EP1459346A1

EP1459346A1 - Dalle de panneau a plasma comprenant des moyens pour re-diffuser les rayonnements uv

Info

Publication number: EP1459346A1
Application number: EP02790525A
Authority: EP
Inventors: Jean-Pierre Creusot; Yvan Raverdy
Original assignee: Thomson Licensing SAS
Priority date: 2001-10-29
Filing date: 2002-10-21
Publication date: 2004-09-22
Also published as: US7550923B2; US20050077825A1; JP4518794B2; JP2005507550A; KR20040055795A; CN1575502A; CN1307675C; FR2831709A1; WO2003038853A1

Abstract

Dalle 1' comprenant une couche diélectrique 3' et une couche de protection 4', où, pour re-diffuser le rayonnement UV, l'interface entre la couche diélectrique 3' et la couche de protection 4' est structuré de maniíre ô présenter une rugosité moyenne comprise dans le domaine des longueurs d'onde de ce rayonnement, notamment entre 130 et 200 nm. De tels moyens de re-diffusion sont beaucoup plus économiques et efficaces que ceux de l'art antérieur en effet, une telle rugosité peut être obtenue par une opération d'abrasion de la surface de la couche diélectrique 3´ .

Description

DALLE DE PANNEAU A PLASMA COMPRENANT DES MOYENS POUR RE-DIFFUSER LES RAYONNEMENTS UV

En référence à la figure 1 , l'invention concerne un panneau de visualisation à plasma comprenant :

- une première dalle 1 comprenant au moins un premier réseau d'électrodes Y (non représenté) revêtu d'une couche diélectrique 3 et d'une couche de protection et d'émission d'électrons secondaires 4,

- un deuxième réseau d'électrodes Y' (non représenté), - une deuxième dalle 2 ménageant avec la première un espace contenant un gaz de décharge, divisé en une matrice bi-dimensionnelle de zones de décharges 5, chaque zone de décharge 5 étant positionnée entre les électrodes du premier réseau et celles du second réseau et présentant des parois partiellement recouvertes d'une couche 6 d'un luminophore adapté pour émettre de la lumière visible sous l'excitation du rayonnement d'une décharge dans cette zone, la première dalle comprenant des moyens pour re-diffuser le rayonnement de décharges vers les luminophores des zones correspondantes, ici une couche de diffusion 9.

Le deuxième réseau d'électrodes est généralement placé sur la première dalle, de sorte que, en fonctionnement, la plupart des décharges surgissent entre deux électrodes de la même dalle et sont qualifiées de coplanaires ; aucun des deux réseaux d'électrodes coplanaires Y, Y' n'est représenté à la figure 1 , parce qu'elle représente une coupe réalisée dans un plan passant entre ces électrodes ; généralement, la deuxième dalle comprend un troisième réseau d'électrodes X, qui sert pour l'adressage ou l'activation des zones de décharge du panneau, avant les périodes dites de maintien. La couche diélectrique 3 est destinée à obtenir un effet mémoire, de manière à pouvoir, après activation d'une zone de décharge, maintenir une succession de décharges par application d'impulsions de tension adaptées entre les électrodes du premier réseau Y et celles du second réseau Y'. La couche de protection et d'émission d'électrons secondaires 4 sert à protéger la couche diélectrique du bombardement des ions provenant du plasma des décharges ; elle est également susceptible d'émettre des électrons sous l'effet de ce bombardement ionique, de manière à stabiliser le fonctionnement du panneau.

C'est la première dalle 1 qui est généralement transparente aux rayonnements émis par les luminophores et qui forme alors la dalle avant de visualisation d'images ; la deuxième dalle est donc la dalle arrière, qui est généralement couverte de luminophores au niveau de chacune des zones de décharge.

Les zones de décharges du panneau sont, généralement et en partie au moins, délimitées par des barrières 7, qui forment des parois pour les zones de décharge 5 et servent généralement de moyens d'espacement des dalles ; dans chaque zone de décharge, les luminophores 6 sont généralement appliqués à la fois sur la dalle arrière et sur les versants des barrières.

Compte tenu de la nature et de la pression du gaz généralement contenu dans l'espace entre les dalles, les décharges plasma 8 émettent un rayonnement ultraviolet, représenté en traits pointillés sur la figure 1.

