EP2174331A1 - Ofen und verfahren zum herstellen einer entladungslampe - Google Patents

Ofen und verfahren zum herstellen einer entladungslampe

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EP2174331A1
EP2174331A1 EP07786502A EP07786502A EP2174331A1 EP 2174331 A1 EP2174331 A1 EP 2174331A1 EP 07786502 A EP07786502 A EP 07786502A EP 07786502 A EP07786502 A EP 07786502A EP 2174331 A1 EP2174331 A1 EP 2174331A1
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EP
European Patent Office
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discharge
hollow body
furnace
gas
discharge vessel
Prior art date
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Withdrawn
Application number
EP07786502A
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English (en)
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Inventor
Frank Vollkommer
Lothar Hitzschke
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Osram GmbH
Original Assignee
Osram GmbH
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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    • H01J9/40Closing vessels
    • HELECTRICITY
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    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/24Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
    • H01J9/26Sealing together parts of vessels
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    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/46Machines having sequentially arranged operating stations
    • H01J9/48Machines having sequentially arranged operating stations with automatic transfer of workpieces between operating stations

Definitions

  • a furnace according to the invention can also be used for
  • the first hollow body is flooded with the discharge gas in such a way that it flows out of the openings of the hollow body during the flooding.
  • the discharge gas in such a way that it flows out of the openings of the hollow body during the flooding.
  • an outward flow between the parts is also preferred. Ingress of contaminants into the interior of the hollow body can be largely avoided.
  • Figure 2 shows a variant of the furnace of Figure 1 as a second exemplary embodiment.
  • FIG. 3 shows a further variant of the furnace from FIG. 1 as a third exemplary embodiment.
  • FIG. 1 shows a continuous furnace 1 for producing dielectrically impeded flat radiators.
  • the continuous furnace 1 comprises a rohrformigen, about 160 times as long as high hollow body 2 (based on the internal clearances), so is not shown to scale. For example, dimensions of 8 m long, 60 cm wide and 5 cm high. This has an opening 3 for introducing discharge vessel parts 4 and 5.

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Furnace Details (AREA)
  • Tunnel Furnaces (AREA)
  • Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)

Abstract

Die Erfindung bezieht sich auf einen Ofen (1) zum Herstellen einer Entladungslampe mit einer äußeren Ofenwand. Sie ist gekennzeichnet durch einen von der äußeren Ofenwand umgebenen Hohlkörper (2) zur Aufnahme von Entladungsgefaßteilen (4, 5) und Fugen derselben zu einem Entladungsgefaß (8) für die Entladungslampe. Weiter weist der Hohlkörper (2) eine Entladungsgaszufuhr (9) zum Fluten mit einem Entladungsgas auf, sodass ein in dem Hohlkörper (2) gefugtes Entladungsgefaß (8) mit diesem gefüllt ist. Die Erfindung bezieht sich ebenso auf ein Herstellungsverfahren für Entladungslampen mit einem solchen Ofen (1).

Description

Beschreibung
Ofen und Verfahren zum Herstellen einer Entladungslampe
Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Ofen zum Herstellen einer Entladungslampe und auf ein Herstellungsverfahren für eine Entladungslampe mit einem solchen Ofen.
Stand der Technik
Entladungslampen weisen ein geschlossenes und ein Entladungsgas beinhaltendes Entladungsgefäß auf. Es ist bekannt, mehrere Entladungsgefäßteile in einem Ofen unter Wärmezufuhr zu einem Entladungsgefäß zu fügen. Es ist insbesondere bekannt, Entladungsgefäßteile in einem Vakuumofen unter einer Entladungsgasatmosphäre zu fügen.
Die DE 101 47 727 Al zeigt einen Durchlaufofen zum Fügen von Entladungsgefäßteilen zu Entladungsgefäßen. Dabei werden die Entladungsgefäßteile in eine Atmosphäre mit dem Entladungsgas eingebracht und unter dieser Atmosphäre gefügt .
Darstellung der Erfindung
Aufgabe der Erfindung ist es, einen hinsichtlich des Her- stellens einer Entladungslampe vorteilhaften Ofen und ein entsprechendes Herstellungsverfahren anzugeben.
