ES2214139A1 - Procedimiento de obtencion de recubrimientos superficiales de nitruro de silicio sobre piezas y componentes ceramicos. - Google Patents
Procedimiento de obtencion de recubrimientos superficiales de nitruro de silicio sobre piezas y componentes ceramicos.Info
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Abstract
Procedimiento de obtención de recubrimientos superficiales de nitruro de silicio (Si3N4) sobre piezas y componentes cerámicos por impregnación de las superficies de las cerámicas con suspensiones de polvo de silicio de tamaño de partícula preferentemente inferior a 200 {mi}m. El espesor de los recubrimientos depende del tiempo de impregnación, las propiedades de la barbotina y la cerámica. La posterior nitruración del recubrimiento por tratamiento térmico a temperaturas entre 1300°C y 1500°C en atmósferas de N2, conduce a un recubrimiento continuo de Si3N4. La estabilidad y la compatibilidad química entre el Si3N4 y el silicio fundido posibilita su aplicación en la metalurgia del silicio, como la fabricación de crisoles para la fusión de silicio o para la recepción de silicio fundido, de tubos y canales para su transporte, o de distintos componentes para su posterior purificación.
Description
Procedimiento de obtención de recubrimientos
superficiales de nitruro de silicio sobre piezas y componentes
cerámicos.
Procedimiento de obtención de recubrimientos
superficiales de nitruro de silicio (Si_{3}N_{4}) sobre piezas
y componentes cerámicos. El procedimiento es de aplicación en el
tratamiento y producción de silicio fundido. La estabilidad
térmica, compatibilidad química con el silicio fundido, y el bajo
coste de los materiales compuestos obtenidos los convierte en
candidatos idóneos en procesos de recepción y transporte de silicio
fundido, así como la fusión y purificación de silicio.
La mayor parte del silicio existente actualmente
en el mercado se obtiene por reducción carbotérmica de la sílice
(SiO_{2}). Este proceso se realiza en hornos de arco eléctrico a
temperaturas del orden de 2000°C, y conduce a un producto del
98.5%-99% de pureza, conocido como silicio de calidad metalúrgica.
El silicio así fabricado sale del horno en forma líquida a una
temperatura aproximada de 1600°C, y es recogido con la ayuda de
tubos o canales sobre crisoles, donde finalmente solidifica. Todos
los componentes empleados en la manipulación del silicio son
cerámicos, y dada la elevada temperatura del silicio fundido y su
gran reactividad tienen que ser reemplazados periódicamente.
Una de las aplicaciones potenciales del silicio
de calidad metalúrgica que más interés despierta es la fabricación
de células solares para la producción de energía eléctrica. En la
actualidad, la gran mayoría de las células solares se construyen a
partir de una porción u oblea de silicio de elevada pureza (\sim
99.999%). Esta pureza es muy superior a la del silicio de calidad
metalúrgica, por lo que las células se tienen que fabricar con el
silicio sobrante de la industria de semiconductores. Este silicio,
conocido como silicio de calidad electrónica, se obtiene por el
método de la descomposición térmica de silanos, y posee mayor
pureza que la estrictamente necesaria para el correcto
funcionamiento de las células (>99.99999%) además de un elevado
coste.
Esta situación de dependencia de la industria
fotovoltaica ha provocado una intensa investigación en búsqueda de
procedimientos de purificación de silicio de calidad metalúrgica,
que produzcan un silicio de pureza adecuada para su uso en células
solares a un coste económico competitivo. Actualmente se han
diseñado y verificado distintas rutas de purificación efectivas a
escala de laboratorio y de planta piloto, aunque todavía no
rentables económicamente a nivel industrial. Entre estos métodos
pueden citarse los tratamientos con escorias líquidas, la
solidificación direccional, o el ataque con gases reactivos (Dietl,
J., "Metallurgical Ways of Silicon Meltstock Processing" in
Silicon Processing for Photovoltaics II, Edited by C. P. Khattak and
K. V. Ravi. Elsevier Science, 1987, pp.
285-352).
