EP1511870B1 - Hartmetall-substratkörper und verfahren zu dessen herstellung - Google Patents

Hartmetall-substratkörper und verfahren zu dessen herstellung Download PDF

Info

Publication number
EP1511870B1
EP1511870B1 EP03740063A EP03740063A EP1511870B1 EP 1511870 B1 EP1511870 B1 EP 1511870B1 EP 03740063 A EP03740063 A EP 03740063A EP 03740063 A EP03740063 A EP 03740063A EP 1511870 B1 EP1511870 B1 EP 1511870B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
hard metal
substrate body
phase
atmosphere
binder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
EP03740063A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP1511870A1 (de
Inventor
Dieter Kassel
Werner Daub
Klaus Dreyer
Klaus RÖDIGER
Walter Lengauer
Mariann Lovonyak
Vera Ucakar
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kennametal Widia Produktions GmbH and Co KG
Original Assignee
Kennametal Widia Produktions GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kennametal Widia Produktions GmbH and Co KG filed Critical Kennametal Widia Produktions GmbH and Co KG
Publication of EP1511870A1 publication Critical patent/EP1511870A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP1511870B1 publication Critical patent/EP1511870B1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C23C30/005Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/10Sintering only
    • B22F3/1003Use of special medium during sintering, e.g. sintering aid
    • B22F3/1007Atmosphere
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/10Sintering only
    • B22F3/1003Use of special medium during sintering, e.g. sintering aid
    • B22F3/1007Atmosphere
    • B22F3/101Changing atmosphere
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • C22C1/05Mixtures of metal powder with non-metallic powder
    • C22C1/051Making hard metals based on borides, carbides, nitrides, oxides or silicides; Preparation of the powder mixture used as the starting material therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C29/00Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides
    • C22C29/02Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides based on carbides or carbonitrides
    • C22C29/06Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides based on carbides or carbonitrides based on carbides, but not containing other metal compounds
    • C22C29/08Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides based on carbides or carbonitrides based on carbides, but not containing other metal compounds based on tungsten carbide
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F2998/00Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F2999/00Aspects linked to processes or compositions used in powder metallurgy

