpieza 85, dispuestas en la pared del recipiente, permiten una limpieza automática CIP del interior del recipiente (CIP, clearing in place = limpieza in situ).

Las figuras 5a y 5b muestran un tercer dispositivo que viene indicado globalmente con la referencia 10c. El dispositivo 10c se diferencia esencialmente del dispositivo 10 de las figuras 1a y 1b, por el hecho de que la cámara de acumulación de gas 46c y la cámara de distribución de gas 52c van dispuestas en un plano debajo de la tapa 50 del recipiente 12. En el espacio intermedio existente entre la tapa 50 y una platina de filtros 48c se encuentra una pared en forma de casquillo 86 concéntrica al eje longitudinal del recipiente 12. La parte separada por la pared 86, hacia al interior, forma la cámara de distribución de gas 52c, a través de cuya conexión 54c dirigida hacia arriba puede conducirse el gas de limpieza sometido a presión. La zona anular entre la pared 86 y el recipiente 12 forma la cámara de acumulación de gas 46c, que está provisto de conexiones 74c dispuestas lateralmente que sirven como salida de gas.

En el dispositivo 10c las cámaras de derivación de gas 34c y 36c tienen una forma Y, de manera que en cada extremo de ambos brazos de la Y hay formados asientos de válvula 38c, 40c, 42c y 44c, a través de los cuales, estando las válvulas 60c, 62c, 64c y 66c abiertas, puede establecerse una conexión entre las cámaras de derivación de gas 34c, 36c, por un lado, y con la cámara de acumulación de gas 46c y la cámara de distribución de gas 52c, por otro lado. Dado que ahora la cámara de acumulación de gas 46c y la cámara de distribución de gas 52c se encuentran en un plano debajo de la tapa 50, en el dispositivo 10c es posible disponer el conjunto de válvulas 60c, 62c, 64c y 66c verticalmente, de modo que los motores de válvula 68c queden hacia arriba fuera de la tapa 50.

En el costado inferior de la cámara distribuidora de gas 52c puede conectarse un tubo dirigido hacia abajo, de modo similar al del dispositivo 10b en el dibujo de las figuras 3a y 3b. De no haberse previsto dicho tubo, la cámara de distribución de gas 52c y la cámara de acumulación de gas 46c también pueden cambiarse espacialmente. Como es natural, en el dispositivo 10c también pueden fijarse elásticamente uno, varios o todos los cuerpos de válvula a los asientos de válvula, tal como se ha mostrado para el dispositivo 10b en las figuras 3a y 3b.

La figura 6 muestra el dispositivo 10c de las figuras 5a y 5b, en el cual tanto los cartuchos filtrantes 22, 24 como la platina de filtros 48c cuelgan de la pared 86 allí fijada. Gracias a las válvulas 60c, 62c, 64c y 66c dispuestas verticalmente no penetran componentes del costado dentro del recipiente 12.

El cuarto dispositivo, representado en la figura 7, viene indicado en su conjunto con el número de referencia 90.

También en el dispositivo 90 se ha previsto un recipiente 92, en cuya cámara de proceso 98 cuelgan, corriente abajo, varios cartuchos filtrantes 94, 96 de un fondo del extremo de cierre de la cámara de proceso 98. Sobre el fondo va dispuesta una cámara de acumulación de gas, que aquí no se indica con más detalle, en la que se acumulan cantidades de aire de procesamiento que ha penetrado a través de los cartuchos filtrantes 94, 96 y que luego son conducidas a una salida de gas 116.

Tal como se ha descrito antes, cada cartucho filtrante 94 y 96 está provisto de una segunda válvula 100 y 102, respectivamente, que sirve para cerrar o abrir una abertura 101 para el paso del gas de procesamiento, tal como está indicado en el cartucho filtrante 94 a la izquierda de la figura 7, que trabaja en el modo de filtrado.

En el costado derecho de la figura 7 se ha representado el modo de limpieza en relación con el cartucho filtrante 96, es decir, la segunda válvula 102 cierra la abertura de paso 101, de modo que no puede pasar aire de procesamiento.

