EP0041228A2 - Verfahren zur Herstellung eines Elektronenstrahlaustrittsfensters - Google Patents

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EP0041228A2
EP0041228A2 EP81104065A EP81104065A EP0041228A2 EP 0041228 A2 EP0041228 A2 EP 0041228A2 EP 81104065 A EP81104065 A EP 81104065A EP 81104065 A EP81104065 A EP 81104065A EP 0041228 A2 EP0041228 A2 EP 0041228A2
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electron
cathode
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shadow mask
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    • H01J2237/31786—Field-emitting cathode

Definitions

  • this window should be as thin as possible for maximum electron permeability and as thick as possible for the best possible strength.
  • Optimization of the window means that its thickness should be as small as possible and the generated electron beams should be used optimally or very well, ie as many electrons as possible should pass through the window.
  • Support grid bars practically exactly be at the points - come that are not bombarded with electrons, ie between the transparent areas or individual windows. As a result, the support grid is exposed to practically no electron load during operation. So an optimized window can be achieved. It is also possible to produce an optimized window which permits electron-optical distortions or an irregular pattern, for example elliptical (round) holes which arise as a result of electron-optical distortions. - By the invention, the window can be optimized for your own electron gun system, and no other device is used to manufacture the window, but your own electron gun.
  • the mentioned own cathode can e.g. also a tip cathode (wire with thin V-shaped cross parts) or a brush cathode (wire with thin cross bristles).
  • a tip cathode wire with thin V-shaped cross parts
  • a brush cathode wire with thin cross bristles
  • it is a thin-film field emission cathode (DFFEK) with many or numerous cones emitting electrons (single cathodes), see "Journal of Applied Physics", Vo 1.47, No. 12, Dec. 1976, pages 5248 to 5263, copyright 1976 American Institute of Physics, USA. Due to the predeterminable arrangement of the emission points or cones and the stability of the emission (e.g. no thermal runaway of the emission peaks), this provides ideal conditions for window optimization.
  • DFFEK thin-film field emission cathode
  • Said own cathode has the emission points in particular in rows parallel to one another.
  • the mentioned tip cathode then consists of wires that are parallel to each other, each with thin, V-shaped transverse parts.
  • the electron beam generator is generally used for hardening (electron beam hardening), in particular a surface or surface layer, very particularly a viscous surface layer, preferably produced by printing, e.g. a layer of paint.
  • the surface layer is in particular on a paper web.
  • These own electron beams 32 which form an electron beam curtain, each burn a round spot 33 (shown cross-hatched) in the layer 16 (irradiation, exposure), which is greatly enlarged compared to the emission spot mentioned.
  • the layer 16 there is thus an image of the cathode 21 which consists of the same number of spots and parallel rows of spots as exists at the cathode 21, which is, however, greatly enlarged spots 33 (increasing the distance a brings even larger spots 33).
  • the blank 29 is etched through using one of the known etching techniques - see arrow 34 - so that the through holes 35 result or, after the unexposed parts of the layer 16 have been removed, the shadow mask (single lens mask) 20 results.
  • the diameter of the through hole 35 is approximately equal to the diameter of the burn-in spot 33.
  • the shadow mask 20 in FIG. 2 is an electrode at the intermediate potential - (U O -U M ).
  • further electrodes are the layer 13, the film 14 / and the shadow mask (anode) 22.
  • the shadow mask 22 and the window blank 25 are grounded. 2 also works with the aforementioned post-acceleration.
  • the own electron beams 32 '(electron curtain) emanating from the cones 28 penetrate the through holes 35 and 11, each through hole 35 acting as a single lens and focusing the electron beam 32'.
  • the shadow mask 22 has the task of between itself and the - namely so that the layer 17 does not act to provide a field-free space window blank, and as the electrode must be that is, electrically, because the material of layer 17 is generally not electrically conductive.
  • the etching through and / or the blind hole etching can take place outside the housing of the electron beam generator or the electron gun or, with possible protection of surfaces inside the housing by removable cover, inside this housing, in the latter case in particular by filling the housing with a liquid etchant.