Comme représenté sur la partie gauche de la décharge 8, une première partie de ce rayonnement ultraviolet est émis en direction de la dalle arrière 2 et des versants des barrières 7 et est donc directement absorbée par les luminophores 6 déposés à cet endroit ; les luminophores sont alors excités et émettent un rayonnement visible qui passe au travers de la dalle avant 2 et participe ainsi à la formation de l'image à visualiser : les rayonnements visibles sont représentés en traits pleins sur la figure.

Comme représenté sur la partie droite de la décharge 8, une deuxième partie de ce rayonnement ultraviolet est émis en direction de la dalle avant 1 ; grâce aux moyens de diffusion dont est dotée la dalle avant et qui seront décrits ci-après, ce rayonnement est rediffusé, au moins partiellement, dans l'espace entre les dalles, notamment vers les luminophores 6 pour être converti en rayonnement visible comme la première partie du rayonnement ultraviolet. On voit donc que les moyens de diffusion dont est dotée la dalle avant permet de convertir une plus grande part du rayonnement émis par les décharges et d'augmenter sensiblement le rendement lumineux du panneau.

Le document EP 1085554 enseigne d'augmenter le rendement lumineux des panneaux à plasma :

- soit en utilisant une couche de réflexion du rayonnement ultraviolet, selon les documents cités au paragraphe 4 de ce document ; cette couche est de préférence intercalée entre la couche diélectrique et la couche de protection et d'émission d'électrons secondaires ; - soit, comme représenté sur la figure 1, en utilisant une couche de diffusion 9, déposée sur la couche de protection et présentant une granulométrie adaptée pour obtenir l'effet de diffusion dans le domaine des longueurs d'onde correspondant au rayonnement ultraviolet.

L'inconvénient des méthodes d'amélioration du rendement lumineux décrites dans ces documents est qu'elles nécessitent l'adjonction d'une couche supplémentaire de réflexion ou de diffusion sur la dalle avant ; cette couche supplémentaire ajoute une interface ou un dioptre supplémentaire sur la trajectoire des rayons lumineux visibles traversant la dalle avant, ce qui nuit à la transmission du rayonnement visible et limite les améliorations du rendement lumineux apportées par cette couche supplémentaire.

Même dans le cas plus favorable, décrit en variante dans le document EP 1085554, où la couche de diffusion présente une composition proche de celle de la couche de protection, par exemple à base de MgO, le procédé d'obtention décrit dans ce document est difficile à mettre en œuvre avec efficacité ; pour obtenir la granulométrie apportant l'effet de diffusion, ce document enseigne un dépôt en phase aqueuse qui est préjudiciable aux performances de la couche de protection et d'émission d'électrons secondaires, notamment à ses propriétés cathodo-émissive sous bombardement ionique, qui sont essentielles pour la stabilité de fonctionnement et la durée de vie du panneau à plasma. L'invention a pour but d'améliorer le rendement lumineux des panneaux à plasma en évitant ces inconvénients.

A cet effet, l'invention a pour objet une dalle destinée à faire partie d'un panneau à plasma et comprenant au moins un premier réseau d'électrodes revêtu d'une couche diélectrique et d'une couche de protection et d'émission d'électrons secondaires, ledit panneau à plasma comprenant au moins un deuxième réseau d'électrodes et une deuxième dalle ménageant avec la première dalle un espace contenant un gaz de décharge, les électrodes du premier réseau et celles du deuxième réseau étant disposées pour ménager entre elles et entre les dalles des zones de décharge et les parois de ces zones étant partiellement recouvertes d'une couche de luminophore adapté pour émettre de la lumière visible sous l'excitation du rayonnement de décharges émises entre les électrodes dans ces zones, caractérisé en ce que l'interface entre la couche diélectrique et la couche de protection et d'émission d'électrons secondaires est structuré de manière à présenter une rugosité moyenne comprise dans le domaine des longueurs d'onde dudit rayonnement des décharges et/ou de la lumière émise par ledit luminophore, notamment dans le cas où ce luminophore est un luminophore émettant dans l'ultraviolet.