El medio de limpieza es alimentado a través de un vástago de válvula 110 conformado como vástago hueco, movido por los respectivos motores de válvula 108 situados fuera del recipiente 22.

El correspondiente cuerpo de válvula 112 está como un cuerpo de válvula elástico y tiene aproximadamente forma de plato, con un orificio que atraviesa su centro, que está en conexión con un estribo cerrado de tubo hueco 118 al costado de los respectivos cartuchos filtrante 94 y 96, respectivamente. Alrededor del tramo superior del tubo, aquí no indicado con detalle, del estribo tubular 118 va montado un resorte bajo tensión 119, que aprieta el cuerpo de válvula 112 de la segunda válvula 100, cuando se tira del vástago de válvula 110 por medio del motor de válvula 108, en la posición alzada que se ha representado en el costado izquierdo de la figura 7.

Tal como puede verse en el costado izquierdo de la figura 7, el motor de válvula 108 está conformado de manera que el vástago de válvula 110 no va fijado al correspondiente cuerpo de válvula 112.

El vástago de válvula 110 pasa a través del motor de válvula 108 y está unido con la primera válvula 104 por medio de un conducto flexible, que de nuevo está unido con un recipiente de líquido 114. Un motor de válvula 109 controla la posición de la primera válvula 104.

Lo mismo también sirve para la doble disposición de válvulas unida con el cartucho filtrante 96.

Si la segunda válvula 100 del modo filtrante, representado en el costado izquierdo de la figura 7, debe pasarse al modo de limpieza, se acciona el motor de válvula 108 y el vástago de válvula 110 se desplaza hacia abajo, llega sobre el cuerpo de válvula 112 y lo presiona venciendo la fuera del resorte 119 conjuntamente con el estribo tubular 118 colgado debajo del cuerpo de válvula hasta que el cuerpo de válvula 112 haya cerrado la abertura 101.

Ahora se abre la primera válvula 104 por medio de su motor de válvula 109 y se alimenta un medio de limpieza, por ejemplo gas de limpieza del recipiente de limpieza 114.

El gas de limpieza pasa ahora por el vástago de válvula 110 conformado cono vástago hueco, tanto a través del motor de válvula 108 como también a través del cuerpo de válvula 110, y sale por innumerables pequeñas aberturas existentes en el estribo tubular 118. Para ello, el cartucho filtrante 96 es impulsado desde el interior con una especie de impulsos de gas de limpieza, de manera que caen las partículas filtradas que han quedado pegadas al exterior. Para aumentar el efecto de limpieza, el estribo tubular 118 también puede además girar, lo cual se realiza por medio de una barra de guía 120.

En el funcionamiento del gas, periódicamente se alimentan impulsos de gas de limpieza del depósito de limpieza 114, para liberar los respectivos cartuchos filtrantes del polvo filtrado que haya quedado pegado.

Al limpiar el dispositivo al final de una fase de proceso también puede incorporarse un líquido de limpieza en el recipiente de limpieza 114, para limpiar los cartuchos filtrantes.

Esta medida tiene la notable ventaja de que, tanto en el modo de funcionamiento con gas como también en el modo de limpieza, se puede conseguir una eficaz limpieza in situ a través del mismo dispositivo de doble válvula.

En esta forma de realización no únicamente todos los motores de válvula sino también la primera válvula para gobernar el medio de limpieza van dispuestos fuera de los conductos que llevan el gas de procesamiento, de modo que puede llevarse a cabo una limpieza especialmente sencilla y eficaz tanto durante el funcionamiento del gas como también durante una posterior limpieza.

Claims (11)