Definitions

  • the invention relates to a hard metal substrate body consisting of a WC hard material phase and a 3- to 25% by mass binder phase, which in addition to at least one of the binder metals Fe, Co and / or Ni still up to 15% by mass (based on the binder phase) contains dissolved dopants derived from the group Al, Cr, Mo, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta.
  • the invention further relates to a method of such a hard metal substrate body, in which the starting mixture pretreated powder metallurgy, pre-pressed into a green compact and finally heated and sintered in an atmosphere of a furnace.
  • the dopants which are usually added in the form of carbides, nitrides or carbonitrides of the elements Ti, Zr, Hf, V, Ta or alloys of these elements, in particular Ti 2 AlN or Ti 2 AlC in the starting powder mixture, act as Grain growth inhibitors that ensure that the produced WC-Co base alloy remains fine-grained and uniform to ensure optimum hardness and wear resistance.
  • a surface coating is still not dispensable.
  • the problem of poor adhesion of the coating on the substrate body is, for example, too high a binder content on the substrate body surface.
  • a hard metal or cermet body having a hard material phase of WC and / or at least one carbide, nitride, carbonitride and / or oxicarbonitride at least one of the elements IVa, Va or VIa group of the Periodic Table and a binder metal phase of Fe, Co and / or Ni, the proportion of which is 3 to 25% by mass, proposed in which protrude from the body surface by 2 to 20 microns WC crystallites.
  • a nitrogen and optionally carbon-containing atmosphere with a pressure between 10 3 and 10 7 Pa is set, then optionally heated to sintering temperature and maintained over a holding time of at least 20 minutes or in this period of at least 20 min only a slight cooling of a maximum of 2 ° C / min performed and then cooled.
  • the set nitrogen atmosphere is maintained until at least 1000 ° C is reached in the cooling phase.
  • a mixture of hard materials and binder metals containing at least 0.2% by mass of nitrogen is pre-pressed and the green compact produced thereby is heated to sintering temperature, the inert gas or vacuum atmosphere set during heating at least temporarily starting from a temperature between 1200 ° C. and the sintering temperature is replaced by the entry of nitrogen-containing gases under a pressure of 10 3 to 10 7 Pa against this gas pressure atmosphere.
  • the sintering holding time is at least 30 minutes; when heating from 1200 ° C or later, the nitrogen pressure should be maintained until at least 1000 ° C are reached in the furnace atmosphere during cooling.
  • Such layers may e.g. consist of diamond, amorphous carbon, cubic boron nitride, carbon nitrides, oxides and metallic hard materials of carbides, nitrides, carbonitrides and oxicarbonitrides, in particular the elements of the IVa to VIa group of the Periodic Table.
  • the hard metal substrate body according to claim 1, wherein according to the invention, the sum of the binding metals to the substrate body at a depth of 0 to 1 micron drops to less than half the concentration of binder metals in the substrate body interior.
  • the percentage of dopants in the cemented carbide consisting of WC and a binder phase is according to the invention 4% limited by mass, likewise limited is the percentage of a possible third cubic phase to a maximum of 4% by volume.
  • the amount of the dopants should be limited to 15 mass% based on the binder metal phase, which in turn may be 3 mass% to 25 mass% of the total amount.
  • the remainder namely 75 to 97% by mass, consists of the pure WC hard material phase.
  • the concentration of the binder phase gradually decreases in said near-surface region, whereas the concentration of the dopants, the carbon and the nitrogen gradually increases.
  • the grain size of the WC in the carbide substrate body is a maximum of 1.5 microns.
  • the hard metal substrate body described above is suitable for layers of diamond, but also of carbides, nitrides and / or carbonitrides of titanium, zirconium and / or hafnium or of Al 2 O 3 , HfO 2 , ZrO 2 , mixtures of oxides, amorphous Carbon, cubic boron nitride or carbon nitrides.
  • nitrides of the metallic dopant e.g. TiN, CrN or VN, enriched.
  • the starting powder mixture of the desired hard metal composition is pretreated by powder metallurgy in a manner known in the art, pre-pressed into a green body and until heated to the sintering temperature, wherein in the heating phase after reaching the eutectic, but at the latest after reaching the sintering temperature, the vacuum or inert gas atmosphere replaced by an N 2 atmosphere with an N 2 pressure ⁇ 10 5 Pa and at least until reaching the sintering temperature or until is maintained at the end of the holding time, in which the body is kept at sintering temperature.
  • the nitrogen treatment after the final sintering by subjecting the finished sintered body below the eutectic temperature to an N 2 atmosphere under a pressure p of 10 5 Pa ⁇ p ⁇ 10 7 Pa over at least 10 min becomes.
  • This treatment can be connected either in the cooling phase after sintering or in a second step, possibly also following a grinding and / or blast treatment of the finished sintered body.
  • the nitrogen atmosphere may be introduced either by introducing nitrogen gas into the furnace atmosphere or by introducing precursors, i. N-containing gases are set, from which nitrogen forms at the corresponding temperature in the gas atmosphere in situ.
  • the body is heated to 1250 ° C and held this temperature for a period of at least 20 min, before proceeding with the heating to the sintering temperature. Further preferably, the body is heated in the warm-up first in a vacuum and only from about 1250 ° C in an inert gas atmosphere, for example of argon, to the sintering temperature, upon reaching the nitrogen atmosphere is set at a pressure of at least 10 4 Pa.
  • the heating and cooling rates are a maximum of 10 ° C / min, preferably, the corresponding rate is between 2 ° C / min and 5 ° C / min.
  • the starting mixture additionally up to 15% by weight, based on the binder phase, of carbides, nitrides, carbonitrides of the elements of the IVA, VA and VLA group of the Periodic Table or of Al or complexed carbides, complex nitrides and / or complex carbonitrides of the form Ti 2 AlC, Ti 2 AlN, Cr 2 AlN, contain Cr 2 AlC, but preferably only in each case in an amount as maximum in the binder phase can be solved.
  • This solubility limit is determined in each case by the sum of the dissolved elements and can change for each element by adding other soluble elements.
  • the dopants or their carbides, nitrides or carbonitrides in the direction of the substrate surface and displace by enrichment of corresponding hard particles, which additionally by the combination of existing nitrogen and at least one of the metals can be amplified, the binder phase into deeper regions, which thereby depleted at the surface.
  • the nitrogen treatment also acts on the carbon activity due to the fact that nitrogen is dissolved in the binder phase, which in turn affects the precipitation of hard material phases. This also allows a hard material phase enrichment in the surface to be controlled.
  • Table 1 sample composition sintered body Composition (mass%) A 92% WC, 7.5 Co, 0.5 Ti 2 AlC B 91.75% WC, 0.75% Cr 3 C 2 , 3.75% Co, 3.75% Ni C 91.75% WC, 0.75% Cr 3 C 2 , 4.5% Co, 1.5% Ni, 1.5% Fe D 91.75% WC, 0.75% Cr 3 C 2 , 7.5% Co e 91.4% WC, 0.75% Cr 3 C 2 , 0.35% Mo 2 C, 7.5% Co
  • the aforementioned alloy A was first heated to 1250 ° C at a heating rate of 5 ° C / min. This temperature was maintained for about 30 minutes, after which an argon gas atmosphere was set at a pressure of 5 ⁇ 10 3 Pa. At the same time, the heating of the sintered body has been continued at a heating rate of 5 ° C / min, wherein when reaching 1480 ° C, an N 2 pressure of 7 x 10 4 Pa was set, which maintained even after reaching the sintering temperature of 1480 ° C. remained. The sintering time was about 1 hour, after which the oven has been switched off.
  • the N 2 treatment influenced the near-surface regions at a depth of up to 1 ⁇ m such that there the binder phase, ie the sum of the binder metals, depleted and a marked accumulation of the hard material phase at the surface and in the near-surface regions (see Fig. 2a). This could both be detected in the metallographic cross section as well as purely optically by a color change.
  • 2b shows the ratio of the dopant Ti to the binder metal Co. It can be seen that the doping element in relation to the binder metal accumulates strongly towards the surface of the substrate body and a very thin Ti (C, N) layer is present on the surface.
  • FIG. 3a shows a semi-quantitative GDOS depth profile. It can be clearly seen that the sum of the binder metals (Fe, Co, Ni) on the outer surface decreases.
  • FIG. 3b shows a ratio Cr / (Co + Fe + Ni) which increases significantly to the surface at lower penetration depths (about 0.1 ⁇ m). This means that in the binder in the graded edge zone, which is affected by nitrogen, the Cr content in the binder phase is increased relative to the other elements of the binder phase over the non-nitrogen affected inner regions of the alloy. The nitrogen content increases strongly in the peripheral zone and the carbon and tungsten content increases slightly toward the surface.
  • Samples A to F of Table 1 were subjected to various annealing and sintering at elevated nitrogen pressure as shown in Table 2.
  • Table 2 Sintered profiles for Samples A to F of Table 1 sample sintering profile B Cycle 7 C Cycle 7 A Cycle 7 C php_1 A php_1 D php_2 e php_2 C php_2 e php_2 B php_2 D php_2a F php_2a D php_2b F php_2b.
  • the sintered profiles are shown in Table 3 and FIG. 4.
  • FIG. 5 shows the decrease in the sum of the binding metals in near-surface regions.
  • the sum of the binding metals again shows the same characteristics as in the case of the same vacuum-sintered variety.
  • the N and C contents are increased toward the surface as in the case of the reduced-pressure sintered alloy C.
  • Fig. 5b shows a marked increase in the Cr / (Co + Ni + Fe) concentration ratio to near-edge zones.
  • the edge zone of the finished cemented carbide sintered body can be adjusted so that not only an accumulation of dopants, but even the formation of a diffusion layer of nitrides is promoted. If, for example, Cr or a Cr compound is used as a doping, then no vacuum sintering with subsequent N 2 gas phase adjustment under small pressures ( ⁇ 105 Pa) results in no chromium nitride layer or enrichment because chromium nitrides do not form at low nitrogen pressures.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