L'invention a également pour objet une dalle destinée à faire partie d'un panneau à plasma et comprenant au moins un réseau d'électrodes revêtu d'une couche diélectrique et d'une couche de protection et d'émission d'électrons secondaires caractérisée en ce que l'interface entre la couche diélectrique et la couche de protection est structuré de manière à présenter une rugosité moyenne comprise entre 130 nm et 400 nm, de préférence entre 130 et 200 nm.

Grâce à la structuration de cette interface, une partie importante du rayonnement qui n'est pas directement absorbé et converti par les luminophores, est rediffusé vers ces luminophores et contribue à leur excitation ; on améliore ainsi significativement le rendement lumineux du panneau, au moins à un niveau comparable à celui des panneaux décrits dans le document EP 1085554 déjà cité ; un avantage de cette disposition est qu'elle est beaucoup plus facile à obtenir que les couches de diffusion ou de réflexion décrites dans l'art antérieur, sans risquer d'altérer les performances de la couche de protection et d'émission d'électrons secondaires. Ainsi, la dalle selon l'invention comprend des moyens pour re-diffuser le rayonnement des décharges vers les luminophores ; en général cette dalle n'est pas revêtue de luminophores, bien que cette disposition ne soit pas exclue. La rugosité moyenne de l'interface structuré selon l'invention peut être évaluée en utilisant un rugosimètre classique à sonde électromagnétique.

La couche de protection et d'émission d'électrons secondaires étant très mince, elle présente généralement la même structuration que celle de l'interface structuré selon l'invention, de sorte qu'on peut alors mesurer la rugosité de l'interface sur la surface de la couche de protection.

Le domaine des longueurs d'onde du rayonnement des décharges correspond au domaine spectral comprenant plus de 90% de l'énergie émise par les décharges.

Dans la plupart des panneaux à plasma, le gaz de décharge est à base d'un mélange de Néon et de Xénon et les décharges dans le panneaux émettent un rayonnement ultraviolet, présentant deux pics principaux d'émission, l'un à 145 nm, l'autre à 175 nm ; ainsi, de préférence, le domaine de longueurs d'onde du rayonnement des décharges étant compris dans l'ultraviolet, la rugosité moyenne dudit interface est comprise entre 130 et 200 nm.

De préférence, la couche de protection et d'émission d'électrons secondaires est à base d'oxyde d'éléments alcalino-terreux, notamment à base de magnésie (MgO).

De préférence, la couche diélectrique est à base de matériau inorganique vitreux.

L'invention a également pour objet un panneau à plasma comprenant une dalle selon l'invention et une deuxième dalle ménageant avec la première dalle un espace contenant un gaz de décharge, comprenant également un deuxième réseau d'électrodes, les électrodes du premier réseau et celles du deuxième réseau étant disposées pour ménager entre elles et entre les dalles des zones de décharge et les parois de ces zones étant partiellement recouvertes d'une couche de luminophore adapté pour émettre de la lumière visible sous l'excitation du rayonnement de décharges émises entre les électrodes dans ces zones.

De préférence, la première dalle selon l'invention est la dalle avant du panneau ; on entend par dalle avant celle qui est située du côté de l'observateur des images affichées par le panneau ; les électrodes disposées sur cette dalle sont en général transparentes ; parce qu'il est structuré selon l'invention pour re-diffuser uniquement le rayonnement émis par les décharges entre les dalles, l'interface entre la couche diélectrique et la couche de protection n'absorbe pas ou très faiblement la lumière visible émise par les luminophores ; cette dalle avant est donc avantageusement transparente à la lumière visible émise par les luminophores ; elle est d'autant plus transparente à cette lumière que les interfaces ou dioptres à traverser sont moins nombreux que dans les panneaux de l'art antérieur comportant également des moyens de re-diffusion ou de réflexion des rayonnements des décharges. L'invention a également pour objet un procédé susceptible d'être utilisé pour la fabrication d'une dalle de panneau à plasma selon l'invention comprenant le dépôt d'une couche diélectrique sur l'au moins un réseau d'électrodes de cette dalle et le dépôt d'une couche de protection et d'émission d'électrons secondaires sur la couche diélectrique, caractérisé en ce que, avant le dépôt de ladite couche de protection mais après le dépôt de la couche diélectrique, on effectue une opération d'abrasion de la surface de la couche diélectrique adaptée pour que la rugosité moyenne de cette surface soit comprise dans le domaine des longueurs d'onde du rayonnement des décharges dans le panneau à plasma, en particulier pour qu'elle soit comprise entre 130 et 400 nm, de préférence entre 130 et 200 nm.