La mayoría de los procedimientos de purificación
conocidos utilizan silicio fundido en alguna de sus etapas
intermedias. Esto hace imprescindible disponer de distintos
componentes (crisoles, tubos, canales, pipetas, etc.) que sean
estables a las altas temperaturas de trabajo, compatibles con el
silicio fundido, y no contaminantes. Existen pocos materiales
capaces de satisfacer estas exigencias, y por tanto, que puedan ser
usados en la fabricación de dichos componentes. Entre ellos, los
más utilizados son la sílice (SiO_{2}) y el nitruro de silicio
(Si_{3}N_{4}). Estas piezas son muy caras, y su precio aumenta
exponencialmente con el tamaño. Por otro lado, sus tiempos de vida
en condiciones normales de trabajo son muy pequeños, lo que
repercute negativamente en el coste final del silicio
purificado.
La presente invención describe un procedimiento
alternativo de fabricación de materiales cerámicos de bajo coste,
para su uso en la metalurgia del silicio. Estas piezas son en
realidad composites cerámicos, y están constituidos por dos partes
con propiedades y funciones diferentes: una parte estructural y un
recubrimiento superficial de Si_{3}N_{4}. La parte estructural
puede fabricarse con cualquier material cerámico estable a las
altas temperaturas del silicio fundido, y posee la forma, tamaño, y
propiedades físicas necesarias en cada caso. El recubrimiento
superficial es estable, inerte, y no contaminante del silicio
fundido, y protege la cerámica e impide su reacción con el
silicio.
El procedimiento propuesto permite obtener piezas
y componentes cerámicos estables a altas temperaturas y adecuados
para la fusión, transporte y purificación de silicio fundido a
precios económicos, debido al bajo coste de las materias primas y de
las distintas etapas de fabricación, y con la ventaja adicional
de ser muy flexible y escalable a distintas formas y tamaños.
El procedimiento consiste en la impregnación de
las piezas y componentes cerámicos, conformadas y sinterizadas con
anterioridad, con suspensiones acuosas ("barbotinas") de
silicio. Como resultado de este proceso se obtienen recubrimientos
de silicio sobre las superficies de la cerámica que han estado en
contacto con la barbotina. El posterior tratamiento térmico de la
pieza en atmósferas de N_{2} transforma el Si en un recubrimiento
superficial continuo de Si_{3}N_{4} estable e impermeable al
silicio fundido.
Las piezas cerámicas iniciales pueden fabricarse
con cualquier material capaz de soportar las altas temperaturas del
silicio fundido (del orden de 1600°C), por cualquiera de las
distintas técnicas del procesamiento cerámico (colado, inyección,
fraguado hidráulico de hormigones, torneado y mecanización,
gelcasting, etc.). La elección de la técnica adecuada es función de
parámetros como la forma y el tamaño del componente, o las
propiedades mecánicas requeridas. Se han estudiado cerámicas de
distinta composición para la fabricación de estos componentes,
obteniéndose buenos resultados con materiales tan diversos como el
grafito, hormigones refractarios de alta temperatura, cerámicas
silicoaluminosas, alúmina, circona y circonatos. Con la excepción
del grafito, que se tornea a partir de bloques macizos, la
fabricación de estas piezas concluye con su tratamiento térmico, a
temperaturas generalmente por debajo de 1500°C, donde adquieren las
propiedades físicas necesarias para su posterior impregnación y
uso.
Las barbotinas de silicio se preparan añadiendo
silicio en polvo sobre la cantidad adecuada de agua en condiciones
de fuerte agitación mecánica. Se han probado polvos de silicio de
distintas características, y se ha comprobado que es preferible
emplear silicio con tamaños de partícula por debajo de 200 \mum.