  • Die Erfindung betrifft einen Hartmetall-Substratkörper, bestehend aus einer WC-Hartstoffphase und einer 3- bis 25 Massen%igen Binderphase, die neben mindestens einem der Bindemetalle Fe, Co und/oder Ni noch bis zu 15 Massen% (bezogen auf die Binderphase) gelöste Dotierungsmittel enthält, die aus der Gruppe Al, Cr, Mo, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta stammen.
  • Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren eines solchen Hartmetall-Substratkörpers, bei dem die Ausgangsmischung pulvermetallurgisch vorbehandelt, zu einem Grünling vorgepreßt und abschließend in einer Atmosphäre eines Ofens erwärmt und gesintert wird.
  • In den genannten Hartmetallzusammensetzungen wirken die Dotierungen, die zumeist in Form von Carbiden, Nitriden oder Carbonitriden der Elemente Ti, Zr, Hf, V, Ta oder Legierungen aus diesen Elementen, insbesondere Ti2AlN oder Ti2AlC in der Ausgangspulvermischung zugegeben werden, als Kornwachstumshemmer, die gewährleisten, dass die hergestellte WC-Co-Basislegierung feinkörnig und gleichmäßig bleibt, um eine optimale Härte und Verschleißfestigkeit gewährleisten zu können.
  • Ebenso ist es seit langem bekannt, dass die Verschleißeigenschaften von Hartmetallkörpern durch Aufbringen einer oder mehrerer Oberflächenschichten aus Carbiden, Nitriden, Carbonitriden, Boriden und/oder Oxiden oder Diamant beeinflußt werden kann. Schon früh, nämlich in der DE-A 24 33 737 oder der DE-A-25 25 185 sind chemische oder physikalische Beschichtungsverfahren erwähnt worden.
  • In der DE 27 17 842 A1 wird hierzu ausgeführt, dass es zur Einsparung des getrennten Arbeitsganges, der zu Schichtaufbringung mittels CVD oder PVD erforderlich sei, sinnvoll wäre, den Hartmetallkörper nach dem Fertigsintern bei hohen Temperaturen einem Druck zwischen 2 bar (2 x 106 Pa) und 5000 bar (5 x 108 Pa) unter stickstoffhaltiger Atmosphäre auszusetzen. Die Behandlungstemperatur soll zwischen 800°C und einer oberen Grenze liegen, die mindestens 50°C unter der maximalen Sintertemperatur liegt. Mit dieser "Oberflächenaufstickung", die bis zu einer Tiefe von 300 µm wirksam sein soll, sollte ein verbessertes Verschleißverhalten sowie eine verbesserte Oxidationsbeständigkeit und eine Erniedrigung der Diffusions- und Klebeneigung des Hartmetalles bei seiner Wechselwirkung mit dem Verschleißpartner gewährleistet werden. Für viele praktische Anwendungen ist jedoch nach wie vor nicht auf eine Oberflächenbeschichtung verzichtbar. Insbesondere bei Diamantbeschichtungen, aber auch Beschichtungen anderer Zusammensetzung stellt sich das Problem der schlechten Haftfestigkeit der Beschichtung auf dem Substratkörper. Ursache für eine mangelhafte Haftung ist beispielsweise ein zu hoher Bindergehalt an der Substratkörperoberfläche.
  • In der DE 199 22 059 A1 wird ein Hartmetall- oder Cermet-Körper mit einer Hartstoffphase aus WC und/oder mindestens einem Carbid, Nitrid, Carbonitrid und/oder Oxicarbonitrid mindestens eines der Elemente IVa-, Va- oder VIa-Gruppe des Periodensystems und einer Bindemetallphase aus Fe, Co und/oder Ni, deren Anteil 3 bis 25 Massen% beträgt, vorgeschlagen, bei der aus der Körperoberfläche um 2 bis 20 µm WC-Kristallite herausragen. Dies soll dadurch erreicht werden, indem entweder eine stickstofffreie Mischung aus Hartstoffen und Bindemetallen zu einem Grünling vorgepreßt und in einer Vakuum- oder Inertgasatmosphäre auf eine zwischen 1200°C und der Sintertemperatur liegende Temperatur aufgeheizt wird, wonach spätestens bei
  • Erreichen der Sintertemperatur zumindest zeitweise eine stickstoff- und ggf. kohlenstoffhaltige Atmosphäre mit einem Druck zwischen 103 und 107 Pa eingestellt wird, anschließend ggf. auf Sintertemperatur aufgeheizt und diese über eine Haltezeit von mindestens 20 min aufrechterhalten oder in dieser Zeit von mindestens 20 min nur eine geringe Abkühlung von maximal 2°C/min durchgeführt und anschließend abgekühlt wird. Beim Aufheizen oder spätestens ab Erreichen der Sintertemperatur bleibt die eingestellte Stickstoffatmosphäre erhalten, bis in der Abkühlphase mindestens 1000°C erreicht wird.
  • Alternativ hierzu wird eine mindestens 0,2 Massen% Stickstoff enthaltende Mischung aus Hartstoffen und Bindermetallen vorgepreßt und der hierdurch hergestellte Grünling auf Sintertemperatur erwärmt, wobei die während des Aufheizens eingestellte Inertgas- oder Vakuumatmosphäre ab Erreichen einer Temperatur zwischen 1200°C und der Sintertemperatur zumindest zeitweise durch Einlaß von Stickstoff enthaltenden Gasen unter einem Druck von 103 bis 107 Pa gegen diese Gasdruckatmosphäre ausgetauscht wird. Die Sinterhaltezeit beträgt mindestens 30 min; bei Aufheizen ab 1200°C oder später soll der Stickstoff-Druck aufrechterhalten bleiben, bis in der Ofenatmosphäre bei der Abkühlung mindestens 1000°C erreicht sind.
  • Das vorstehende Verfahren setzt jedoch eine Hartstoffzusammensetzung voraus, bei der in erheblichem Maße neben WC und dem Binder noch erhebliche Mengen weiterer Carbide, Nitride oder Carbonitride anwesend sein müssen.
  • Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen verbesserten, im wesentlichen zweiphasigen Hartmetallkörper der eingangs genannten Art und ein Verfahren zu seiner Herstellung anzugeben, der gegenüber den nach dem Stand der Technik bekannten Substratkörpern eine bessere Haftung für Oberflächenbeschichtungen, die aus der Gasphase abgeschieden werden, liefert. Solche Schichten können z.B. aus Diamant, amorphem Kohlenstoff, kubischem Bornitrid, Kohlenstoffnitriden, Oxiden sowie metallischen Hartstoffen aus Carbiden, Nitriden, Carbonitriden und Oxicarbonitriden, insbesondere der Elemente der IVa- bis VIa-Gruppe des Periodensystems bestehen.