Un tel procédé est particulièrement simple et économique ; il est applicable de préférence dans le cas où la couche diélectrique est à base de matériau inorganique vitreux, c'est à dire d'émail ; on obtient généralement une telle couche d'émail par dépôt d'une couche à base de fritte d'émail diélectrique suivi d'une cuisson dans des conditions adaptées pour obtenir une couche dense présentant une surface lisse ; l'opération d'abrasion de cette surface est alors réalisée juste après l'étape de cuisson de l'émail ; cette opération d'abrasion modifie la rugosité de la sur ace de l'émail ; on dépose ensuite d'une manière classique la couche de protection, généralement à base de MgO ; comme cette couche de protection est très fine, la couche obtenue présente généralement la même rugosité que la surface de la couche d'émail.

De préférence, l'opération d'abrasion de la surface de la couche diélectrique est réalisée par frottement d'un matériau plastique incrusté de poudre abrasive contre cette surface ; il s'agit là d'une méthode couramment utilisée pour le polissage ou le rodage de surfaces de verre ou d'échantillons métallographiques ; le matériau plastique est de préférence un feutre de polissage, par exemple à base de mousse rigide de polyuréthanne, présentant des pores ouverts en surface, susceptible de contenir ou de retenir des grains de poudre abrasive ; on peut également utiliser des pâtes plastiques incorporant la poudre abrasive.

Lorsqu'on vise une rugosité moyenne comprise entre 130 et 200 nm, le diamètre des grains de la poudre abrasive est de préférence compris entre 0,2 et 2 μm ; il s'agit, en pratique, de la taille des grains abrasifs adaptée pour obtenir une surface de couche diélectrique présentant une rugosité moyenne comprise entre 130 et 200 nm.

De préférence, l'opération d'abrasion est réalisée en milieu liquide exempt d'eau ou à sec ; on utilise alors un feutre spécial incrusté de grains de poudre d'abrasion.

En procédant en l'absence d'eau, on évite ainsi la détérioration de la couche diélectrique et on assure plus facilement de bonnes performances cathodo-émissives à la couche de protection, ce qui améliore la durée de vie du panneau.

L'invention sera mieux comprise à la lecture de la description qui va suivre, donnée à titre d'exemple non limitatif, et en référence aux figures annexées sur lesquelles :

- la figure 1 , déjà décrite, est une représentation schématique en coupe d'une cellule de panneau à plasma de l'art antérieur,

- la figure 2 illustre, selon la même représentation, un mode préférentiel de réalisation de l'invention appliquée au même type de cellule. Afin de simplifier la description et de faire apparaître les différences et avantages que présente l'invention par rapport à l'état antérieur de la technique, on utilise des références identiques pour les éléments qui assurent les mêmes fonctions. En référence à la figure 2, on va commencer par décrire un exemple privilégié de procédé pour obtenir un panneau à plasma à haut rendement lumineux selon l'invention, dans le cas où ce panneau est de type alternatif à effet mémoire ; ce panneau comprend une dalle avant Y transparente à paires d'électrodes coplanaires et une dalle arrière 2. On va commencer par décrire la fabrication de la dalle avant 1 '.

Sur une plaque de verre sodo-calcique aux dimensions du panneau à réaliser, on dépose d'une manière classique deux réseaux Y, Y' d'électrodes coplanaires parallèles et enchevêtrées de manière que chaque électrode du premier réseau soit adjacente à une électrode du deuxième réseau ; chaque paire d'électrodes ainsi formées correspond alors à une ligne d'éléments d'image du panneau de visualisation ; chaque électrode est par exemple formée d'un bus opaque et étroit de distribution du courant de décharge et d'une bande conductrice transparente, par exemple en ITO (« Indium Tin Oxide » en langue anglaise) déposée le long du bus et en contact avec celui-ci ; dans ce cas, des électrodes d'une même paire se font face par un côté de leur bande transparente respective.