Los mejores resultados se alcanzan con partículas menores de 75
\mum. Al caer sobre el agua, el polvo de silicio forma agregados
constituidos por gran cantidad de partículas, que resultan
imposibles de deshacer únicamente por agitación mecánica. Este
comportamiento hace necesaria la adición de pequeñas cantidades de
agentes defloculantes (<0.1% en peso), que rompen estos agregados
y permiten homogeneizar perfectamente la suspensión. De los
distintos defloculantes probados, los mejores resultados se han
obtenido con polímeros orgánicos fónicos. El uso de estos
compuestos permite añadir grandes cantidades de polvo de silicio al
agua mientras la mezcla mantiene buenas condiciones de fluencia,
imprescindibles para su posterior uso. Las mejores barbotinas con el
silicio menor de 75 \mum alcanzan contenidos en sólidos del 72%
en peso y viscosidades del orden de 1500 Cp, con Dolapix
PC-67 (Zschimmer&Schwarz, Chemische Fabriken)
como defloculante. En ocasiones es necesario mejorar la adhesión de
la pasta a la pieza cerámica original, especialmente cuando se va a
emplear sobre componentes de grafito. La solución consiste en añadir
a la barbotina de silicio pequeñas cantidades de agentes
gelificantes o plastificantes. Se han probado distintos compuestos
con este propósito (polímeros de celulosa, agar, carragenatos,
alginatos, polietilenglicol, etc.), y los mejores resultados se
consiguen con pequeñas cantidades de metilcelulosa (<1% en
peso).
Las superficies de la cerámica original se
impregnan con la barbotina de silicio por procedimientos como la
inmersión, el colado a presión, el gelcasting, etc. En estas
condiciones, el silicio se adhiere a dichas superficies formando un
recubrimiento cuyo espesor depende de las propiedades de la cerámica
(porosidad y tamaño de poro, superficie específica, comportamiento
frente al agua, etc.), de las características de la barbotina
(contenido en sólidos, viscosidad, carácter adhesivo o cohesivo,
plasticidad, etc.), y del tiempo de impregnación.
En la Figura 1 se muestra la evolución del
espesor de la capa superficial de silicio formada por inmersión de
un crisol de hormigón refractario en una barbotina de silicio, en
función del tiempo. Una vez concluida la impregnación, se retira la
barbotina sobrante y se deja secar al aire. El secado final se
realiza en una estufa a 100°C durante 1 hora.
La última etapa de la fabricación consiste en la
transformación del silicio del recubrimiento en Si_{3}N_{4}.
Este proceso se realiza por un procedimiento conocido como
nitruración de silicio por sinterización reactiva, que se basa en
la reacción entre el silicio y el N_{2} a altas temperaturas
(Moulson, A. J., "Review. Reaction-bonded Silicon
Nitride: its Formation and Properties" J. Mat. Sci, 14,
1017-1051, 1979), y conduce a cerámicas de
Si_{3}N_{4} con tamaños de poro generalmente por debajo de 50
\mum, que son totalmente impermeables al silicio fundido. La
ecuación de la reacción es la siguiente:
3Si+2N_{2}(g)\rightarrowSi_{3}N_{4}
Esta reacción tiene lugar a temperaturas en torno
a 1400°C, y no produce alteración de las dimensiones originales del
recubrimiento de silicio.
Se han estudiado diferentes condiciones
experimentales para la optimización de la nitruración, desde
tratamientos en atmósferas de N_{2} de distintas características
(N_{2} estático a 1 atm de presión, flujo constante de gas con
distintos caudales, sobrepresión de gas), a calcinaciones a varias
temperaturas, en una única etapa o bien en rampas sucesivas a
distintas temperaturas en cada una de ellas. Los mejores
porcentajes de conversión del silicio se alcanzan en tratamientos
del orden de 12 horas constituidos por dos etapas de 6 horas cada
una, la primera a 1350°C y la segunda a 1425°C. En estas
condiciones, dicho porcentaje supera el 90%.
Como resultado final se obtienen composites
cerámicos adecuados para la metalurgia del silicio y para el
posterior tratamiento del mismo. Estas piezas están constituidas
por una matriz cerámica resistente a altas temperaturas y un
recubrimiento superficial de Si_{3}N_{4} continuo, estable e
impermeable al silicio fundido, y de espesor controlado. Una
ventaja adicional del recubrimiento de Si_{3}N_{4} sobre los
componentes de grafito es que su presencia impide el contacto
directo de dicho grafito con el 0_{2} de la atmósfera, evitando de
esta forma su oxidación y degradación inmediata a altas
temperaturas al aire. Como consecuencia, los componentes de grafito
así protegidos pueden ser usados igualmente en aire u otros
ambientes oxidantes, lo que amplía notablemente el campo de
aplicación de este material.