Die Erfindung bezieht sich auf einen Ofen zum Herstellen einer Entladungslampe mit einer äußeren Ofenwand, gekennzeichnet durch einen von der äußeren Ofenwand umgebenen ersten Hohlkörper zur Aufnahme von Entladungsgefaßteilen und Fugen derselben zu einem Entladungsgefaß für die Entladungslampe und eine Entladungsgaszufuhr in den ersten Hohlkörper zum Fluten desselben mit einem Entladungsgas, sodass ein in dem ersten Hohlkörper gefugtes Entladungsgefaß mit diesem Gas gefüllt ist, sowie auf ein Herstellungsverfahren unter Verwendung dieses Ofens.
Bevorzugte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhangigen Ansprüche und werden im Folgenden ebenfalls naher erlau- tert. Die Offenbarung bezieht sich dabei sowohl auf den Ofen als auch auf das Herstellungsverfahren, auch wenn dies nicht überall explizit ausformuliert ist.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zu Grunde, dass bei Entladungsgefaßteilen, die in einem Ofen unter einer Ent- ladungsgasatmosphare gefugt werden, etwa unter einer Ne- on/Xenon-Atmosphare, viel größere Mengen Entladungsgas umgesetzt werden als schließlich in den gefugten Entla- dungsgefaßen eingeschlossen ist. Zum Ersten liegt das an den üblicherweise vergleichsweise großen Innenraumen der verwendeten Ofen. Zum Zweiten kann aber, je nach Ofen, auch das Entladungsgas aus dem Ofen entweichen - dies ist vor allem bei Durchlaufofen der Fall. Einmal ist dies o- konomisch nachteilig, da einige der verwendeten Gase, etwa Xenon, erheblich zu den Kosten der Entladungslampen beitragen. Weiter kann das Entladungsgas aber auch Komponenten aufweisen, bei denen ein großer Umsatz und ein e- ventuelles Entweichen in die Umgebung aus anderen Gründen zu vermeiden ist, etwa bei chemisch reaktiven und/oder giftigen Gasen. Die Erfindung basiert auf der Idee, ein vergleichsweise kleines Volumen innerhalb des Ofens mit einem Hohlkörper einzufassen und das Entladungsgas in dieses kleinere Volumen einzubringen. Der Hohlkörper wird mit dem Entla- dungsgas geflutet und die Entladungsgefaßteile innerhalb des Hohlkörpers gefugt, sodass das gefugte Entladungsge- faß dann mit dem Entladungsgas gefüllt ist.
Der Hohlkörper kann auch Offnungen aufweisen, durch die das Entladungsgas aus dem Hohlkörper in den Ofen entwei- chen kann und auf die noch eingegangen wird. So kann eine nach außen fuhrende Strömung etabliert werden. Durch das Spulen können die Entladungsgefaßteile gereinigt werden und außerdem eventuell in dem Hohlkörper vorhandene Verunreinigungen, etwa Partikel und unerwünschte Gase, von den Entladungsgefaßteilen fern gehalten und aus dem Hohlkörper entfernt werden.
Auch wenn bei einem Hohlkörper mit Offnungen ein Teil des Entladungsgases aus dem Hohlkörper entweichen kann, so wird jedenfalls nur ein vergleichsweise geringes Volumen mit dem Entladungsgas geflutet, sodass trotzdem der Entladungsgasumsatz vergleichsweise klein gehalten werden kann .
Vorteilhaft ist auch, dass bei der Erfindung auf an sich bekannte Ofen bzw. deren Technologie zurückgegriffen wer- den kann. Es können aber etwa auch bereits in einem Betrieb vorhandenen Ofen nachtraglich mit einem erfindungs- gemaßen Hohlkörper ausgestattet werden.
Grundsatzlich kann ein erfindungsgemaßer Ofen auch zum
Auswechseln des Hohlkörpers ausgelegt sein. Unterschied- liehe Hohlkörper können dann für unterschiedliche Entla- - A -
dungslampentypen optimiert sein, etwa, indem sie die jeweiligen Entladungsgefaßteile und Entladungsgefaße möglichst eng umschließen.