On prépare ensuite une pâte à base fritte d'émail diélectrique que l'on dépose sur les réseaux d'électrodes en une couche d'épaisseur homogène sur la totalité de la surface active de la dalle ; selon une variante, on peut ne recouvrir que les électrodes des réseaux Y, Y' ; outre cette fritte d'émail, cette pâte contient un liant organique à base de polymère et, généralement, un solvant de ce liant ; après dépôt et séchage pour évaporer le solvant, le cas échéant réticulation du liant organique, on procède à la cuisson de la couche d'émail pour éliminer le liant organique de la couche et vitrifier l'émail de façon à obtenir une couche homogène 3' d'émail diélectrique ; après cuisson, la couche obtenue présente une surface lisse et plane, qui, en l'état, laisserait passer le rayonnement provenant des décharges ; l'épaisseur de la couche diélectrique est généralement comprise entre 10 et 50 μm. L'étape suivante est spécifique de l'invention ; elle consiste à modifier l'état de surface de la couche diélectrique pour conférer à cette surface la capacité de diffuser le rayonnement ultraviolet que les décharges émettront, notamment entre les électrodes des réseaux Y, Y', dans le panneau en fonctionnement.

A cet effet, on effectue une opération d'abrasion de cette surface de manière à obtenir une surface diélectrique, non plus lisse comme précédemment, mais présentant une rugosité moyenne comprise dans le domaine des longueurs d'onde du rayonnement qui sera émis par les décharges dans le panneau en fonctionnement ; classiquement, ce domaine est celui du rayonnement ultraviolet et cette opération est conduite de manière à conférer à la surface diélectrique une rugosité moyenne comprise entre 130 et 200 nm ; cette rugosité moyenne est par exemple évaluée à l'aide d'un rugosimètre à tête électromagnétique, comme un appareil de marque DEKTAK. Pour effectuer cette opération d'abrasion, de nombreuse méthodes connues peuvent être utilisées, comme par exemple un rodage mécanique à l'aide d'une poudre abrasive très fine.

Après cuisson, la surface de l'émail se prête bien à une opération de rodage mécanique à l'aide d'un abrasif très fin ; on utilise de préférence des abrasifs de granulometries comprises entre 0.2 μm et 2 μm qui sont disponibles dans le commerce, soit en pâtes ( diamant , alumine , carborundum ), soit sur feutre pour polissage à sec ; plus précisément, on peut par exemple opérer selon l'une des méthodes suivantes : rodage en milieu liquide avec une pâte au diamant, utilisant un lubrifiant, de préférence neutre et chimiquement inactif vis-à-vis de la couche d'émail ; on utilise de préférence un alcool lourd, par exemple de type isopropanol, compatible avec la pâte enfermant la poudre d'abrasif à base de diamant ; on évite avantageusement l'utilisation d'eau de manière à mieux garantir les propriétés de la couche de protection à base de MgO à déposer sur la surface rodée ; rodage à sec utilisant un feutre spécial enfermant la poudre abrasive, par exemple de type « papier de verre » ; en évitant ainsi d'utiliser de l'eau, on préserve avantageusement les propriétés de la couche de protection à base de MgO à déposer sur la surface rodée ; Pour améliorer l'efficacité et l'homogénéité de cette opération de rodage mécanique, on utilise de préférence des machines adaptées imprimant un mouvement complexe aux porte-feutres ou porte-pâtes (« satellites ») sur la surface à roder ; ce type de machine est couramment utilisé pour le rodage ou le polissage de surface de verre.

Sans se départir de l'invention, on peut utiliser d'autres méthodes d'abrasion mécanique, comme la pulvérisation à l'aide d'un gaz vecteur de poudre abrasive sur la surface (ou « sablage ») ; on peut également utiliser des méthodes d'abrasion chimique, des méthodes d'électro-érosion, des méthodes mécano-chimiques bien connues de l'homme du métier des traitements de surface.