  • Diese Aufgabe wird durch den Hartmetall-Substratkörper nach Anspruch 1 gelöst, bei dem erfindungsgemäß die Summe der Bindemetalle zum Substratkörper hin in einer tiefe von 0 bis 1 µm auf weniger als die Hälfte der Konzentration der Bindemetalle im Substratkörperinneren abfällt. Der prozentuale Anteil an Dotierungsmitteln im Hartmetall, das aus WC und einer Binderphase besteht, ist erfindungsgemäß auf 4 Massen% begrenzt, Ebenso limitiert ist der prozentuale Anteil einer etwaigen dritten kubischen Phase auf maximal 4 Vol%.
  • Im Unterschied zu den nach dem Stand der Technik geschaffenen Hartmetallkörpern wird nicht nur eine bloße Binder-Verarmung in den oberflächennahen Randzonen angestrebt, sondern eine Randzone, bei der die durch Binderverarmung geschaffenen "Freiräume" durch Dotierungsmittel "aufgefüllt" werden. Die Menge der Dotierungsmittel soll jedoch auf 15 Massen%, bezogen auf die Bindemetallphase, beschränkt werden, die ihrerseits 3 Massen% bis 25 Massen% der Gesamtmenge ausmachen kann. Der Rest, nämlich 75 bis 97 Massen%, besteht aus der reinen WC-Hartstoffphase. Vorzugsweise nimmt die Konzentration der Binderphase in dem genannten oberflächennahen Bereich graduell ab, wohingegen die Konzentration der Dotierungsmittel, des Kohlenstoffs und des Stickstoffs graduell zunehmen.
  • Nach einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist die Korngröße des WC im Hartmetall-Substratkörper maximal 1,5 µm.
  • Insbesondere eignet sich der vorstehend beschriebene Hartmetall-Substratkörper für Schichten aus Diamant, aber auch aus Carbiden, Nitriden und/oder Carbonitriden des Titans, Zirkoniums und/oder Hafniums oder aus Al2O3, HfO2, ZrO2, Mischungen aus Oxiden, amorphem Kohlenstoff, aus kubischem Bornitrid oder Kohlenstoffnitriden.
  • Vorzugsweise sind in der oberflächennahen Randzone Nitride des metallischen Dotierungsmittels, z.B. TiN, CrN oder VN, angereichert.
  • Zur Herstellung des erfindungsgemäßen Hartmetall-Substratkörpers wird das Verfahren nach Anspruch 5 oder Anspruch 6 verwendet.
  • In der ersten Ausführungsalternative wird die Ausgangspulvermischung der gewünschten Hartmetallzusammensetzung pulvermetallurgisch in nach dem Stand der Technik bekannter Weise vorbehandelt, zu einem Grünling vorgepreßt und bis zur Sintertemperatur erwärmt, wobei in der Aufheizphase nach Erreichen des Eutektikums, aber spätestens nach Erreichen der Sintertemperatur die Vakuum- oder Inertgasatmosphäre durch eine N2-Atmosphäre mit einem N2-Druck ≤ 105 Pa ersetzt und zumindest bis zum Erreichen der Sintertemperatur oder bis zum Ende der Haltezeit, in der der Körper auf Sintertemperatur gehalten wird, aufrechterhalten wird.
  • Alternativ hierzu ist es auch möglich, die Stickstoff-Behandlung nach dem Fertigsintern vorzunehmen, und zwar indem der fertiggesinterte Körper unterhalb der eutektischen Temperatur einer N2-Atmosphäre unter einem Druck p von 105 Pa < p < 107 Pa über mindestens 10 min ausgesetzt wird. Diese Behandlung kann entweder in der Abkühlphase nach dem Sintern oder in einem zweiten Arbeitsschritt, ggf. auch im Anschluß an eine Schleif- und/oder Strahlbehandlung des fertiggesinterten Körpers angeschlossen werden.
  • Die Stickstoffatmosphäre kann entweder durch Einleitung von Stickstoffgas in die Ofenatmosphäre oder auch durch Einleitung von Präkursoren, d.h. N-haltigen Gasen, eingestellt werden, aus denen sich Stickstoff bei der entsprechenden Temperatur in der Gasatmosphäre in situ bildet.
  • Es ist allgemein bekannt, dass mit der Zeitspanne und mit der Gaszusammensetzung, bei der sich der Sinterkörper oberhalb eutektischer Temperaturen befindet, die Größe der WC-Kristallite beeinflußt werden kann. Längere Behandlungszeiten führen zu größeren WC-Kristalliten.
  • In einer bevorzugten Ausführungsvariante wird der Körper auf 1250°C erwärmt und diese Temperatur über eine Zeitdauer von mindestens 20 min gehalten, bevor mit der Aufheizung auf die Sintertemperatur fortgefahren wird. Weiterhin vorzugsweise wird der Körper in der Aufwärmphase zunächst im Vakuum und erst ab ca. 1250°C in einer Inertgasatmosphäre, z.B. aus Argon, bis zur Sintertemperatur erwärmt, bei deren Erreichen die Stickstoffatmosphäre mit eine Druck von mindestens 104 Pa eingestellt wird. Vorzugsweise liegen die Aufheiz- und Abkühlraten maximal bei 10°C/min, bevorzugt liegt die entsprechende Rate zwischen 2°C/min und 5°C/min.
  • Nach einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung sind in der Ausgangsmischung zusätzlich bis zu 15 Massen%, bezogen auf die Binderphase, Carbide, Nitride, Carbonitride der Elemente der lva-, Va- und Vla-Gruppe des Periodensystems oder des Al oder Komplexcarbide, Komplexnitride und/oder Komplexcarbonitride der Form Ti2AlC, Ti2AlN, Cr2AlN, Cr2AlC enthalten, vorzugsweise jedoch nur jeweils in einer Menge wie maximal in der Binderphase gelöst werden kann. Diese Löslichkeitsgrenze ist jeweils durch Summe der gelösten Elemente bestimmt und kann sich für jedes Element durch Zugabe anderer lösbarer Elemente ändern.
  • Bei der vorbeschriebenen Behandlung der Sinterkörper in einer Stickstoffatmosphäre unter einem Druck von 102 Pa bis 107 Pa diffundieren die Dotierungsmittel bzw. deren Carbide, Nitride oder Carbonitride in Richtung der Substratoberfläche und verdrängen durch Anreicherung von entsprechenden Hartstoffpartikeln, die noch zusätzlich durch die Kombination des vorhandenen Stickstoffes und mindestens eines der Metalle verstärkt werden kann, die Bindephase in tiefere Regionen, die dadurch an der Oberfläche verarmt. Die Stickstoffbehandlung wirkt jedoch auch aufgrund der Tatsache, dass Stickstoff in der Binderphase gelöst wird, auf die Kohlenstoffaktivität, die wiederum die Ausscheidung von Hartstoffphasen beeinflußt. Auch hierdurch kann eine Hartstoffphasenanreicherung in der Oberfläche gesteuert werden.
  • Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungsbeispielen erläutert.
  • Es zeigen
  • Fig. 1