Von besonderer Bedeutung ist dabei, einen im Wesentlichen horizontalen Transport vorausgesetzt, die verfugbare lichte Hohe über der Transportebene in der Öffnung des Hohlkörpers, etwa einem Transportband. Vorzugsweise sollte diese lichte Hohe höchstens das 5-fache, besonders bevorzugterweise höchstens das 3-fache der und im gunstigs- ten Fall höchstens die doppelte maximale Dicke der Entla- dungsgefaße bzw. Entladungsgefaßteile, die hindurch gefahren werden müssen, betragen. Anzustreben ist naturlich auch ein enges Umschließen unter der Transportebene, wenngleich von im Vergleich zu der lichten Hohe darüber untergeordneter Bedeutung.
Das Entladungsgas, mit dem der Hohlkörper über die Gaszufuhr geflutet wird, kann vorzugsweise Helium, Neon, Argon, Xenon oder ein Gemisch dieser Gase beinhalten, insbesondere auch Neon alleine. Weiter ist auch eine Ne- on/Xenon Mischung als Entladungsgas bevorzugt.
Vorzugsweise wird bei der Erfindung kein sog. Batch- betrieb, also chargenweiser Betrieb, durchgeführt, d. h. nicht jeweils mit bestimmten Chargen von Entladungsgefa- ßen oder Entladungsgefaßteilen ein eigener Heiz- und Ab- kuhlzufluss gefahren. Stattdessen sollen die Entladungs- gefaßteile und Entladungsgefaße in den kontinuierlich betriebenen Ofen ein- und ausgefahren werden.
Bei einer bevorzugten Ausfuhrungsform handelt es sich bei dem Ofen um einen Durchlaufofen, der besonders gut für einen hohen Durchsatz geeignet ist. Eine Öffnung dient zum Einbringen von Entladungsgefaßteilen und eine andere Öffnung zum Ausbringen von Entladungsgefaßen . Bei einem Durchlaufofen wird durch den Ofen hindurchtransportiert, etwa über ein Transportband. Ein angepasster Hohlkörper weist entsprechend eine erste Öffnung zum Einbringen von Entladungsgefaßteilen und eine zweite Öffnung zum Ausbringen von Entladungsgefaßteilen auf. Die Entladungsge- faßteile werden in den Hohlkörper hinein transportiert, in diesem gefugt und die gefugten Entladungsgefaßteile aus ihm wieder heraus transportiert.
Vorzugsweise ist dabei die Gesamtflache der Offnungen des Hohlkörpers deutlich kleiner als die Gesamtflache der Offnungen in der äußeren Ofenwand. Durch eine möglichst kleine Gesamtflache der Offnungen des Hohlkörpers kann das Entweichen von Entladungsgas eingeschränkt werden. Auch hier gilt, dass es im Wesentlichen auf den Bereich über der Transportebene ankommt. Die Querschnittsflache der Hohlkorperoffnungen soll über der Transportebene vorzugsweise höchstens das 5-fache, besonders bevorzugter- weise höchstens das 3-fache und im gunstigsten Fall höchstens das Doppelte der entsprechenden Querschnittsflache (in gleicher Blickrichtung) der Entladungsgefaß- teile oder Entladungsgefaße betragen.
Vorzugsweise ist der Ofen dazu ausgelegt, ein Gas an den Offnungen des Hohlkörpers entlang strömen zu lassen. Durch das Strömen kann das Eindringen von Verunreinigungen in den Hohlkörper behindert und vorzugsweise weitgehend verhindert werden. Das an den Offnungen entlangstro- mende Gas wirkt dabei als Stromungsvorgang vergleichbar etwa mit Luftungsvorhangen am Eingang großer Gebäude. Ist der erfindungsgemaße Ofen als Durchlaufofen ausgelegt, umfasst er vorzugsweise einen zweiten Hohlkörper. Der weitere Hohlkörper weist ebenfalls Offnungen zum Einbringen und Ausbringen der Entladungsgefaßteile auf, so- dass die Entladungsgefaßteile auch durch den zweiten Hohlkörper hindurch transportiert werden können. Entlang der Transportstrecke der Entladungsgefaßteile ist der zweite Hohlkörper dem ersten Hohlkörper (zum Fugen der Entladungsgefaßteile) vorgelagert. Über eine Gaszufuhr wird ein Spulgas, vorzugsweise Argon oder Helium, für eine Reinigung der Entladungsgefaßteile in diesen zweiten Hohlkörper eingebracht. Seine Offnungen werden bevorzugterweise ebenso bestromt wie die Offnungen des ersten Hohlkörpers .