Après cette opération d'abrasion propre à l'invention, la couche diélectrique présente maintenant une surface « structurée » :

- qui ne laissera plus passer le rayonnement provenant des décharges mais le re-diffusera vers l'intérieur du panneau,

- qui, comme la surface lisse et plane de départ, laissera cependant passer le rayonnement visible émis par les luminophores déposés sur la dalle arrière, dont il est fait mention ultérieurement.

Après cette opération d'abrasion, on dépose d'une manière connue en elle-même une couche de protection et d'émission d'électrons secondaires 4', ici à base de MgO ; on procède par exemple par evaporation sous vide ; l'épaisseur de la couche obtenue est généralement comprise entre 0,5 et 1 ,5 μ m.

Comme la couche obtenue est très fine, on constate que la rugosité et la structuration de la surface de la couche diélectrique est reportée à la surface externe de la couche de protection et d'émission d'électrons secondaires.

En utilisant les méthodes d'abrasion conventionnelles qui viennent d'être citées, on constate que la structuration de la surface de la couche diélectrique 3' à l'interface avec la couche de protection 4', est de type « bruit spatial », comme d'ailleurs la structuration de la couche de protection elle-même ; une telle structuration est différente de celle des couches de diffusion décrites dans le document EP 1085554 déjà cité, obtenues par précipitation en voie aqueuse.

La dalle avant Y selon l'invention est apte à rétrodiffuser le rayonnement ultraviolet et à laisser passer le rayonnement visible, grâce à la structuration de l'interface entre la couche diélectrique 3' et la couche de protection 4', adaptée pour conférer une rugosité moyenne comprise dans le domaine des longueurs d'onde du rayonnement des décharges, notamment entre 130 et 200 nm ; de tels moyens de re-diffusion sont beaucoup plus économiques et efficaces que ceux de l'art antérieur ; en effet, une telle rugosité peut être obtenue par une simple opération d'abrasion ; de plus, du fait de l'absence d'opération de dépôt d'une couche supplémentaire spécifique pour réfléchir ou rediffuser les UV, la dalle obtenue présente une réisistance mécanique plus élevée.

En ce qui concerne la dalle arrière 2 du panneau selon l'invention, on procède d'une manière connue en elle-même pour obtenir une dalle comprenant, sur une plaque de verre sodo-calcique 12 :

- un troisième réseau X d'électrodes s'étendant perpendiculairement à la direction des électrodes des réseaux Y, Y' de la dalle avant, - une couche diélectrique à base d'émail 13,

- un réseau de barrières 7 adapté pour délimiter des zones de décharges et pour qu'elles soient, après assemblage des dalles, positionnées au croisement des électrodes du réseau X et des paires d'électrodes enchevêtrées des réseaux Y, Y' de la première dalle, - des couches de luminophores 6 déposées sur les parois des zones de décharge ainsi délimitées, c'est à dire à la fois au fond de ces zones au contact de la couche diélectrique 13 et sur les versants des barrières 7.

On assemble ensuite la dalle avant l' et la dalle arrière 2, de manière à ce que les électrodes du réseau X de la dalle arrière 2 croisent les paires d'électrodes des réseaux Y, Y' de la dalle avant Y entre les barrières 7 ; les barrières 7 servent alors de moyens d'espacement entre les dalles l', 2.

On scelle les deux dalles entre elles d'une manière connue en elle-même, on élimine par pompage le gaz compris dans l'espace entre les dalles l' et 2, et on remplit cet espace de gaz de décharge, comprenant généralement du xénon.

On obtient alors le panneau à plasma selon l'invention ; la structuration propre à l'invention de la surface de la couche diélectrique 3' à l'interface avec la couche de protection 4' permet de récupérer une partie importante du rayonnement qui n'est pas directement absorbé et converti par les luminophores, de manière à le re-diffuser vers ces luminophores ; on améliore ainsi significativement le rendement lumineux du panneau, à un niveau au moins comparable à celui des panneaux décrits dans le document EP 1085554 déjà cité, tout en évitant une couche spécifique de diffusion ou de réflexion dans la dalle avant du panneau ; avantageusement, grâce à l'invention, la couche protectrice à base de MgO peut être très facilement mise à l'abri de toute trace d'eau, ce qui permet de mieux garantir les propriétés cathodo- émissive de cette couche et la durée de vie du panneau.