    ein Sinterprofil für die Behandlung einer Probe,
    Fig. 2a, b
    jeweils ein halbquantitatives GDOS-Tiefenprofil der Probe A,
    Fig. 3a, b
    jeweils ein halbquantitatives GDOS-Tiefenprofil der Probe C,
    Fig. 4
    weitere Sinterprofile und
    Fig. 5a, b
    jeweils ein halbquantitatives GDOS-Tiefenprofil der Probe C, die gemäß einem Sinterprofil nach Fig. 4 unterzogen worden ist.
  • Fünf Legierungen gemäß der in der folgenden Tabelle aufgeführten Zusammensetzung wurden in üblicher Weise gemahlen, gemischt und zu einem Grünling vorgepreßt sowie anschließend einer Sinterbehandlung unterzogen, deren Sinterprofil der Fig. 1 zu entnehmen ist. Tabelle 1
    Probenzusammensetzung
    Sinterkörper Zusammensetzung (Masse%)
    A 92 % WC, 7,5 Co, 0,5 Ti2AlC
    B 91,75 % WC, 0,75 % Cr3C2, 3,75 % Co, 3,75 % Ni
    C 91,75 % WC, 0,75 % Cr3C2, 4,5 % Co, 1,5 % Ni, 1,5 % Fe
    D 91,75 % WC, 0,75 % Cr3C2, 7,5 % Co
    E 91,4 % WC, 0,75 % Cr3C2, 0,35 % Mo2C, 7,5 % Co
  • Die vorgenannte Legierung A ist mit einer Aufwärmgeschwindigkeit von 5°C/min zunächst auf 1250°C erwärmt worden. Diese Temperatur wurde etwa 30 min gehalten, wonach eine Argon-Gasatmosphäre mit einem Druck von 5 x 103 Pa eingestellt wurde. Gleichzeitig ist die Erwärmung des Sinterkörpers mit einer Aufheizgeschwindigkeit von 5°C/min fortgesetzt worden, wobei bei Erreichen von 1480°C ein N2-Druck von 7 x 104 Pa eingestellt wurde, der auch nach Erreichen der Sintertemperatur von 1480°C aufrechterhalten blieb. Die Sinterdauer betrug ca. 1 Stunde, wonach der Ofen abgeschaltet worden ist.
  • Bei dem Sinterkörper gemäß Probe A war festzustellen, dass durch die N2-Behandlung die oberflächennahen Regionen in einer Tiefe bis zu 1 µm derart beeinflußt wurden, dass dort die Binderphase, d.h. die Summe der Bindemetalle verarmte und eine deutliche Anreicherung der Hartstoffphase an der Oberfläche und in den oberflächennahen Bereichen erzeugt wurde (siehe Fig. 2a). Dies konnte sowohl im metallographischen Querschliff als auch rein optisch durch eine Farbveränderung festgestellt werden. Fig. 2b zeigt das Verhältnis des Dotierungsmittels Ti zum Bindemetall Co. Man erkennt, dass das Dotierungselement im Verhältnis zum Bindemetall sich zur Oberfläche des Substratkörpers hin stark anreichert und an der Oberfläche eine sehr dünne Ti(C,N)-Schicht vorliegt.
  • Als weiteres Beispiel für den erzielten Effekt der Modifikation der Randzone zeigt Fig. 3a ein halbquantitatives GDOS-Tiefenprofil. Man erkennt deutlich, dass die Summe der Bindemetalle (Fe, Co, Ni) an der äußeren Oberfläche abnimmt. Fig. 3b zeigt ein zur Oberfläche in geringeren Eindringtiefen (ca. 0,1 µm) deutlich ansteigendes Verhältnis Cr/(Co + Fe + Ni). Dies bedeutet, dass im Binder in der gradierten Randzone, welche durch Stickstoff beeinflußt ist, der Cr-Anteil in der Binderphase relativ zu den anderen Elementen der Binderphase gegenüber der nicht durch Stickstoff beeinflußten, inneren Bereiche der Legierung erhöht ist. Der Stickstoffgehalt nimmt in der Randzone stark, der Kohlenstoff- und Wolfram-Gehalt geringfügig zur Oberfläche hin zu.
  • Proben des Typs A bis F gemäß Tabelle 1 wurden verschiedenen Glühungen und Sinterungen bei erhöhtem Stickstoffdruck gemäß Tabelle 2 unterzogen. Tabelle 2
    Sinterprofile für die Proben A bis F der Tabelle 1
    Probe Sinterprofil
    B Zyklus 7
    C Zyklus 7
    A Zyklus 7
    C php_1
    A php_1
    D php_2
    E php_2
    C php_2
    E php_2
    B php_2
    D php_2a
    F php_2a
    D php_2b
    F php_2b.
  • Die Sinterprofile sind in Tabelle 3 sowie Fig. 4 wiedergegeben. Tabelle 3
    Tabellarische Beschreibung der Sinterprofile
    Vorbehandlung p(N2) bar max. Temperatur Haltezeit bei max. Temperatur h Abkühlbedingungen
    Zyklus 8
    dynamisches Vakuum bis max. Temperatur 5 1200°C 10 abkühlen lassen = 250°C/min
    Zyklus 7
    dynamisches Vakuum bis max. Temperatur 25 1280°C 10 abkühlen lassen = 250°C/min
    php_1
    dynamisches Vakuum bis max. Temperatur 25 1400°C 1 bis 1200°C mit 5°/min dann abkühlen lassen = 250°C/min
    php_2
    dynamisches Vakuum bis 1200°C 25 bei 1200°C 1400°C 1 bis 1200°C mit 5°/min dann abkühlen lassen = 250°C/min
    php_2a
    dynamisches Vakuum bis 1200°C 25 bei 1200°C 1400°C 2 bis 1200°C mit 5°/min dann abkühlen lassen = 250°C/min
    php_2b
    dynamisches Vakuum bis 1200°C 25 bei 1200°C 1400°C 4 bis 1200°C mit 5°/min dann abkühlen lassen = 250°C/min
  • Ein halbquantitatives GDOS-Tiefenprofil der Probe C ist in Fig. 5 dargestellt, welches die Abnahme der Summe der Bindemetalle in oberflächennahen Bereichen zeigt. Die Summe der Bindemetalle zeigt wieder die gleiche Charakteristik wie im Falle der gleichen vakuumgesinterten Sorte. Auch der N- und der C-Anteil ist wie im Falle der unter vermindertem Druck gesinterten Legierung C zur Oberfläche hin erhöht. Fig. 5b zeigt einen deutlichen Anstieg der Cr/(Co + Ni + Fe)-Konzentrationsverhältnisses zu randnahen Zonen.
  • Durch die Wahl der Dotierungselemente bzw. deren Verbindungen und auch durch Wahl des Stickstoffdruckes kann die Randzone des fertigen Hartmetall-Sinterkörpers so eingestellt werden, dass nicht nur eine Anreicherung an Dotierungsmitteln, sondern sogar die Bildung einer Diffusionsschicht aus Nitriden gefördert wird. Wird beispielsweise Cr oder eine Cr-Verbindung als Dotierung eingesetzt, so entsteht bei einer Vakuumsinterung mit späterer N2-Gasphaseneinstellung unter kleinen Drücken (< 105 Pa) keine Chromnitrid-Schicht oder -Anreicherung, weil sich Chromnitride bei geringen Stickstoffdrücken nicht bilden. Hingegen kann mittels einer Dotierung einer V- oder Ti-haltigen Phase die Bildung von TiN oder VN oder von Ti(C,N) oder V(C,N) unter denselben Bedingungen hervorgerufen werden, weil Vanadiumnitride bzw. -carbonitride bereits bei geringen Stickstoffdrücken ausgebildet werden.