Vorzugsweise ist der erste Hohlkörper bei einem Durchlaufofen länglich, etwa rohrformig mit im Wesentlichen eckigem Querschnitt, wobei sich die Offnungen zum Einbringen der Entladungsgefaßteile und Ausbringen der Ent- ladungsgefaße vorzugsweise an den Enden des Hohlkörpers gegenüberliegen. Treten Verunreinigungen durch die Off- nungen in den ersten Hohlkörper ein, so ist vor allem das Volumen in der Nahe der Offnungen betroffen. Daher ist es bevorzugt, wenn der erste Hohlkörper entlang der Durchlaufrichtung um mindestens einen Faktor 50 langer ist als hoch (bezogen auf lichte Innenmaße) . Bevorzugter ist ein Faktor von 80 beziehungsweise sogar 120 als Untergrenze. Für den zweiten Hohlkörper ist ebenso wie für den ersten Hohlkoper eine längliche Bauform bevorzugt.
Eine bevorzugte Ausfuhrungsform weist eine Pumpe zum Pum- pen von Gasen aus dem ersten Hohlkörper auf. Zum einen kann durch das Pumpen eine Strömung zum Spulen etabliert werden, zum anderen können das Entladungsgas oder Komponenten des Entladungsgases, insbesondere Xenon, zurückgewonnen werden.
Es ist weiter bevorzugt, mindestens eine Pumpe über zwei Abpumpoffnungen an den ersten Hohlkörper anzuschließen, insbesondere jeweils eine Pumpe an je eine der zwei Abpumpoffnungen . Dabei liegt eine erste der Abpumpoffnungen naher an der ersten Öffnung und die zweite Abpumpoffnung naher an der zweiten Öffnung des Hohlkörpers. Eindringen- de Verunreinigungen können zumindest zum Teil über die zwei Abpumpoffnungen abgepumpt werden, sodass die Reinheit des zwischen den beiden Abpumpoffnungen liegenden Volumens weiter verbessert werden kann.
Vorzugsweise befindet sich eine weitere Gaszufuhrung zwi- sehen der ersten Abpumpoffnung und der ersten Öffnung und noch eine weitere Gaszufuhrung zwischen der zweiten Abpumpoffnung und der zweiten Öffnung. Aus diesen zwei Gas- zufuhrungen wird vorzugsweise Argon, Helium oder Neon eingebracht und kann vor allem durch die jeweils nachst- liegende Abpumpoffnung abgepumpt werden, so dass sich eine als Barriere wirkende Strömung ausbilden kann. Gegebenenfalls können Teile des durch die zwei Gaszufuhrungen eingebrachten Gases auch aus den Offnungen des Hohlkörpers entweichen und so die Barrierewirkung verstarken.
Vorzugsweise ist der erste Hohlkörper aus mehreren Teilen zusammengesetzt. Die einzelnen Teile können - naturlich bis auf die Transportoffnungen - gasdicht verbunden sein. Alternativ kann das Entladungsgas auch zwischen den Teilen - aufgrund eines Überdrucks - aus dem Hohlkörper her- ausströmen. Zusatzlich können Vakuumkanale längs in die Kanten der Teile eingebettet sein und ebenfalls Partikel und unerwünschte Gase durch Absaugen am Eindringen in den Hohlkörper hindern.
Vorzugsweise ist der erfindungsgemaße Ofen für die Her- Stellung eines Flachstrahlers ausgelegt. Bei einem Flachstrahler ist das Entladungsgefaß flach und relativ großformatig ausgebildet. Üblicherweise werden die zwei großen Seiten des Flachstrahlers durch zwei im Wesentlichen planparallele Platten gebildet. Die Platten können dabei strukturiert sein und müssen, trotz des Namens "Flachstrahler", nicht im strengen Wortsinn flach sein.
Wie erwähnt bezieht sich die Erfindung auch auf ein Verfahren zum Herstellen einer Entladungslampe in einem 0- fen, wie es sich bereits aus der vorstehenden Beschrei- bung ergibt. Insbesondere ist die Herstellung einer dielektrisch behinderte Entladungslampe bevorzugt.