  • the liquid etchant whether for outside or inside the housing, is practically always of the type that it only acts or etches on the stains mentioned, but not next to them.

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Abstract

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines Elektronenstrahlaustrittsfensters eines Elektronenstrahlerzeugers, der eine die Elektronen an vielen Punkten emittierende Kathode, insbesondere Dünnfilmfeldemissionskathode aufweist, und ist dadurch gekennzeichnet, daß das genannte Fenster mit dem genannten, eigenen Elektronenstrahlerzeuger und also mit der genannten, eigenen, punktuell emittierenden Kathode über Aperturlinsen durch Elektronenprojektionslithographie hergestellt wird. Die Erfindung ist aus Figur 2 ersichtlich.

Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1,
  • Die Problematik beim dort genannten Fenster liegt darin, daß dieses Fenster für maximale Elektronendurchlässigkeit möglichst dünn, für bestmögliche Festigkeit möglichst dick sein sollte. Außerdem steigt die durch inelastische Streuung; hervorgerufene Abbremsung bzw. Absorption der Elektronen durch das Fenster mit der Ordnungszahl des Fensterwerkstoffs im periodischen System der Elemente, so daß eine Optimierung des Fensters zur Auswahl mechanisch nur schwer bearbeitbarer Substanzen, z.B. zu Kohlenstoff oder Silizium, als Fensterwerkstoff führt. Optimierung des Fensters bedeutet, daß dessen Dicke so klein wie möglich werden soll und die erzeugten Elektronenstrahlen optimal bzw. sehr gut ausgenutzt werden sollen, d.h. möglichst viele Elektronen durch das Fenster hindurchtreten sollen.
  • Was die mechanische Belastbarkeit des Fensters betrifft, so muß das Fenster den Druckunterschied 1 bar zwischen der den Elektronenstrahlerzeuger umgebenden Atmosphäre und dem im Elektronenstrahlerzeuger herrschenden Vakuum aufnehmen können. Die Zugfestigkeit des Fensterwerkstoffs bedingt jedoch eine obere Grenze für die bei gegebener Fensterdicke noch frei überspannbare Fläche. Nach Ardenne gilt näherungsweise
    Figure imgb0001
    worin "≃ "ungefähr gleich" bedeutet und x die Fensterdicke, D der Fensterdurchmesser (bei kreisrundem Fenster), p der genannte Druckunterschied in bar und Z die Zugfestigkeit des Fensterwerkstoffs in kp/mm2 ist; x/D ist dimensionslos.
  • Es ist zu beachten, daß die genannte Absorption zu einer Erwärmung des Fensterwerkstoffs führt, so daß die Zugfestigkeit bei der erhöhten Temperatur eingesetzt werden.muß. Am Beipiel des Aluminiums ist dies besonders deutlich, da dort Z von 9 bei 200C auf 0,7 bei 5000C abnimmt.
  • Aus der obigen Formel erkennt man, daß die Größenordnung des Fensterdurchmessers etwa 103mal die Fensterdicke sein muß. Das führt dazu, daß dünne Folien nur über Stützen' gespannt werden können. Dies hat aber folgende Nachteile: Absorption an den Stützen und damit zu hohe Erwärmung und Röntgenstrahlung.
  • Aufgabe gemäß der Erfindung ist es, diese Nachteile zumindest weitgehend zu vermeiden und dabei den Herstellungsaufwand für das Fenster möglichst gering zu halten.
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch das Kennzeichen des Anspruchs 1 gelöst.