Claims (11)

  1. Hartmetall-Substratkörper, bestehend aus einer WC-Hartstoffphase und einer 3- bis 25 Massen%igen Binderphase, die neben mindestens einem der Bindemetalle Fe, Co und/oder Ni noch bis zu 15 Massen% (bezogen auf die Binderphase) gelöste Dotierungsmittel enthält, die aus der Gruppe Al, Cr, V, Nb, Ta, Ti, Zr, Hf bestehen,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass der prozentuale Anteil aller Dotierungsmittel im Hartmetall auf maximal 4 Massen% begrenzt ist, dass der Anteil einer kubischen Phase im Hartmetall kleiner als 4 Vol% ist und dass der. Bindemetallgehalt in einer Hartmetall-Substratkörper-Randzone von bis zu 1 µm, vorzugsweise bis zu 0,5 µm, auf weniger als das 0,5-fache des Bindergehaltes im Substratkörperinneren abfällt, wobei die Konzentration der Binderphase zur Substraktkörperoberfläche hin graduell abnimmt und die Konzentration des Dotierungsmittels in entsprechender Weise graduell zunimmt.
  2. Hartmetall-Substratkörper nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Korngröße des WC ≤ 1,5 µm beträgt, wobei bei WC-Feinstkorn-Hartmetallen (Korngröße ≤ 0,8 µm) und/oder bei WC-Ultrafeinstkorn-Hartmetallen (Korngröße ≤ 0,5 µm) vorzugsweise Cr, V und/oder Ta als Dotierungsmittel enthalten sind.
  3. Hartmetall-Substratkörper nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass auf der Substratkörperoberfläche mindestens eine Schicht aus einem Carbid, Nitrid und/oder Carbonitrid des Ti, Zr und/oder Hf und/oder aus Al2O3, HfO2, ZrO2, Oxiden, amorphem Kohlenstoff, aus Diamant, kubischem Bornitrid, Kohlenstoffnitrid (CNx) oder anderen mindestens eines der Elemente B, C, N und/oder O aufweisenden Verbindungen aufgebracht ist.
  4. Hartmetall-Substratkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet dass in der oberflächennahen Randzone Nitride oder Carbonitride des metallischen Dotierungsmittels angereichert sind.
  5. Verfahren zur Herstellung des Hartmetall-Substratkörpers nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem die Ausgangsmischung pulvermetallurgisch vorbehandelt, zu einem Grünling vorgepreßt und abschließend in der Atmosphäre eines Ofens erwärmt und gesintert wird, dadurch gekennzeichnet, dass in der Aufheizphase nach Erreichen des Eutektikums, aber spätestens nach Erreichen der Sintertemperatur die Vakuum- oder Inertgasatmosphäre durch eine N2-Atmosphäre mit einem N2-Druck ≤ 105 Pa ersetzt und zumindest bis zum Erreichen der Sintertemperatur aufrechterhalten wird.
  6. Verfahren zur Herstellung des Hartmetall-Substratkörpers nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem die Ausgangsmischung pulvermetallurgisch vorbehandelt, zu einem Grünling vorgepreßt und abschließend in der Atmosphäre eines Ofens erwärmt und gesintert wird, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Fertigsintern oder ggf. in einer Endbehandlung unterhalb der eutektischen Temperatur der Sinterkörper einer N2-Atmosphäre unter einem Druck (p) von 105 Pa < p < 107 Pa über mindestens 10 min ausgesetzt wird.
  7. Verfahren nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Stickstoffatmosphäre durch Einleitung von Präkursoren, d.h. N-haltigen Gasen eingestellt wird, wobei sich Stickstoff in der Gasatmosphäre in situ bildet.
  8. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass bis auf 1250°C während der Aufheizphase erwärmt und diese Temperatur eine Zeitdauer von mindestens 20 min, vorzugsweise mehr als 1 h, gehalten wird, bevor mit der Aufheizung auf die Sintertemperatur fortgefahren wird.
  9. Verfahren nach einem der Ansprüche 5, 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass zunächst in der Aufwärmphase bei etwa 1200°C das bisher bestehende Vakuum durch eine Inertgasatmosphäre, vorzugsweise bei einem Druck von 103 Pa bis 104 Pa, und erst bei Erreichen der Sintertemperatur die Stickstoffenthaltende Atmosphäre bei höherem Druck, vorzugsweise ≥ 104 Pa eingestellt wird.
  10. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Aufheiz- und Abkühlrate bis zu 10°C/min beträgt, vorzugsweise zwischen 2°C/min und 5°C/min liegt.
  11. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass in der Ausgangsmischung bis zu 15 Massen% der Binderphase zusätzliche Carbide, Nitride, Carbonitride der Elemente der IVa- oder Vla-Gruppe des Periodensystems oder des Al oder Komplexcarbide, Komplexnitride und/oder Komplexcarbonitride der Form Ti2AlC, Ti2AlN, Cr2AlN, Cr2AlC enthalten sind.
EP03740063A 2002-06-10 2003-06-04 Hartmetall-substratkörper und verfahren zu dessen herstellung Expired - Lifetime EP1511870B1 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10225521 2002-06-10
DE10225521A DE10225521A1 (de) 2002-06-10 2002-06-10 Hartmetall-Substratkörper und Verfahren zu dessen Herstellung
PCT/DE2003/001834 WO2003104507A1 (de) 2002-06-10 2003-06-04 Hartmetall-substratkörper und verfahren zu dessen herstellung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP1511870A1 EP1511870A1 (de) 2005-03-09
EP1511870B1 true EP1511870B1 (de) 2007-04-11