Vorzugsweise wird der erste Hohlkörper derart mit dem Entladungsgas geflutet, dass es wahrend des Flutens aus den Offnungen des Hohlkörpers herausströmt. Bei mehrtei- ligen Hohlkörpern ist auch eine nach außen gerichtete Strömung zwischen den Teilen bevorzugt. Ein Eindringen von Verunreinigungen in das Innere des Hohlkörpers kann so weitgehend vermieden werden.
Bei einem Durchlaufofen ist es bevorzugt, die Entladungs- gefaßteile entgegen ihrer Transportrichtung und das gefugte Entladungsgefaß entlang seiner Transportrichtung mit einem Gas zu umströmen. Dabei ist auf eine in die Transportebene projizierte Komponente der Stromungsbewegung abzustellen. Dies kann sowohl Gase in dem Hohlkörper betreffen als auch Gase zum Bestromen der Offnungen des Hohlkörpers. Verunreinigungen werden damit aus der eigentlichen Fugezone weggespult.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
Im Folgenden werden Ausfuhrungsbeispiele der Erfindung vorgestellt. Dabei offenbarte Einzelmerkmale können auch in anderen als den dargestellten Kombinationen erfin- dungswesentlich sein.
Figur 1 zeigt einen erfindungsgemaßen Ofen als erstes Ausfuhrungsbeispiel .
Figur 2 zeigt eine Variante des Ofens aus Figur 1 als zweites Ausfuhrungsbeispiel.
Figur 3 zeigt eine weitere Variante des Ofens aus Figur 1 als drittes Ausfuhrungsbeispiel.
Figur 4 zeigt eine schematische Darstellung in Transportrichtung mit Blick auf eine Eingangsoffnung des ersten Ausfuhrungsbeispiels.
Figur 5 zeigt eine schematische Darstellung in Transportrichtung mit Blick auf eine Ausgangsoffnung des ersten Ausfuhrungsbeispiels.
Bevorzugte Ausführung der Erfindung
Figur 1 zeigt einen Durchlaufofen 1 zur Herstellung die- lektrisch behinderter Flachstrahler. Der Durchlaufofen 1 umfasst einen rohrformigen, etwa 160 mal so langen wie hohen Hohlkörper 2 (bezogen auf die lichten Innenmaße) , ist also nicht maßstablich dargestellt. In Betracht kommen beispielsweise Maße von 8 m Lange, 60 cm Breite und 5 cm Hohe. Dieser weist eine Öffnung 3 zum Einbringen von Entladungsgefaßteilen 4 und 5 auf.
Im Betrieb werden mit einem an sich bekannten Transportband 6 die Entladungsgefaßteile 4 und 5 in den Hohlkörper 2 eingebracht und durch diesen hindurchgefuhrt . Aus der Öffnung 7 des Hohlkörpers 2 verlassen dann geschlossene Entladungsgefaße 8 den Hohlkörper 2. Es handelt sich also um einen "ersten" Hohlkörper. Die Gesamtflache der Offnungen 3 und 7 des Hohlkörpers 2 ist deutlich kleiner als die Gesamtflache der Offnungen (nicht gezeigt) des Ofens 1.
Über Gaszufuhrungen 9 wird im Betrieb ein Entladungsgas in den Hohlkörper 2 eingebracht, und zwar Helium, Neon, Argon oder ein Gemisch dieser Gase. Die beiden Öffnungen 3 und 7 des Hohlkörpers 2 werden mit Helium oder Argon bestromt, sodass Verunreinigungen aus dem Ofeninneren nicht in den Hohlkörper 2 eindringen. In dem Hohlkörper 2 herrscht eine Entladungsgasstromung von den etwa mittig gelegenen Gaszufuhrungen 9 zu den Offnungen 3 und 7, die aus einem moderaten Überdruck resultiert.