  • Die dort genannten Aperturlinsen können auch öffnungslinsen oder Lochlinsen genannt werden. /
  • Es ist zwar durch "IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, Juli 1975", Seiten 400 bis 409, Copyright 1975 by The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc., Printed in U.S.A., Annals No. 507ED005, bekannt, ein Elektronenbild über Aperturlinsen durch Elektronenprojektionslithographie zu erzeugen, jedoch handelt es sich dort nicht um die Herstellung eines Elektronenstrahlaustrittsfensters, geschweige denn mit dessen eigenem Elektronenstrahlerzeuger mittels der Kathode desselben, die eine punktuell ausstrahlende Kathode ist. Auf der Basis der Erfindung kann mit dem Original-Elektronenstrahlerzeuger bzw. mit der Originalkathode, die diskrete bzw. punktuelle oder punktweise angeordnete Emissionsstellen aufweist, bzw. mit der eigenen punktuellen Emission ohne großen Herstellungsaufwand, u.a. ohne Justierprobleme, das betreffende Emissionsmuster elektronenoptisch abgebildet und das Fenster so hergestellt werden, daß es im Betrieb zumindest weitgehend an genau definierten Stellen entsprechend diesem Muster bei sehr wenig Absorption durchlässig ist und durchstrahlt wird. Das Fenster kann ein Stützgitter bzw.
  • Stützgitterstege praktisch genau an den Stellen be- kommen, die nicht von Elektronen getroffen werden, also zwischen den durchlässigen Stellen bzw. Einzelfenstern. Das Stützgitter ist dadurch im Betrieb praktisch keiner Elektronenbelastung ausgesetzt. Es ist also ein optimiertes Fenster erzielbar. Es ist ferner möglich, ein optimiertes Fenster, das elektronenoptische Verzerrungen zuläßt, bzw. ein unregelmäßiges Muster, z.B. elliptische (stattrunde) Löcher, die infolge elektronenoptischer Verzerrungen entstehen, herzustellen. - Durch die Erfindung ist das Fenster auf das eigene Elektronenstrahlerzeugersystem optimierbar, und es wird zur Herstellung des Fensters keine andere Einrichtung benutzt, sondern der eigene Elektronenstrahlerzeuger.
  • Bei der Erfindung gestattet die Elektronenprojektionslithographie auch sehr kleine Durchmesser für die Einzelfenster bzw. für die dünne, freigespannte Folie. Beschränkungen hinsichtlich der Werkstoffauswahl für diese Fensterfolie bestehen nicht. Es ist auch möglich, für die Fensterfolie einen anderen Werkstoff als für das Stützgitter zu verwenden. Z.B. kann eine dünne Graphitschicht - sie ist für Elektronenstrahlen gut durchlässig -,auf Keramik aufgetempert, verwendet werden, und wenn dann gemäß der Erfindung verfahren wird, so sind dünne Graphitfilm-Einzelfenster und ein Keramik-Stützgitter erzielbar. - Das Stützgitter kann aber auch z.B. aus Silizium bestehen, so wie die Einzelfenster z.B. aus Silizium bestehen können.
  • Die genannte, eigene Kathode kann z.B. auch eine Spi tzenkathode (Draht mit dünnen V-förmigen Querteilen) oder eine Bürstenkathode (Draht mit dünnen Querborsten) sein. Insbesondere ist sie aber wie gesagt eine Dünnfilmfeldemissionskathode (DFFEK) mit vielen oder zahlreichen die Elektronen emittierenden Kegeln (Einzelkathoden), siehe "Journal of Applied Physics", Vo1.47, No. 12, Dez. 1976, Seiten 5248 bis 5263, Copyright 1976 American Institute of Physics, USA. Diese liefert wegen der vorherbe- stimmbaren Anordnung der Emissionspunkte bzw. Kegel und der Stabilität der Emission (z.B. kein thermisches Weglaufen der Emissionsspitzen) ideale Voraussetzungen für die Fensteroptimierung.
  • Die genannte, eigene Kathode weist die Emissionspunkte insbesondere in zueinander parallelen Reihen auf. Die genannte Spitzenkathode besteht dann aus zueinander parallelen Drähten, jeweils mit dünnen, V-förmigen Querteilen.
  • Der Elektronstrahlerzeuger dient im allgemeinen zur Härtung (Elektronenstrahlhärtung), insbesondere einer Oberfläche oder Oberflächenschicht, ganz besonders einer zähflüssigen, vorzugsweise durch Bedrucken hergestellten Oberflächenschicht, z.B. einer Farbschicht. Die Oberflächenschicht befindet sich insbesondere auf einer Papierbahn.