Family

ID=29557684

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP03740063A Expired - Lifetime EP1511870B1 (de) 2002-06-10 2003-06-04 Hartmetall-substratkörper und verfahren zu dessen herstellung

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20050224958A1 (de)
EP (1) EP1511870B1 (de)
JP (1) JP2005529236A (de)
AT (1) ATE359381T1 (de)
DE (2) DE10225521A1 (de)
PT (1) PT1511870E (de)
WO (1) WO2003104507A1 (de)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10342364A1 (de) * 2003-09-12 2005-04-14 Kennametal Widia Gmbh & Co.Kg Hartmetall-oder Cermetkörper und Verfahren zu seiner Herstellung
AT501801B1 (de) * 2005-05-13 2007-08-15 Boehlerit Gmbh & Co Kg Hartmetallkörper mit zähem oberflächenbereich
SE529590C2 (sv) * 2005-06-27 2007-09-25 Sandvik Intellectual Property Finkorniga sintrade hårdmetaller innehållande en gradientzon
JP4997561B2 (ja) * 2005-08-04 2012-08-08 独立行政法人産業技術総合研究所 高硬度皮膜形成用硬質合金上に硬質皮膜を形成した工具あるいは金型材料及びその製造方法
DE102006045339B3 (de) * 2006-09-22 2008-04-03 H.C. Starck Gmbh Metallpulver
DE102008048967A1 (de) * 2008-09-25 2010-04-01 Kennametal Inc. Hartmetallkörper und Verfahren zu dessen Herstellung
CN102424970A (zh) * 2011-12-05 2012-04-25 嘉鱼县海鑫合金制造有限公司 粉末冶金法制备耐磨件表面硬质合金覆层的工艺
US8834594B2 (en) 2011-12-21 2014-09-16 Kennametal Inc. Cemented carbide body and applications thereof
WO2014191505A1 (en) * 2013-05-31 2014-12-04 Sandvik Intellectual Property Ab New process of manufacturing cemented carbide and a product obtained thereof
EP2821165A1 (de) * 2013-07-03 2015-01-07 Sandvik Intellectual Property AB Gesinterter Cermet- oder Hartmetall-Körper und Verfahren zu dessen Herstellung
JP6375636B2 (ja) * 2014-02-14 2018-08-22 新日鐵住金株式会社 超硬工具用基材及び超硬工具、並びに超硬工具用基材及び超硬工具の製造方法
JP6327102B2 (ja) * 2014-10-10 2018-05-23 新日鐵住金株式会社 超硬工具
CN109180187B (zh) * 2018-08-31 2021-05-18 中国科学院金属研究所 高度取向纳米max相陶瓷和max相原位自生氧化物纳米复相陶瓷的制备方法
CN110284038B (zh) * 2019-04-26 2020-07-28 中南大学 一种具有强(111)织构的pvd涂层及其制备方法
CN115971477B (zh) * 2022-12-23 2024-11-08 岭南师范学院 一种高硬度高韧性硬质合金及其制备方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2684688B2 (ja) * 1988-07-08 1997-12-03 三菱マテリアル株式会社 切削工具用表面被覆炭化タングステン基超硬合金
DE3837006C3 (de) * 1988-10-31 1993-11-18 Krupp Widia Gmbh Hartmetall
JP2762745B2 (ja) * 1989-12-27 1998-06-04 住友電気工業株式会社 被覆超硬合金及びその製造法
JP3046336B2 (ja) * 1990-09-17 2000-05-29 東芝タンガロイ株式会社 傾斜組成組識の焼結合金及びその製造方法
JP3158429B2 (ja) * 1990-11-21 2001-04-23 三菱マテリアル株式会社 耐摩耗性および靭性に優れた超硬合金部材
US5750247A (en) * 1996-03-15 1998-05-12 Kennametal, Inc. Coated cutting tool having an outer layer of TiC
JP3707223B2 (ja) * 1998-01-19 2005-10-19 三菱マテリアル株式会社 耐摩耗性のすぐれたミーリング工具
JPH11302767A (ja) * 1998-04-21 1999-11-02 Toshiba Tungaloy Co Ltd 機械的特性に優れた超硬合金およびその製法
DE19922057B4 (de) * 1999-05-14 2008-11-27 Widia Gmbh Hartmetall- oder Cermet-Körper und Verfahren zu seiner Herstellung
US6110603A (en) * 1998-07-08 2000-08-29 Widia Gmbh Hard-metal or cermet body, especially for use as a cutting insert
DE19845376C5 (de) * 1998-07-08 2010-05-20 Widia Gmbh Hartmetall- oder Cermet-Körper
SE516071C2 (sv) * 1999-04-26 2001-11-12 Sandvik Ab Hårdmetallskär belagt med en slitstark beläggning
JP2000336451A (ja) * 1999-05-28 2000-12-05 Toshiba Tungaloy Co Ltd 改質焼結合金、被覆焼結合金及びその製造方法
SE9903089D0 (sv) * 1999-09-01 1999-09-01 Sandvik Ab Coated grooving or parting insert
US6575671B1 (en) * 2000-08-11 2003-06-10 Kennametal Inc. Chromium-containing cemented tungsten carbide body
SE518890C2 (sv) * 2000-09-27 2002-12-03 Sandvik Ab Hårdmetallverktyg för kallbearbetningsoperationer
JP2001293603A (ja) * 2001-02-28 2001-10-23 Mitsubishi Materials Corp 気相合成ダイヤモンド被覆切削工具