Se fabrica un crisol cilíndrico con un hormigón
refractario de alta temperatura por fraguado hidráulico, y se
calcina durante 2 horas a 1350°C. Las dimensiones finales del
crisol son 12 cm de altura, 12 cm de diámetro interno, 1 cm de
espesor de pared
\hbox{(Figura 2).}
Se prepara una barbotina acuosa con polvo de
silicio de tamaño inferior a 75 \mum. Para ello, se añade el
silicio sobre la cantidad adecuada de agua para alcanzar un
contenido en sólidos del 72% en peso, y se remueve con la ayuda de
un agitador mecánico de hélice hasta conseguir una homogeneización
completa. Como agente defloculante se emplea Dolapix
PC-67. El tiempo total necesario para la
preparación de la barbotina es de aproximadamente 3 horas.
A continuación se llena el crisol con la
barbotina de silicio. La impregnación de las paredes del crisol,
con la consiguiente formación del recubrimiento superficial de
silicio es muy rápida, son suficientes tiempos de contacto de 20
segundos para alcanzar espesores de pared de entre 2 y 3 mm. Una
vez transcurrido ese tiempo se vuelca la barbotina sobrante, se
deja escurrir el molde, y se deja secar lentamente al aire. El
secado final se realiza en una estufa a 100°C durante 1 hora. La
barbotina sobrante de este proceso se recupera y puede emplearse
tal cual para posteriores impregnaciones de otras piezas.
La pieza así preparada se introduce en un horno
de atmósfera controlada y se nitrura bajo un flujo constante de 0.2
L/min de N_{2}. El ciclo de calcinación consta de una primera
rampa de 6 horas a 1350°C y una segunda de 6 horas a 1425°C. La
velocidad de subida y bajada de temperatura es de 10°C/min. El
porcentaje de nitruración alcanzado es del 92%. En la Figura 3
puede verse el crisol con el recubrimiento de Si_{3}N_{4}.
Se fabrica un crisol cilíndrico de grafito de
dimensiones 14 cm de altura, 12 cm de diámetro interno, y 1.5 cm de
espesor de pared, por torneado y mecanizado a partir de un bloque
macizo de grafito
\hbox{(Figura 4).}
Se prepara una barbotina acuosa del 72% en peso
con polvo de silicio de tamaño inferior a 75 \mum. El
procedimiento de preparación es idéntico al descrito en el ejemplo
1. Con el fin de mejorar la adherencia de la barbotina al grafito,
se añaden pequeñas cantidades de metilcelulosa (0.4% en peso), y se
agita por espacio de aproximadamente 2 horas, hasta conseguir una
homogeneización total. El resultado es una suspensión ligeramente
más viscosa que la original, que se adhiere con facilidad al
grafito.
Se llena el crisol de grafito con esta
suspensión, se impregna durante 20 segundos y se retira la
barbotina sobrante. Se deja secar lentamente el crisol con el
recubrimiento al aire. El secado final se realiza en una estufa a
100°C por espacio de 1 hora. Al igual que en el ejemplo 1, la
barbotina sobrante de esta etapa de impregnación puede reutilizarse
posteriormente con otras piezas. El tratamiento térmico de
nitruración consta de una primera rampa de 6 horas a 1350°C, y una
segunda de 6 horas a 1425°C, bajo un flujo constante de 0.2 L/min
de N_{2}. La velocidad de subida y bajada de temperatura es de
10°C/min. El porcentaje de nitruración alcanzado es del 90%. En la
Figura 5 puede verse el crisol terminado.