  • Eine bei einem solchen Härten gewünschte Gleichmäßigkeit der Bestrahlung kann durch das Lochmuster simuliert werden, insbesondere indem, ausgehend von einer Kathode, bei der die Emissionspunkte zueinander paralleler Punktreihen zueinander versetzt angeordnet sind, die genannten Durchgangslöcher und Sacklöcher zueinander paralleler Lochreihen zueinander versetzt hergestellt werden. Die Strahlaufweitung durch Luftstreuung kann aber schon so groß sein, daß die Fensterstruktur nicht mehr in Erscheinung tritt, so daß diese Simulation entfallen kann.
  • In der Zeichnung ist ein Ausführungsbeispiel/des erfindungsgemäßen Verfahrens schematisch dargestellt.
  • Dabei zeigt Fig. 1 die Herstellung einer Lochmaske und Fig. 2 die Herstellung des Fensters mit demselben, eigenen Elektronenstrahlerzeuger und also mit der Kathode dieses Elektronenstrahlerzeugers.
  • Die Teile in Fig. 1 und 2, nämlich die eben genannte, eigene Kathode, die mit 21 bezeichnet ist, ein Rohling 29 einer Lochmaske 20, die Lochmaske 20, eine Lochmaske 22 und das eben genannte Fenster, das mit 25 bezeichnet ist, sind längliche, ebene,dünne Platten mit Längserstreckung in Richtung des Doppelpfeils 10 und Breitenerstreckung senkrecht zur Zeichenebene. Sie liegen horizontal und planparallel zueinander in einer Vertikalebene und sind ebenfalls schematisch und ferner abgebrochen (verkürzt) dargestellt. Gemäß Fig. 1 und 2 handelt es sich jeweils um einen vertikalen Längsschnitt durch die betreffenden Teile.
  • Die eigene Kathode 21 gemäß Fig. 1 und 2 ist eine unabgebrochen etwa 1500 mm lange und ferner 30 mm breite Dünnfilmfeldemissionskathode, die sich, was nicht dargestellt ist, im Vakuuminnenraum der eigenen, zylindrischen, horizontal angeordneten Elektronenstrahlerzeugungsröhre bzw. des Gehäuses derselben befindet und dort paralleYzur Längsachse derselben bzw. desselben liegt. Diese Röhre mit ihrer Kathode 21 ist die, deren Fenster 25 hergestellt werden soll. Ihre Elektronenstrahlen dienen dem Elektronenstrahlhärten. Gemäß Fig. 1 und gemäß Fig. 2 befindet sich, was nur in Fig. 2 dargestellt ist, in der Wand des eben genannten Gehäuses in etwa 150 mm Entfernung unterhalb der Kathode 21 das etwa 1,5 mm dicke Fenster 25, zuerst als Rohling (ohne die Sacklöcher 24). Die Kathode 21 besteht im wesentlichen aus einem nicht dargestellten Träger aus Keramik und einer an diesem unten fest vorgesehenen Streifenreihe aus einer etwa 1 mm dicken Siliziumschicht 13(Elektrode), einer etwa 2µm dicken Siliziumdioxidschicht 14 und einem etwa 0,5µm dicken Molybdänfilm 15 (Elektrode), welche drei Schichten in dieser Reihenfolge nach unten aufeinanderfolgen, mit zahlreichen, gleichen Kegeln 28 (Einzelkathoden) aus Molybdän. Jeder Kegel 28 befindet sich in einer runden Höhlung 19 in der Schicht 14 mit seiner Grundfläche an der Schicht 13 und mit seinem spitzen Ende in einer runden öffnung im Film 15. Die Kegel 28 sind in Richtung des Doppelpfeils 10 aufeinanderfolgend und parallel dazu, also in mehreren zueinander parallelen Reihen, angeordnet.
  • Gemäß Fig. 1 befindet sich in einer Entfernung von etwa 50 mm unrerhalb der eigenen Kathode 21 ein Rohling 29 der Lochmaske 20. Er besteht aus einem Hauptkörper 30 (Anode) und einer dünnen, elektronenempfindlichen Schicht (bzw. Photoschicht) 16. Die Dicke der Schicht 16 ist gegenüber der in Fig. 1 sichtbaren Dicke des Hauptkörpers 30 viel kleiner als dargestellt.