Der Ofen heizt das Innere des Hohlkörpers 2. Die Entladungsgefaßteile 4 und 5 sind zunächst auf an sich bekannte Weise durch SF6-Glas-Abstandshalter (vgl. DE 101 47 727 Al) voneinander beabstandet. Diese erweichen wahrend des Transports durch den Hohlkörper 2, sodass sich die Entladungsgefaßteile 4 und 5 aufeinander senken und über ein zuvor auf die Kanten aufgetragenes Glaslot (nicht gezeigt) zusammen gefugt werden. Dabei wird Entladungsgas in dem gefugten Entladungsgefaß 8 eingeschlossen. Figur 2 zeigt den Ofen 1 aus Figur 1. Im Unterschied zu Figur 1 ist hier jedoch noch ein zweiter Hohlkörper 10 eingebracht. Die Transporteinrichtung 6 fuhrt die Entladungsgefaßteile zunächst durch den zweiten Hohlkörper 10 und anschließend durch den ersten Hohlkörper 2 hindurch. Der zweite Hohlkörper 10 dient der Vorreinigung der Entladungsgefaßteile, die dazu in diesem Hohlkörper über eine Gaszufuhrung 11 mit Argon oder Helium gespult werden.
In Figur 3 ist der Ofen 1 aus Figur 1 gezeigt, jedoch mit verändertem (ersten) Hohlkörper 12 und einer Pump- und Wiedergewinnungseinrichtung 13 mit zwei Pumpen 14, zwei Volumenstrommessern 15 und einer an sich bekannten Einrichtung 16 zum Wiedergewinnen von Edelgasen. Der Hohlkörper 12 ist jetzt zweiteilig - mit einem oberen Deckel 17 und einem unteren Boden 18 - aufgebaut. Aufgrund der gewählten Perspektive sind jedoch keine der "äquatorial" umlaufenden Nahte abgebildet. Boden 18 und Deckel 17 liegen über flachige Kanten (nicht gezeigt) aneinander an. In den Kanten des Bodens 18 ist ein entlang der gesamten Kantenlange verlaufender Vakuumkanal eingebracht. Ein solcher Vakuumkanal ist etwa aus der DE 102 25 612 Al bekannt .
Hier wird durch Gaszufuhrungen 9 entweder Neon alleine oder ein Gemisch aus Neon und Xenon in den Hohlkörper 12 eingebracht. Auch in diesem Hohlkörper 12 herrscht Überdruck. Das in ihm enthaltene Gas strömt daher aus Offnungen 3 und 7 und durch die umlaufenden Nahte aus. Zusatzlich sind Abpumpoffnungen 19 vorgesehen, über die das Gas aus dem Hohlkörper 12 über die Pump- und Wiedergewin- nungseinrichtung 13 abgepumpt und wiedergewonnen wird. Je nach Gaszusammensetzung werden entweder Xenon alleine, Neon alleine oder sowohl Xenon als auch Neon wiedergewonnen .
Entlang der Lange des Hohlkörpers 12 sind zwei weitere Gaszufuhrungen 20 vorhanden, und zwar je eine zwischen einer der Abpumpoffnung 19 und der nachstliegenden Öffnung 3 bzw. 7. Über diese weiteren Gaszufuhrungen 20 wird zusatzliches Argon, Helium oder Neon in den Hohlkörper 12 eingebracht. Das Gas aus diesen weiteren Gaszufuhrungen 20 strömt zum einen zu den Abpumpoffnungen 19 und zum an- deren zu der jeweils nachstliegenden Öffnung 3 bzw. 7. So wird der zentrale Fugebereich des Hohlkörpers 12 zusätzlich vor Verunreinigungen aus dem Ofen 1 geschützt.