Claims (8)
1. Procedimiento de obtención de recubrimientos
superficiales de nitruro de silicio (Si_{3}N_{4}) sobre piezas
y componentes cerámicos para la fusión de silicio y el tratamiento
de silicio fundido, caracterizado porque se fabrican
materiales cerámicos compuestos constituidos por una matriz
estructural, estable térmicamente y con suficiente resistencia
mecánica, y un recubrimiento superficial de Si_{3}N_{4}, que
comprende las siguientes etapas:
a.- Deposición de un recubrimiento de silicio
sobre la superficie de la matriz cerámica a partir de suspensiones
acuosas de polvo de silicio;
b.- Posterior tratamiento térmico de la matriz
cerámica y del recubrimiento a altas temperaturas en atmósferas de
N_{2}.
2. Procedimiento, según la reivindicación 1,
caracterizado porque las piezas y componentes cerámicos que
constituyen la matriz estructural o de soporte pueden fabricarse en
distintas formas, tales como crisoles, tubos, canaletas, o
cualquier otra, y con tamaños variables.
3. Procedimiento, según las reivindicaciones
anteriores, caracterizado porque la matriz estructural o de
soporte pueden fabricarse con materiales cerámicos tales como
hormigones refractarios de alta temperatura, cerámicas
silicoaluminosas, alúmina, grafito, circonas, circonatos, o
cualquier otro que sea estable a temperaturas de hasta 1700°C y
compatible con el Si_{3}N_{4}.
4. Procedimiento, según las reivindicaciones
anteriores, caracterizado porque la matriz estructural o de
soporte pueden fabricarse por cualquiera de las técnicas habituales
de conformación y procesamiento cerámico, como colado, inyección,
fraguado hidráulico, mecanizado, o cualquier otro método de uso
industrial adaptable a este propósito.
5. Procedimiento, según la reivindicación 1,
caracterizado porque se preparan suspensiones,
("barbotinas"), por agitación mecánica de polvo de silicio en
agua, con un contenido en partículas de tamaño preferentemente
inferior a 200 \mum adecuado para alcanzar contenidos en sólidos
de hasta el 80% en peso; la perfecta homogeneización de la
barbotina se consigue añadiendo a las suspensiones pequeñas
cantidades de agentes defloculantes, preferiblemente cadenas
orgánicas iónicas; el comportamiento adhesivo de la barbotina se
mejora añadiendo pequeñas cantidades, generalmente inferiores al 1%
en peso, de agentes plastificantes y gelificantes, tales como
polímeros de celulosa, alginatos, agar, carragenato, o cualquier
otro aditivo capaz de desempeñar esta función.
6. Procedimiento, según las reivindicaciones
anteriores, caracterizado porque las superficies de las
matrices estructurales cerámicas se recubren con una capa continua
de silicio de espesor generalmente inferior a 1 cm; el
recubrimiento se obtiene a partir de las barbotinas de silicio por
procedimientos como la impregnación, el gelcasting, el colado a
presión, la pulverización, o por cualquier otro método de
procesamiento cerámico.
7. Procedimiento, según las reivindicaciones
anteriores, caracterizado porque las matrices estructurales
recubiertas con silicio son tratadas térmicamente en una atmósfera
de N_{2} en hornos de atmósfera controlada, para transformar el
recubrimiento de silicio en Si_{3}N_{4}; y los tratamientos se
realizan a temperaturas comprendidas entre 1300°C y 1500°C durante
tiempos generalmente no superiores a 12 horas, y preferentemente en
dos etapas, la primera de aproximadamente 6 horas a 1350°C y la
segunda de aproximadamente 6 horas a 1425°C; la atmósfera de
N_{2} puede ser estática, en flujo constante de gas o en
sobrepresión de gas; y los porcentajes de conversión de silicio en
Si_{3}N_{4} están generalmente comprendidos entre el 70% y el
95%.
8. Uso del procedimiento, según las
reivindicaciones anteriores, en la metalurgia del silicio,
preferentemente en la fusión de silicio, y en la recepción,
transporte y purificación de silicio fundido; y en la metalurgia de
cualquier metal en estado fundido que, al igual que el silicio, sea
compatible con el Si_{3}N_{4} a altas temperaturas.
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