  • Mit Uo (0=Null) ist die Spannung an der erstgenannten Elektrode (13) bezeichnet, mit -(U0-UG) (G=Gitter) die Spannungsdifferenz zwischen dieser Elektrode (13) und der zweitgenannten Elektrode (15) und mit -(U0-UM) (M=Maske, UM=Naachbeschleunigungsspannung) die Spannungsdifferenz zwischen der erstgenannten Elektrode (13) und der drittgenannten Elektrode (30). Dies alles gilt dem Wesen nach auch für Fig. 2.
  • Die eigene Kathode 21 emittiert die Elektronen an definierten Punkten, und zwar an den Kegeln 28, d.h. an den Spitzen derselben, wobei der Emissionsfleck jedes Punkts einenDurchmesser von etwa 50 nm (=50.Nanometer = 10-9m = 0,001µ) hat. Ohne Nachbeschleunigung würde der Emissionswinkel α des gestrichelt dargestellten Emissionskegels 12 etwa 600 betragen. Der Emissionskegel bzw. -winkel ist aber durch Nachbeschleunigung verkleinert - siehe die "zuckerhut" förmigen Elektronenstrahlen 32.
  • Diese eigenen Elektronenstrahlen 32, die einen Elektronstrahlvorhang bilden, brennen in die Schicht 16 jeweils einen runden Fleck 33(kreuzschraffiert dargestellt) ein (Bestrahlen, Belichten), der gegenüber dem genannten Emissionsfleck stark vergrößert ist. In der Schicht 16 ergibt sich also ein Abbild der eigenen Kathode 21, das aus gleich vielen Flecken und Fleckparallelreihen wie bei der Kathode 21 besteht, bei dem es sich aber um stark vergrößerte Flecken 33 handelt (Vergrößerung der Entfernung a bringt noch größere Flecken 33). Bei diesen Einbrandflecken 33 wird der Rohling 29 mit einer der bekannten Atztechniken durchgeätzt - siehe den Pfeil 34 -, so daß sich die Durchgangslöcher 35 ergeben bzw. nach dem Entfernen der nicht belichteten Teile der Schicht 16 sich die Lochmaske (Einzellinsenmaske) 20 ergibt. Der Durchmesser des Durchgangslochs 35 ist etwa gleich dem Durchmesser des Einbrandflecks 33.
  • Wie aus Fig. 2 ersichtlich ist, weist der Fensterrohling unten eine etwa 2µ dicke, elektronendurchlässige Schicht 36 aus Fensterwerkstoff auf. In der genannten, eigenen Röhre bzw. im Gehäuse derselben befindet sich im Raum zwischen der Kathode 21 und dem Fensterrohling eine Elektronenoptik, die aus den Lochmasken 20 und 22 besteht. Die Lochmaske 20 befindet sich etwa 50 mm unterhalb der Kathode 21 und die Lochmaske 22 etwa 50 mm unterhalb der Lochmaske 20, und zwar so, däß die Kegel 28, die Durchgangslöcher 35 der Lochmaske 20 und die Durchgangslöcher 11 der Lochmaske 22 vertikal fluchten. Die Lochmaske 22 ist wie die Lochmaske 20 in der Art, wie zu Fig. 1 angegeben, mit und in der ei.genen/Röhre und mit der eigenen Kathode 21 hergestellt. Die Durchmesser des Durchgangslochs 11 und des Durchgangslochs 35 sind etwa gleich groß.