1. Dispositivo para el tratamiento de material en partículas, con un recipiente (12, 92), en el cual va dispuesta una cámara de proceso (20, 98), en que el material a tratar es atravesado y fluidizado por el aire de procesamiento, con un sistema de filtrado (14) dispuesto en el costado de salida de corriente de la cámara de proceso (20, 98), que presenta por lo menos un elemento filtrante (22, 24, 94, 96) para separar las partículas de material arrastradas por el aire de procesamiento y una doble disposición de válvulas (60, 62; 64, 66; 100, 102; 104, 106) para enjuagar el elemento filtrante (22, 24, 94, 96) con un medio de lavado, de modo que cada válvula (60, 62, 64, 66, 100, 102, 104) dispone de un motor de válvula (68, 108, 109), y que en un modo de filtrado una primera válvula (60, 104, 106) se cierra y bloquea un paso a contracorriente del medio de lavado, mientras la segunda válvula (64, 100, 102) es abierta para permitir el paso de aire de procesamiento, y en un modo de lavado se invierte la posición de las válvulas (62, 66, 100, 102, 104), de modo que los motores de válvula (68, 108, 109) se encuentran fuera de los recorridos gaseosos (34, 36, 46) que conduce el gas de procesamiento y de los recorridos gaseosos (52) que conducen el medio de lavado, caracterizado por el hecho de que por lo menos existe un cuerpo de válvula (82, 112) en una válvula (60, 62, 64, 66, 100, 102), cuya posición puede ajustarse mediante un vástago de válvula (80, 110) que no está unido con el cuerpo de válvula (82, 112).

2. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 1, caracterizado por el hecho de que el cuerpo de válvula (82) va fijado elásticamente a un asiento de válvula (38, 40, 42, 44).

3. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 ó 2, caracterizado por el hecho de que en el recipiente (12) hay una cámara de derivación de gas (34, 36), unida por el costado de salida de fluido con el elemento filtrante (22, 24), y con la primera válvula (60, 62) se consigue una unión entre la cámara de derivación de gas (34, 36) y una entrada de gas de limpieza (54), mientras que con la segunda válvula (64, 66) se obtiene una unión entre la cámara de derivación de gas (34, 36) y una salida de gas (74).

4. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 3, caracterizado por el hecho de que la primera y segunda válvulas (60, 62, 64, 66) presentan respectivamente un asiento de válvula (38, 49, 42, 44), encontrándose por lo menos uno (42, 44) en el costado de la cámara de derivación de gas (34, 36).

5. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 3, caracterizado por el hecho de que la primera y segunda válvulas (60, 62, 64, 66) presentan respectivamente un asiento de válvula, estando ambos montados sobre la cámara de derivación de gas (38c, 40c, 42c, 44c).

6. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 3 a 5, caracterizado por el hecho de que la entrada de gas de limpieza (54) desemboca en una cámara distribuidora de gas (52), que puede unirse con la cámara de derivación de gas (34, 36) a través de la primera válvula (60, 62), y que la salida de gas (74) parte de una cámara de acumulación de gas (46), que puede unirse con la cámara de derivación de gas (34, 36) a través de la segunda válvula (64, 66).

7. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 6, caracterizado por el hecho de que por la cámara de distribución de gas (52e) y la cámara de acumulación de gas (46e) están conformadas como dos partes separadas por una división (86) con la inclusión de un espacio intermedio, formada por una tapa (50) del recipiente (12) y un fondo intermedio (48c) dispuesto a distancia debajo de la misma.

8. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 1, caracterizado por el hecho de que la primera válvula (104, 106) está dispuesta fuera de los conductos que llevan el gas de procesamiento, y la primera (104, 106) y segunda válvulas (100, 102) están conectadas en serie.

9. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 8, caracterizado por el hecho de que un vástago de válvula (110) para cambiar la posición de la segunda válvula (100, 102) está conformada como un vástago que conduce un medio de limpieza, a través del cual puede hacerse pasar el medio de limpieza en el modo de limpieza por el cuerpo de válvula (112) de la segunda válvula (100, 102), y que la primera válvula (104, 106) está en comunicación con el vástago que conduce el medio de limpieza.

10. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 8, caracterizado por el hecho de que la posición de la segunda válvula (100, 102) puede variarse a través de un vástago de válvula (110) que no está unido con dicho cuerpo de válvula (112), estando dicho vástago de válvula conformado con un vástago conductor del medio de limpieza, mediante el cual puede hacerse pasar el medio de limpieza a través del cuerpo de válvula (112), estando en el modo de limpieza, y que la primera válvula (104, 106) está unida con el vástago que conduce el medio de limpieza.

11. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 9 ó 10, caracterizado por el hecho de que el vástago que conduce el medio de limpieza está conformado como vástago hueco.