Claims

REVENDICATIONS

1.- Dalle (1') destinée à faire partie d'un panneau à plasma et comprenant au moins un premier réseau d'électrodes revêtu d'une couche diélectrique (3') 5 et d'une couche de protection et d'émission d'électrons secondaires (4'), ledit panneau à plasma comprenant au moins un deuxième réseau d'électrodes et une deuxième dalle (2) ménageant avec la première dalle (1') un espace contenant un gaz de décharge, les électrodes du premier réseau et celles du deuxième réseau étant 10 disposées pour ménager entre elles et entre les dalles (1', 2) des zones de décharge (5) et les parois de ces zones (5) étant partiellement recouvertes d'une couche de luminophore (6) adapté pour émettre de la lumière sous l'excitation du rayonnement de décharges (8) émises entre les électrodes dans ces zones (5), 15 caractérisé en ce que l'interface entre la couche diélectrique (3') et la couche de protection (4') est structuré de manière à présenter une rugosité moyenne comprise dans le domaine des longueurs d'onde dudit rayonnement des décharges et/ou de la lumière émise par ledit luminophore.

20.

2.- Dalle destinée à faire partie d'un panneau à plasma et comprenant au moins un réseau d'électrodes revêtu d'une couche diélectrique (3') et d'une couche de protection et d'émission d'électrons secondaires (4') caractérisée en ce que l'interface entre la couche diélectrique (3') et la couche de protection (4') est structuré de manière à présenter une rugosité moyenne comprise entre 130

25 nm et 400 nm.

3.- Dalle selon l'une quelconque des revendications 1 à 2 caractérisée en ce que la couche de protection et d'émission d'électrons secondaires (4') est à base d'oxyde d'éléments alcalino-terreux.

30

4.- Dalle selon la revendication 3 caractérisée en ce que la couche diélectrique (3') est à base de matériau inorganique vitreux.

5.- Panneau à plasma comprenant une dalle (1') selon l'une quelconque des revendications précédentes et une deuxième dalle (2) ménageant avec la première dalle (1') un espace contenant un gaz de décharge, comprenant également un deuxième réseau d'électrodes, les électrodes du premier réseau et celles du deuxième réseau étant disposées pour ménager entre elles et entre les dalles (1', 2) des zones de décharge (5) et les parois de ces zones (5) étant partiellement recouvertes d'une couche de luminophore (6) adapté pour émettre de la lumière visible sous l'excitation du rayonnement de décharges (8) émises entre les électrodes dans ces zones (5).

6.- Panneau à plasma selon la revendication 5 caractérisé en ce que ladite première dalle (1') est la dalle avant dudit panneau.

7.- Procédé susceptible d'être utilisé pour la fabrication d'une dalle de panneau à plasma selon l'une quelconque des revendications 1 à 4 comprenant le dépôt d'une couche diélectrique (3') sur l'au moins un réseau d'électrodes de cette dalle (1') et le dépôt d'une couche de protection et d'émission d'électrons secondaires (4') sur la couche diélectrique (3'), caractérisé en ce que, avant le dépôt de ladite couche de protection (4') mais après le dépôt de la couche diélectrique (3'), on effectue une opération d'abrasion de la surface de la couche diélectrique (3') adaptée pour que la rugosité moyenne de cette surface soit comprise dans le domaine des longueurs d'onde du rayonnement des décharges dans le panneau à plasma.

8.- Procédé selon la revendication 7 caractérisé en ce que la rugosité moyenne de ladite surface est comprise entre 130 nm et 400 nm.

9.- Procédé selon l'une quelconque des revendications 7 à 8, caractérisé en ce que l'opération d'abrasion de ladite surface est réalisée par frottement d'un matériau plastique incrusté de poudre abrasive contre ladite surface.

10.- Procédé selon la revendication 9 lorsqu'elle dépend de la revendication 8 caractérisé en ce que le diamètre des grains de la poudre abrasive est compris entre 0,2 et 2 μm.

11.- Procédé selon la revendication 9 ou 10 caractérisé en ce que l'opération d'abrasion est réalisée à sec.

12.- Procédé selon la revendication 9 ou 10 caractérisé en ce que l'opération d'abrasion est réalisée en milieu liquide exempt d'eau.