Die Figuren 4 und 5 verdeutlichen die bereits verschiedentlich angesprochene Dimensionierung der Eingangs- und Ausgangsoffnung (bzw. ersten und zweiten Offnung) im Verhältnis zu den Maßen der Entladungsgefaßteile bzw. des Entladungsgefaßes . Bei der Einfahroffnung geht es dabei, wie Figur 4 verdeutlicht, um eine größere Hohe und einen größeren Offnungsquerschnitt der Entladungsgefaßteile. Dort ist die Einfahroffnung 3 in Transportrichtung gesehen als Rechteck dargestellt, wobei der Hohlkörper 2 in schematischer Weise als etwas größeres Rechteck gezeichnet ist. In der Einfahroffnung 3 erkennt man relativ weit oben angeordnet den Entladungsgefaßdeckel 4 (vgl. Figur 1) und unten angeordnet und schematisch eingezeichnet das Transportband 6 (vgl. Figur 1). Auf dem Transportband 6 liegt der Entladungsgefaßboden 5 (vgl. Figur 1), der von einer Glaslotschicht 21 am Rand abgedeckt ist. Darüber sind links und rechts am Rand aufrecht stehende Abstand- halter 22 aus SF6-GIaS eingezeichnet, die wahrend des Fugeprozesses erweichen und ein kontrolliertes Absinken des Entladungsgefaßdeckels 4 auf den Boden 5 erlauben. Als Hohe der Entladungsgefaßteile gilt hier die durch diesen Aufbau unvermeidliche Gesamthohe aus Entladungsgefaßboden 5, Glaslotschicht 21, SF6-Abstandhalter 22 und Entla- dungsgefaßdeckel 4, die insgesamt die lichte Hohe der Öffnung 3 zu schätzungsweise etwa 90 % füllt. Hinsichtlich der Querschnittsflachen gilt im Prinzip das Gleiche: Gerechnet wird für die Entladungsgefaßteile die in dieser in Transportrichtung gesehenen Ansicht erkennbare Projek- tionsflache der Entladungsgefaßteile zzgl. der zwischen Entladungsgefaßboden 3 und -deckel 4 und den SF6- Abstandhaltern 22 eingeschlossenen Flache. Diese betragt hier schätzungsweise gut H der Querschnittsflache der Öffnung 3 oberhalb des Transportbandes 6.
Figur 5 zeigt in ahnlicher Weise die Ausfahroffnung 7, die niedriger als die Einfahroffnung 3 gestaltet ist. Nach dem Fugeschritt sind die SF6-Abstandhalter 22 zusammengedruckt und hier nicht dargestellt, so dass jetzt der Entladungsgefaßdeckel 4 auf dem Entladungsgefaßboden 5 bzw. der Glaslotschicht 21 aufliegt. Das gesamte Entla- dungsgefaß 8 ist also niedriger als der Aufbau in Figur 4. Daran ist die Öffnung 7 angepasst, was jedoch nicht notwendigerweise der Fall sein muss. Hier macht die Hohe des Entladungsgefaßes 8 etwa H der lichten Hohe der Off- nung 7 über dem Transportband 6 aus. Die Querschnittsflache des Entladungsgefaßes 8 betragt noch deutlich mehr als die Hälfte der Querschnittsflache der Öffnung 7 über dem Transportband 6.

Claims

Ansprüche
1. Ofen (1) zum Herstellen einer Entladungslampe mit einer äußeren Ofenwand,
gekennzeichnet durch einen von der äußeren Ofenwand umgebenen ersten Hohlkörper (2, 12) zur Aufnahme von Entladungsgefäßteilen (4, 5) und zum Fügen derselben zu einem Entladungsgefäß (8) für die Entladungslampe und
eine Entladungsgaszufuhr (9) in den ersten Hohlkörper (2, 12) zum Fluten desselben mit einem Entla- dungsgas, sodass ein in dem ersten Hohlkörper (2, 12) gefügtes Entladungsgefäß (8) mit diesem Gas gefüllt ist.
2. Ofen (1) nach Anspruch 1, ausgelegt als Durchlaufofen (1), bei dem die Wand des ersten Hohlkörpers (2, 12) eine erste Öffnung (3) zum Einbringen von Entladungsgefäßteilen (4, 5) und eine zweite Öffnung (7) zum Ausbringen von Entladungsgefäßen (4, 5) aufweist .
3. Ofen (1) nach Anspruch 2, der dazu ausgelegt ist, ein Gas an der ersten Öffnung (3) und an der zweiten
Öffnung (7) von außen an dem ersten Hohlkörper (2, 12) so entlang strömen zu lassen, dass diese Gasströme das Eindringen von Verunreinigungen in den ersten Hohlkörper (2, 12) behindern und Verunreini- gungen aus dem Inneren des ersten Hohlkörpers (2, 12) mitnehmen können.
4. Ofen (1) nach Anspruch 2 oder 3, bei dem der Ofen
(1) einen zweiten Hohlkörper (10) mit einer Gaszufuhr (11) für ein Spulgas zum Spulen der Entladungs- gefaßteile (4, 5), wenn er von diesen durchlaufen wird, aufweist.
5. Ofen (1) nach einem der Ansprüche 2 bis 4, bei dem der erste Hohlkörper (2, 12) entlang der Durchlaufrichtung um mindestens einen Faktor 50 langer ist als hoch.