  • Die Lochmaske 20 ist in Fig. 2 eine auf dem Zwischenpotential -(UO-UM) liegende Elektrode. Weitere Elektroden sind gemäß Fig. 2 die Schicht 13, der Film 14/und die Lochmaske (Anode) 22. Die Lochmaske 22 und der Fensterrohling 25 sind geerdet. Auch gemäß Fig. 2 wird mit genannter Nachbeschleunigung gearbeitet. Die von den Kegeln 28 ausgehenden, eigenen Elektronenstrahlen 32' (Elektronenvorhang) durchstoßen die Durchgangslöcher35 und 11, wobei jedes Durchgangsloch 35 als Einzellinse wirkt und den Elektronenstrahl 32' fokussiert. Die Elektronenstrahlen 32' treffen auf eine nicht dargestellte, elektronenempfindliche Schicht (17) des Fensterrohlings, in die sie wie bei der Lochmaskenherstellung ein Abbild der eigenen Kathode 21 mit stark vergrößerten Einzelfensterflecken einbrennen. Die Lochmaske 22 hat die Aufgabe, zwischen sich und dem-Fensterrohling einen feldfreien Raum zu schaffen, und zwar damit die Schicht 17 nicht als Elektrode wirken, d.h. elektrisch sein muß, denn das Material der Schicht 17 ist im allgemeinen nicht elektrisch leitfähig.
  • Die Brennweite der Einzel linse (Durchgangslöch35) ist mit 23 und der zugehörige Brennpunkt mit 31-bezeichnet. Äquipotentiallini en zwischen den Lochmasken 20 und 22 sind mit 18 bezeichnet. Durch Änderung der Spannungsdifferenz -(UO-UM) kann man die Brennwe'ite(Fokussierungs- länge)23 verändern und somit das genannte Abbild variieren, d.h. die Größe der Einzelfensterflecken ändern.
  • Zuletzt werden bei den Einzelfensterflecken Sacklöcher 24 bis zur Schicht 36 in den Fensterrohling eingeätzt, so daß dünne Filme als Einzelfenster 26 und ferner ein aus Stegen um die Sacklöcher 24 herum bestehendes Stützgitter 27 übrigbleiben.
  • An die Stelle der zueinander parallelen Lochreihen aus den Durchgangslöchern 11 können durchgehende Längsschlitze mit einer Mindestbreite gleich dem dortigen Durchmesser des Strahls 32' treten.
  • Das Durchätzen und/oder das Sacklocheinätzen kann außerhalb des Gehäuses des Elektronenstrahlerzeugers bzw. der Elektronenstrahlerzeugungsröhre oder, unter eventuellen Schützen von Oberflächen im Gehäuseinneren durch entfernbaren Oberzug, innerhalb dieses Gehäuses erfolgen, am letztgenannten Fall insbesondere durch Füllen des Gehäuses mit einem flüssigen Ätzmittel. Das flussige Ätzmittel ist aber, ob für außerhalb oder innerhalb des Gehäuses, praktisch immer von der Art, daß es nur bei den genannten Flecken, aber nicht neben diesen wirkt bzw. ätzt.

Claims (2)

1. Verfahren zur Herstellung eines Elektronenstrahlaustrittsfensters eines Elektronenstrahlerzeugers, der eine die Elektronen an vielen Punkten emittierende Kathode, insbesondere Dünnfilmfeldemissionskathode, aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß das genannte Fenster (25) mit dem genannten, eigenen Elektronenstrahlerzeuger und also mit der genannten, eigenen, punktuell emittierenden Kathode (21) über Aperturlinsen durch Elektronenprojektionslithographie hergestellt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mit den eigenen Elektronenstrahlen (32) in eine elektronenempfindliche-Schicht (16) eines Rohlings(29) einer Lochmaske (20) das Emissionspunktemuster der eigenen Kathode (21) eingebrannt wird und durch Durchätzen bei den Einbrandflecken (33) die Durchgangslöcher (35) der Lochmaske (20) hergestellt werden und daß über die so hergestellte Lochmaske (20) durch diese die Aperturlinsen darstellenden Durchgangslöcher (35) hindurch wiederum mit den eigenen Elektronenstrahlen (32') in eine elektronenempfindliche Schicht (17) eines Rohlings des Fensters (25) entsprechend dem genannten Emissionspunktemuster Einzelfensterflecken eingebrannt werden und bei diesen Flecken Sacklöcher (24) eingeätzt werden, die dünne Einzelfenster (26) und ein Stützgitter (27) übriglassen.
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EP (1) EP0041228B1 (de)
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