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
None *

Also Published As

Publication number Publication date
WO2003104507A1 (de) 2003-12-18
DE50307024D1 (de) 2007-05-24
DE10225521A1 (de) 2003-12-18
ATE359381T1 (de) 2007-05-15
JP2005529236A (ja) 2005-09-29
PT1511870E (pt) 2007-06-28
US20050224958A1 (en) 2005-10-13
EP1511870A1 (de) 2005-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1511870B1 (de) Hartmetall-substratkörper und verfahren zu dessen herstellung
DE3936129C2 (de) Klingenteil aus zementiertem Carbid auf Basis von Wolframcarbid für Schneidwerkzeuge sowie Verfahren zur Herstellung desselben
DE69334012T2 (de) Zementiertes karbid mit binderphase angereicherter oberflächenzone
DE2727250C2 (de) Oberflächenbeschichteter Sintercarbidgegenstand und Verfahren zu dessen Herstellung
DE69218210T2 (de) Mehrfach plattiertes Hartlegierungsschneidwerkzeug
DE3688999T2 (de) Sinterhartmetallkörper für Werkzeuge.
DE69025582T2 (de) Beschichteter Hartmetallkörper und Verfahren zu seiner Herstellung
DE2717842C2 (de) Verfahren zur Oberflächenbehandlung von gesinterten Hartmetallkörpern
EP2010687B1 (de) Hartmetallkörper und verfahren zu dessen herstellung
EP1664363B1 (de) Hartmetall- oder cermetkörper und verfahren zu seiner herstellung
DE2658813C2 (de) Nach dem Pulvermetallurgieverfahren hergestellter, Stickstoff enthaltender Schnelldrehstahl
DE2831293A1 (de) Verfahren zur herstellung gesinterter hartmetalle und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens
EP1095168B1 (de) Hartmetall- oder cermet-körper und verfahren zu seiner herstellung
EP0758407B1 (de) Cermet und verfahren zu seiner herstellung
EP0558485B1 (de) Verfahren zur herstellung eines beschichteten hartmetallschneidkörpers
AT392929B (de) Verfahren zur pulvermetallurgischen herstellung von werkstuecken oder werkzeugen
DE2317447C2 (de) Schneideinsätze
DE10297020T5 (de) Mehrkomponentenkeramikpulver, Verfahren zum Herstellen von Mehrkomponentenkeramikpulver, Sinterkörper und Verfahren zum Herstellen eines Sinterkörpers
DE19922057B4 (de) Hartmetall- oder Cermet-Körper und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102008048967A1 (de) Hartmetallkörper und Verfahren zu dessen Herstellung
WO2004108632A1 (de) Sinterkörper und verfahren zu seiner herstellung
EP1957429B1 (de) Beschichteter hartmetallkörper
DE2303756A1 (de) Verfahren zur erzeugung einer extrem harten mischkarbidschicht auf eisenwerkstoffen zur erhoehung der verschleissfestigkeit
DE10117657B4 (de) Komplex-Borid-Cermet-Körper und Verwendung dieses Körpers
EP0149449A1 (de) Hartmetallkörper, insbesondere Hartmetall-Schneidwerkzeug

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 20041001

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LI LU MC NL PT RO SE SI SK TR

RIN1 Information on inventor provided before grant (corrected)

Inventor name: DAUB, WERNER

Inventor name: LENGAUER, WALTER

Inventor name: UCAKAR, VERA

Inventor name: ROEDIGER, KLAUS

Inventor name: DREYER, KLAUS

Inventor name: LOVONYAK, MARIANN

Inventor name: KASSEL, DIETER

RAP1 Party data changed (applicant data changed or rights of an application transferred)

Owner name: KENNAMETAL WIDIA PRODUKTIONS GMBH & CO. KG

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LI LU MC NL PT RO SE SI SK TR

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070411

Ref country code: SI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070411

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)

Effective date: 20070417

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: LANGUAGE OF EP DOCUMENT: GERMAN

REF Corresponds to:

Ref document number: 50307024

Country of ref document: DE

Date of ref document: 20070524

Kind code of ref document: P

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: NV

Representative=s name: ISLER & PEDRAZZINI AG

REG Reference to a national code

Ref country code: PT

Ref legal event code: SC4A

Free format text: AVAILABILITY OF NATIONAL TRANSLATION

Effective date: 20070619

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070722

REG Reference to a national code

Ref country code: SE

Ref legal event code: TRGR

ET Fr: translation filed
REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PCAR

Free format text: ISLER & PEDRAZZINI AG;POSTFACH 1772;8027 ZUERICH (CH)

NLV1 Nl: lapsed or annulled due to failure to fulfill the requirements of art. 29p and 29m of the patents act
REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FD4D

BERE Be: lapsed

Owner name: KENNAMETAL WIDIA PRODUKTIONS G.M.B.H. & CO. KG

Effective date: 20070630

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070411

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20070630

Ref country code: IE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070411

Ref country code: BG

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070711

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070411

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070411

26N No opposition filed

Effective date: 20080114

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20070630

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070712

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: RO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070411

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: EE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070411

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CY

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070411

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: HU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20071012

Ref country code: TR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070411

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Payment date: 20110622

Year of fee payment: 9

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20120530

Year of fee payment: 10

Ref country code: CZ

Payment date: 20120517

Year of fee payment: 10

Ref country code: CH

Payment date: 20120612

Year of fee payment: 10

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 20120619

Year of fee payment: 10

Ref country code: SE

Payment date: 20120612

Year of fee payment: 10

Ref country code: GB

Payment date: 20120530

Year of fee payment: 10

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Payment date: 20120618

Year of fee payment: 10

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PT

Payment date: 20120601

Year of fee payment: 10

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Payment date: 20120529

Year of fee payment: 10

REG Reference to a national code

Ref country code: PT

Ref legal event code: MM4A

Free format text: LAPSE DUE TO NON-PAYMENT OF FEES

Effective date: 20131204

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CZ

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20130604

Ref country code: PT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20131204

Ref country code: SE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20130605

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

REG Reference to a national code

Ref country code: SE

Ref legal event code: EUG

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: MM01

Ref document number: 359381

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20130604

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20130604

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R119

Ref document number: 50307024

Country of ref document: DE

Effective date: 20140101

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: ST

Effective date: 20140228

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20130604

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20140101

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20130630

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20130630

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20130701

Ref country code: AT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20130604

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20130604

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20130604