6. Ofen (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche mit einer Pumpe (14) zum Pumpen von Gasen aus dem ersten Hohlkörper (2, 12) .
7. Ofen (1) nach einem der Ansprüche 2 bis 5 und nach Anspruch 6, bei dem der erste Hohlkörper (2, 12) zwei an eine Pumpe (14) angeschlossene Abpumpoffnun- gen (19) aufweist, wobei eine erste der Abpumpoff- nungen (19) naher an der ersten Öffnung (3) zum Einbringen von Entladungsgefaßteilen (4, 5) liegt und die zweite der Abpumpoffnungen (19) naher an der zweiten Öffnung (7) zum Ausbringen von Entladungsge- faßen (8) liegt.
8. Ofen (1) nach Anspruch 7 mit zumindest zwei weiteren Gaszufuhrungen (20) in den ersten Hohlkörper, wobei eine erste der Gaszufuhrungen (20) zwischen der ers- ten Abpumpoffnung (19) und der ersten Öffnung (3) des Hohlkörpers (2, 12) angeordnet ist und eine zweite der weiteren Gaszufuhrungen (20) zwischen der zweiten Abpumpoffnung (19) und der zweiten Öffnung (7) desselben angeordnet ist.
9. Ofen (1) nach einem der Ansprüche 6 bis 8 mit einer Einrichtung (16) zur Ruckgewinnung von Bestandteilen des Entladungsgases.
10. Ofen (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei dem der Hohlkörper (2, 12) aus mehreren Teilen zusammengesetzt ist.
11. Verfahren zum Herstellen einer Entladungslampe in einem Ofen (1) mit einer äußeren Ofenwand,
gekennzeichnet durch die Schritte:
Aufnahme von Entladungsgefaßteilen (4, 5) in einen von der äußeren Ofenwand umgebenen ersten Hohlkörper (2, 12),
Fugen der Entladungsgefaßteile (4, 5) zu einem Ent- ladungsgefaß (8) für die Entladungslampe in dem ers- ten Hohlkörper (2, 12) und
Fluten des Hohlkörpers (2, 12) mit einem Entladungsgas über eine Entladungsgaszufuhr (9) vor dem Ab- schluss des Fugens, sodass ein in dem Hohlkörper (2, 12) gefugtes Entladungsgefaß (8) mit diesem Gas ge- füllt ist.
12. Verfahren nach Anspruch 11, bei dem das Entladungsgas, mit dem der Hohlkörper (2, 12) geflutet wird, wahrend des Flutens aus den Offnungen (3, 7) des Hohlkörpers (2, 12) herausströmt.
13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, bei dem der Ofen
(1) als Durchlaufofen (1) ausgelegt ist, die Entla- dungsgefaßteile (4, 5) entgegen ihrer Transportrich- tung mit einem Gas umströmt werden und das Entla- dungsgefaß in Richtung seiner Transportrichtung mit einem Gas umströmt wird.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, bei dem eine erste Öffnung (3) des ersten Hohlkörpers
(2, 12) zum Einbringen von Entladungsgefaßteilen (4, 5) und ggf. eine zweite Öffnung (7) zum Ausbringen von Entladungsgefaßen (4, 5) über einer Transportebene der Entladungsgefaßteile (4, 5) und Entla- dungsgefaße (4, 5) eine lichte Hohe von höchstens dem 5-fachen der Dicke der Entladungsgefaßteile (4, 5) bzw. Entladungsgefaße (4, 5), die hindurch gefahren werden, aufweist.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 14, bei dem eine erste Öffnung (3) des ersten Hohlkörpers
(2, 12) zum Einbringen von Entladungsgefaßteilen (4, 5) und ggf. eine zweite Öffnung (7) zum Ausbringen von Entladungsgefaßen (4, 5) über einer Transportebene der Entladungsgefaßteile (4, 5) und Entla- dungsgefaße (4, 5) eine Querschnittsflache senkrecht zur Transportrichtung von höchstens dem 5-fachen der entsprechenden Querschnittsflache der Entladungsge- faßteile (4, 5) bzw. Entladungsgefaße (4, 5), die hindurch gefahren werden, aufweist.
16. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 15, ausgelegt zum Herstellen eines Flachstrahlers.
17. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 16 unter Verwendung eines Ofens (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 10.
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